JPS58223411A - 選択性気体透過複合膜 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、混合ガスの分離性が良く、かつ気体透過性も
すぐれる選択性気体透過複合膜に関するものである。

混合ガスの膜による分離は高分子膜の選択率。

透過量が不十分であったがために、はとんどがかえりみ
られることがなく、フィルムの気体透過現象の応用とし
てはむしろ包装用としてのガスバリヤ−フィルムが中心
となっていた。産業において、壕だ人間の社会生活上に
おいて最も分離が要望されている混合ガスは空気である
。大気の２１％をしめる酸素は生産上はもちろん内燃機
関、燃焼機器、製鉄工業２食品工業、廃棄物処理、医療
機器等産業上最も重要な原料であることは言をまたない
。従って、空気から酸素を効率よく安価に容易に分離す
る方法が望まれてきる。

高分子膜を使用しないで空気中より酸素、または窒素を
分離する方法としては、従来ゼオライトまたは特殊なカ
ーボンから成る分離剤を用いる方法が知られている。し
かしこの方法は連続的な酸素まだは窒素の分離濃縮が不
可能である。一方高分子膜による分離法は連続的な分離
が可能であるため産業上きわめて大きな利点を有してい
る。このため、選択分離性の高い、透過量の犬なる分離
膜が望まれている。現在まで高分子膜を用いての混合ガ
スの分離に関して既にいくつかの文献、特許公報、など
が知られている。これらの文献、特許公報などにおいて
は高分子膜のガスに対する透過係数の大小、ならびに薄
膜としての機械的強度、および薄膜化技術が重要な問題
となっている。現在報告されている高分子材料で比較的
気体透過能のすぐれている物質は、天然ゴム、ポリブタ
ジエ／のごとき合成ゴム、更にすぐれたものはシリコー
ンゴムが知られている。シリコーンゴムの気体透過能は
ほとんど全ての気体に対して他のいかなる高分子材料よ
りもすぐれる。しかし気体透過能のすぐれた材料は各気
体の分離比が小さく、空気分離に使用した場合２３％か
ら３０％徒での低濃度の酸素富化空気しか得られない。

従って３０％以上の酸素富化空気を得ようとする場合に
はもっと分離比の大きな材料が必要となってくる。その
１つとして米国特許第３，８７４，９８６号明細書に示
された材料がある。ここに示されているポリフェニレン
オキサイド（ｐｐｏ）は酸素透過係数が約ｓ、ｏｘ１ｏ
　　ｃａ−ｃｍ／ｃ＃ｓｅｃ・ｃｍＨｑでシリコーンゴ
ムの１０分の１以下になってしまうが、酸素と窒素の分
離比が高く約４．４の値を示す。従って、この材料を用
いると約４０％の酸素富化空気を容易に得ることができ
る。しかし透過係数が小さいためシリコーンと同じ膜厚
にしても約１ｏ分の１以下の酸素量しか得られない。こ
のため薄膜化技術が非常に重要になってくる。上記米国
特許第３．８７４，９８６号明細書では薄膜化するだめ
にＰＰＯをテトラクロロエタン（ＴＣＥ）等の有機溶媒
に溶解し、ラングミュア法を用いて水面上に薄膜を展開
している。しかしこの様な方法を用いて水面上に広がっ
た膜は支持体への接着性が悪く、この改善のためプレコ
ートとしてポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン
（ＰＣ−ＰＤＭＳ　）共重合体薄膜を支持体に接着させ
てからｐｐｏ膜をその上に積層している。この様にして
得られた膜は酸素と窒素の分離性が高く４．５〜５．０
の値を示し、酸素濃度は４０％〜６０係に達している。

この場合の製膜は支持体とＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体間、
そしてＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体とＰＰ０間とのその間の
接着性が悪いため真空吸引によっておのおのの層の接着
を行なっている。

第１図にこのようにして得られた複合膜の断面図を示す
。同図ａはｐｐｏ膜が一層の場合、ｂはＰＰＯ膜が多層
（図では２層）の場合である。

ＰＰｏ膜２は、支持体３上にプレコートされたＰＣ−Ｐ
ＤＭＳ共重合体薄膜し上に形成される。しかし、この様
にして得られる複合膜は本発明者らの実験によれば、真
空吸引法によるものでもその接着性は悪く外的な応力の
作用により簡単に支持体３とＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体１
間ではく離を生じた。また、第１図ａのようにＰＰＯ膜
２が１層であるとピンホールの影響を無視出来ず、ピン
ホールを防止するには同図すのように多層にしなければ
ならない。この場合、２２０層を０．２μｍ厚とすると
、最低でも４層を必要とした。第１表にその実験結果を
示す。

