JP2002284755A - 新規な含フッ素アントラセン化合物及びそれらの製造方法 - Google Patents

新規な含フッ素アントラセン化合物及びそれらの製造方法

Info

Publication number
JP2002284755A
JP2002284755A JP2001087873A JP2001087873A JP2002284755A JP 2002284755 A JP2002284755 A JP 2002284755A JP 2001087873 A JP2001087873 A JP 2001087873A JP 2001087873 A JP2001087873 A JP 2001087873A JP 2002284755 A JP2002284755 A JP 2002284755A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
anthracene
trifluoromethyl
formula
following formula
reaction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001087873A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4801270B2 (ja
Inventor
Gen Ko
原 高
Mitsuharu Shimoda
光春 下田
Naoto Takechi
直人 武知
Yasushi Fukai
靖 深井
Tadao Nakaya
忠雄 仲矢
Tatsuro Ishitobi
達郎 石飛
Yukinori Noguchi
幸紀 野口
Akio Tajima
晶夫 田島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Taiho Kogyo Co Ltd
Kanto Denka Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Taiho Kogyo Co Ltd
Kanto Denka Kogyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Taiho Kogyo Co Ltd, Kanto Denka Kogyo Co Ltd filed Critical Taiho Kogyo Co Ltd
Priority to JP2001087873A priority Critical patent/JP4801270B2/ja
Publication of JP2002284755A publication Critical patent/JP2002284755A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4801270B2 publication Critical patent/JP4801270B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 各種中間体あるいは前駆体として工業的に有
意義な広範な用途を有する新規な含フッ素アントラセン
化合物類及びそれらの製造方法を提供すること。 【解決手段】下記一般式(I)で示される新規な含フッ
素アントラセン化合物: 【化9】 ただし、式(I)において、YはH,F,Cl,Br,
IまたはCNである。これらの一群の含フッ素アントラ
セン化合物は、入手容易な9,10−ジブロモアントラ
センを出発原料として誘導することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規な含フッ素ア
ントラセン化合物類、及びそれらの製造方法に関する。
本発明による新規化合物は、有機蛍光物質、液晶材料、
染料等の前駆体として有用であり、その他の各種中間体
として工業的に有意義な広範な用途が期待されるもので
ある。
【0002】
【従来の技術】本発明の含フッ素アントラセン化合物類
は新規であり、従ってそれらの化合物を製造するための
方法も新規である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、工業
的に有意義な含フッ素有機化合物である下記一般式
(I)で示される新規な含フッ素アントラセン化合物と
その製造方法を提供することである。
【0004】
【化7】
【0005】ただし、式(I)において、YはH,F,
Cl,Br,IまたはCNである。即ち、本発明は以下
の式(VII)で示される新規な9−シアノメチル−1
0−(トリフルオロメチル)アントラセン、その前駆体
