JPH04151240A - 蒸着フィルム及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は蒸着フィルムとその製造方法に関する。

さらに詳しくは、ストレスによる金属蒸着層または金属
酸化物蒸着層の機能の低下のない蒸着フィルムとその製
造方法に関する。

（従来の技術） 高分子フィルム基材の表面に金属または金属酸化物の蒸
着層を積層した茅着フィムは良く知られている（特開昭
４９−１５７６５、特開昭４９３４９８４、特開平１−
２５２７６８、特開平１２５５６６１、特開平１２Ｂ３
１３６、特開平２−３４３３０号公報等）。

金属蒸着層を有するフィルムは、光沢性、意匠性、酸素
等のガス遮断性の点で極めて優れており、この特徴を生
かして食品や医薬品の包装材料、その他の産業資材に広
く用いられている。

また、金属酸化物蒸着層を有するフィルムは一般に透明
であり、電気絶縁性で、酸素等のガス遮断性に優れるこ
とから、やはり食品等の包装材料に使用されており、そ
の用途も拡大が期待されている。

（発明が解決しようとする課題） しかしながら、これらの蒸着層は、ストレスによりクラ
ックを生してその機能が失われる。

ストレスは様々な原因で生しるが、例えば、蒸着フィル
ムの屈曲である。また、製袋等のためのヒートシール、
他のフィルムと貼り合わせる際の接着剤の乾燥、印刷の
際の印刷インキの乾燥等、熱を使用する二次加工により
高分子フィルム基体が軟化もしくは収縮する際にも生じ
る。

ストレスにより、蒸着層には微小な亀裂（マイクロクラ
ック）が発生し、一般にガス遮断性は失われる。

また、金属蒸着層である場合には、蒸着層のマイクロク
ラックより蒸着層が白化したり、クランク端部の光線の
回折により虹模様が発生して、本来の金属光沢が失われ
る。

また、ストレスにより蒸着層そのものが高分子フィルム
基体から剥落してしまうこともある。

そこで、本発明は、ストレスによるクランクの発生と、
これに伴う蒸着層の機能低下がなく、高分子フィルム基
体との密着強度の優れた蒸着フィルム及びその製造方法
を提供することを目的とする。

（課題を解決するための手段） この目的を達成するため、請求項（１ン記載の発明は、
高分子フィルム基体上に、金属または金属酸化物蒸着層
、酸化されたまたは未酸化の炭化水素蒸着層を順次積層
して成る蒸着フィルムを提供する。

また、請求項（２）記載の発明は、真空雰囲気中で高分
子フィルム基体を冷却ロールを介して連続的に走行し、
この冷却ロール下方に、高分子フィルム基体の走行方向
に沿って順次配置された金属または金属酸化物のソース
と炭化水素のソースから蒸着物質を１発させ、走行する
高分子フィルム基体に連続的に蒸着することを特徴とす
る蒸着フィルムの製造方法を提供する。

（発明の詳細な 説明に係る蒸着フィルム（１）は、第１図の断面口に示
すように、高分子フィルム基体（１ａ）、金属又は金属
酸化物の蒸着層（１ｂ）　、酸化されたまたは未酸化の
炭化水素蒸着層（１ｃ）とから成る。

高分子フィルム基体（ｌａ）は蒸着層（１ｂ）（１ｃ）
の支持体であって、ポリエチレン、ポリプロピレン等の
ポリオレフィン：ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレンナフタレート等のポリエステル、ナイロン−６、
ナイロン−１２等のポリアミド；ポリカーボネート；ポ
リ塩化ビニル；ポリイミド；ポリスルホン；ポリエーテ
ルイミド；ポリフッ化ビニル等のフィルムが使用できる
。また、これらのフィルムから選ばれる二種以上のフィ
ルムを互いに積層して成る多層フィルムであっても良い
。

なお、高分子フィルム基体（１ａ）は、その材質に応し
、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤な
どの添加剤や安定剤を含むものであって良い。

高分子フィルム基体（１ａ）の厚さは任意のもので良い
が、通常６〜２００μｍのものである。

加工の際の皺の発生がないことや機械的強度等のハンド
リングの点から１２〜１００μｍのものが好ましい。

この高分子フィルム基体（１ａ）は、枚葉状のフィルム
、長尺状のフィルムのいずれでも良いカベ金属または金
属酸化物の薄着層（Ｉ　ｂ）及び炭化水素の蒸着Ｎ　（
１ｃ　）を連続的に効率良く積層するため、長尺のフィ
ルムが好ましい。