第１表 第１表かられかるように、米国特許第３，８７４，９８
６号明細書に示されている複合膜は、ピンホールを防止
し、あるいは酸素透過流量比を大きくするだめにｐｐｏ
層を多層構造としだり膜厚を厚くする必要があるが、こ
のとき気体透過特性が非常に悪いものになってしまう。

本発明はこのような欠点を解消するもので、酸素透過流
量比、気体透過特性のいずれもすぐれた選択性気体透過
複合膜を提供するものである。以下図面を用いて本発明
の一実施例を詳細に説明する。

第２図は本発明による選択性気体透過複合膜の断面図で
あり、図において、４，４′は気体透過性のすぐれた高
分子Ａより成る膜で、高分子Ａよりなる２枚の膜４，４
′の間に気体分離性の大きい高分子Ｂより成る膜５がサ
ンドインチ状にはさまれ、多孔質支持体６上に形成され
る。

気体透過性のすぐれた鷹分子Ａとしては、たとえば特開
昭６６−２６６０６号公報に示されたポリヒドロキシス
チレン−ポリジメチルシロキサン（ＰＨ３−ＰＤＭＳ　
）共重合体、あるいは特開昭５６−２４０１９号公報に
示されたフェノール樹脂−ＰＤＭＳ共重合体などのよう
な３次元化シリコーン共重合体が適尚である。これらの
３次元化シリコーン共重合体は気体透過性がすぐれてい
るばかりでなく、成膜性にもすぐれ、しかも支持体６お
よび高分子Ｂに対する接着性も非常にすぐれている。

一方、気体分離性の高い高分子Ｂとしては一般（但し、
ｍは１，２．　３の整数、Ｒ１は−ＣＨ３゜−Ｃ２Ｈ６
，−Ｃ３Ｈ７，−Ｃ４Ｈ９，−Ｃ６Ｈ１１のアルキル基
、ハロゲン化アルキル基、フェニル基、ニトロ基、スル
ホン基、）・ロゲン原子、水素原子、アルコキシル基か
ら成る群より選ばれる。）であられされるポリフェニレ
ンオキサイド、あるいは−（但し、Ｒは水素原子、−Ｃ
Ｈ３，−Ｃ２Ｈ６゜−Ｃ３Ｈ７・−Ｃ４Ｈ９・−Ｃ６Ｈ
１１・−Ｃ６Ｈ１３・−Ｃ７Ｈ１５れる。）であられさ
れるビニルポリマー、あるいは、一般式が Ｏ ＋　ＱＣ−ＮＨ−Ｒ１−ＮＨ−Ｃ−０−Ｒ２＋ｎ−Ｃ３
Ｈ６−・−Ｃ４Ｈ８−・−Ｃ６Ｈ′ＩＯ″、″′Ｃ６Ｈ
１２−・−０７Ｈ１４”−１Ｒ２は−Ｃ２Ｈ４０−２＋
Ｃ２Ｈ４０＋ｎ。

−Ｃ３Ｈ６０−、−Ｃ４Ｈ８０−、−Ｃ５Ｈ１ｏＯ−、
−Ｃ６Ｈ１，ｐ−から成る群より選ばれる。）であられ
されるポリウレタンあるいは、一般式が ○ −ＣＨ２−１−Ｃ２Ｈ４−５−Ｃ３Ｈ６−７−Ｃ４Ｈ８
−７Ｃ６Ｈ１０、−ｃｅＨ１２−より成る群より選ばれ
る。）で示されるポリスルホン、まだは一般式がＩ ３の整数）より成る群より選ばれる。）で示されるポリ
カーボネートが適当である。

支持体６としては多孔質体が使用され、たとえば多孔質
ポリプロピレンなどが使用される。

高分子Ａとして使用される３次元化シリコーン共重合体
および高分子Ｂの成膜はいずれもラングミュア法により
行なわれる。３次元化シリコーン共重合体の成膜法は特
開昭５６−２６５０６号公報に示されたとおりである。