である式(V)で示される9−メチル−10−(トリフ
ルオロメチル)アントラセン、及び式(VI)で示され
る9−ハロゲノメチル−10−(トリフルオロメチル)
アントラセン〔9位のハロゲノメチル基のハロゲン原子
はF,Cl,BrまたはIである。〕に関するものであ
る。本発明によって提供される式(VII)で示される
9−シアノメチル−10−(トリフルオロメチル)アン
トラセンは、活性メチレン基を有することから各種化合
物との反応性に富み、トリフルオロメチル基を有する有
機蛍光物質、染料、液晶材料等を製造するための利用が
期待される有用な中間体化合物である。また、式(V)
で示される9−メチル−10−(トリフルオロメチル)
アントラセン、及び式(VI)で示される9−ハロゲノ
メチル−10−(トリフルオロメチル)アントラセン
は、式(VII)の9−シアノメチル−10−(トリフ
ルオロメチル)アントラセンの前駆体として有用である
ばかりでなく、反応活性なメチル基やハロゲン原子を有
することからトリフルオロメチル基を有する医農薬、機
能性材料等の中間体として利用が期待される有用な化合
物である。
【0006】
【化8】
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、式(VI
I)で示される新規な9−シアノメチル−10−(トリ
フルオロメチル)アントラセンを、式(II)で示され
る9,10−ジブロモアントラセンを原料として、式
(III)で示される9−ブロモ−10−メチルアント
ラセンと式(IV)で示される9−メチルアントラセン
−10−カルボン酸と(V)で示される新規な9−メチ
ル−10−(トリフルオロメチル)アントラセン、及び
式(VI)で示される新規な9−ハロゲノメチル−10
−(トリフルオロメチル)アントラセンとを経由して製
造する方法を見出した。
【0008】本発明の新規化合物の具体的な製造方法に
ついて以下に説明する。式(II)で示される9,10
−ジブロモアントラセンは、アントラセンを直接臭素化
することにより容易に製造することが可能であり、試薬
としても市販されており入手可能な化合物である。
【0009】式(II)で示される9,10−ジブロモ
アントラセンを原料として、式(III)で示される9
−ブロモ−10−メチルアントラセンを製造する方法と
しては、例えば、不活性ガス雰囲気下で式(II)の化
合物から有機金属化合物を調製して、これにハロゲン化
メチルを反応させることにより製造することができる。
【0010】式(II)で示される9,10−ジブロモ
アントラセンの1つのブロモ基を、溶媒中、攪拌下、所
定温度、所定時間で有機リチウム試薬と反応させること
により、有機リチウム化合物を含む溶液を調製し、その
溶液とハロゲン化メチルとを攪拌下、所定温度、所定時
間で反応させることによって、式(III)で示される
9−ブロモ−10−メチルアントラセンを製造すること
ができる。本反応は水分を嫌う反応であるために、反応
容器内を窒素等の乾燥不活性雰囲気として実施するのが
好ましい。
【0011】上記反応のための有機リチウム試薬として
は、アルキルリチウム、フェニルリチウムが使用でき
る。有機リチウム試薬の量は、好ましくは原料に対して
0.8〜1.1倍モル量である。
【0012】有機リチウム試薬を作用させる場合には、
一般には極低温で行う必要があるが、この基質の場合は
温度が低すぎるとリチオ化反応が進行しない。よって、
この場合のリチオ化反応温度としては−20〜80℃の
範囲が好ましい。この反応のための溶媒としては、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒
やベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒が使用でき
る。その使用量は、好ましくは原料1gに対して1〜1
00ミリリットルである。
【0013】調製された有機リチウム化合物を含む溶液
にハロゲン化メチルを添加し反応させる。ハロゲン化メ
チルとしては、臭化メチル、ヨウ化メチルが使用でき
る。その使用量は、原料に対して1〜5倍モル量であ
る。ハロゲン化メチルとの反応は−50〜30℃の範囲
で行うのが好ましい。反応時間は、0.5〜5時間であ
るのが好ましい。反応終了後、通常の後処理、精製を行
うことにより、式(III)で示される9−ブロモ−1
0−メチルアントラセンを製造することができる。
【0014】次に、式(III)で示される9−ブロモ
−10−メチルアントラセンを原料として式(IV)で
示される9−メチルアントラセン−10−カルボン酸を
製造する方法としては、不活性ガス雰囲気下で式(II
I)の化合物から有機金属化合物を調製して、これに炭
