JPH04134084A - ケイ酸エステルおよびその製造方法 - Google Patents
ケイ酸エステルおよびその製造方法Info
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- JPH04134084A JPH04134084A JP25361890A JP25361890A JPH04134084A JP H04134084 A JPH04134084 A JP H04134084A JP 25361890 A JP25361890 A JP 25361890A JP 25361890 A JP25361890 A JP 25361890A JP H04134084 A JPH04134084 A JP H04134084A
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- -1 Silicic acid ester Chemical class 0.000 title claims abstract description 45
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 20
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 title description 5
- IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane Chemical compound O[Si](O)=O IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 18
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 15
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 8
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 239000012346 acetyl chloride Substances 0.000 claims abstract description 6
- RZWZRACFZGVKFM-UHFFFAOYSA-N propanoyl chloride Chemical compound CCC(Cl)=O RZWZRACFZGVKFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical group C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 7
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 26
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 13
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 6
- 239000002243 precursor Substances 0.000 abstract description 5
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 abstract description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 abstract description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 3
- 229910003641 H2SiO3 Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 abstract description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 abstract 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 6
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 5
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical class O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- PHIQPXBZDGYJOG-UHFFFAOYSA-N sodium silicate nonahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.O.O.[Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O PHIQPXBZDGYJOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- DNYWZCXLKNTFFI-UHFFFAOYSA-N uranium Chemical compound [U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U] DNYWZCXLKNTFFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXXACINHVKSMDR-UHFFFAOYSA-N acetyl bromide Chemical compound CC(Br)=O FXXACINHVKSMDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001649 bromium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010537 deprotonation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000012921 fluorescence analysis Methods 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- YTHCQFKNFVSQBC-UHFFFAOYSA-N magnesium silicide Chemical compound [Mg]=[Si]=[Mg] YTHCQFKNFVSQBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021338 magnesium silicide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000474 nursing effect Effects 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- RIBFXMJCUYXJDZ-UHFFFAOYSA-N propanoyl bromide Chemical compound CCC(Br)=O RIBFXMJCUYXJDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- KHDSWONFYIAAPE-UHFFFAOYSA-N silicon sulfide Chemical compound S=[Si]=S KHDSWONFYIAAPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明は、新規なケイ酸エステルおよびその製造方法に
関し、さらに詳しくは高純度で疎水性のシリカを製造す
る際に前駆物質となりうるケイ酸エステルおよびその製
造方法に関する。
関し、さらに詳しくは高純度で疎水性のシリカを製造す
る際に前駆物質となりうるケイ酸エステルおよびその製
造方法に関する。
発明の技術的背景
ケイ酸′エステルは、ケイ素と有機基の間か酸素によっ
て架橋された5i−0−R結合を有する化合物である。
て架橋された5i−0−R結合を有する化合物である。
一般に、ケイ酸エステルは、(1)四塩化ケイ素にアル
コールまたはフェノールを作用させるか、あるいは(2
)二硫化ケイ素またはケイ化マグネシウムにアルコール
を作用させることにより製造されている。このほかにも
、最近提案されたケイ酸エステルの製造方法として、メ
タケイ酸すトリウムを出発物質とした製法かある(阿部
芳首 他、窯業協会跡94、1169−73 (198
6))。この製法によれば、メタケイ酸ナトリウムに塩
酸を作用させポリシラノールを製造した後にポリシラノ
ール型ケイ酸エステルを合成している。プロセスの概略
を下記に示す。
コールまたはフェノールを作用させるか、あるいは(2
)二硫化ケイ素またはケイ化マグネシウムにアルコール
を作用させることにより製造されている。このほかにも
、最近提案されたケイ酸エステルの製造方法として、メ
タケイ酸すトリウムを出発物質とした製法かある(阿部
芳首 他、窯業協会跡94、1169−73 (198
6))。この製法によれば、メタケイ酸ナトリウムに塩
酸を作用させポリシラノールを製造した後にポリシラノ
ール型ケイ酸エステルを合成している。プロセスの概略
を下記に示す。
OH
OR0H
HO(−3i−0−)、 (−3i−0−)、−mH+
mH2O0HOH 発明の目的 本発明は、上記のようなポリシラノール型ケイ酸エステ
ルとは構造的に異なり、高純度で疎水性のシリカを製造
する際に前駆物質となりうるケイ酸エステルを提供する
ことを目的としている。また本発明は、上記のようなケ
イ酸エステルを高収率で製造することかできるケイ酸エ
ステルの製造方法を提供することを目的としている。
mH2O0HOH 発明の目的 本発明は、上記のようなポリシラノール型ケイ酸エステ
ルとは構造的に異なり、高純度で疎水性のシリカを製造
する際に前駆物質となりうるケイ酸エステルを提供する
ことを目的としている。また本発明は、上記のようなケ
イ酸エステルを高収率で製造することかできるケイ酸エ
ステルの製造方法を提供することを目的としている。
発明の概要
本発明に係るケイ酸エステルは
式 R’−Co。
\
Si −○
/
R” COO
〔上式中、R1およびR2は炭素数1〜6のアルキル基
、フェニル基あるいは置換フェニル基てあり、R1とR
2とは同一であってもよく、また互いに異なっていても
よい。〕 て表される。
、フェニル基あるいは置換フェニル基てあり、R1とR
2とは同一であってもよく、また互いに異なっていても
よい。〕 て表される。
本発明に係るケイ酸エステルの製造方法は、メタケイ酸
(H2SiO3)が有機溶媒に溶解してなるメタケイ酸