−刃高分子Ｂは、高分子Ｂを高分子の溶媒であるベンゼ
ン、トルエン。

キシレン、ジクロロエタン、ジクロロメタン、テトラク
ロロエタン等に１〜４重量係の溶液とするのが適当であ
る。あらかじめ多孔質ポリプロピレン支持体ｅ上に３次
元化シリコーン共重合体４をプレコートしておいた複合
膜に、調整した溶液のポリマー５をラングミュア法で水
面上に展開した後、水面上で接触させ複合化し、さらに
オーバーコートとして３次元化シリコーン共重合体膜４
′を引き上げる。このようにして調整された複合膜は、
その気体分離比が高分子Ｂと殆んど同じ特性となる。

このように、本発明による複合膜は、単に水面上に展開
させた薄膜を水面上で接触させて引き上げるだけで成膜
が可能である。

第２表にこのようにして作成した第２図のような構成の
複合膜の特性を示す。第２表において、３次元化共重合
体としてＰＨ８−ＰＤＭＳ共重合体を、高分子Ｂとして
ｐｐｏを用いた場合を示す。

第２表を見ればわかるように、本発明による選択性気体
透過複合膜は分離係数、酸素透過流量のいずれも高い非
常にすぐれた特性を示す。

第　　　２　　　表 つぎに本発明をさらに具体的に示すだめ本発明による膜
材料を使用し、第１図ａ、　　ｂと同様構造の、そして
第２図の構造の複合膜を形成した実施例について説明す
る。

〈実施例−１〉 ポリヒドロキシスチレン（ＰＨ５）−ポリジメチルシロ
キサン（ＰＤＭＳ）共重合体（シロキサン含有率′＝７
４％）の２重量係ベンゼン溶液ａを第１層４の展開液と
して用い、第２層６の展開液は２重量係のＰＰＯ（Ｍｗ
中５０，０００）溶液すを用いた。最初に溶液ａを水面
に滴下し共重合体の薄膜を広げ、この展開膜を多孔質ポ
リプロピレン支持体６（ポリプラスチック社製ジーラガ
ード２４００）上にすくい上げ第１層４を形成した。

次に溶液すを用い溶液ａの場合と同様の操作を行ない、
第１層１の上に第２層６を形成し第１図ａと同様構造の
複合膜を作成した。この様にして得られた複合膜の気体
透過特性は、酸素で１．Ｑ２ｔｒｉ’／ａ　ｔｍ　−ｍ
’・ｈｒ　の透過流量を示したが、酸素と窒素の分離比
（透過流量比）は１．６１と低い。まだこの様に２層の
複合膜では、ピンホールを生じ、分離比が非常に悪かっ
た。

〈実施例−２〉 実施例−１の複合膜上にさらに溶液すを用いてｐｐｏ膜
を積層し第１図すと同様構造の複合膜を作成した。その
結果酸素透過流量は０．６７ば／ａｔｍ・ｍ′・ｈｒと
減少した。分離比は２，３２と若干増えた。しかし依然
としてピンホールを生じた。

〈実施例−３〉 実施例−１の複合膜の上にさらに溶液ａを用いてＰＨ３
−ＰＤＭＳ共重合体膜を積層し本発明による第２図の構
成の複合膜を作成した。この時の複合膜の特性は酸素透
過流量が０　、８２ｉ／ａｔｍ−ｍ’・ｈｒ、そしてそ
の分離比は大幅に改善され４．２の高い値を示した。つ
まり共重合体でサンドインチ構造の複合膜を作製するこ
とによシ、高気体透過性でかつ高分離性の複合膜を得る
ことができる。なおピンホールの発生は全く認められな
かった。

〈実施例−４〉 気体分離性の高い高分子Ｂとしてポリスルホン（ＭＷ　
＝　３０．０００　）を用いその他は実施例−３と同様
として第２図の構成の複合膜を作成した。なお、ポリス
ルホンの構造式は次のとおりである。

その結果酸素透過流量は、０．６１ηａｔｍ−ｍ”・ｈ
ｒ、分離比は３．９の値を示すピンホールのない複合膜
が得られた。

〈実施例−５〉 実施例−１に示した溶液ａとしてノボラック樹脂（ＮＢ
）　　ＰＤＭＳ共重合体（シロキサン含有率７２％）を
用い２．２重量係のベンゼン溶液を調整し、第１層およ
び第３層用として使用した。そして実施例−３と同様の
方法で、サンドインチ型の複合膜を作成した。その時の
特性は酸素透過流量が０．９１７ｙ？／ａｔｍ・ｍ”−
ｈｒ、分離比は４．４となり、やはりピンホールは認め
られなかった。

