JP3295144B2 - 気体分離複合膜 - Google Patents
気体分離複合膜Info
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Description
分離、濃縮する気体分離複合膜に関する。
窒素を分離できるので燃焼機器,空調機器,医療機器な
どに利用する研究がなされ一部実用化されている。
504号公報に示すようなものがあった。すなわち、側鎖
に活性水素を有するポリオリガノシロキサンと側鎖にビ
ニル基を有するポリオリガノシロキサンとの共重合体を
主成分とするものである。この膜の酸素と窒素の分離係
数はPO2/PN2が約2.2であり、酸素の透過係数は2.8
×10~8cm3(STP)・cm/cm2・sec・cmHg程度である。
の気体分離膜では、酸素の分離係数と透過係数は相反す
る特性を有しているので、高濃度でしかも高流量の酸素
を得るためには、膜面積を多く必要としコストが高くな
るという欠点があり、実用化するためには満足が得られ
るものではなかった。
で、酸素の分離性能および透過性能を向上させることが
できる気体分離複合膜を提供することを目的とする。
するために、多孔質材料からなる支持膜層と、この支持
膜層上に設けた分離層と、この分離層上に設けた保護層
とを備え、前記分離層には(化2)で示される一置換もし
くは二置換ポリジフェニルアセチレンを用いるとともに
前記保護層にはシロキサン系化合物を用いたものであ
る。
は(化2)で示される一置換もしくは二置換ポリジフェニ
ルアセチレンを用い極薄膜化することにより、酸素の分
離係数と透過係数の特性を良くするように作用し、また
シロキサン系化合物からなる保護層を用いることによ
り、支持膜層と分離層の界面における相互作用により、
高い気体分離性を得ることができ、また保護膜層として
設けたシロキサン系化合物は膜の気体透過を活性化させ
るように作用し透過係数を向上させることができる。
2に示す気体分離複合膜の断面図を参照しながら説明す
る。図1に示すように、気体分離複合膜1aはポリエー
テルスルホン多孔質材料からなる支持膜層2、この支持
膜層2の上面に設けた分離層3、さらに分離層3の上に
設けた保護層4によって構成されている。
アセチレンのR1がトリメチルシリル基で置換されるポ
リ(1−(p−トリメチルシリルフェニル)−2−フェニ
ルアセチレン)を0.8重量%用い、水面展開剤としてポリ
フマル酸エステルを0.35重量%となるようにクロロブタ
ン、トルエン、テトラヒドロフランの有機溶媒(クロロ
ブタン,トルエン,テトラヒドロフランそれぞれの重量
の割合は150:8:5である)で調製して分離層3の調整
液とした。
チレンの共重合体を3.4重量%、水面展開剤としてポリ
フマル酸エステルを0.1重量%となるようにクロロブタ
ン、テトラヒドロフランの有機溶媒(クロロブタン、テ
トラヒドロフランの重量の割合は20:1である)で調製
して調製液とした。
に展開し、溶媒を蒸発させることによって平均膜厚0.03
μmの分離層3を形成し、支持膜層2と接触させること
により、その上に分離層3を2層積層させ、保護層4の
調製液を一定量、水面上に展開し、溶媒を蒸発させるこ
とによって平均膜厚0.02μmの薄膜を作製し、さらにそ
の表面に保護層4を2層積層している。得られた気体分
離複合膜の性能を(表1)の実施例1に示す。
リルフェニル)−2−フェニルアセチレン)に代えて、
(化2)で示される一置換もしくは二置換ポリジフェニル
アセチレンのR1がt−ブチル基で置換されるポリ(1−
(p−t−ブチルフェニル)−2−フェニルアセチレン)
を用いた以外は実施例1と同様にして気体分離複合膜を
作製した。得られた気体分離複合膜の性能を(表1)の実
施例2に示す。
リルフェニル)−2−フェニルアセチレン)に代えて、
(化2)で示される一置換もしくは二置換ポリジフェニル
アセチレンのR1がトリメチルシリル基,R2がフッ素原
子で置換されるポリ(1−(p−トリメチルシリルフェニ
ル)−2−(p−フルオロフェニル)アセチレン)を用いた
以外は、実施例1と同様にして気体分離複合膜を作製し
た。得られた気体分離複合膜の性能を(表1)の実施例3
に示す。
なる分離層の重量1.0に対し、シロキサン系化合物から
なる保護層4の重量が0.2未満では、ちり,ほこり,湿
気,熱等による劣化を防止するのが困難であり、保護層
4の重量が6.0以上では分離層3の酸素の透過性能を妨
げる。
に影響を与えないようにするためには、一置換もしくは
二置換ポリジフェニルアセチレンからなる分離層3の重
量1.0に対し、シロキサン系化合物からなる保護層4の
重量は0.4〜3.0が好ましい。
けた気体分離複合膜1bの構造を示した図であり、前述
の実施例1〜3と相違する点は、支持膜層2と分離層3
との間にシロキサン系化合物からなる接着層5を設けた
ものである。接着層5はシロキサン系化合物からなり、
製法としては調製液を一定量、水面上に展開し、溶媒を
蒸発させることによって平均膜厚0.01μmの接着層5を
作製し、さらに支持膜2と接触させることにより積層さ
せたものである。
の重量が0.1未満では支持膜層2と分離層3との接着が
困難であり、接着層5の重量が2.0以上である場合は分
