JPH04183711A - 半導体封止用樹脂組成物 - Google Patents
半導体封止用樹脂組成物Info
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- JPH04183711A JPH04183711A JP30887490A JP30887490A JPH04183711A JP H04183711 A JPH04183711 A JP H04183711A JP 30887490 A JP30887490 A JP 30887490A JP 30887490 A JP30887490 A JP 30887490A JP H04183711 A JPH04183711 A JP H04183711A
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Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は高集積度IC封止用樹脂組成物に適する耐熱衝
撃性と半田耐熱性および低粘度性に優れたエポキシ樹脂
組成物に関するものである。
撃性と半田耐熱性および低粘度性に優れたエポキシ樹脂
組成物に関するものである。
従来、ダイオード、トランジスタ、集積回路等の電子部
品を熱硬化性樹脂で封止しているが、特に集積回路では
耐熱性、耐湿性に優れた0−クレゾールノボラックエポ
キシ樹脂をノボラック型フェノール樹脂で硬化させたエ
ポキシ樹脂が用いられている。
品を熱硬化性樹脂で封止しているが、特に集積回路では
耐熱性、耐湿性に優れた0−クレゾールノボラックエポ
キシ樹脂をノボラック型フェノール樹脂で硬化させたエ
ポキシ樹脂が用いられている。
ところが半導体パッケージの実装方法としては従来のス
ルーホール実装から表面実装への移行、そして半導体パ
ッケージの種類としては実装方法に対応してDIPから
SOP、SOJ、PLCCに変わってきている。そして
最近では、パッケージの厚みか従来のものに比へて非常
に薄い約1 ma+厚のTSOP、TQFPというパッ
ケージもあられれてきている。
ルーホール実装から表面実装への移行、そして半導体パ
ッケージの種類としては実装方法に対応してDIPから
SOP、SOJ、PLCCに変わってきている。そして
最近では、パッケージの厚みか従来のものに比へて非常
に薄い約1 ma+厚のTSOP、TQFPというパッ
ケージもあられれてきている。
即ち大型チップを小型で薄いパッケージに封入すること
により、応力によるクラック発生、これらのクラックに
よる耐湿性の低下等の問題か大きくクローズアップされ
てきている。
により、応力によるクラック発生、これらのクラックに
よる耐湿性の低下等の問題か大きくクローズアップされ
てきている。
特に耐熱衝撃性と半田耐熱性の2点をクリアーてきる封
止樹脂か必要とされている。
止樹脂か必要とされている。
耐熱衝撃性の向上に対しては、シリコーンオイル、シリ
コーンゴム等のシリコーン化合物や合成ゴム等の添加か
行われてきた。しかしこれらの添加は、成形時の型汚れ
、樹脂パリの発生等不都合な現象が生じるため、シリコ
ーンとエポキシ樹脂又は硬化剤とを反応させたシリコー
ン変性レジンが開発されてきた。(例えば特開昭58−
21417号公報)。現在の封止樹脂は、この活用によ
りかなり耐熱衝撃性か向上している。しかし、これらは
マトリック樹脂中に低弾性率ドメインを導入して全体を
低弾性率化しようとする手法であるかトメンとマトリッ
クスとの接着性に問題かあり、弾性率と同時に強度も低
下してしまう等、いまた十分てはないし、しかも半田耐
熱性か低下する傾向かあり問題となっている。そこで、
上記のような低応力賦与剤を添加せずにマトリックス樹
脂そのものの耐熱衝撃性を向上する必要かでてくる。
コーンゴム等のシリコーン化合物や合成ゴム等の添加か
行われてきた。しかしこれらの添加は、成形時の型汚れ
