JPH04147429A

JPH04147429A - テクスチャー形成方法

Info

Publication number: JPH04147429A
Application number: JP27145390A
Authority: JP
Inventors: Kensuke Miyagawa; 宮川　健祐
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 1990-10-09
Filing date: 1990-10-09
Publication date: 1992-05-20

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［概要］磁気記録媒体のテクスチャー形成方法に関し、異方性が
生じに＜＜、バラツキの少ないテクスチャーを行うこと
ができるテクスチャー形成方法を提供することを目的と
し、基板を保持する保持手段と、砥粒を基板に対して噴出す
る噴出手段とを設け、前記保持手段と、前記噴出手段と
を相対的に回転させないで、前記基板に対して砥粒を噴
射することにより、基板の表面にテクスチャーを形成す
る。

［産業上の利用分野］本発明は、磁気記録媒体のテクスチャー形成方法に関す
る。

近年、磁気記録の分野では記録密度の高密度化に伴い、
記録媒体の耐久性を向上させることが要望されている。

中でも、ヘッドと媒体が接触して磁気記録が破壊される
こと（ヘッドクラッシュ）を防止するために、ヘッドと
媒体の摩擦力を低減する必要がある。又、ヘッドと媒体
が固着してしまうのを回避するのも同様に重要である。

これらの目的を達成するために媒体表面を微細に粗しく
テクスチャリング）、媒体の表面粗さや摩擦係数をコン
トロールする必要がある。

［従来の技術］次に図面を用いて従来例を説明する。第４図は従来のテ
ープテクスチャー装置の全体構成を説明する斜視図であ
る。

図において、１は図示しない駆動装置によって回転駆動
される基板である。２は研磨テープ３の供給リール、４
は図示しない駆動モータによって回転駆動され、供給リ
ール３より巻き出された研磨テープを巻取る巻き取りリ
ールである。

５は供給リール２より繰り出された研磨テープ３を基板
１方向へ案内するガイドローラ、６は後述の加圧機構に
よって、研磨テープ３を基板１方向へ加圧する加圧ロー
ラである。７，８は研磨テープ３を挟持し、研磨テープ
３を一定の速度で駆動するキャプスタンと、ピンチロー
ラである。

９は研磨テープ３と基板１との当接部近傍に、研磨液や
冷却潤滑剤を供給するノズルである。

［発明が解決しようとする課題］上記構成の従来例において、テクスチャーが同心円状と
なり、周方向にテクスチャーが付き、結果として、周方
向に形状異方性が生ずるｉＴＪ能性が大きくなる。この
様な異方性は周方向に対して記録する場合（つまり水平
記録）の場合には問題が少ないが、垂直方向（つまり垂
直記録）の場合には、問題となる。

なぜなら、従来方法のテクスチャリングの結果、周方向
に異方性が生じた場合、垂直磁性膜の垂直異方性の低下
につながり、垂直方向の磁気特性の低下を招くことにな
るからである。

又、研磨テープ３の製造工程で、研磨テープ３に砥粒が
コーティングされるが、品質を一定に保つことが難しく
、表面粗さのバラツキが大きいという問題点がある。

更に、上記構成の装置は、基板１の回転数、研磨テープ
３の送り速度、加圧ローラ６の加圧力、又、その加圧力
−の基板１の内外径でのバランス等設定条件が多く、゛
粗さの制御が難しく、歩留まりが少なく、大量に安定し
て加工することができないという問題点がある。

本発明は上記問題点に鑑みてなされたもので、その目的
は、異方性が生じに＜＜、バラツキの少ないテクスチャ
ーを行うことができるテクスチャー形成方法を提供する
ことにある。

［課題を解決するための手段］第１図は本発明方法を実現するための装置の原理図であ
る。図において、１１は基板１２を保持する保持手段、
１３は砥粒１４を基板１２に対して噴出する噴出手段で
ある。

そして、保持手段１１と、噴出手段１３とを相対的に回
転しないようになっている。

［作用］第１図に示す原理図において、基板１２は保持手段１１
によって保持されている。

そして、噴出手段１３より砥粒１４が噴出され、基板１
２の表面にテクスチャーが形成される。

保持手段１１と噴出手段１３とは相対的に回転しないの
で、基板１２に異方性が付かず、砥粒１４でテクスチャ
ーを行うので、テクスチャリングのバラツキが少ない。

［実施例コ次に、図面を用いて本発明の一実施例を説明する。第２
図は本発明方法を行う一実施例装置を示す図、第３図は
第２図における装置がテクスチャーを行う場合を説明す
る図である。