離層3の酸素の透過性能を妨げてしまう。したがって酸
素の透過性能を維持するためには、分離層3の重量1.0
に対し、接着層5の重量は0.2〜0.6が好ましい。
ることにより、膜を製造する工程において容易に支持膜
層2に分離層3が製膜ができ、酸素の透過性能を妨げる
こともない。実施例1〜3における分離層3に用いた各
々の一置換もしくは二置換ポリジフェニルアセチレンの
気体分離複合膜1bによる性能は(表1)の実施例1′〜
3′に示す。
エーテルスルホンを用いたが、ポリスルホン、ポリスチ
レン、ポリエチレンテレフタレートなどの重合体から形
成した材料を用いてもよく、支持膜層の形状は平膜、筒
状膜、中空糸膜などいずれでもよく、織布,不織布など
の支持体の上に製膜したものでもよい。また、分離層
は、水面展開において良好な薄膜を得るために、必要に
応じて水面展開助剤を加えてもよく、また保護層シロキ
サン系化合物とスチレンの共重合体を用いたが、速乾脱
アルコールタイプの接着シール剤,剥離用シリコーンの
溶剤型を用いても、また、それらのブレンドを用いても
よい。また、ポリジフェニルアセチレンは淡黄色から橙
色であるので、製膜するときに水面に展開して超薄膜に
しても亀裂、ピンホール等の膜の欠陥を見極めることが
容易である。
合膜は、多孔質材料からなる支持膜層と、この支持膜層
上に設けた分離層と、この分離層上に設けた保護層とを
備え、前記分離層には(化2)で示される一置換もしくは
二置換ポリジフェニルアセチレンを用いるとともに前記
保護層にはシロキサン系化合物を用いたものであり、こ
の構成とすることにより、酸素の分離性能および透過性
能を向上できる。
の断面図である。
分離複合膜の断面図である。
離層、 4…保護層、5…接着層。
Claims (2)
- 【請求項1】 多孔質材料からなる支持膜層と、この支
持膜層上に設けた分離層と、この分離層上に設けた保護
層とを備え、前記分離層には(化1)で示される一置換も
しくは二置換ポリジフェニルアセチレンを用いるととも
に前記保護層にはシロキサン系化合物を用いたことを特
徴とする気体分離複合膜。 【化1】 - 【請求項2】 支持膜層と分離層との間に接着層を設け
たことを特徴とする請求項1記載の気体分離複合膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27994692A JP3295144B2 (ja) | 1992-10-19 | 1992-10-19 | 気体分離複合膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27994692A JP3295144B2 (ja) | 1992-10-19 | 1992-10-19 | 気体分離複合膜 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06126138A JPH06126138A (ja) | 1994-05-10 |
JP3295144B2 true JP3295144B2 (ja) | 2002-06-24 |
Family
ID=17618130
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27994692A Expired - Lifetime JP3295144B2 (ja) | 1992-10-19 | 1992-10-19 | 気体分離複合膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3295144B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8791433B2 (en) | 2008-10-31 | 2014-07-29 | Ulvac, Inc. | Ion implanting apparatus |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6652575B2 (ja) | 2015-12-10 | 2020-02-26 | 富士フイルム株式会社 | 保護層付きガス分離膜、保護層付きガス分離膜の製造方法、ガス分離膜モジュール及びガス分離装置 |
JP6671032B2 (ja) * | 2016-03-15 | 2020-03-25 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 気体分離複合膜および気体分離モジュール |
-
1992
- 1992-10-19 JP JP27994692A patent/JP3295144B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US8791433B2 (en) | 2008-10-31 | 2014-07-29 | Ulvac, Inc. | Ion implanting apparatus |
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JPH06126138A (ja) | 1994-05-10 |
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