、樹脂パリの発生等不都合な現象が生じるため、シリコ
ーンとエポキシ樹脂又は硬化剤とを反応させたシリコー
ン変性レジンが開発されてきた。(例えば特開昭58−
21417号公報)。現在の封止樹脂は、この活用によ
りかなり耐熱衝撃性か向上している。しかし、これらは
マトリック樹脂中に低弾性率ドメインを導入して全体を
低弾性率化しようとする手法であるかトメンとマトリッ
クスとの接着性に問題かあり、弾性率と同時に強度も低
下してしまう等、いまた十分てはないし、しかも半田耐
熱性か低下する傾向かあり問題となっている。そこで、
上記のような低応力賦与剤を添加せずにマトリックス樹
脂そのものの耐熱衝撃性を向上する必要かでてくる。
半田耐熱性の向上に対しては、ポリイミド樹脂やフィラ
ーの検討および3官能樹脂の活用(例えば特開昭61−
168620号公報)か有望とされているか、いずれも
耐熱衝撃性に劣り、しかも樹脂組成物粘度が増加するこ
とによるダイパッドシフト等の成形不良かおきやすく、
これらの手法の単独使用ではバランスのとれた樹脂組成
物系を得ることは難しい。
ーの検討および3官能樹脂の活用(例えば特開昭61−
168620号公報)か有望とされているか、いずれも
耐熱衝撃性に劣り、しかも樹脂組成物粘度が増加するこ
とによるダイパッドシフト等の成形不良かおきやすく、
これらの手法の単独使用ではバランスのとれた樹脂組成
物系を得ることは難しい。
そこで樹脂の架橋点間距離、主鎖構造等の組成構造を自
在に変化させ諸物性のバランスをとりつつ半田耐熱性を
向上する方法か有効であると考えられる。
在に変化させ諸物性のバランスをとりつつ半田耐熱性を
向上する方法か有効であると考えられる。
耐熱衝撃性、半田耐熱性、低粘度性および成形性のいず
れも優れた半導体封止用樹脂組成物を提供することにあ
る。
れも優れた半導体封止用樹脂組成物を提供することにあ
る。
本発明者らはこれらの問題を解決するために鋭意研究を
進め、つぎの組成を持つ樹脂組成物を見い出した。
進め、つぎの組成を持つ樹脂組成物を見い出した。
(A)式(1)の化学構造式で示される3、3’。
5.5′−テトラメチル−4,4′−ジヒドロキシビフ
ェニルグリンジルエーテル を総エポキシ樹脂量に対して50〜I00重量%を含む
エポキシ樹脂 (B)式(n)の化学構造式で示される4、4′←1,
4−フェニレンビス(l−メチルエチリデン)〕ビスフ
ェノール CH3CH。
ェニルグリンジルエーテル を総エポキシ樹脂量に対して50〜I00重量%を含む
エポキシ樹脂 (B)式(n)の化学構造式で示される4、4′←1,
4−フェニレンビス(l−メチルエチリデン)〕ビスフ
ェノール CH3CH。
を総フェノール樹脂量に対して10〜50重量%を含む
フェノール樹脂 (C)硬化促進剤および (D)無機充填材 を必須成分とした組成物を用いることにより耐熱衝撃性
、半田耐熱性、低粘度性、さらに成形性にも優れた半導
体封止用樹脂組成物が得られることを見い出して本願発
明を完成するに至ったものである。
フェノール樹脂 (C)硬化促進剤および (D)無機充填材 を必須成分とした組成物を用いることにより耐熱衝撃性
、半田耐熱性、低粘度性、さらに成形性にも優れた半導
体封止用樹脂組成物が得られることを見い出して本願発
明を完成するに至ったものである。
本発明において用いられる式CI)で示される構造のビ
フェニル型エポキシ化合物は成形温度(175℃)にお
いて数センチボイズて従来のエポキシ樹脂に比べて非常
に低粘度を有するために、樹脂組成物の衝撃強度を向上
させ半田耐熱性に優れるという特徴を有している。式C
I)で示されるビフェニル型エポキシ化合物は単独で用
いても他のエポキシ樹脂と混合して用いても良いかビフ
ェニル型エポキシ化合物か総エボキノ樹脂量中の50重
量%以上とすることが必要である。50%未満の場合は
、流動性か悪い組成物となる。併用するエポキシ樹脂と
しては、0−クレゾールノポラックエポキン樹脂、3官
能エポキノ樹脂構*なとか挙げられ、これらは1種また
