JPH04164050A - ２，４ジクロロ―３―エチル―６―ニトロフェノールの製法 - Google Patents
２，４ジクロロ―３―エチル―６―ニトロフェノールの製法Info
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- JPH04164050A JPH04164050A JP29325490A JP29325490A JPH04164050A JP H04164050 A JPH04164050 A JP H04164050A JP 29325490 A JP29325490 A JP 29325490A JP 29325490 A JP29325490 A JP 29325490A JP H04164050 A JPH04164050 A JP H04164050A
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、カラー写真用シアン発色剤の中間体等として
有用な２．４−ジクロロ−３−エチル−６−ニトロフェ
ノールの製造法の改良に関する。
有用な２．４−ジクロロ−３−エチル−６−ニトロフェ
ノールの製造法の改良に関する。
〈従来の技術〉
２．４−ジクロロ−３−エチル−６−ニトロフェノール
の製造法としては、例えば特開昭６１−５７５３６号公
報には、４−クロロ−５−エチルフェノールをハロゲン
化炭化水素溶媒中で、無水硫酸錯体を用いるか、あるい
は過剰の濃硫酸中でスルホン化して、２−スルホ−４−
クロロ−５−エチルフェノールとし、これを塩素ガス又
は塩化スルフリルを用いて、塩素化して２−スルホ−４
，６−ジクロロ−５−エチルフェノールとし、次に硝酸
を用いてスルホン酸基をニトロ基で置換して２−ニトロ
−４，６−ジクロル−５−エチルフェノールを製造する
方法が記載されている。
の製造法としては、例えば特開昭６１−５７５３６号公
報には、４−クロロ−５−エチルフェノールをハロゲン
化炭化水素溶媒中で、無水硫酸錯体を用いるか、あるい
は過剰の濃硫酸中でスルホン化して、２−スルホ−４−
クロロ−５−エチルフェノールとし、これを塩素ガス又
は塩化スルフリルを用いて、塩素化して２−スルホ−４
，６−ジクロロ−５−エチルフェノールとし、次に硝酸
を用いてスルホン酸基をニトロ基で置換して２−ニトロ
−４，６−ジクロル−５−エチルフェノールを製造する
方法が記載されている。
〈発明が解決しようとする課題〉
特開昭６１−５７５３６号に記載の方法は、２−スルホ
−４，６−ジクロロ−５−エチルフェノールを硝酸を用
いてスルホン酸基をニトロ基で置換して２−二トロー４
．６−ジクロル−５−エチルフェノールを製造するに際
し、２−スルホ−４，６−ジクロロ−５−エチルフェノ
ールに硝酸を滴下する方法であり、この方法では硝酸を
滴下して、反応が開始するまでの時間（誘導期）が長い
という難点がある。誘導期を短くするためには、硝酸の
滴下量を増加したり、反応温度を上げることが必要とな
るが、硝酸の滴下量を増加すると反応が開始した時の発
熱量が大きいため温度制御が難しく、危険を伴うことか
ら工業的規模での実施には不利である。また、反応温度
を上げると目的とする２、４−ジクロロ−３−エチル−
６−ニトロフェノール以外の不純物（ジニトロ体等）が
生成しやすいため、品質、収率面で得策でない。
−４，６−ジクロロ−５−エチルフェノールを硝酸を用
いてスルホン酸基をニトロ基で置換して２−二トロー４
．６−ジクロル−５−エチルフェノールを製造するに際
し、２−スルホ−４，６−ジクロロ−５−エチルフェノ
ールに硝酸を滴下する方法であり、この方法では硝酸を
滴下して、反応が開始するまでの時間（誘導期）が長い
という難点がある。誘導期を短くするためには、硝酸の
滴下量を増加したり、反応温度を上げることが必要とな
るが、硝酸の滴下量を増加すると反応が開始した時の発
熱量が大きいため温度制御が難しく、危険を伴うことか
ら工業的規模での実施には不利である。また、反応温度
を上げると目的とする２、４−ジクロロ−３−エチル−
６−ニトロフェノール以外の不純物（ジニトロ体等）が