溶液に酸ハロゲン化物(R,COX にこて、Rは炭素
数1〜6のアルキル基、フェニル基あるいは置換フェニ
ル基であり、Xはハロゲン原子である。〕)を添加し、
有機溶媒を留去し、 クロロホルムによって有機物を分離し、蒸留して、式・
R’−Co。
(H2SiO3)が有機溶媒に溶解してなるメタケイ酸
溶液に酸ハロゲン化物(R,COX にこて、Rは炭素
数1〜6のアルキル基、フェニル基あるいは置換フェニ
ル基であり、Xはハロゲン原子である。〕)を添加し、
有機溶媒を留去し、 クロロホルムによって有機物を分離し、蒸留して、式・
R’−Co。
\
5i=0
/
R2−Co。
〔上式中、R1およびR2は炭素数1〜6のアルキル基
、フェニル基あるいは置換フェニル基であり、RとR2
とは同一であってもよく、また互いに異なっていてもよ
い。〕 て表されるケイ酸エステルを製造することを特徴として
いる。
、フェニル基あるいは置換フェニル基であり、RとR2
とは同一であってもよく、また互いに異なっていてもよ
い。〕 て表されるケイ酸エステルを製造することを特徴として
いる。
発明の詳細な説明
以下、本発明に係るケイ酸エステルおよびその製造方法
について具体的に説明する。
について具体的に説明する。
本発明に係るケイ酸エステルは下記式て表される構造を
有している。
有している。
式: R’−Co。
\
5i=0
/
R2−Co。
ここて、R1およびR2は、
メチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、ドブ
チル基、t−ブチル基等の炭素数1〜6のアルキル基・ フェニル基あるいは、 炭素数1〜6の炭化水素基を有する置換フェニル基であ
り、 好ましくはメチル基、エチル基である。
チル基、t−ブチル基等の炭素数1〜6のアルキル基・ フェニル基あるいは、 炭素数1〜6の炭化水素基を有する置換フェニル基であ
り、 好ましくはメチル基、エチル基である。
なおR1とR2とは同一であってもよく、また互いに異
なっていてもよい。
なっていてもよい。
次に本発明に係るケイ酸エステルの製造方法について説
明する。
明する。
本発明に係るケイ酸エステルの製造方法においては、安
価で入手の容易なメタケイ酸ナトリウムを出発物質とし
て用いることかでき、しかも高収率てケイ酸エステルを
製造することかできる。
価で入手の容易なメタケイ酸ナトリウムを出発物質とし
て用いることかでき、しかも高収率てケイ酸エステルを
製造することかできる。
またメタケイ酸すトリウムの他にも、メタケイ酸すトリ
ウムと類似の化合物、たとえばメタケイ酸カリウム、市
販のケイ酸ナトリウム1,2,3.4号品等も同様に使
用することかできる。
ウムと類似の化合物、たとえばメタケイ酸カリウム、市
販のケイ酸ナトリウム1,2,3.4号品等も同様に使
用することかできる。
メタケイ酸すトリウムはメタケイ酸を調製するための出
発物質として用いられる。もちろんこの調製プロセスを
省略して、はじめから市販のメタケイ酸を用いてもよい
。
発物質として用いられる。もちろんこの調製プロセスを
省略して、はじめから市販のメタケイ酸を用いてもよい
。
メタケイ酸すl・リウムからメタケイ酸を調製するには
、まずメタケイ酸すトリウム水溶液を塩酸で中和し、次
いてテトラヒドロフラン(THF)で抽出し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。抽出にもちいるT I−IFの使
用量は、原料であるメタケイ酸ナトリウムの濃度がNa
2SiO3/THP(モル/l)で0.5〜1、好まし
くは0.6〜0.8になるような量で使用する。このよ
うな処理によりメタケイ酸はTHF溶液として得られる
。
、まずメタケイ酸すトリウム水溶液を塩酸で中和し、次
いてテトラヒドロフラン(THF)で抽出し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。抽出にもちいるT I−IFの使
用量は、原料であるメタケイ酸ナトリウムの濃度がNa
2SiO3/THP(モル/l)で0.5〜1、好まし
くは0.6〜0.8になるような量で使用する。このよ
うな処理によりメタケイ酸はTHF溶液として得られる
。
メタケイ酸を調製する際に用いられる有機溶媒としては
、THFの他にも、メタノール、エタノール等のアルコ
ール類。
、THFの他にも、メタノール、エタノール等のアルコ
ール類。
n−ヘキサン、アセトン等の炭化水素系溶媒も用いるこ
とができるか、THFを使用することが特に好ましい。
とができるか、THFを使用することが特に好ましい。
なお上記のような有機溶媒は1種単独で、または2種以
上を組み合わせて使用することができる。
上を組み合わせて使用することができる。
また市販のメタケイ酸を用いる場合には、上記のような
有機溶媒、好ましくはTHFを溶媒としてメタケイ酸溶
液を調製する。
有機溶媒、好ましくはTHFを溶媒としてメタケイ酸溶
液を調製する。
次いて得られたメタケイ酸THF溶液に酸ハロゲン化物
(R−COX)を添加し、攪拌する。〔ここで、Rは炭
素数1〜6のアルキル基、フェニル基あるいは置換フェ
ニル基であり、Xはハロゲン原子である。〕 反応温度は常温程度であり、好ましくは10〜30°C
である。反応時間は24時間以上、好ましくは60〜7
2時間である。
(R−COX)を添加し、攪拌する。〔ここで、Rは炭
素数1〜6のアルキル基、フェニル基あるいは置換フェ
