JPH04147890A - 光記録材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、レーザー光等の光、熱等を用いて情報を記録
する光記録材料に関する。

［発明の背景］ 近年、レーザー光を用いた光学的記録は高密度な情報の
記録、保存および再生を可能とするため、活発な研究開
発がなされている。

光学的記録の一例としては、光デ・イスクを挙げること
ができる。

一般に、光ディスクは、円形の基体に設けられた薄い記
録層に、１μｍ程度に集束させたレーザー光を照射する
ことにより、高密度の情報記録を行うものである。その
記録は、照射されたレーザー光のもつエネルギーを吸収
した記録層において、分解、蒸発、昇華、溶解等の変化
を生じさせることにより行われる。

また、記録された情報の再生は、記録層に変化を与えな
い程度のエネルギーを有するレーザー光を照射し、記録
層に変化のあった部分とない部分の反射率の差等を読み
とることにより行われる。

従って、光学的記録材料としては、レーザー光のエネル
ギーを効率よく吸収する必要があるため、記録に使用す
るレーザー光に対する吸収が大き０ことが必要となる。

半導体レーザーは、安価であり、取り扱（為が簡便であ
るため、情報を記録する、あるいは、読み出すためのレ
ーザー光源として、半導体レーザーを用いることができ
れば有利である。しかしながら、半導体レーザーは出力
が小さく、また、発生する光も赤外乃至は近赤外線であ
って、情報記録のためには不利な条件を有していた。

従って、これら半導体レーザーにより容易に記録するこ
とができる材料の開発が望まれていた。

また、これら材料は、記録された情報が長期に亘って保
存できるように保存安定性が高いことも望まれていた。

そこで、本発明者等は、半導体レーザーによって容易に
情報を記録することができる材料を探索すべく、種々研
究を続けた結果、本発明をなすに至った。

［発明の目的コ 従って、本発明の目的は、半導体レーザーによる情報記
録が可能で、しかも、分子吸光係数が高く、熱、光に対
する保存性に優れた光記録材料を提供することにある。

［発明の構成］ 本発明の上記目的は、下記一般式［Ｉ］で表される色素
からなる光記録材料によって達成される。

一般式［Ｉ］ ［式中、Ｒはハロゲン原子、アルキル基、アシルアミノ
基、カルバモイル基、ベンズイミダゾリル基、アミノ基
、スルホンアミド基を表し、ｇは１〜８の整数を表す。

Ｙはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ
基を表し、Ｘはアミノ基、ヒドロキシ基、アシルアミノ
基を表す。］ 更に、本発明の上記目的は、光記録層および基板を有す
る光記録材料において、該記録層に、前記一般式［Ｉ］
で表される色素を含有させた光学的記録材料によって達
成される。

以下、本発明をさらに詳細に説明する。

一般式［Ｉ］において、Ｒで表されるハロゲン原子とし
ては、塩素原子、フッ素原子等が挙げられる。

アルキル基としては、メチル基等が挙げられる。

アシルアミノ基としては、アルキルカルボニルアミノ基
、アリールカルボニルアミノ基等が挙げられ、これら６
基は更に置換基を有していてもよい。具体的には、アセ
チルアミノ基、パーフルオロプロピオニルアミノ基、ベ
ンゾイルアミノ基、２−ニトロベンゾイルアミノ基、ヘ
キサフルオロベンゾイルアミノ基、α−（２，４−ジ−
ｔ−アミル−フェノキシ）−イソノくレリルアミノ基、
α（２，４−ジ−ｔ−アミル−フェノキシ）−アセチル
アミノ基等が挙げられる。

カルバモイル基としては、アルキルカルノ（モイルアミ
ノ基、アリールカルバモイルアミノ基等力く挙げられ、
これら６基は更に置換基を有して（為でもよい。具体的
には、ウンデシルカル〕（モイルアミノ基、δ−（２，
４−ジ−ｔ−アミル−フェノキシ）−ブチルカルバモイ
ル基等が挙げられる。

ベンズイミダゾリル基としては、２−ベンズイミダゾリ
ル基等が挙げられる。これら６基は更１こ置換基を有し
ていてもよい。

アミノ基としては、アミノ基、オクチルアミノ基、ドデ
シルアミノ基、フェニルアミノ基等力（挙げられる。こ
れら６基は更に置換基を有して０てもよい。

スルホンアミド基としては、アルキルスルホンアミド基
、アリールスルホンアミド基等が挙げられ、これら６基
は更に置換基を有していてもよ（１゜具体的には、ヘキ
サデシルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミ
ノ基等が挙げられる。