生成しやすいため、品質、収率面で得策でない。
く課題を解決するための手段〉
本発明は硝酸水溶液に３．５−ジクロｏ−４−エチル−
２−ヒドロキシベンゼンスルホン酸水溶液を滴下して、
スルホン酸基をニトロ基に置換することを特徴とする２
、４−ジクロロ−３−エチル−６−ニトロフェノールの
製法である。
２−ヒドロキシベンゼンスルホン酸水溶液を滴下して、
スルホン酸基をニトロ基に置換することを特徴とする２
、４−ジクロロ−３−エチル−６−ニトロフェノールの
製法である。
本発明者らは、本発明のスルホン酸基をニトロ基に置換
するいわゆるニトロ化反応は、硝酸水溶液中に３．５−
ジクロロ−４−エチル−２−ヒドロキシベンゼンスルホ
ン酸の水溶液を滴下することにより、誘導期を短くする
ことができるため、安全性を著しく向上させることがで
きると共に、収率も格段と向上させることができること
を見出した。
するいわゆるニトロ化反応は、硝酸水溶液中に３．５−
ジクロロ−４−エチル−２−ヒドロキシベンゼンスルホ
ン酸の水溶液を滴下することにより、誘導期を短くする
ことができるため、安全性を著しく向上させることがで
きると共に、収率も格段と向上させることができること
を見出した。
本発明で使用される硝酸の濃度は、特に制限されないが
、２〜７０重量％の硝酸水溶液の形態が好ましく用いら
れる。
、２〜７０重量％の硝酸水溶液の形態が好ましく用いら
れる。
硝酸の使用量は、３，５−ジクロロ−４−エチル−２−
ヒドロキシベンゼンスルホン酸１モルに対して０．９モ
ル以上、好ましくは１〜１０モル、更に好ましくは１〜
４モルの範囲である。
ヒドロキシベンゼンスルホン酸１モルに対して０．９モ
ル以上、好ましくは１〜１０モル、更に好ましくは１〜
４モルの範囲である。
本発明のニトロ化反応の温度は通常８０°Ｃ以下、好ま
しくは６０°Ｃ以下、更に好ましくは４０°Ｃ以下であ
る。
しくは６０°Ｃ以下、更に好ましくは４０°Ｃ以下であ
る。
本発明の目的物である２、４−ジクロロ−３−エチル−
６−ニトロフェノールは、反応後結晶を濾過することに
よって容易に得ることができる。必要ならば濾過前にベ
ンゼン、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、オ
ルトジクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素、クロロホ
ルム、塩化メチレン、二塩化エタン、三塩化エタンなど
の塩素化合物炭化水素等の溶媒によって抽出し、水溶性
の不純物を取り除くことができる。
６−ニトロフェノールは、反応後結晶を濾過することに
よって容易に得ることができる。必要ならば濾過前にベ
ンゼン、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、オ
ルトジクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素、クロロホ
ルム、塩化メチレン、二塩化エタン、三塩化エタンなど
の塩素化合物炭化水素等の溶媒によって抽出し、水溶性
の不純物を取り除くことができる。
また、メタノール、イソプロパツールなどのアルコール
類等を用いて洗浄あるいは再結晶することも可能である
。
類等を用いて洗浄あるいは再結晶することも可能である
。
本発明に用いる３、５−ジクロロ−４−エチル−２−ヒ
ドロキシベンゼンスルホン酸は、種々の方法によって製
造されるが、５−クロロ−４−エチル−２−ヒドロキシ
ベンゼンスルポン酸を塩素化して得られる３、５−ジク
ロロ−４−エチル−２−ヒドロキシベンゼンスルホン酸
を用いる方法が工業的に好ましく、特にこの塩素化は、
塩化水素と過酸化水素とによって行うことが更に好まし
い。
ドロキシベンゼンスルホン酸は、種々の方法によって製
造されるが、５−クロロ−４−エチル−２−ヒドロキシ
ベンゼンスルポン酸を塩素化して得られる３、５−ジク
ロロ−４−エチル−２−ヒドロキシベンゼンスルホン酸
を用いる方法が工業的に好ましく、特にこの塩素化は、
塩化水素と過酸化水素とによって行うことが更に好まし
い。
また、ここで用いられる５−クロロ−４−エチル−２−