ニル基であり、Xはハロゲン原子である。〕 反応温度は常温程度であり、好ましくは10〜30°C
である。反応時間は24時間以上、好ましくは60〜7
2時間である。
この反応で用いられる酸ハロゲン化物として具体的には
、 塩化アセチル01e−COCI ) 、塩化プロピオニ
ル(Et−COCI )等の酸塩化管類 臭化アセチル(Me−COBr ) 、臭化プロピオニ
ル(Et−COBr )等の酸臭化物類等を例示するこ
とかできる。これら酸ハロゲン化物は1種単独で、また
は2種以上を組み合わせて使用することかできる。また
上記のような酸ハロゲン化物の中でも、塩化アセチル、
塩化プロピオニルを用いることか特に好ましい。
、 塩化アセチル01e−COCI ) 、塩化プロピオニ
ル(Et−COCI )等の酸塩化管類 臭化アセチル(Me−COBr ) 、臭化プロピオニ
ル(Et−COBr )等の酸臭化物類等を例示するこ
とかできる。これら酸ハロゲン化物は1種単独で、また
は2種以上を組み合わせて使用することかできる。また
上記のような酸ハロゲン化物の中でも、塩化アセチル、
塩化プロピオニルを用いることか特に好ましい。
酸ハロゲン化物の使用量は、酸ハロゲン化物とメタケイ
酸ナトリウムとの比R−COX/Na25i03(モル
1モル)が、2〜4、好ましくは2.5〜3となるよう
な量である。
酸ナトリウムとの比R−COX/Na25i03(モル
1モル)が、2〜4、好ましくは2.5〜3となるよう
な量である。
メタケイ酸と酸ハロゲン化物との反応をTHF溶液中で
行なった後、THFを留去しクロロホルムを加え残留し
た有機物を分離し、蒸留することによりケイ酸エステル
が高収率で得られる。
行なった後、THFを留去しクロロホルムを加え残留し
た有機物を分離し、蒸留することによりケイ酸エステル
が高収率で得られる。
このようなケイ酸エステルの生成は下記式のように進行
していると考えられる。
していると考えられる。
\
5i=O+ 2R−COCp −→/
R−Co。
\
i
0 +
HCA
/
Rがメチル基である場合、すなわち酸塩化物として塩化
アセチルを用いた場合の生成物の赤外吸収スペクトルお
よび’H−NMRスペクトルを第1図および第2図に示
す。この結果は、ケイ酸エステルの生成を支持している
。またこの生成物の沸点は、760mmHgで196℃
であった。
アセチルを用いた場合の生成物の赤外吸収スペクトルお
よび’H−NMRスペクトルを第1図および第2図に示
す。この結果は、ケイ酸エステルの生成を支持している
。またこの生成物の沸点は、760mmHgで196℃
であった。
かくして得られるケイ酸エステルは、高純度てシリカを
製造する際の前駆物質となりうる。
製造する際の前駆物質となりうる。
本発明に係るケイ酸エステルからのシリカの合成は、ケ
イ酸エステルとメタケイ酸との混合溶液に酸を作用させ
た後、脱RCOOH反応および脱プロトン反応を進行さ
せることにより行なわれる。
イ酸エステルとメタケイ酸との混合溶液に酸を作用させ
た後、脱RCOOH反応および脱プロトン反応を進行さ
せることにより行なわれる。
ケイ酸エステルとメタケイ酸との混合比はケイ酸エステ
ル/メタケイ酸(モル比)で、0.5〜2、好ましくは
lであることが望ましい。
ル/メタケイ酸(モル比)で、0.5〜2、好ましくは
lであることが望ましい。
酸としては、塩酸、硫酸、硝酸等のプロトン酸か用いら
れる。酸はケイ酸エステル1モルに対して0、01〜2
モル、好ましくは0.01〜0.05モルの量で用いら
れる。
れる。酸はケイ酸エステル1モルに対して0、01〜2
モル、好ましくは0.01〜0.05モルの量で用いら
れる。
シリカ合成は、上記のようにして得られた反応生成物に
熱処理を施すことにより行なわれる。熱処理は電気炉等
の炉中て行なわれ、熱処理温度は、600〜1400℃
、好ましくは600〜800℃であり、熱処理時間は1
〜5時間、好ましくは2〜3時間である。
熱処理を施すことにより行なわれる。熱処理は電気炉等
の炉中て行なわれ、熱処理温度は、600〜1400℃
、好ましくは600〜800℃であり、熱処理時間は1
〜5時間、好ましくは2〜3時間である。
上記のようにして得られるシリカは、極めて純度が高(
、ナトリウム、カリウム、鉄、ウラン、チタン等の金属
を実質的に全(含有せず、しかも高い疎水性を有してい
る。
、ナトリウム、カリウム、鉄、ウラン、チタン等の金属
を実質的に全(含有せず、しかも高い疎水性を有してい
る。
このような高純度シリカは各種のフィラーとしての用途
の他にも、表面処理剤等の巾広い用途が期待できる。
の他にも、表面処理剤等の巾広い用途が期待できる。
発明の効果
本発明によれば、従来のポリシラノール型ケイ酸エステ
ルとは構造的に異なり、高純度で疎水性のシリカを製造
する際に前駆物質となりうるケイ酸エステルを提供する
ことが可能になる。また本発明に係るケイ酸エステルの
製造方法よれば、上記のようなケイ酸エステルを高収率
で製造することができる。
ルとは構造的に異なり、高純度で疎水性のシリカを製造
する際に前駆物質となりうるケイ酸エステルを提供する
ことが可能になる。また本発明に係るケイ酸エステルの
製造方法よれば、上記のようなケイ酸エステルを高収率
で製造することができる。
実施例
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれ
ら実施例に限定されるものではない。
ら実施例に限定されるものではない。
メタケイ酸ナトリウム・九水和物0.075モル(21