酸ガスを反応させることにより製造することができる。
【0015】式(III)で示される9−ブロモ−10
−メチルアントラセンのブロモ基を溶媒中、攪拌下、所
定温度、所定時間で有機リチウム試薬あるいは金属マグ
ネシウムと反応させることにより、有機金属化合物を含
む溶液を調製し、その溶液と二酸化炭素を攪拌下、所定
温度、所定時間で反応させることによって、式(IV)
で示される9−メチルアントラセン−10−カルボン酸
を製造することができる。本反応は水分を嫌う反応であ
るために、反応容器内を窒素等の乾燥不活性雰囲気とし
て実施するのが好ましい。
【0016】上記反応のための有機リチウム試薬として
は、アルキルリチウム、フェニルリチウムが使用でき
る。有機リチウム試薬及び金属マグネシウムの使用量
は、好ましくは原料に対して1〜2倍モル量である。
【0017】この反応のための溶媒としては、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒やベ
ンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒が使用できる。そ
の使用量は、好ましくは原料1gに対して1〜100ミ
リリットルである。
【0018】有機リチウム試薬を作用させる場合には、
一般には極低温で行う必要があるが、この基質の場合は
温度が低すぎるとリチオ化反応が進行しない。よって、
この場合のリチオ化反応温度としては−20〜80℃の
範囲が好ましい。金属マグネシウムを作用させる場合に
は−30〜200℃が好ましい。
【0019】調製された有機金属化合物を含む溶液は、
二酸化炭素と反応させるが、その二酸化炭素は炭酸ガス
(気体)を有機金属化合物を含む溶液の気液界面上に吹
込んでもよいし、あるいはドライアイス(固体)と反応
させてもよい。その使用量は原料に対して1〜20モル
倍量となるようにする。二酸化炭素との反応は−50〜
30℃の温度で行うのが好ましい。反応時間は、0.5
〜5時間が好ましい。反応終了後、室温以下の温度で希
硫酸、希塩酸等を滴下し、通常の後処理後、精製を行う
ことにより、式(IV)で示される9−メチルアントラ
セン−10−カルボン酸を製造することができる。
【0020】次に式(IV)で示される9−メチルアン
トラセン−10−カルボン酸を四フッ化硫黄でフッ素化
することにより、式(V)で示される新規なアントラセ
ン化合物である9−メチル−10−(トリフルオロメチ
ル)アントラセンを製造することができる。
【0021】式(IV)で示される原料は、無溶媒、あ
るいはジクロロメタン、クロロホルム等の塩素系溶媒や
フッ化水素溶媒で希釈して使用するのが好ましい。その
溶媒使用量は、好ましくは原料1gに対して0〜20ミ
リリットルである。フッ素化剤である四フッ化硫黄の使
用量は、好ましくは、原料に対して2.0〜6.0倍モ
ル量である。四フッ化硫黄との反応には触媒を用いるの
が好ましい。その触媒としては、フッ化水素、BF3
AsF3、PF5、TiF4等が使用できる。その使用量
は、好ましくは、原料に対して0.01〜1.0倍モル
量である。
【0022】この反応は常圧下でも行えるが、加熱する
場合は加圧下で行うのが好ましい。反応圧力は0〜20
MPaの範囲であるのが好ましい。反応温度は−30〜
180℃であるのが好ましい。反応時間は、好ましくは
1〜24時間である。反応終了後は、通常の後処理、精
製を行うことにより、式(V)で示される新規なアント
ラセン化合物である9−メチル−10−(トリフルオロ
メチル)アントラセンを製造することができる。
【0023】次に、式(V)で示される9−メチル−1
0−(トリフルオロメチル)アントラセンのメチル基を
ハロゲン化剤と反応させて直接モノハロゲン化すること
により、式(VI)で示される新規なアントラセン化合
物である9−ハロゲノメチル−10−(トリフルオロメ
チル)アントラセンを製造することができる。上記ハロ
ゲン化剤としては、ベンジル位をハロゲン化させる通常
のハロゲン化剤を使用でき、例えば、ハロゲン分子、N
−ハロゲノイミド類、次亜ハロゲン酸t−ブチル等が挙
げられる。この直接モノハロゲン化反応の収率、次工程
〔式(VII)の化合物の製造〕の収率及び経済性等を
考慮すると、式(VI)で示される9−ハロゲノメチル
−10−(トリフルオロメチル)アントラセンのハロゲ
ノメチル基のハロゲンは臭素原子であることが、取扱い
上好ましく、推奨される。
【0024】そこで、式(VI)におけるハロゲンが臭
素原子である9−ブロモメチル−10−(トリフルオロ
メチル)アントラセン〔式(VIII)で示される化合
物〕の製造方法を以下に説明する。
【0025】式(V)で示される9−メチル−10−