ヒドロキシベンゼンスルホン酸は、４−クロロ−３−エ
チルフェノールをスルホン化して得られる５−クロロ−
４−エチル−２−ヒドロキシベンゼンスルホン酸を用い
ることが工業的に好ましく、特にこのスルホン化はクロ
ロスルホン酸を用いてスルホン化を行うことが更に好ま
しい。
ヒドロキシベンゼンスルホン酸は、４−クロロ−３−エ
チルフェノールをスルホン化して得られる５−クロロ−
４−エチル−２−ヒドロキシベンゼンスルホン酸を用い
ることが工業的に好ましく、特にこのスルホン化はクロ
ロスルホン酸を用いてスルホン化を行うことが更に好ま
しい。
〈発明の効果〉
本発明の方法によれば、４−クロロ−３−エチルフェノ
ールから、５−クロロ−４−エチル−２−ヒドロキシベ
ンゼンスルホン酸及び３．５−ジクロロ−４−エチル−
２−ヒドロキシベンゼンスルホン酸を経て、目的とする
２、４−ジクロロ−３−エチル−６−ニトロフェノール
を安全に高純度、高収率で工業的に有利に製造すること
ができる。
ールから、５−クロロ−４−エチル−２−ヒドロキシベ
ンゼンスルホン酸及び３．５−ジクロロ−４−エチル−
２−ヒドロキシベンゼンスルホン酸を経て、目的とする
２、４−ジクロロ−３−エチル−６−ニトロフェノール
を安全に高純度、高収率で工業的に有利に製造すること
ができる。
〈実施例〉
以下、本発明を実施例によって、更に詳細に説明するが
、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例Ｉ
Ｉｆのガラス製４ツロのフラスコに４−クロロ−３−エ
チルフェノール１００ｇ、二塩化エタン３５０ｇを入れ
て溶解する。３５〜４５℃に保ちながら、クロロスルホ
ン酸８０ｇを滴下した後、４０〜４５℃で１時間保温す
る。次に１４．３％塩酸３２６ｇを加え、温度を４０〜
４５℃に保って３５％過酸化水素水６８ｇを滴下する。
チルフェノール１００ｇ、二塩化エタン３５０ｇを入れ
て溶解する。３５〜４５℃に保ちながら、クロロスルホ
ン酸８０ｇを滴下した後、４０〜４５℃で１時間保温す
る。次に１４．３％塩酸３２６ｇを加え、温度を４０〜
４５℃に保って３５％過酸化水素水６８ｇを滴下する。
同温度に８時間保った後、２０°Ｃまで冷却する。油層
を分離した後、水層を滴下濾斗に入れＩＡのガラス性４
ツロのフラスコに予め仕込んでおいた３５％硝酸水溶液
２３０ｇ中に３０〜４０°Ｃに保ちながら滴下する。滴
下と同時に液は黄白色に濁り反応が開始する。滴下終了
後同温度で２時間保温する。５°Ｃまで冷却して濾過す
る。水で洗浄して乾燥することにより、２，４−ジクロ
ロ−３−エチル−６−ニトロフェノールが得られる。
を分離した後、水層を滴下濾斗に入れＩＡのガラス性４
ツロのフラスコに予め仕込んでおいた３５％硝酸水溶液
２３０ｇ中に３０〜４０°Ｃに保ちながら滴下する。滴
下と同時に液は黄白色に濁り反応が開始する。滴下終了
後同温度で２時間保温する。５°Ｃまで冷却して濾過す
る。水で洗浄して乾燥することにより、２，４−ジクロ
ロ−３−エチル−６−ニトロフェノールが得られる。
収量１４３ｇ（収量＝４−り四ロー３−エチルフェノー
ルに対して９５％） 純度９９．２％ （ＬＣ面積百分値） 実施例２ １ｊ７のガラス製４ツロのフラスコに４−クロロ−３−
エチルフェノール１００ｇ、二塩化エタン３５０ｇを入
れて溶解する。３５〜４５℃に保ちながらクロロスルホ
ン酸８０ｇを滴下した後、４０〜４５℃で１時間保温す
る。次に１４．３％塩酸３２６ｇを加え、温度を４０〜
４５℃に保って３５％過酸化水素水６８ｇを滴下する。
ルに対して９５％） 純度９９．２％ （ＬＣ面積百分値） 実施例２ １ｊ７のガラス製４ツロのフラスコに４−クロロ−３−
エチルフェノール１００ｇ、二塩化エタン３５０ｇを入
れて溶解する。３５〜４５℃に保ちながらクロロスルホ
ン酸８０ｇを滴下した後、４０〜４５℃で１時間保温す
る。次に１４．３％塩酸３２６ｇを加え、温度を４０〜
４５℃に保って３５％過酸化水素水６８ｇを滴下する。
同温度に８時間保った後、２０°Ｃまで冷却する。油層
を分離後、水層を滴下濾斗に入れ、ｌＩ！のガラス製４