この高分子フィルム基体（１ａ）は、蒸着層（１ｂ）積
層に先立って、物理的または化学的な表面処理をしてお
くことができる。例えば、コロナ放電処理、火炎処理、
オゾン処理、プラズマ放電処理等である。

また、高分子フィルム基体（１ａ）は、蒸着層（１ｂ）
の積層に先立って、その金属又は金属酸化物の蒸着層（
１ｂ）と高分子フィルム基体（ｌａ）の密着力を向上す
るため、アンカーコート層を施しておくことができる。

アンカーコート層としては、ポリエステル、ポリウレタ
ン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
、ニトロセルロース等の熱可塑性樹脂；メラミン樹脂又
は尿素樹脂等の熱硬化性樹脂；ポリウレタンアクリレー
ト、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート
等の紫外線又は電子線硬化型樹脂等が使用できる。

金属又は金属酸化物の蒸着層（１ｂ）は、蒸着フィルム
（１）本来の機能を負担するものである。

蒸着層（１ｂ）が金属から成る場合は、酸素や水蒸気等
のガス遮断性、金属光沢、意匠性に優れたｙ着フィルム
（１）を得ることができる。また、蒸着層（１）が金属
酸化物から成る場合には、透明で、しかも酸素や水蒸気
等のガス遮断性に優れた蒸着フィルムを得ることができ
る。

この蒸着層（１ｂ）を構成する金属としては、アルミニ
ウム、スズ、ジルコニウム、亜鉛、銅、クロム、鉄、コ
バルト、ニッケル、銀、マグネシウム、珪素等が例示で
きる。また、金属酸化物としては、これらの金属の酸化
物が使用できる。好ましい金属はマグネシウム、珪素、
アルミニウム、スズであり、好ましい金属酸化物はその
酸化物である。

この金属または金属酸化物の蒸着層（１ｂ）の厚みは、
蒸着フィルム（１）の使用目的に応して異なるが、酸素
等のガス遮断性を得るためには、およそ５００オングス
トロ一ム以上の厚さがあれば良い。通常２０００オング
ストローム以下である。

炭化水素蒸着層（ＩＣ）は、ストレスに起因して、金属
または金属酸化物の蒸着層（１ｂ）にクラックが生しる
ことを防くものである。もっともその理由は明らかでは
ない。

炭化水素蒸着層（ＩＣ）は、分子量１０００〜５０００
０の比較的低分子量ポリオレフィンまたは高級パラフィ
ンを、そのソースから蒸着して形成される。例えば、赤
外線吸収ピークとして２９００〜２９５０．１４６０．
１３８０．７２０　ｃｖａｌにＣ−Ｈ結合または（Ｃ−
Ｈ）、に起因するビ一りを有する炭化水素である。

従って、炭化水素基着層（１ｃ）は未酸化の低分子量ポ
リオレフィン又は高級パラフィンから構成されるが、蒸
着の際に酸化されることがある。

かかる酸化によっても、炭化水素蒸着層（ｌｃ）の機能
には影響がない。勿論、′意図的に酸化することも可能
である。意図的に酸化するためには、酸化性ガスのフラ
ズマにより炭化水素蒸着層（ＩＣ）表面を処理すれば良
い。

金属又は金属酸化物の蒸着層（１ｂ）と炭化水素原着層
（１ｃ）は、その境界面が明確であることが望ましいが
、蒸着方法により境界面が明確でないことがある。すな
わち、この場合には、「金属または金属酸化物の蒸着層
（１ｂ）　／金属または金属酸化物と炭化水素の混合物
の蒸着Ｎ／炭化水素の蒸着層（ＩＣ）Ｊの層構成を有す
ることとなる。このように、境界面が不明確な場合でも
ストスによるクラックが発生しないことは同様である。

