JPH04183711A - 半導体封止用樹脂組成物 - Google Patents

半導体封止用樹脂組成物

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JPH04183711A
JPH04183711A JP30887490A JP30887490A JPH04183711A JP H04183711 A JPH04183711 A JP H04183711A JP 30887490 A JP30887490 A JP 30887490A JP 30887490 A JP30887490 A JP 30887490A JP H04183711 A JPH04183711 A JP H04183711A
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Shinichi Iwasaki
岩崎 慎一
Koichi Tanaka
孝一 田中
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は高集積度IC封止用樹脂組成物に適する耐熱衝
撃性と半田耐熱性および低粘度性に優れたエポキシ樹脂
組成物に関するものである。
〔従来の技術〕
従来、ダイオード、トランジスタ、集積回路等の電子部
品を熱硬化性樹脂で封止しているが、特に集積回路では
耐熱性、耐湿性に優れた0−クレゾールノボラックエポ
キシ樹脂をノボラック型フェノール樹脂で硬化させたエ
ポキシ樹脂が用いられている。
ところが半導体パッケージの実装方法としては従来のス
ルーホール実装から表面実装への移行、そして半導体パ
ッケージの種類としては実装方法に対応してDIPから
SOP、SOJ、PLCCに変わってきている。そして
最近では、パッケージの厚みか従来のものに比へて非常
に薄い約1 ma+厚のTSOP、TQFPというパッ
ケージもあられれてきている。
即ち大型チップを小型で薄いパッケージに封入すること
により、応力によるクラック発生、これらのクラックに
よる耐湿性の低下等の問題か大きくクローズアップされ
てきている。
特に耐熱衝撃性と半田耐熱性の2点をクリアーてきる封
止樹脂か必要とされている。
耐熱衝撃性の向上に対しては、シリコーンオイル、シリ
コーンゴム等のシリコーン化合物や合成ゴム等の添加か
行われてきた。しかしこれらの添加は、成形時の型汚れ
、樹脂パリの発生等不都合な現象が生じるため、シリコ
ーンとエポキシ樹脂又は硬化剤とを反応させたシリコー
ン変性レジンが開発されてきた。(例えば特開昭58−
21417号公報)。現在の封止樹脂は、この活用によ
りかなり耐熱衝撃性か向上している。しかし、これらは
マトリック樹脂中に低弾性率ドメインを導入して全体を
低弾性率化しようとする手法であるかトメンとマトリッ
クスとの接着性に問題かあり、弾性率と同時に強度も低
下してしまう等、いまた十分てはないし、しかも半田耐
熱性か低下する傾向かあり問題となっている。そこで、
上記のような低応力賦与剤を添加せずにマトリックス樹
脂そのものの耐熱衝撃性を向上する必要かでてくる。
半田耐熱性の向上に対しては、ポリイミド樹脂やフィラ
ーの検討および3官能樹脂の活用(例えば特開昭61−
168620号公報)か有望とされているか、いずれも
耐熱衝撃性に劣り、しかも樹脂組成物粘度が増加するこ
とによるダイパッドシフト等の成形不良かおきやすく、
これらの手法の単独使用ではバランスのとれた樹脂組成
物系を得ることは難しい。
そこで樹脂の架橋点間距離、主鎖構造等の組成構造を自
在に変化させ諸物性のバランスをとりつつ半田耐熱性を
向上する方法か有効であると考えられる。
〔発明か解決しようとする課題〕
耐熱衝撃性、半田耐熱性、低粘度性および成形性のいず
れも優れた半導体封止用樹脂組成物を提供することにあ
る。
〔課題を解決するための手段〕
本発明者らはこれらの問題を解決するために鋭意研究を
進め、つぎの組成を持つ樹脂組成物を見い出した。
(A)式(1)の化学構造式で示される3、3’。
5.5′−テトラメチル−4,4′−ジヒドロキシビフ
ェニルグリンジルエーテル を総エポキシ樹脂量に対して50〜I00重量%を含む
エポキシ樹脂 (B)式(n)の化学構造式で示される4、4′←1,
4−フェニレンビス(l−メチルエチリデン)〕ビスフ