は2種以上混合して用いてもよい。
フェニル型エポキシ化合物は成形温度(175℃)にお
いて数センチボイズて従来のエポキシ樹脂に比べて非常
に低粘度を有するために、樹脂組成物の衝撃強度を向上
させ半田耐熱性に優れるという特徴を有している。式C
I)で示されるビフェニル型エポキシ化合物は単独で用
いても他のエポキシ樹脂と混合して用いても良いかビフ
ェニル型エポキシ化合物か総エボキノ樹脂量中の50重
量%以上とすることが必要である。50%未満の場合は
、流動性か悪い組成物となる。併用するエポキシ樹脂と
しては、0−クレゾールノポラックエポキン樹脂、3官
能エポキノ樹脂構*なとか挙げられ、これらは1種また
は2種以上混合して用いてもよい。
本発明において用いられる式[n)で示されるビスフェ
ノール型フェノール樹脂は、ビフェニル型エポキシ樹脂
と同様に、非常に小さな粘度を有し、樹脂組成物の粘度
を著しく低下させることが可能であり、成形時には高流
動性を賦与し、更にICパッケージではリードフレーム
、チップ、アイランド界面で高濡れ性、高密着性を与え
耐半田クラック性か向上する。又、無機充填材の含有量
を大幅に増加することか可能なため、熱時強度、耐熱衝
撃性、耐半田クラック性か更に向上する。
ノール型フェノール樹脂は、ビフェニル型エポキシ樹脂
と同様に、非常に小さな粘度を有し、樹脂組成物の粘度
を著しく低下させることが可能であり、成形時には高流
動性を賦与し、更にICパッケージではリードフレーム
、チップ、アイランド界面で高濡れ性、高密着性を与え
耐半田クラック性か向上する。又、無機充填材の含有量
を大幅に増加することか可能なため、熱時強度、耐熱衝
撃性、耐半田クラック性か更に向上する。
式〔■〕で示されるビスフェノール型フェノール樹脂は
、50重量%を超えると硬化性が悪くなり、成形性も悪
くなるので50重量%以下で用いる必要かある。10重
量%未満であると強靭化か不充分てあり半田耐熱性が悪
い材料となる。式(II)のヒスフェノール型フェノー
ル樹脂と併用するフェノール樹脂としては、多官能フェ
ノール系化合物例えばフェノールノボラック、0−クレ
ゾールノボラック、または必要により各種芳香環、脂肪
環を有する化合物を加え反応させた共縮合物が挙1デら
れる。
、50重量%を超えると硬化性が悪くなり、成形性も悪
くなるので50重量%以下で用いる必要かある。10重
量%未満であると強靭化か不充分てあり半田耐熱性が悪
い材料となる。式(II)のヒスフェノール型フェノー
ル樹脂と併用するフェノール樹脂としては、多官能フェ
ノール系化合物例えばフェノールノボラック、0−クレ
ゾールノボラック、または必要により各種芳香環、脂肪
環を有する化合物を加え反応させた共縮合物が挙1デら
れる。
この多官能フェノール系化合物は2官能工ポキシ化合物
および3官能工ポキシ化合物、2官能フ工ノール系化合
物との3次元架橋をもたらすものである。
および3官能工ポキシ化合物、2官能フ工ノール系化合
物との3次元架橋をもたらすものである。
2官能間士のエポキシ化合物/フェノール化合物では通
常の反応では直線状高分子量体しか生成しないが、多官
能フェノール系化合物を添加することにより3次元的に
架橋点を生成し、熱硬化高分子量体を生成する。更に、
この多官能フェノール系化合物の配合量を調節すること
により硬化特性、架橋密度、架橋点間距離の調節が自在
であり流動性、硬化性等の作業性、強度、弾性率、靭性
等の硬化物特性を望み通りに調節可能である。
常の反応では直線状高分子量体しか生成しないが、多官
能フェノール系化合物を添加することにより3次元的に
架橋点を生成し、熱硬化高分子量体を生成する。更に、
この多官能フェノール系化合物の配合量を調節すること
により硬化特性、架橋密度、架橋点間距離の調節が自在
であり流動性、硬化性等の作業性、強度、弾性率、靭性
等の硬化物特性を望み通りに調節可能である。
エポキシ化合物とフェノール系化合物の配合割合は当量