金属または金属酸化物の蒸着層（１ｂ）と炭化水素薄着
層（１ｃ）は、その合計厚みが５００〜５００００オン
グストロームであれば良い。

かかる金属または金属酸化物の蒸着層（１ｂ）と炭化水
素蒸着層（１ｃ）は、高分子フィルム基体（１ａ）上に
連続的に形成することができる。

この蒸着フィルム（１）の蒸着面上には、さらに別の樹
脂層を積層して、蒸着面の保護層または製袋の際などの
ヒートシール層とすることができる。樹脂層としては、
ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィンが使
用できるや積層は、ウレタン系接着剤等を用いてドライ
ラミネートすれば良い、蒸着面にこれらの樹脂を７８融
押出ラミネートして積層することも可能である。

第２回は、金属または金属酸化物の蒸着層（１ｂ）と炭
化水素蒸着層（１ｃ）を連続的に形成する装置の例を示
す説明図である。

すなわち、第２図において、高分子フィルム基材（ｌａ
）に蒸着層（ｌｂ）（ｌｃ）を形成するため、装置内部
は１０−５〜１０−’ｔ　ｏ　ｒ　ｒ、の真空状態に維
持されている必要がある。真空状態に維持するためには
、排気系〔１６〕から真空９弓すれば良く、圧力は真空
針（３００）により常時測定できる。また、連続的に蒸
着層（ｌｂ）−（ＩＣ）を形成する必要から高分子フィ
ルム基材（１ａ）は長尺のもので、巻き出しロール（５
）に巻き取られており、この巻き出しロール（５）から
高分子フィルム基材（１ａ）は巻き出されて、冷却ロー
ル（７）に抱きつきながらその周囲を通り巻取りロール
（６）に巻き取られる０巻き出しロール（５）と冷却ロ
ール（７）の間には、高分子フィルム基材（１ａ）の連
続的走行を安定なものにするため、ダンサ−ロール（２
）、ガイドロール（３）、エキスパンダーロール（４）
などヲ装置することが望ましい。また、同様の理由がら
冷却ロール（７）と巻取リール（６）の間にはエキスパ
ンダーロール（４）、ガイドロール（３）、ダンサ−ロ
ール（２）を配置することが望ましい連続的に均一な膜
厚の蒸着層（１ｂ）　　（１ｃ）を形成するため、高分
子フィルム基材（１ａ）は巻き出しロール（５）から巻
取りロール（６）まで連続的に走行する必要がある。

冷却ロール（７）は、ソース（９）（１０）から蒸発し
た蒸着物質、すなわち金属または金属酸化物（１２）、
炭化水素（１３）が良好に高分子フィルム基材（１ａ）
に付着してしかも高分子フィルム基材（１ａ）の熱によ
る損傷を防ぐためのもので、このため、金属または金属
酸化物（１２）のソース（９）及び炭化水素（１３）の
ソース（１０）は、いずれもこの冷却ロール（７）の下
方に配置される必要がある。また、金属または金属酸化
物の蒸着層（１ｂ）をまず高分子フィルム基材（１ａ）
上に形成し、次いで炭化水素の蒸着層（１ｃ）を形成す
るため、高分子フィルム基材（１ａ）の走行方向に沿っ
て金属または金属酸化物（１２）のソース（９）と炭化
水素（１３）のソース（１０）を順次配置する必要があ
る。蒸着は任意の方法で可能であるが、例えば、抵抗加
熱法によりできる。（８）（８０）は、それぞれ、金属
または金属酸化物（１２）のソース（９）。

炭化水素（１３）のソース（１０）を加熱するための蒸
発源パワーを示している。

ソース（９）及びソース（１ｏ）は、互いに仕切りなし
に配置することも可能であるが、金属または金属酸化物
の蒸着層（１ｂ）と炭化水素の蒸着層（１ｃ）を両者の
境界面を明確にして形成するため、ソース（９）及びソ
ース（１ｏ）の間に仕切り板（２００）を設けることが
望ましい。仕切り板（２００）は、高分子フィルム基材
（１ａ）に接触する高さまで設けることが望ましいが、
接触すれば高分子フィルム基材（１ａ）のスムーズな走
行を妨害することがあるから、高分子フィルム基材（１
ａ）の走行を妨害しない程度に離れていても良い、高分
子フィルム基材（１ａ）と仕切り板（２００）の間隙か
ら、金属または金属酸化物の蒸気と炭化水素の蒸気が混
合する結果、高分子フィルム基材（１ａ）上に、「金属
または金属酸化物の蒸着層（ｌｂ）／金属または金属酸
化物と炭化水素の混合物の蒸着層／炭化水素の蒸着層（
Ｉ　Ｃ）Ｊの層構成の蒸着層が形成されることとなる。