(トリフルオロメチル)アントラセンから式(VII
I)で示される新規な9−ブロモメチル−10−(トリ
フルオロメチル)アントラセンを製造する方法として
は、光や過酸化物触媒の存在下で臭素化剤と溶媒中、攪
拌下、所定温度、所定時間で反応させる方法がある。
【0026】臭素化剤としては、臭素、N−ブロモコハ
ク酸イミド(NBS)、次亜臭素酸t−ブチル等が使用
できる。その使用量は、好ましくは原料に対して0.9
〜1.5倍モル量である。過酸化物としてはアゾビスイ
ソブチロニトリル(AIBN)や過酸化ベンゾイル等が
使用できる。その使用量は、好ましくは原料に対して
0.1倍モル量以下である。溶媒としては、ベンゼン、
シクロヘキサン、テトラクロロエチレン等が使用でき
る。その使用量は、好ましくは原料1gに対して1〜2
0ミリリットルである。反応温度は、0〜150℃の範
囲であるのが好ましい。反応時間は、好ましくは0.5
〜5時間である。反応終了後は、通常の後処理、精製を
行うことにより、式(VIII)で示される新規なアン
トラセン化合物である9−ブロモメチル−10−(トリ
フルオロメチル)アントラセンを製造することができ
る。
【0027】式(VI)で示される9−ハロゲノメチル
−10−(トリフルオロメチル)アントラセンを原料と
して、これから式(VII)で示される新規な9−シア
ノメチル−10−(トリフルオロメチル)アントラセン
を製造する方法としては、式(VI)の化合物を極性溶
媒中、攪拌下、所定温度、所定時間でシアノ化剤と反応
させる方法がある。
【0028】極性溶媒としては、ジメチルスルホキシ
ド、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリ
ドン、アセトン等が使用できる。その使用量は、好まし
くは原料1gに対して1〜100ミリリットルである。
シアノ化剤としてはシアン化ナトリウム、シアン化カリ
ウム、シアン化銅(I)等が使用できる。その使用量
は、好ましくは原料に対して1〜2倍モル量である。シ
アノ化の反応温度は、0〜200℃の範囲であるのが好
ましい。反応時間は、好ましくは0.5〜5時間であ
る。反応終了後、通常の後処理、精製を行うことによ
り、式(VII)で示される新規なアントラセン化合物
である9−シアノメチル−10−(トリフルオロメチ
ル)アントラセンを製造することができる。シアノ化反
応の収率及び経済性等を考慮すると、式(VI)で示さ
れる9−ハロゲノメチル−10−(トリフルオロメチ
ル)アントラセンのハロゲノメチル基のハロゲンは臭素
原子であることが、取扱い上好ましく、推奨される。
【0029】式(VIII)で示される9−ブロモメチ
ル−10−(トリフルオロメチル)アントラセンを原料
として、これから式(VII)で示される新規な9−シ
アノメチル−10−(トリフルオロメチル)アントラセ
ンを製造する方法としては、式(VIII)の化合物を
極性溶媒中、攪拌下、所定温度、所定時間でシアノ化剤
と反応させる方法がある。
【0030】極性溶媒としては、ジメチルスルホキシ
ド、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリ
ドン、アセトン等が使用できる。その使用量は、好まし
くは原料1gに対して1〜100ミリリットルである。
シアノ化剤としてはシアン化ナトリウム、シアン化カリ
ウム、シアン化銅(I)等が使用できる。その使用量
は、好ましくは原料に対して1〜2倍モル量である。シ
アノ化の反応温度は、0〜200℃の範囲であるのが好
ましい。反応時間は、好ましくは0.5〜5時間であ
る。反応終了後、通常の後処理、精製を行うことによ
り、式(VII)で示される新規なアントラセン化合物
である9−シアノメチル−10−(トリフルオロメチ
ル)アントラセンを製造することができる。
【0031】以下に本発明の種々の態様の実施例を示
す。本発明における新規化合物類の製造方法は実施例に
記載された具体的な態様及び詳細事項にのみに限定され
るものではない。
【0032】
【実施例】9−ブロモ−10−メチルアントラセンの製
実施例1 冷却浴、温度計及び圧力平衡管付き滴下ロートを備えた
1Lガラス製フラスコに窒素雰囲気下、9,10−ジブ
ロモアントラセン29.9g(89.0ミリモル)とジ
エチルエーテル160ml及びベンゼン140mlとを
仕込んだ。2〜4℃に冷却し、攪拌下、n−ブチルリチ
ウムのヘキサン溶液(1.54M)59.6ml(9
1.8ミリモル)を30分かけて滴下した。滴下終了
後、同じ温度でさらに30分間攪拌を続けた。その溶液
中に攪拌下、ヨウ化メチル18.9g(133ミリモ
ル)を1時間かけて滴下した。滴下終了後、室温下でさ