第２図において、２１は矢印方向に駆動されるベルトコ
ンベア、２２はベルトコンベア２１上に設けられ、テク
スチャされる基板２３を保持する基板ホルダである。

ベルトコンベア２１上には、噴出手段Ｆが設けられてい
る。この噴出手段Ｆは、基板２３の洗浄液を吸引し、高
圧で吐出するポンプ２４と、ポンプ２４の吐出側配管り
に設けられ、砥粒（本実施例では、ダイアモンド微粒子
、ガラス微粒子）を貯蔵すると共に、吐出側配管りへ砥
粒を定量的に供給する砥粒タンク２５が設けられている
。２６は砥粒と洗浄液の高圧の混合液を噴出するノズル
である。このノズル２６の吐出部は、複数の細い導管よ
り構成され、吐出する液体が散乱しないようになってい
る。

次に、第２図及び第３図を用いて、本実施例方法を説明
する。先ず、第２図に示すように、ベルトコンベア２１
を矢印方法に駆動して、テクスチャーを行う基板２３を
ノズル２６の下方まで移動させる。そして、この基板２
３がノズル２３の下方に位置すると、ベルトコンベア２
１の駆動を停止する。

次に、第３図に示すように、ポンプ２４を駆動し、洗浄
液と砥粒の高圧混合液をノズル２６を介して、基板２３
の全面へ噴出し、基板２３の表面を微細に粗す。

ノズル２６は、洗浄液と砥粒の高圧混合液を基板２３の
全面に均一に噴出することが可能な十分な大きさを有す
ることが望ましい。

そして、テクスチャリングが終了すると、再び、ベルト
コンベア２１が駆動し、次の基板２２をノズル２６の下
方へ搬送する。

尚、テクスチャリングが終了した基板２３は、この後、
基板２３上に残留した砥粒を除去するために、ポリッシ
ングを行ってもよい。

この様な方法によれば、ノズル２６及びベルトコンベア
２１は停止した状態で、テクスチャーが行われるので、
テクスチャーが同心円状とならず、周方向の形状異方性
が生じない。よって、垂直記録に好適となる。

又、砥粒と洗浄液の混合液でテクスチャリングを行うの
で、ポンプ２４の吐出圧、吐出量、砥粒の量及び砥粒の
大きさを調整することにより、基板２３の所望の表面粗
さバラツキなく得ることができる。

尚、本発明は上記実施例に限るものではない。

例えば、上記実施例では、砥粒は洗浄液と共に噴出する
ようにしたが、他に、エアー、水、アルコール及び油等
と共に噴出するようにしてもよい。

［発明の効果］以上説明したように本発明方法によれば、基板を保持す
る保持手段と、砥粒を基板に対して噴出する噴出手段と
を設け、前記保持手段と、前記噴出手段とを相対的に回
転させないで、前記基板に対して砥粒を噴射し、基板の
表面を微細に粗すようにした。よって、異方性が生じに
＜＜、バラツキの少ないテクスチャーを行うことができ
るテクスチャー形成方法を実現できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の原理図、第２図は本発明方法を行う一実施例装置を示す図、第３図は第２図における装置がテクスチャーを行う場合
を説明する図、第４図は従来のテープテクスチャー装置の全体構成を説
明する図である。第１図乃至第３図において１１．２２は保持手段１２．２３は基板、１３、Ｆは噴出手段、１４は砥粒である。（ホルダ）、

Claims

【特許請求の範囲】

（１）基板（１２）を保持する保持手段（１１）と、砥粒（１４）を基板（１２）に対して噴出する噴出手段
（１３）とを設け、前記保持手段（１１）と、前記噴出手段（１３）とを相
対的に回転させないで、前記基板（１２）に対して砥粒
（１４）を噴射することにより、基板（１２）の表面に
テクスチャーを形成することを特徴とするテクスチャー
形成方法。
（２）前記噴出手段（１３）は前記砥粒（１４）と基板
（１２）の洗浄液との混合液を噴射することを特徴とす
る請求項１記載のテクスチャー形成方法。