また、蒸着の行なわれる領域を特定して、膜厚みのコン
トロールを容易にするため、ソース（９）（１０）の周
囲には、遮蔽マスク（１１）が設けられている。

なお、図に示す例では、金属または金属酸化物の蒸着速
度及び炭化水素の蒸着速度を検知するため、蒸発速度モ
ニター（１４）（１５）が設けられている。このモニタ
ー（１４）（１５）により蒸着速度を検知し、高分子フ
ィルム基材（ｌａ）の走行速度や蒸発速度をコントロー
ルすることにより、金属または金ｒＩ４酸化物の蒸着層
（１ｂ）の膜厚、炭化水素蒸着層（１ｃ）の膜厚をコン
トロールすることができる。

また、第２図に示す２置では、然着層（１ｂ）（１ｃ）
の形成された蒸着フィルム（１）表面を酸化処理する設
備（１７）が設けられている。かかる設備は、意図的に
炭化水素蒸着層（１ｃ）を酸化するためのもので、マス
フロコントローラーを通って供給される酸化性ガスをプ
ラズマ化して炭化水素蒸着層（Ｉｃ）に接触させるもの
である。

酸化性ガスとしては空気、酸素、二酸化炭素等が使用で
きる。また、窒素などの非酸化性ガスと酸化性ガスの混
合ガスを使用しても良い、プラズマ化は、電源（１８）
から供給される高周波電界またはマイクロ波によって可
能である。プラズマは設備内部に設けられた磁石により
、効率的に蒸着面に誘導することができる。

第３図は、蒸着装置全体を部室に区分して、各室に冷却
ロール（７）を別個に設け、各冷却ロール上で金属また
は金属酸化物の蒸着層（１ｂ）及び炭化水素の蒸着層（
１ｃ）を形成するもので、高分子フィルム基材（１ａ）
はシールロール（５００）を介してこの二つの冷却ロー
ル（７）（７）を連続的に走行すると共に、再冷却ロー
ル（７）（７）の間には仕切り板（２００）が設けられ
ている。

また、第３図に示す装置では、蒸着フィルム（１）の蒸
着面を酸化処理する設備が設けられていない反面、蒸着
前の高分子フィルム基材（１ａ）に表面処理を施す設備
が設けられている。蒸着は冷却ロール（７）に巻きつい
た時に行なわれるから、フィルム基材（１ａ）の表面処
理設備は冷却ロール（７）の前に配置する必要がある。

第３図においては、（１９）が表面処理設備で、マスフ
ロコントローラーを通って供給される処理ガスに高周波
電界を付与してプラズマ化し、このプラズマにより表面
処理する。ガスとしては、空気、酸素、二酸化炭素、ア
ルゴン等が使用できる。プラズマの発生を容易とするた
め、処理設備内部は、１０−”〜１０−’ｔ　ｏ　ｒ　
ｒ、の高真空状態に維持されている０図中（２０）は高
周波電界のための電源である。高周波電界の代わりにマ
イクロ波を用いても良い。

（実施例１） （ａ）高分子フィルム基体。

（１）材質。

ポリエチレンテレフタレートフィルム。

（ｉｉ　）厚み、　　１２μｍ。

（ｉｉ）形状、　巻取り状。

（ｂ）金属または金属酸化物。

ＭｇＯ（高純度化学■製、４Ｎ）。

（ｃ）炭化水素。

低密度ポリエチレン（三井ポリケミカル株製、ミラソン
Ｍ−１４Ｐ、分子１３００００）。

（ｄ）蒸着方法。

（１）蒸着装置。　　　第２図の装置。

（ｉｉ　）真空度＊　　　　　　９Ｘ１０−’ｔｏｒｒ
。

（ｉｉｉ）加熱方法。

ＭｇＯ及び低密度ポリエチレンのいずれも電子線加熱。

（ｉｖ）ＭｇＯの加熱条件。

加速電圧　　　　　　６ｋＶ。

エミッション電流　５０ｍＡ。

（Ｖ）炭化水素の加熱条件。

加速電圧　　　　　　４ｋＶ。

エミッション電流　１５ｍＡ。

（ｖｉ）ＭｇＯの蒸発速度。

測定方法　水晶発振式膜厚計によりモ ニター 速度　　　２５±１人／　ｓ　ｅ　ｃ　。

（なお、この膜厚計では炭化水素の膜厚を測定困難のた
め、炭化水素蒸着膜の厚みは測定せず、予備実験の結果
に基づいて蒸着条件を設定するに留めた。） （ｖｉ）走行速度　　１ｍ／ｍｉｎ。