比で0.7〜1.3の範囲か好ましい。
比で0.7〜1.3の範囲か好ましい。
本発明で用いられる無機充填材としては結晶性ソリ力、
溶融ソリ力、アルミナ、炭酸カルシウム、タルク、マイ
カ、ガラス繊維等が挙げられ、これらは1種又は2種以
上混合して使用される。これらの中で特に結晶性シリカ
または溶融シリカか好適に用いられる。
溶融ソリ力、アルミナ、炭酸カルシウム、タルク、マイ
カ、ガラス繊維等が挙げられ、これらは1種又は2種以
上混合して使用される。これらの中で特に結晶性シリカ
または溶融シリカか好適に用いられる。
また、本発明に使用される硬化促進剤はエポキシ基とフ
ェノール性水酸基との反応を促進するものであれば良く
、一般に封止用材料に使用されているものを広く使用す
ることができ、例えばBDMA等の第3級アミン類、イ
ミダゾール類、l、8、−ジアザビシクロ〔5,4,0
〕ウンデセン−7、トリフェニルホスフィン等の有機リ
ン化合物等が単独もしくは2種以上混合して用いられる
。
ェノール性水酸基との反応を促進するものであれば良く
、一般に封止用材料に使用されているものを広く使用す
ることができ、例えばBDMA等の第3級アミン類、イ
ミダゾール類、l、8、−ジアザビシクロ〔5,4,0
〕ウンデセン−7、トリフェニルホスフィン等の有機リ
ン化合物等が単独もしくは2種以上混合して用いられる
。
その他必要に応じてワックス類等の離型剤、へキサブロ
ムベンゼン、デカブロムビフェニルエーテル、三酸化ア
ンチモン等の難燃剤、カーボンブラック、ベンガラ等の
着色剤、シランカップリング剤その地熱可塑性樹脂等を
適宜添加配合することかできる。
ムベンゼン、デカブロムビフェニルエーテル、三酸化ア
ンチモン等の難燃剤、カーボンブラック、ベンガラ等の
着色剤、シランカップリング剤その地熱可塑性樹脂等を
適宜添加配合することかできる。
本発明の半導体封止用エポキシ樹脂組成物を製造するに
はエポキシ系化合物とフェノール系化合物を所定の配合
比で混ぜ加熱釜内て150℃にて溶融混合後冷却する。
はエポキシ系化合物とフェノール系化合物を所定の配合
比で混ぜ加熱釜内て150℃にて溶融混合後冷却する。
次に所定の配合比の原料をミキサー等によって十分に混
合した後、更にロールやニーダ−等により溶融混練処理
し、次いで冷却固化させて適当な大きさに粉砕すること
により容易に製造することか出来る。
合した後、更にロールやニーダ−等により溶融混練処理
し、次いで冷却固化させて適当な大きさに粉砕すること
により容易に製造することか出来る。
以下、本発明を実施例で示す。なお配合割合は重量部と
する。
する。
実施例1〜4.比較例1.2
第1表に示したそれぞれの配合割合の組成物を常温にて
十分に混合し、更に95〜100℃で2軸ロールにより
混練し、冷却後粉砕して成形材料とし、これをタブレッ
ト化して半導体封止用エボキノ樹脂組成物を得た。
十分に混合し、更に95〜100℃で2軸ロールにより
混練し、冷却後粉砕して成形材料とし、これをタブレッ
ト化して半導体封止用エボキノ樹脂組成物を得た。
この材料をトラノスフ7−成形機(成形条件 金型温度
175°C1硬化時間2分)を用いて成形し、得られた
成形品を175°C18時間で後硬化し評価した。結果
を第1表に示す。
175°C1硬化時間2分)を用いて成形し、得られた
成形品を175°C18時間で後硬化し評価した。結果
を第1表に示す。
評価方法
※1.スパイラルフロー
−f=MM I −1−66に準じたスパイラルフロー
測定用金型を用い、試料を20g、成形温度175°C
1成形圧カフ、 0 M P a、成形時間2分で成形
した時の成形品の長さ。
測定用金型を用い、試料を20g、成形温度175°C
1成形圧カフ、 0 M P a、成形時間2分で成形
した時の成形品の長さ。
※2.高化式フロー粘度
175℃時の高化式フロー粘度(ポイズ)※3.耐熱衝
撃性試験 成形品(チップサイズ36mIn2、パッケージ厚2.