ｇは、１〜３の整数を表す。ｇが２以上のとき、それぞ
れのＲは、同一であっても、異なっていてもよい。

Ｙで表されるハロゲン原子としては、塩素原子、フッ素
原子等が挙げられる。

アルキル基としては、メチル基、エチル基等の低級アル
キル基か好ましい。

アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基等の低
級アルコキシ基が好ましい。

アミノ基としては、アミノ基、オクチルアミノ基、ドデ
シルアミノ基、フェニルアミノ基等が挙げられ、これら
６基は更に置換基を有していてもよい。

上記のうち、Ｙとしては、アルキル基、アルコキシ基が
好ましく、メチル基が特に好ましい。

Ｘで表されるアミノ基は、置換基を有するものであって
もよく、置換基としては、置換基を有していてもよいア
ルキル基等を挙げることができる。

上記置換基を有していてもよいアルキル基の具体例とし
ては、メチル基、エチル基、ヒドロキシエチル基、メト
キシエトキシエチル基、スルホプロピル基、カルボキシ
メチル基、メタンスルホンアミドエチル基、エタンスル
ホンアミドエチル基等を挙げることができる。

アシルアミノ基としては、アセチルアミノ基、プロピオ
ニルアミノ基等゛を挙げることができる。

これら６基は更に置換基を有していてもよい。

ヒドロキシ基は、アルカリ金属塩、アンモニウム塩等の
塩を形成していてもよい。

上記のうち、Ｘとしては、ジアルキルアミノ基が好まし
い。

一般式［Ｉ］で表される色素のうち、下記一般式［Ｉ［
］　　一般式［ＩＩＩ］及び一般式［ＩＶ］で表される
色素が好ましく、一般式［ＩＶ］で表される色素が吸収
スペクトル、保存性の上で特に好ましい。

以下余白 一般式 ［Ｉ１］ 一般式 ［Ｉ１１［］ 以下余白 一般式 ［ 上記一般式［Ｉ１］　　一般式［Ｉ１１］及び一般式［
ＩＶ］において、Ｒ，Ｙ及びＸは一般式［Ｉ］における
Ｒ、Ｙ及びＸと同義であり、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３はアル
キル基、アリール基を表す。

ｍは０．１、又は２を表す。

次に、一般式［Ｉ］で表される色素の代表的具体例を示
すが、本発明はこれらのものに限定されるものではない
。

以下金白 例示化合物 ｃ２Ｈｓ−Ｎ　　Ｕｚｔ１４Ｕｔ１ 一般式［Ｉ］で表される色素は、下記一般式［Ｖ］で表
される化合物と一般式［ＶＩ］で表される化合物とをア
ルカリ性溶液中で酸化カップリングすることによって容
易に合成することができる。

一般式［Ｖ］ 僚 一般式［ＶＩ］ 罷つ ［一般式［Ｖ］及び一般式［ＶＩ］において、ＲＹ及び
Ｘは、一般式［Ｉ］におけるＲ％Ｙ及びＸと同義でる。

Ｚは水素原子、一般式［Ｗ］で表される化合物の酸化体
とカップリング反応することによって離脱する基を表す
。］ 次に、本発明の一般式［Ｉ］で表される色素（以下、 本発明の色素という。

の代表的合成例 を示す。

合成例 〈例示化合物１の合成〉 （ａ） Ｎ）Ｉつ （ｂ） （ａ）　　Ｆｚｒ及び（ｂ）５ｇを酢酸エチル１００　
ｍｌに溶解し、ｔｏｇの炭酸カリウムを溶解した５０ｍ
１の水溶液を加えた後、５ｇの過硫酸カリウムを加えて
反応させ、酢酸エチル層を水洗後、酢酸エチルを減圧留
去し、カラムクロマトグラフィーにより精製し、８ｇの
例示化合物１を得た。

このものは、ＮＭＲ，ＭＡＳ　Ｓスペクトルにて例示化
合物１であることを確認した。

本発明の色素は、光記録用の色素として極めて有用であ
り、特に半導体レーザーを用いた光記録をするための光
記録材料として有用である。

本発明の光記録材料は、通常、基板と本発明の色素を含
む記録層とから構成される。さらに必要に応じて基板上
に下引き層を、また記録層上に保護層を設けることがで
きる。

基板としては、使用するレーザー光に対して透明または
不透明のいずれでもよい。基板材料の材質としては、ガ
ラス、プラスチック、紙、板状または箔状の金属等の一
般の記録材料の支持体が挙げられるが、プラスチックが
種々の点から好適である。

プラスチックとしては、アクリル樹脂、メタアクリル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル樹脂、ニトロセルロー
ス、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリカー
ボネート樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリス
ルホン樹脂等が挙げられる。

本発明の記録層の膜厚は、１００人〜５μｍが好ましく
、特に、１０００人〜３μｍが好ましい。記録層は、真
空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キ
ャスト法、スピナー法、浸漬法など、一般に行われてい
る薄膜形成法で成膜することができる。また、必要に応
じてバインダーを使用することもできる。バインダーと
してはＰＶＡ。