（ｖｉ　）第１図（１７）の処理、　せず。

（ｄ）蒸着フィルム。

（１）色彩、　　無色透明。

Ｃ１１）蒸着層厚み。

測定方法、　　透過型電子顕微鏡。

Ｍｇ０．　　　　２０００人。

炭化水素、　　　　２０００人。

（ｍ）蒸着層組成。

酸素（０）、炭素（Ｃ）、マグネシウム（Ｍｇ）。

（ｉｖ　）炭化水素蒸着層構造。

測定方法　　蒸着フィルム最外層の赤外線吸収ピークを
測定。

ピーク。

・　２９００〜２９５０ｃｍ （脂肪族性Ｃ−Ｈの非対 称及び対称伸縮に起因） ４６０ｃｍ （Ｃ−Ｈの変角伸動に起 因） １３８０ｃｍ”’ （（Ｃ−Ｈ）、の変角伸 動に起因） ２０ｃｍ （（Ｃ−Ｈ）、の変角伸 動に起因） （ｖ）表面の接触角。

測定方法 接触角 エルマ光学■製ゴニオメ ーター式エルマ接触角測 定機により測定。

１２０度（極めて高い疎 水性）。

（ｅ）積層フィルム。

（ｉ）製造方法。

蒸着面をコロナ放電処理して、濡れ指数３４ｄｙｎｅ／
ｃｍ（ＪＩＳ　　Ｋ６７６８により測定）にした後、ウ
レタン型接着剤を介して未延伸ポリプロピレン（厚さ６
０μｍ）を接着。

（＋１）酸素透過率。

測定方法　ＭＯＣＯＮ　　０Ｘ−ＴＲＡＮ−１１０１５
０Ａにより測定。

透過率、　　０．９ｍｌ／ｒｒｒ−ａｔｍ・ｄａｙ。

（ｉｉ）水蒸気透過率。

測定方法　ＭＯＣＯＮ　　ＴＰＥＲＭＡＴＲＡＮ　　Ｗ
−６により測定。

透過率　　０．　５　ｇ／ｒｄ−ｄ　ａ　ｙ。

（１ｖ）剥離強度。

測定方法、　ポリプロピレンフィルムを剥離して、その
強度を測定。

測定条件　　測定機　ＴＥＮＳＩＬＯＮ　　ＵＴＭ−Ｉ
ＩＩ−１００（Ｔ ＯＹＯＢＡＬＤＷＩ Ｎ　　　Ｃｏ、、Ｌｔｄ） 方法　　　　Ｔ字剥離。

引張速度　　３００ｍｍ／ｍｉ ｎ　。

結果　　　　４００　ｇ　／　１５　ｍ　ｍ幅でポリエ
チレンテレフタレートフィルム が破断したため、測定不可能。

（Ｖ）ストレス後の物性。

ストレスの付与方法。　理学工業■製ゲルボフレックス
テスター によりストレスを付 与。

酸素透過率　　０．　９〜１．　０ｍ　ｌ／ｒｒｒ　・
ａｔｍ−ｄａｙ。

水蒸気透過率　０，５０．６ｇ／ｒｔ（−ｄａｙ剥離強
度　　　３５０ｇ／１５ｍｍ輻。

（ｆｌまとめ。

以上の結果をまとめて第１表に示す。

（実施例２） 第２図（エフ）の放電処理を行った他は、実施例１と同
様に実験を行った。

（ａ）放電条件。

放電ボックスの真空度 １、　６〜２．　　ＯＸ　１０−’ｔ　ｏ　ｒ　ｒ電極
　内部の永久磁石を備えた棒状電極。

ガス　窒素ガス（９０モル％〕と二酸化炭素ガス（１０
モル％）の混合ガス。

電圧　６００〜６０５　Ｖ。

電流　５２０〜５２２ｍＡ。

（ｂ）結果。

蒸着面の接触角　　６２度。

蒸着面の濡れ指数　４３ｄｙｎｅ／ｃｍ。

この結果から、炭化水素蒸着層が酸化されていることが
分かる。

なお、その他の結果は第１表に示す。

（実施例３） ＭｇＯの代わりに５ｉｎ（大阪チタニウム■製、３Ｎ）
を用いた外は実施例１と同様に実験を行なった。

得られた蒸着フィルム及び積層フィルムの物性を第１表
に示す。

なお、積層フィルムを用いて袋を作製し、水１２０ｍ１
を充填密封し、１２５　”Ｃ１３０分のレトルト処理を
行なった結果、酸素透過率、水蒸気透過率、剥離強度に
変化は見られなかった。