ェノール CH3CH。
を総フェノール樹脂量に対して10〜50重量%を含む
フェノール樹脂 (C)硬化促進剤および (D)無機充填材 を必須成分とした組成物を用いることにより耐熱衝撃性
、半田耐熱性、低粘度性、さらに成形性にも優れた半導
体封止用樹脂組成物が得られることを見い出して本願発
明を完成するに至ったものである。
〔作  用〕
本発明において用いられる式CI)で示される構造のビ
フェニル型エポキシ化合物は成形温度(175℃)にお
いて数センチボイズて従来のエポキシ樹脂に比べて非常
に低粘度を有するために、樹脂組成物の衝撃強度を向上
させ半田耐熱性に優れるという特徴を有している。式C
I)で示されるビフェニル型エポキシ化合物は単独で用
いても他のエポキシ樹脂と混合して用いても良いかビフ
ェニル型エポキシ化合物か総エボキノ樹脂量中の50重
量%以上とすることが必要である。50%未満の場合は
、流動性か悪い組成物となる。併用するエポキシ樹脂と
しては、0−クレゾールノポラックエポキン樹脂、3官
能エポキノ樹脂構*なとか挙げられ、これらは1種また
は2種以上混合して用いてもよい。
本発明において用いられる式[n)で示されるビスフェ
ノール型フェノール樹脂は、ビフェニル型エポキシ樹脂
と同様に、非常に小さな粘度を有し、樹脂組成物の粘度
を著しく低下させることが可能であり、成形時には高流
動性を賦与し、更にICパッケージではリードフレーム
、チップ、アイランド界面で高濡れ性、高密着性を与え
耐半田クラック性か向上する。又、無機充填材の含有量
を大幅に増加することか可能なため、熱時強度、耐熱衝
撃性、耐半田クラック性か更に向上する。
式〔■〕で示されるビスフェノール型フェノール樹脂は
、50重量%を超えると硬化性が悪くなり、成形性も悪
くなるので50重量%以下で用いる必要かある。10重
量%未満であると強靭化か不充分てあり半田耐熱性が悪
い材料となる。式(II)のヒスフェノール型フェノー
ル樹脂と併用するフェノール樹脂としては、多官能フェ
ノール系化合物例えばフェノールノボラック、0−クレ
ゾールノボラック、または必要により各種芳香環、脂肪
環を有する化合物を加え反応させた共縮合物が挙1デら
れる。
この多官能フェノール系化合物は2官能工ポキシ化合物
および3官能工ポキシ化合物、2官能フ工ノール系化合
物との3次元架橋をもたらすものである。
2官能間士のエポキシ化合物/フェノール化合物では通
常の反応では直線状高分子量体しか生成しないが、多官
能フェノール系化合物を添加することにより3次元的に
架橋点を生成し、熱硬化高分子量体を生成する。更に、
この多官能フェノール系化合物の配合量を調節すること
により硬化特性、架橋密度、架橋点間距離の調節が自在
であり流動性、硬化性等の作業性、強度、弾性率、靭性
等の硬化物特性を望み通りに調節可能である。
エポキシ化合物とフェノール系化合物の配合割合は当量
比で0.7〜1.3の範囲か好ましい。
本発明で用いられる無機充填材としては結晶性ソリ力、
溶融ソリ力、アルミナ、炭酸カルシウム、タルク、マイ
カ、ガラス繊維等が挙げられ、これらは1種又は2種以
上混合して使用される。これらの中で特に結晶性シリカ
または溶融シリカか好適に用いられる。
また、本発明に使用される硬化促進剤はエポキシ基とフ
ェノール性水酸基との反応を促進するものであれば良く
、一般に封止用材料に使用されているものを広く使用す
ることができ、例えばBDMA等の第3級アミン類、イ
ミダゾール類、l、8、−ジアザビシクロ〔5,4,0
〕ウンデセン−7、トリフェニルホスフィン等の有機リ
ン化合物等が単独もしくは2種以上混合して用いられる
その他必要に応じてワックス類等の離型剤、へキサブロ
ムベンゼン、デカブロムビフェニルエーテル、三酸化ア
ンチモン等の難燃剤、カーボンブラック、ベンガラ等の
着色剤、シランカップリング剤その地熱可塑性樹脂等を
適宜添加配合することかできる。
本発明の半導体封止用エポキシ樹脂組成物を製造するに
はエポキシ系化合物とフェノール系化合物を所定の配合
比で混ぜ加熱釜内て150℃にて溶融混合後冷却する。
次に所定の配合比の原料をミキサー等によって十分に混
合した後、更にロールやニーダ−等により溶融混練処理
し、次いで冷却固化させて適当な大きさに粉砕すること
