JP4389519B2 - ガスバリア性フィルムの製造方法 - Google Patents
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成方法が適用できる。一般的には真空蒸着法により形成すればよいが、その他の薄膜形成方法であるスパッタリング法やイオンプレーティング法、プラズマ気相成長法(CVD)などを用いることも可能である。ただし生産性を考慮すれば、現時点では真空蒸着法が最も優れている。また、真空蒸着法の加熱手段としては、蒸発材料の選択性の幅広さを考慮して電子線加熱方式を用いる。また無機物蒸着層2とプラスチックフィルム基材1との密着性及び蒸着して形成される薄膜層の緻密性をより向上させるために、プラズマアシスト法やイオンビームアシスト法を用いて蒸着することも可能である。
を補うと共に、耐引っ掻き性を向上させ、さらには耐酸素透過性をより向上させるために設ける層である。従って、この無機物蒸着層3の厚さは、無機物蒸着層2と同様に、一般的には5〜300nmの範囲内が望ましい。厚さが5nm未満であると均一な膜が得られないことや、厚さが十分でないために前記した諸特性が十分に発揮でないことがある。また厚さが300nmを越える場合は成膜時間がより多くかかるようになり、インラインで無機物蒸着層の成膜と組み合わせて行う場合には生産性に問題が出てくる。生産性を考慮すると、より好ましくは、その厚さを10〜100nmとすることが好ましい。
V・s・m-2以上10000V・s・m-2以下にすることが必要である。これより若干低い値でも、ある程度の改質をなし得るが、未処理品に比べて優位性が低い。また、高い値であると、強い処理がかかりすぎて処理表面が劣化し、酸素バリア性が下がる原因になる。プラズマ用の気体及びその混合比などに関してはガス供給に係るポンプのポンプ性能や取り付け位置などによって導入分と実効分とでは流量が異なるので、用途、被処理基材、装置特性等に応じて適宜設定するべきである。
側に処理器がある)を使用して、プラズマエッチングによる後処理を行い、処理ガスにアルゴン/酸素混合ガスを用いた以外は、実施例1と同様の方法で比較のために蒸着フィルムを作成した。
<評価>
モダンコントロール社製酸素透過度測定器(MOCON OXTRAN)を用いて、30℃−70%RH雰囲気下で各実施例のフィルムの酸素透過率を測定した。また、湿度による劣化の傾向を評価するため、30℃−0%RH雰囲気下での測定も行い、その結果を前記測定結果と一緒に表1に示した。
2・・・無機物蒸着層
3・・・有機物蒸着層
4・・・後処理層
Claims (3)
- プラスチックフィルム基材の少なくとも一方の面に、電子線加熱方式を採用した蒸着法により金属または無機酸化物の蒸着薄膜を成膜して無機物蒸着層を設け、さらにその上に抵抗加熱方式を採用した蒸着法により1,3,5−トリアジン誘導体の蒸着薄膜を成膜して1,3,5−トリアジン誘導体からなる有機物蒸着層を順次設けた後、1,3,5−トリアジン誘導体からなる有機物蒸着層には、周波数13.56MHzの高周波電源を用い、自己バイアス値が200V以上2000V以下で、またEd=プラズマ密度×処理時間で定義されるEd値が100V・s・m 2 以上10000V・s・m 2 以下である低温プラズマを利用したリアクティブイオンエッチング処理を施すことを特徴とするガスバリア性フィルムの製造方法。
- 前記無機物蒸着層を構成する金属として、アルミニウム、錫、チタン或いはそれらの混合物のいずれかを用いることを特徴とする請求項1記載のガスバリア性フィルムの製造方法。
- 前記無機蒸物着層を構成する無機酸化物として、酸化アルミニウム、酸化珪素或いはそれらの混合物のいずれかを用いることを特徴とする請求項1記載のガスバリア性フィルムの製造方法。
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