〈実施例−６〉 気体分離性の高い高分子Ｂとして下記構造式のポリウレ
タン（Ｍｗ中２５，０００）を用いその他を実流側−６
と同様にして複合膜を作成した。

Ｏ その結果酸素透過流量は１　、１０７７Ｚ７ａ　ｔｍ　
−ｍ”　・ｈｒ、分離比は３．６の値を示した。ピンホ
ールの発生は認められなかった。

以上の実施例においては、気体分離性の高い高分子とし
て、ｐｐｏ、ポリスルホンおよびポリウレタンを使用し
た場合について説明しだが、前述した他のポリマー、す
なわちとニルポリマーあるいはポリカーボネートを使用
した場合にもほぼ同一傾向の結果が得られた。

以上のように、本発明は気体透過性と成膜性にすぐれる
３次元化シリコーン共重合体で気体分離性の高い高分子
をサンドインチ状にはさんで複合化した選択性気体透過
複合膜を提供するもので、高い気体分離性を持ち、しか
も高気体透過能をもった選択性気体透過複合膜を得るこ
とができる。

この複合膜は、第１層と第３層に使用する３次元化シリ
コーン共重合体がきわめて他の高分子と親和性、接着性
にすぐれるため製造が非常に簡単で、ラングミュア法で
水面上に広げた展開膜に支持体、もしくは第１層をコー
トした支持体、あるいは第１層と第２層をコートした支
持体を単に接触するだけで可能であり製膜性にも非常に
すぐれている。

【図面の簡単な説明】

第１図ａ、　　ｂは従来の選択性気体透過複合膜の断面
図、第２図は本発明による選択性気体透過複合膜の実施
例を示す断面図である。 １・・・・・・ＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体層、２・・・・
・・気体分離性の高い高分子層、３，６・・・・・・支
持体、４゜４′・・・・・・気体透過性の良い高分子層
、６・・・・・・気体分離性の高い高分子層。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）気体透過性にすぐれる第１の高分子膜で気体分離
   性の大きい第２の高分子膜をサンドインチ状にはさんだ
   ことを特徴とする選択性気体透過複合膜。 （２）第１の高分子膜が３次元化シリコーン共重合体で
   ある特許請求の範囲第１項記載の選択性気体透過複合膜
   。 （３）３次元化シリコーン共重合体が、ポリヒドロキシ
   スチレン−ポリジメチルシロキサン３次元化共重合体で
   ある特許請求の範囲第２項記載の選択性気体製透過複合
   膜。 （４）３次元化シリコーン共重合体が、フェノール系樹
   脂−ポリジメチルシロキサン３次元化共重合体である特
   許請求の範囲第２項記載の選択性気体、・透過複合膜。 （６）第２の高分子が一般式 （但し、ｍは１，２．３の整数、Ｒ１は−ＣＨ３゜−Ｃ
   ２Ｈ６１−Ｃ３Ｈ７，−Ｃ４Ｈ９，Ｃ６Ｈ１１のアルキ
   ル基。 ハロゲン化アルキル基、フェニル基、ニドＯ基。 スルホン基、）・ロゲン原子水素原子、アルコキシル基
   から成る群より選ばれる。）であられされるポリフェニ
   レンオキサイドである特許請求の範囲第１項記載の選択
   性気体透過複合膜。 （６）第２の高分子が一般式 （但し、Ｒは水素原子、−ＣＨ３，−Ｃ２Ｈ６゜−Ｃ３
   Ｈ７１−Ｃ４Ｈ９１−Ｃ６Ｈ１１１−Ｃ６Ｈｌ３１−Ｃ
   ７Ｈ１５のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコ
   キシル基、エステル基 （ここでｍは１．礼　３の整数よ・シ成る群より選ばれ
   る。）であられされるビニルポリマーである特許請求の
   範囲第１項記載の選択性気体透過複合膜。 （７）第２の高分子が一般式 ％式％ から成る群より選ばれる。）で示されるポリウレタンで
   ある特許請求の範囲第１項記載の選択性気体透過複合膜
   。 （８）第２の高分子がブ般式 ％式％ −Ｃ６Ｈ１ｏ−２−Ｃ６Ｈ１２−（ここでｍは１．礼　
   ３の整数より成る群より選ばれる。）で示されるポリス
   ルホンである特許請求の範囲第１項記載の選択性気体透
   過複合膜。 （９）第２の高分子が一般式 ％式％ （ここでｍは１，２．３の整数）より成る群より選ばれ
   る。）で示されるポリカーボネートである特許請求の範
   囲第１項記載の選択性気体透過複合膜。