らに2時間攪拌した。反応終了後、約0℃で塩化アンモ
ニウム飽和水溶液200mlを添加して30分間攪拌
し、析出した結晶を濾取して乾燥した。濾液の有機相を
分取し、水相はベンゼン200mlで抽出して有機相と
混合した。混合有機相は飽和食塩水300mlで洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、硫酸マグネシウム
を濾別後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をジ
クロロメタン−シクロヘキサン混合溶媒で再結晶し、濾
過により得られた結晶と共に乾燥して9−ブロモ−10
−メチルアントラセンの黄色固体を得た。LC純度99
%、収量21.9g(収率91%)であった。
【0033】生成物の構造は、核磁気共鳴分析等で確認
した。核磁気共鳴分析〔VARIAN社製:Gemin
i 200〕の結果は以下の通りである。1 H−NMR(溶媒:CDCl3、標準物質:テトラメチ
ルシラン) δ 8.52〜8.65ppm(m,2H,Ar) 8.24〜8.38ppm(m,2H,Ar) 7.45〜7.68ppm(m,4H,Ar) 3.09ppm(s,3H,C 39−メチルアントラセン−10−カルボン酸の製造 実施例2 冷却浴、ガス吹込管、温度計及び圧力平衡管付き滴下ロ
ートを備えた500mLガラス製フラスコに窒素雰囲気
下、9−ブロモ−10−メチルアントラセン15.9g
(58.6ミリモル)とジエチルエーテル110ml及
びベンゼン110mlとを仕込んだ。2〜4℃に冷却
し、攪拌下、n−ブチルリチウムのへキサン溶液(1.
54M)40.2ml(62.0ミリモル)を30分か
けて滴下した。滴下終了後、同じ温度でさらに30分間
攪拌を続けた。次に、気液界面上に炭酸ガスを0.1リ
ットル/分の流量で2時間吹込んだ。この反応は発熱反
応であるので、液温が10℃以下となるように注意して
吹込んだ。反応終了後、攪拌下、5%塩酸200mlを
約0℃で添加して30分間攪拌し、析出した結晶を濾取
して乾燥した。濾液の有機相を分取し、水相は酢酸エチ
ル200mlで抽出して有機相と混合した。混合有機相
は飽和食塩水300mlで洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、硫酸マグネシウムを濾別後、溶媒を減圧留
去した。得られた粗生成物を酢酸エチル溶媒で再結晶
し、先に濾過により得られた結晶と共に乾燥して9−メ
チルアントラセン−10−カルボン酸の黄色固体を得
た。LC純度99%、収量12.4g(収率90%)で
あった。
【0034】生成物の構造は核磁気共鳴分析等で確認し
た。核磁気共鳴分析〔VARIAN社製:Gemini
200〕の結果は以下の通りである。1 H−NMR(溶媒:CDCl3、標準物質:テトラメチ
ルシラン) δ 8.26〜8.38ppm(m,2H,Ar) 8.14〜8.23ppm(m,2H,Ar) 7.45〜7.62ppm(m,4H,Ar) 3.12ppm(s,3H,C 39−メチル−10−(トリフルオロメチル)アントラセ
ンの製造 実施例3 ウォークインドラフト内に設置された攪拌機、ガス導入
管、ガス放棄管、温度計、冷却(加熱)浴を備えた20
0mlステンレス製オートクレーブ装置の容器内に窒素
雰囲気下、9−メチルアントラセン−10−カルボン酸
10.0g(42.3ミリモル)を仕込み、密閉し、−
50℃に冷却した。ガス導入管より無水フッ化水素50
g、次いで四フッ化硫黄18.3g(169.4ミリモ
ル)を仕込み、密閉した。攪拌下、液温を80℃まで加
熱し、さらに約80℃の条件下で5時間攪拌を続けた。
反応終了後、30℃前後で、ガス成分及び無水フッ化水
素をアルカリスクラバーへと放棄し、さらに窒素ガスを
容器内に十分に置換した。容器内のオイル状物をベンゼ
ン100mlで抽出し、飽和炭酸カリウム水溶液100
mlで洗浄した。有機相は無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、硫酸ナトリウムを濾別後、溶媒を減圧留去した。得
られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
により精製して9−メチル−10−(トリフルオロメチ
ル)アントラセンを黄色固体として得た。LC純度98
%、収量8.9g(収率81%)であった。
【0035】生成物の構造は核磁気共鳴分析等で確認し
た。核磁気共鳴分析〔VARIAN社製:Gemini
200〕の結果は以下の通りである。1 H−NMR(溶媒:CDCl3、標準物質:テトラメチ