により容易に製造することか出来る。
〔実施例〕
以下、本発明を実施例で示す。なお配合割合は重量部と
する。
実施例1〜4.比較例1.2 第1表に示したそれぞれの配合割合の組成物を常温にて
十分に混合し、更に95〜100℃で2軸ロールにより
混練し、冷却後粉砕して成形材料とし、これをタブレッ
ト化して半導体封止用エボキノ樹脂組成物を得た。
この材料をトラノスフ7−成形機(成形条件 金型温度
175°C1硬化時間2分)を用いて成形し、得られた
成形品を175°C18時間で後硬化し評価した。結果
を第1表に示す。
評価方法 ※1.スパイラルフロー −f=MM I −1−66に準じたスパイラルフロー
測定用金型を用い、試料を20g、成形温度175°C
1成形圧カフ、 0 M P a、成形時間2分で成形
した時の成形品の長さ。
※2.高化式フロー粘度 175℃時の高化式フロー粘度(ポイズ)※3.耐熱衝
撃性試験 成形品(チップサイズ36mIn2、パッケージ厚2.
0511I11、後硬化175℃、8Hrs)20個を
温度サイクルのテスト(+150℃〜−196℃)にか
け、500サイクルのテストを行ないクラックの発生し
た個数を示す。
※4.半田耐熱性試験 成形品(チップサイズ36Ir1m2、パッケージ厚2
.05aun) 20個i、ニー)いて85°C185
’6RHの水蒸気下で72時間処理後、240 ’Cの
半田槽に10秒間浸漬し、クラックの発生した成形品の
個数を示す。
※5.ショアD硬度 175°Cで成形し、硬化2分後に測定。
〔発明の効果〕
本発明による半導体封止用樹脂組成物は耐熱衝撃性と半
田耐熱性に極めて優れ、低粘度であり、このため金線変
形性おび充填性に優れ、さらに成形加工性(樹脂パリ)
にも優れ、極めてバランスのとれた樹脂組成物であるた
め高集積度IC封止用樹脂組成物として非常に信頼性の
高いものである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)(A)式〔 I 〕の化学構造式で示される3、3
    ′、5、5′−テトラメチル−4、4′−ジヒドロキシ
    ビフェニルグリシジルエーテル ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 を総エポキシ樹脂量に対して50〜100重量%を含む
    エポキシ樹脂 (B)式〔II〕の化学構造式で示される4、4′■1、
    4−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)〕ビスフ
    ェノール ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 を総フェノール樹脂量に対して10〜50重量%を含む
    フェノール樹脂 (C)硬化促進剤および (D)無機充填材 を必須成分とすることを特徴とする半導体封止用樹脂組
    成物。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06107911A (ja) * 1992-09-24 1994-04-19 Sumitomo Bakelite Co Ltd 半導体封止用樹脂組成物
JPH07173372A (ja) * 1993-12-20 1995-07-11 Sumitomo Bakelite Co Ltd エポキシ樹脂組成物
JPH0820628A (ja) * 1994-07-07 1996-01-23 Sumitomo Bakelite Co Ltd 半導体封止用エポキシ樹脂組成物
JP2009242572A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Nippon Steel Chem Co Ltd エポキシ樹脂組成物および成形物

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JP2009242572A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Nippon Steel Chem Co Ltd エポキシ樹脂組成物および成形物

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