,32g)を100 mlの水に溶解し、氷で冷しなが
ら4N塩酸50mnて中和し、pHを約1.0にした。
,32g)を100 mlの水に溶解し、氷で冷しなが
ら4N塩酸50mnて中和し、pHを約1.0にした。
約30分間攪拌した後、冷却したままテトうしドロフラ
ン100m1と塩化ナトリウム140gを加え、さらに
30分間攪拌した。攪拌後、15分間静置して2層に分
離した。上層(育機層)を取り出し、無水硫酸マグネシ
ウム9gを用いて一晩脱水し、口過をしてケイ酸THF
溶液を得た。この溶液に塩化アセチルを約0.3モル(
25g)加え、3日間(72時間)攪拌した後、THF
を留去し、クロロホルム60dを加え有機物を分離した
。
ン100m1と塩化ナトリウム140gを加え、さらに
30分間攪拌した。攪拌後、15分間静置して2層に分
離した。上層(育機層)を取り出し、無水硫酸マグネシ
ウム9gを用いて一晩脱水し、口過をしてケイ酸THF
溶液を得た。この溶液に塩化アセチルを約0.3モル(
25g)加え、3日間(72時間)攪拌した後、THF
を留去し、クロロホルム60dを加え有機物を分離した
。
その後、蒸留し沸点が196°C付近の液体(ケイ酸エ
ステル)を回収した。
ステル)を回収した。
得られたケイ酸エステルの赤外吸収スペクトルを第1図
に示す。この結果2940cF ’に(H−C−)結合
に起因する吸収か、1740cm−’に<0=C−>結
合に起因する吸収か、1240cF ’に(−0−C−
)結合に起因する吸収が、105105O’に(R−0
−3i −)結合に起因する吸収が観測された。またケ
イ酸エステルの’H−NMRスペクトルを第2図に示す
。この結果メチル基に起因するピークのみか観測された
。
に示す。この結果2940cF ’に(H−C−)結合
に起因する吸収か、1740cm−’に<0=C−>結
合に起因する吸収か、1240cF ’に(−0−C−
)結合に起因する吸収が、105105O’に(R−0
−3i −)結合に起因する吸収が観測された。またケ
イ酸エステルの’H−NMRスペクトルを第2図に示す
。この結果メチル基に起因するピークのみか観測された
。
以上の結果から得られたケイ酸エステルは下記のような
構造を有していると考えられる。
構造を有していると考えられる。
Me−Co。
\
5i=0
/
Me−Co。
THF溶液中のケイ酸濃度、反応時間、ケイ酸に対する
酸塩化物のモル比および酸塩化物の種類を変更した場合
のケイ酸エステルの収率を表1に示す。
酸塩化物のモル比および酸塩化物の種類を変更した場合
のケイ酸エステルの収率を表1に示す。
表
〔ケイ酸エステルからの高純度シリカの合成〕メタケイ
酸ナトリウム・九水和物0.075モル(21,32g
)を100 mlの水に溶解し、氷で冷しなから4N塩
酸50m1で中和し、pHを約1.0にした。約30分
間攪拌した後、冷却したままテトラヒドロフラン100
m1と塩化ナトリウム110gを加え、さらに30分間
攪拌した。攪拌後、15分間静置して2層に分離した。
酸ナトリウム・九水和物0.075モル(21,32g
)を100 mlの水に溶解し、氷で冷しなから4N塩
酸50m1で中和し、pHを約1.0にした。約30分
間攪拌した後、冷却したままテトラヒドロフラン100
m1と塩化ナトリウム110gを加え、さらに30分間
攪拌した。攪拌後、15分間静置して2層に分離した。
上層(有機層)を取り出し、無水硫酸マグネシウム9g
を用いて一晩脱水し、口過をしてケイ酸THF溶液を得
た。この溶液にIRがメチル基の吸収を示すケイ酸エス
テル0.075モル(12,16g)を加え、室温で9
6時間放置すると寒天状の物質が得られた。得られた得
られた寒天状物質を電気炉中、1200°Cて3時間焼
成し、高純度シリカを得た。
を用いて一晩脱水し、口過をしてケイ酸THF溶液を得
た。この溶液にIRがメチル基の吸収を示すケイ酸エス
テル0.075モル(12,16g)を加え、室温で9
6時間放置すると寒天状の物質が得られた。得られた得
られた寒天状物質を電気炉中、1200°Cて3時間焼
成し、高純度シリカを得た。
得られたシリカのケイ光分析を行なったところ、ナトリ
ウム、カリウム、鉄、ウラン、チタン等の不純物が実質
的に全く含まれていないことかわかった。
ウム、カリウム、鉄、ウラン、チタン等の不純物が実質
的に全く含まれていないことかわかった。
また得られたシリカは極めて疎水性が高かった。
第1図および第2図は、本発明に係るケイ酸ニスチルの
赤外吸収スペクトルおよび’H−NMRスペクトルを示
すチャート図である。
赤外吸収スペクトルおよび’H−NMRスペクトルを示
すチャート図である。
Claims (8)
- (1)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔上式中、R^1およびR^2は炭素数1〜6のアルキ
ル基、フェニル基あるいは置換フェニル基であり、R^
1とR^2とは同一であってもよく、また互いに異なっ
ていてもよい。〕 で表されるケイ酸エステル。 - (2)R^1およびR^2がともにメチル基であること
を特徴とする請求項第1項に記載のケイ酸エステル。 - (3)R^1およびR^2がともにエチル基であること
を特徴とする請求項第1項に記載のケイ酸エステル。 - (4)メタケイ酸(H_2SiO_3)が有機溶媒に溶
解してなるメタケイ酸溶液に酸ハロゲン化物 (R−COX〔ここで、Rは炭素数1〜6のアルキル基