ルシラン) δ 8.43〜8.58ppm(m,2H,Ar) 8.28〜8.40ppm(m,2H,Ar) 7.45〜7.65ppm(m,4H,Ar) 3.14ppm(s,3H,C 319 F−NMR(溶媒:CDCl3,標準物質:CFC
3) δ −47.22ppm(s,3F,C 39−ブロモメチル−10−(トリフルオロメチル)アン
トラセンの製造 実施例4 加熱浴、温度計及び冷却凝縮管を備えた200mlガラ
ス製フラスコに9−メチル−10−(トリフルオロメチ
ル)アントラセン9.3g(35.7ミリモル)とベン
ゼン60mlとN−ブロモコハク酸イミド7.27g
(40.9ミリモル)、及び過酸化ベンゾイル0.17
g(0.7ミリモル)とを仕込み、攪拌しながら昇温し
て2時間加熱還流した。反応終了後、反応液を5℃以下
まで冷却し、コハク酸イミドを濾別した。濾液は5%水
酸化ナトリウム水溶液100ml及び飽和食塩水50m
lで洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリ
ウムを濾別後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して
9−ブロモメチル−10−(トリフルオロメチル)アン
トラセンを黄色固体として得た。LC純度99%、収量
11.8g(収率98%)であった。
【0036】生成物の構造は核磁気共鳴分析等で確認し
た。核磁気共鳴分析〔VARIAN社製:Gemini
200〕の結果は以下の通りである。1 H−NMR(溶媒:CDCl3、標準物質:テトラメチ
ルシラン) δ 8.51〜8.62ppm(m,2H,Ar) 8.32〜8.46ppm(m,2H,Ar) 7.55〜7.75ppm(m,4H,Ar) 5.48ppm(s,2H,C 2Br)19 F−NMR(溶媒:CDCl3,標準物質:CFC
3) δ −47.53ppm(s,3F,C 39−シアノメチル−10−(トリフルオロメチル)アン
トラセンの製造 実施例5 加熱浴、温度計及び圧力平衡管付き滴下ロートを備えた
100mlガラス製フラスコに窒素雰囲気下、N,N−
ジメチルホルムアミド10mlとシアン化銅(I)0.
58g(6.5ミリモル)を仕込み、攪拌しながら13
5℃に加熱した。約135℃で攪拌下、予め9−ブロモ
メチル−10−(トリフルオロメチル)アントラセン
2.0g(5.9ミリモル)をN,N−ジメチルホルム
アミド10mlに溶解してあった溶液を滴下ロートより
速やかに添加した。さらに約135℃の条件下で1時間
攪拌後、室温まで冷却し、氷水100ml中に注いだ。
これにベンゼンも100mlを加えて30分間攪拌した
後、不溶物を減圧濾過により濾別し、濾液の有機相を分
取した。有機相を水(50ml×3回)で洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥後、硫酸ナトリウムを濾別した。
溶媒を減圧留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにより精製して9−シアノモメチ
ル−10−(トリフルオロメチル)アントラセンを黄色
固体として得た。LC純度99%、収量1.0g(収率
59%)であった。
【0037】生成物の構造は核磁気共鳴分析等で確認し
た。核磁気共鳴分析〔VARIAN社製:Gemini
200〕の結果は以下の通りである。1 H−NMR(溶媒:CDCl3、標準物質:テトラメチ
ルシラン) δ 8.53〜8.65ppm(m,2H,Ar) 8.18〜8.30ppm(m,2H,Ar) 7.60〜7.76ppm(m,4H,Ar) 4.65ppm(s,2H,C 2CN)19 F−NMR(溶媒:CDCl3,標準物質:CFC
3) δ −47.49ppm(s,3F,C 3
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 (72)発明者 下田 光春 群馬県渋川市1497番地 関東電化工業株式 会社渋川工場内 (72)発明者 武知 直人 群馬県渋川市1497番地 関東電化工業株式 会社渋川工場内 (72)発明者 深井 靖 群馬県渋川市1497番地 関東電化工業株式 会社渋川工場内 (72)発明者 仲矢 忠雄 神奈川県藤沢市桐原町9番地 タイホー工 業株式会社中央研究所内 (72)発明者 石飛 達郎 神奈川県藤沢市桐原町9番地 タイホー工 業株式会社中央研究所内 (72)発明者 野口 幸紀 神奈川県藤沢市桐原町9番地 タイホー工 業株式会社中央研究所内 (72)発明者 田島 晶夫 神奈川県藤沢市桐原町9番地 タイホー工 業株式会社中央研究所内 Fターム(参考) 4H006 AA01 AB84 AC30 AC54 EA23 QN14 4H039 CA50 CD10 CD20 CD30 CD40