ｐｖｐ、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ポリビニ
ルブチラール、ポリカーボネートなど既知のものが用い
られ、バインダーに対する本発明の色素の量は１０重量
％以上であることが望ましい。

スピナー法により成膜の場合、回転数は５００〜５００
０ｒｐｍが好ましく、スピンコードの後、場合によって
は、加熱あるいは溶媒蒸気にあてる等の処理を行っても
よい。また、記録材料のさらなる安定性や耐光性向上の
ために、−重項酸素クエンチャーとして遷移金属キレー
ト化合物（例えば、アセチルアセトナートキレート、ビ
スフエニルジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、
ビスジチオ−α−ジケトン等）、抗酸化剤等を含有して
もよい。

更に、必要に応じて他の色素を併用することができる。

これら他の色素としてはイミダゾール系色素、トリアリ
ールメタン色素、アゾ染料、シアニン系色素、スクワリ
リウム系色素などを挙げることができる。

記録層を形成する場合の塗布溶媒としては、メチルエチ
ルケトン、トルエン、テトラクロロエタン、ブロモホル
ム、ジブロモエタン、エチルセロソルブ、キシレン、ク
ロロベンゼン、シクロヘキサノン等、が好適に使用され
る。

本発明の記録層は基板の両面に設けてもよいし、片面だ
けに設けてもよい。

上記な様にして得られた記録材料への記録は、基板の両
面または、片面に設けた記録層に１μｍ程度に集束した
レーザー光、好ましくは、半導体レーザーの光をあてる
事により行う。レーザー光照射された部分には、レーザ
ーエネルギーの吸収によって、分解、蒸発、溶解、昇華
等の記録層の熱的変型が起きる。

記録された情報の読み出しは、レーザー光により、熱的
変化が起きている部分と起きていない部分の反射率の差
等を読み取ることにより行うことができる。

情報記録または読み出しに使用さ・れるレーザーとして
は、Ｎ２　、’　Ｈｅ−Ｃｄ５　Ａｒ、Ｈｅ−Ｎｅ。

ルビー、半導体、色素レーザーなどが挙げられるが、軽
量性、取扱の容易さ、コンパクト性などの点から半導体
レーザーが特に好ましい。

実施例 次に実施例を用いて、本発明を更に具体的に説明するが
、本発明は、これらの実施例に限定されるものではない
。

実施例１ 前記例示化合物１　１ｇをジブロモエタン５０ｇに溶解
した後、０，２２μｍのフィルターを用いて濾過し、色
素溶液を得た。

光デイスク用基板として、紫外線硬化樹脂でつくられた
深さ　７００人、幅０，７μの溝付きポリメチルメタク
リレート樹脂基板（５インチ）を用い、この基板上に前
記染料溶液２ｍｌを滴下し、スピナー法により１２００
ｒ　ｐ■の回転数で塗布した。塗布後、６０℃で１０分
間乾燥した。この膜厚は、３７００人であった。またこ
の塗布膜の最大吸収波長（λｇａｚ）は、７５０ｎｍで
あった。

このようにして得られた光ディスクに光源としてビーム
径１．６μｍの半導体レーザーを用いて書き込みを行っ
た結果、均一かつ明瞭な形状のビット（孔）が得られた
。Ｃ／Ｎ比および保存安定性も良好であった。

実施例２ 実施例１で用いた例示化合物１にかえて、等モルの例示
化合物２，３，４．５及び６を用いて、実施例１に記載
された方法にしたがって、塗布膜厚７００ｎｍの光ディ
スクを製造した。得られた塗布膜の最大吸収波長を表に
示した。

表 このようにして得られた光ディスクに光源として、ビー
ム径１．６μｍの半導体レーザーを用いて書き込みを行
ったところ、均一かつ明瞭な形状のビット（孔）が得ら
れた。またＣ／Ｎ比も良好であり、更に保存安定性も良
好であった。

［発明の効果］ 本発明の色素は、近赤外乃至赤外領域に吸収があるため
、半導体レーザーを用いた情報記録が容易に行なえ、か
つ、分子吸光係数が高く、耐熱性、耐光性に優れ、保存
性に優れている。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）下記一般式［ I ］で表される色素からなる光記
   録材料。 一般式［ I ］ ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒはハロゲン原子、アルキル基、アシルアミノ
   基、カルバモイル基、ベンズイミダゾリル基、アミノ基
   、スルホンアミド基を表し、ｌは１〜３の整数を表す。 Ｙはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ
   基を表し、Ｘはアミノ基、ヒドロキシ基、アシルアミノ
   基を表す。］
2. （２）光記録層および基板を有する光記録材料において
   、該記録層に前記一般式［ I ］で表される色素を含有
   させたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光
   記録材料。