ツロのフラスコに予め仕込んでおいた７０％硝酸水溶液
１７２．５ｇ中に３０〜４０°Ｃに保ちながら滴下する
。滴下と同時に液は黄白色に濁り反応が開始する。滴下
終了後同温度で２時間保温する。５°Ｃまで冷却してろ
過する。水で洗浄して乾燥することにより、２．４−ジ
クロロ−３−エチル−６−ニトロフェノールが得られる
。
を分離後、水層を滴下濾斗に入れ、ｌＩ！のガラス製４
ツロのフラスコに予め仕込んでおいた７０％硝酸水溶液
１７２．５ｇ中に３０〜４０°Ｃに保ちながら滴下する
。滴下と同時に液は黄白色に濁り反応が開始する。滴下
終了後同温度で２時間保温する。５°Ｃまで冷却してろ
過する。水で洗浄して乾燥することにより、２．４−ジ
クロロ−３−エチル−６−ニトロフェノールが得られる
。
収量１４３ｇ（収率：４−クロロ−３−エチルフェノー
ルに対して９２％） 純度９９．０％ （ＬＣ面積百分値） 比較例１ Ｉｆのガラス製４ツロのフラスコに４−クロロ−３−エ
チルフェノール１００ｇ、二塩化エタン３５０ｇを入れ
て溶解する。３５〜４５°Ｃに保ちながらクロロスルホ
ン酸８０°Ｃを滴下した後、４０〜４５°Ｃで１時間保
温する。次に１４．３％塩酸３２６ｇを加え、温度を４
０〜４５℃に保って、３５％過酸化水素水６８％を滴下
する。同温度に８時間保った後、２０°Ｃまで冷却する
。油層を分離後、水層をｌＩ！のガラス製４ツロのフラ
スコに仕込み、３０〜４０℃で７０％硝酸３４．５ ｇ
を滴下する。滴下後３５分で液は黄白色に濁り、反応が
開始する。温度は約３°Ｃ上昇する。次いで７０％硝酸
】３８ｇを滴下し、滴下後回温度で１時間保温する。５
℃まで冷却してろ過する。水で洗浄して乾燥することに
より２．４−ジクロロ−３−エチル−６−ニトロフェノ
ールが得られる。
ルに対して９２％） 純度９９．０％ （ＬＣ面積百分値） 比較例１ Ｉｆのガラス製４ツロのフラスコに４−クロロ−３−エ
チルフェノール１００ｇ、二塩化エタン３５０ｇを入れ
て溶解する。３５〜４５°Ｃに保ちながらクロロスルホ
ン酸８０°Ｃを滴下した後、４０〜４５°Ｃで１時間保
温する。次に１４．３％塩酸３２６ｇを加え、温度を４
０〜４５℃に保って、３５％過酸化水素水６８％を滴下
する。同温度に８時間保った後、２０°Ｃまで冷却する
。油層を分離後、水層をｌＩ！のガラス製４ツロのフラ
スコに仕込み、３０〜４０℃で７０％硝酸３４．５ ｇ
を滴下する。滴下後３５分で液は黄白色に濁り、反応が
開始する。温度は約３°Ｃ上昇する。次いで７０％硝酸
】３８ｇを滴下し、滴下後回温度で１時間保温する。５
℃まで冷却してろ過する。水で洗浄して乾燥することに
より２．４−ジクロロ−３−エチル−６−ニトロフェノ
ールが得られる。
収量１２３．５ ｇ （収率：４−クロロ−３−エチル
フェノールに対し８２％） 純度９５．６％ （ＬＣ面積百分値） 比較例２ １１のガラス製４ツロのフラスコに４−クロロ−３−エ
チルフェノール１００ ｇ、二塩化エタン３５０ｇを入
れて溶解する。３５〜４５°Ｃに保ちながら、クロロス
ルホン酸８０ｇを滴下した後、４０〜４５°Ｃで１時間
保温する。次に１４．３％塩酸３２６ｇを加え、温度４
０〜４５℃に保って３５％過酸化水素水６８ｇを滴下す
る。同温度に８時間保った後、２０°Ｃまで冷却する。
フェノールに対し８２％） 純度９５．６％ （ＬＣ面積百分値） 比較例２ １１のガラス製４ツロのフラスコに４−クロロ−３−エ
チルフェノール１００ ｇ、二塩化エタン３５０ｇを入
れて溶解する。３５〜４５°Ｃに保ちながら、クロロス
ルホン酸８０ｇを滴下した後、４０〜４５°Ｃで１時間
保温する。次に１４．３％塩酸３２６ｇを加え、温度４
０〜４５℃に保って３５％過酸化水素水６８ｇを滴下す
る。同温度に８時間保った後、２０°Ｃまで冷却する。
油層を分離後、水層をＩｆのガラス製４ツロのフラスコ
に仕込み、３０〜４０°Ｃで７０％硝酸１７２．５ ｇ
を３０分間で滴下する。滴下終了と同時に液は黄白色に
濁り反応が開始する。温度は約１５°Ｃ上昇する。滴下
後、同温度で１時間保温する。５℃まで冷却してろ過す
る。水で洗浄して乾燥することにより、２．４−ジクロ
ロ−３−エチル−６−ニトロフェノールが得られる。