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(I)で示されるアントラセ
    ン化合物: 【化1】 ただし、式(I)において、YはH,F,Cl,Br,
    IまたはCNである。
  2. 【請求項2】 下記式(II)の9,10−ジブロモア
    ントラセンから下記式(III)の9−ブロモ−10−
    メチルアントラセンを経て得られた下記式(IV)の9
    −メチルアントラセン−10−カルボン酸に、四フッ化
    硫黄をフッ素化剤として反応させることにより下記式
    (V)の9−メチル−10−(トリフルオロメチル)ア
    ントラセンを製造する方法: 【化2】
  3. 【請求項3】 下記式(V)の9−メチル−10−(ト
    リフルオロメチル)アントラセンのメチル基をモノハロ
    ゲン化することにより下記式(VI)の9−ハロゲノメ
    チル−10−(トリフルオロメチル)アントラセンを製
    造する方法。 【化3】 ただし、式(VI)において、XはF,Cl,Brまた
    はIである。
  4. 【請求項4】 下記式(VI)の9−ハロゲノメチル−
    10−(トリフルオロメチル)アントラセンのハロゲノ
    メチル基をシアン化物イオンと反応させることにより下
    記式(VII)の9−シアノメチル−10−(トリフル
    オロメチル)アントラセンを製造する方法: 【化4】 ただし、式(VI)において、XはF,Cl,Brまた
    はIである。
  5. 【請求項5】 下記式(V)の9−メチル−10−(ト
    リフルオロメチル)アントラセンのメチル基をモノブロ
    モ化することにより下記式(VIII)の9−ブロモメ
    チル−10−(トリフルオロメチル)アントラセンを製
    造する方法。 【化5】
  6. 【請求項6】 下記式(VIII)の9−ブロモメチル
    −10−(トリフルオロメチル)アントラセンのブロモ
    メチル基をシアノ化することにより下記式(VII)の
    9−シアノメチル−10−(トリフルオロメチル)アン
    トラセンを製造する方法。 【化6】
JP2001087873A 2001-03-26 2001-03-26 新規な含フッ素アントラセン化合物及びそれらの製造方法 Expired - Lifetime JP4801270B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001087873A JP4801270B2 (ja) 2001-03-26 2001-03-26 新規な含フッ素アントラセン化合物及びそれらの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001087873A JP4801270B2 (ja) 2001-03-26 2001-03-26 新規な含フッ素アントラセン化合物及びそれらの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002284755A true JP2002284755A (ja) 2002-10-03
JP4801270B2 JP4801270B2 (ja) 2011-10-26