0511I11、後硬化175℃、8Hrs)20個を
温度サイクルのテスト(+150℃〜−196℃)にか
け、500サイクルのテストを行ないクラックの発生し
た個数を示す。
撃性試験 成形品(チップサイズ36mIn2、パッケージ厚2.
0511I11、後硬化175℃、8Hrs)20個を
温度サイクルのテスト(+150℃〜−196℃)にか
け、500サイクルのテストを行ないクラックの発生し
た個数を示す。
※4.半田耐熱性試験
成形品(チップサイズ36Ir1m2、パッケージ厚2
.05aun) 20個i、ニー)いて85°C185
’6RHの水蒸気下で72時間処理後、240 ’Cの
半田槽に10秒間浸漬し、クラックの発生した成形品の
個数を示す。
.05aun) 20個i、ニー)いて85°C185
’6RHの水蒸気下で72時間処理後、240 ’Cの
半田槽に10秒間浸漬し、クラックの発生した成形品の
個数を示す。
※5.ショアD硬度
175°Cで成形し、硬化2分後に測定。
本発明による半導体封止用樹脂組成物は耐熱衝撃性と半
田耐熱性に極めて優れ、低粘度であり、このため金線変
形性おび充填性に優れ、さらに成形加工性(樹脂パリ)
にも優れ、極めてバランスのとれた樹脂組成物であるた
め高集積度IC封止用樹脂組成物として非常に信頼性の
高いものである。
田耐熱性に極めて優れ、低粘度であり、このため金線変
形性おび充填性に優れ、さらに成形加工性(樹脂パリ)
にも優れ、極めてバランスのとれた樹脂組成物であるた
め高集積度IC封止用樹脂組成物として非常に信頼性の
高いものである。
Claims (1)
- (1)(A)式〔 I 〕の化学構造式で示される3、3
′、5、5′−テトラメチル−4、4′−ジヒドロキシ
ビフェニルグリシジルエーテル ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 を総エポキシ樹脂量に対して50〜100重量%を含む
エポキシ樹脂 (B)式〔II〕の化学構造式で示される4、4′■1、
4−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)〕ビスフ
ェノール ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 を総フェノール樹脂量に対して10〜50重量%を含む
フェノール樹脂 (C)硬化促進剤および (D)無機充填材 を必須成分とすることを特徴とする半導体封止用樹脂組
成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30887490A JP2933706B2 (ja) | 1990-11-16 | 1990-11-16 | 半導体封止用樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30887490A JP2933706B2 (ja) | 1990-11-16 | 1990-11-16 | 半導体封止用樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04183711A true JPH04183711A (ja) | 1992-06-30 |
JP2933706B2 JP2933706B2 (ja) | 1999-08-16 |
Family
ID=17986302
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30887490A Expired - Fee Related JP2933706B2 (ja) | 1990-11-16 | 1990-11-16 | 半導体封止用樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2933706B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06107911A (ja) * | 1992-09-24 | 1994-04-19 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 半導体封止用樹脂組成物 |
JPH07173372A (ja) * | 1993-12-20 | 1995-07-11 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | エポキシ樹脂組成物 |
JPH0820628A (ja) * | 1994-07-07 | 1996-01-23 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
JP2009242572A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Nippon Steel Chem Co Ltd | エポキシ樹脂組成物および成形物 |
-
1990
- 1990-11-16 JP JP30887490A patent/JP2933706B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06107911A (ja) * | 1992-09-24 | 1994-04-19 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 半導体封止用樹脂組成物 |
JPH07173372A (ja) * | 1993-12-20 | 1995-07-11 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | エポキシ樹脂組成物 |
JPH0820628A (ja) * | 1994-07-07 | 1996-01-23 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
JP2009242572A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Nippon Steel Chem Co Ltd | エポキシ樹脂組成物および成形物 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2933706B2 (ja) | 1999-08-16 |
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