に仕込み、３０〜４０°Ｃで７０％硝酸１７２．５ ｇ
を３０分間で滴下する。滴下終了と同時に液は黄白色に
濁り反応が開始する。温度は約１５°Ｃ上昇する。滴下
後、同温度で１時間保温する。５℃まで冷却してろ過す
る。水で洗浄して乾燥することにより、２．４−ジクロ
ロ−３−エチル−６−ニトロフェノールが得られる。
収量１１７゜５ｇ（収率：４−クロロ−３−エチル−ニ
トロフェノールに対して７８％） 純度９２゜３％ （ＬＣ面積百分値）
トロフェノールに対して７８％） 純度９２゜３％ （ＬＣ面積百分値）
Claims (4)
- （１）硝酸水溶液に３，５−ジクロロ−４−エチル−２
−ヒドロキシベンゼンスルホン酸水溶液を滴下して、ス
ルホン酸基をニトロ基に置換することを特徴とする２，
４−ジクロロ−３−エチル−６−ニトロフェノールの製
法。 - （２）硝酸水溶液の硝酸の濃度が２〜７０重量％である
請求項（１）に記載の方法。 - （３）５−クロロ−４−エチル−２−ヒドロキシベンゼ
ンスルホン酸を塩素化して得られる３，５−ジクロロ−
４−エチル−２−ヒドロキシベンゼンスルホン酸を用い
る請求項（１）又は（２）のいずれかに記載の方法。 - （４）４−クロロ−３−エチルフェノールをスルホン化
して得られる５−クロロ−４−エチル−２−ヒドロキシ
ベンゼンスルホン酸を用いる請求項（３）に記載の方法
。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29325490A JP2901740B2 (ja) | 1990-10-29 | 1990-10-29 | ２，４ジクロロ―３―エチル―６―ニトロフェノールの製法 |
| US07/707,097 US5136109A (en) | 1990-08-28 | 1991-05-29 | Process for preparing 2,4-dichloro-3-alkyl-6-nitrophenols |
| EP91401381A EP0473464B1 (en) | 1990-08-28 | 1991-05-29 | Process for preparing 2-4-dichloro-3-alkyl-6-nitrophenols |
| DE69110377T DE69110377T2 (de) | 1990-08-28 | 1991-05-29 | Verfahren zur Herstellung von 2,4-Dichlor-3-alkyl-6-nitrophenol. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29325490A JP2901740B2 (ja) | 1990-10-29 | 1990-10-29 | ２，４ジクロロ―３―エチル―６―ニトロフェノールの製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04164050A true JPH04164050A (ja) | 1992-06-09 |
| JP2901740B2 JP2901740B2 (ja) | 1999-06-07 |
Family
ID=17792447
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29325490A Expired - Fee Related JP2901740B2 (ja) | 1990-08-28 | 1990-10-29 | ２，４ジクロロ―３―エチル―６―ニトロフェノールの製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2901740B2 (ja) |
-
1990
- 1990-10-29 JP JP29325490A patent/JP2901740B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2901740B2 (ja) | 1999-06-07 |
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