Family

ID=18943052

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001087873A Expired - Lifetime JP4801270B2 (ja) 2001-03-26 2001-03-26 新規な含フッ素アントラセン化合物及びそれらの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4801270B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100335591C (zh) * 2005-12-07 2007-09-05 清华大学 一种有机电致发光液晶化合物及其制备方法与应用
WO2014098047A1 (ja) * 2012-12-21 2014-06-26 旭硝子株式会社 含フッ素化合物及びその製造方法
WO2014142064A1 (ja) * 2013-03-13 2014-09-18 旭硝子株式会社 3,3,3-トリフルオロ-2,2-ジアルキルプロピオン酸エステルの製造方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02221233A (ja) * 1989-02-23 1990-09-04 Sanko Kagaku Kogyo Kk 芳香核に結合するメチル基の臭素化方法
US5055468A (en) * 1989-10-30 1991-10-08 G. D. Searle & Co. Use of bridged tricyclic amine derivatives as anti-ischemic agents
JPH0853371A (ja) * 1994-08-10 1996-02-27 Asahi Chem Ind Co Ltd 芳香環に結合するメチル基の臭素化法
JP2000256298A (ja) * 1999-03-05 2000-09-19 Sumika Fine Chemicals Co Ltd 芳香族α−ブロモアルキル化合物の製造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02221233A (ja) * 1989-02-23 1990-09-04 Sanko Kagaku Kogyo Kk 芳香核に結合するメチル基の臭素化方法
US5055468A (en) * 1989-10-30 1991-10-08 G. D. Searle & Co. Use of bridged tricyclic amine derivatives as anti-ischemic agents
JPH0853371A (ja) * 1994-08-10 1996-02-27 Asahi Chem Ind Co Ltd 芳香環に結合するメチル基の臭素化法
JP2000256298A (ja) * 1999-03-05 2000-09-19 Sumika Fine Chemicals Co Ltd 芳香族α−ブロモアルキル化合物の製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100335591C (zh) * 2005-12-07 2007-09-05 清华大学 一种有机电致发光液晶化合物及其制备方法与应用
WO2014098047A1 (ja) * 2012-12-21 2014-06-26 旭硝子株式会社 含フッ素化合物及びその製造方法
WO2014142064A1 (ja) * 2013-03-13 2014-09-18 旭硝子株式会社 3,3,3-トリフルオロ-2,2-ジアルキルプロピオン酸エステルの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4801270B2 (ja) 2011-10-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4611984B2 (ja) ポリハロゲン化ジアマンタン類及びその誘導体の製造方法
US9758468B2 (en) Halogenated aniline and method for producing same
JP5578809B2 (ja) 3−メチル−2−チオフェンカルボン酸の製造方法
JP2002284755A (ja) 新規な含フッ素アントラセン化合物及びそれらの製造方法
JP2006104200A (ja) ペンタフルオロスルファニルナフタレンの合成
JP4801271B2 (ja) 新規な含フッ素ナフタレン化合物及びそれらの製造方法
JP2021161106A (ja) 5−ブロモ−4−アルコキシ−2−アルキル安息香酸の製造方法
WO2003093212A1 (fr) Derive de (fluoroalkyl)benzene de haute purete et procede de production de celui-ci
JP4956760B2 (ja) 3−ブロモ安息香酸またはそのアルキルエステルの製造方法
JP4648546B2 (ja) 反応活性な基を有する新規なナフタレン化合物及びそれらの製造方法
JP2801647B2 (ja) 6―フルオロクロモン―2―カルボン酸誘導体の製造法
JP2003517029A (ja) トリフルオロメチルアセトフェノンの製造方法
JP2021127332A (ja) 5−ブロモ−2−アルキル安息香酸の製造方法
GB2350837A (en) Synthesis of 3,5-bis(trifluoromethyl)benzoic acid
JPH0242824B2 (ja)
JP4093842B2 (ja) ハロゲン化アダマンタン類の製造方法
JP4750286B2 (ja) 反応活性な基を有する新規なビフェニル化合物の製造方法
JPWO2004035520A1 (ja) アセチレン化合物の製造方法
JP3225361B2 (ja) 芳香族フッ素化合物の製造方法、及びその原料となる含フッ素ベンゼンスルフィン酸誘導体
JP2003034688A (ja) 新規な1,1,3,3−テトラハロ−1,3−ジヒドロイソベンゾフラン化合物及びそれらの製造方法
JP3531039B2 (ja) 1,4−ジフルオロベンゼン誘導体
JP2853929B2 (ja) 2−クロロ−4,5−ジフルオロ−3−メトキシ安息香酸の製造方法
JP2003206285A (ja) 新規な1,1,3,3−テトラフルオロ−1H,3H−ナフト〔1,8−c,d〕ピラン系化合物及びそれらの製造方法
CN116640064A (zh) 一种4’-氯-2-氨基联苯的合成方法
JPH0656736A (ja) ビス(2−ハロゲノ−4,5−ジフルオロ)ベンゾフェノン、及びそれを経る2−ハロゲノ−4,5−ジフルオロ安息香酸の新規な製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20040319

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20070510

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080304

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110427

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110427

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110621

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110708

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110805

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140812

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4801270

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term