（比較例１．２） 炭化水素蒸着層を設けなかった外は、それぞれ実施例１
及び３と同様に実験を行った。

この結果も合わせて第１表に示す。

（実施例４） （ａ）蒸着フィルム。

ＭｇＯの代わりに、ＡＩ（高純度化学■製、４Ｎ）を用
い、実施例１と同様に蒸着した。ただし各蒸着層の厚さ
は以下の通りである。

ＡＩ蒸着層、　　　　　　４００〜５００人。

炭化水素蒸着層、　　２０００〜３０００人。

（ｂ）積層フィルム。

（ｉ）製造方法。

蒸着フィルムの蒸着面に、ダイ下温度２７０℃で低密度
ポリエチレンを溶融押出ラミネート。

（ｉｉ　）光沢、　ラミネートに伴う変化なし。

（ｉｉｉ）剥離強度、　　　　２００ｇ／１５ｍｍ幅。

（ｉｖ　）ストレス後の表面状態。

ストレスの付与方法、　実施例１に同じ。

表面状態　　白化、マイクロクランクの発生がな（、良
好な金属光沢を維持 （比較例３） 炭化水素蒸着層を設けることなく、ＡＩ蒸着層のみを設
けた外は、実施例４と同様に実験を行なった。

ストレスを付与した後は、白化及びマイクロクラックの
双方が発生し、本来の金属光沢が失われていた。

（比較例４） 比較例３で得られた蒸着フィルムの蒸着面にダイ下温度
３ＤＯ”Ｃで低密度ポリエチレンを溶融押出ラミネート
して積層フィルムを製造した。

ストレスを付与した後は、白化及びマイクロクランクの
双方が発生し、本来の金属光沢が失われていた。

（効果） 以上のように、請求項（１）の発明によれば、ストレス
によるクラックの発生と、これに伴う蒸着層の機能低下
がなく、高分子フィルム基体との密着強度の優れた蒸着
フィルムを提供することができる。

また、請求項（２）の発明によればこの蒸着フィルムの
製造方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の蒸着フィルムの断面図、第２図及び第
３図はその製造方法を説明するための説明図である。 （１）−・・・−蒸着フィルム （Ｉａ）・−高分子フィルム基体 （ｌｂ）−・・金属又は金属酸化物の蒸着層（ｌｃ）−
−−・・炭化水素蒸着層 （２）・・・−ダンサ−ロール （３）−・・−ガイドロール （４）−−・・・エキスパンダーロール（５）　−巻き
出しロール （６）−・・−巻取りロール　（７）−−−一冷却ロー
ル（８）　−−−一蒸着源パワー （９）−・−金属または金１１酸化物のソース（１０）
−・−炭化水素のソース （１１）−−−−一遮蔽マスク （１２，）−−金属または金属酸化物 （１３）−一炭化水素 （１４）　　（１５）−−ｍ−蒸発速度モニター（１６
）　−一排気系 （１７）−酸化処理設備　（１８Ｌ−電源−９）　−表
面処理設備　　（２０）−・１源（８０）−蒸着源パワ
ー （２００）−仕切り板 （３００）・−真空計

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）高分子フィルム基体上に、金属または金属酸化物
   蒸着層、酸化されたまたは未酸化の炭化水素蒸着層を順
   次積層して成る蒸着フィルム。
2. （２）真空雰囲気中で高分子フィルム基体を冷却ロール
   を介して連続的に走行し、この冷却ロール下方に、高分
   子フィルム基体の走行方向に沿って順次配置された金属
   または金属酸化物のソースと炭化水素のソースから蒸着
   物質を蒸発させ、走行する高分子フィルム基体に連続的
   に蒸着することを特徴とする蒸着フィルムの製造方法。