、フェニル基あるいは置換フェニル基であり、Xはハロ
ゲン原子である。〕)を添加し、 有機溶媒を留去し、 クロロホルムによって有機物を分離し、蒸留して、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔上式中、R^1およびR^2は炭素数1〜6のアルキ
ル基、フェニル基あるいは置換フェニル基であり、R^
1とR^2とは同一であってもよく、また互いに異なっ
ていてもよい。〕 で表されるケイ酸エステルを製造するケイ酸エステルの
製造方法。 - (5)酸ハロゲン化物が酸塩化物であることを特徴とす
る請求項第4項に記載のケイ酸エステルの製造方法。 - (6)酸塩化物が塩化アセチルであることを特徴とする
請求項第5項に記載のケイ酸エステルの製造方法。 - (7)酸塩化物が塩化プロピオニルであることを特徴と
する請求項第5項に記載のケイ酸エステルの製造方法。 - (8)前記有機溶媒がテトラヒドロフラン(THF)で
あることを特徴とする請求項第4項に記載のケイ酸エス
テルの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25361890A JPH04134084A (ja) | 1990-09-21 | 1990-09-21 | ケイ酸エステルおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25361890A JPH04134084A (ja) | 1990-09-21 | 1990-09-21 | ケイ酸エステルおよびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04134084A true JPH04134084A (ja) | 1992-05-07 |
Family
ID=17253866
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25361890A Pending JPH04134084A (ja) | 1990-09-21 | 1990-09-21 | ケイ酸エステルおよびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04134084A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5594021A (en) * | 1993-05-20 | 1997-01-14 | Texas Biotechnology Corporation | Thienyl-, furyl- and pyrrolyl sulfonamides and derivatives thereof that modulate the activity of endothelin |
US5804585A (en) * | 1996-04-15 | 1998-09-08 | Texas Biotechnology Corporation | Thieno-pyridine sulfonamides derivatives thereof and related compounds that modulate the activity of endothelin |
US5962490A (en) * | 1987-09-25 | 1999-10-05 | Texas Biotechnology Corporation | Thienyl-, furyl- and pyrrolyl-sulfonamides and derivatives thereof that modulate the activity of endothelin |
US5977117A (en) * | 1996-01-05 | 1999-11-02 | Texas Biotechnology Corporation | Substituted phenyl compounds and derivatives thereof that modulate the activity of endothelin |
US6030991A (en) * | 1993-05-20 | 2000-02-29 | Texas Biotechnology Corp. | Benzenesulfonamides and the use thereof to modulate the activity of endothelin |
US6248767B1 (en) | 1997-04-28 | 2001-06-19 | Texas Biotechnology Corp. | Formulation of sulfonamides for treatment of endothelin-mediated disorders |
-
1990
- 1990-09-21 JP JP25361890A patent/JPH04134084A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5962490A (en) * | 1987-09-25 | 1999-10-05 | Texas Biotechnology Corporation | Thienyl-, furyl- and pyrrolyl-sulfonamides and derivatives thereof that modulate the activity of endothelin |
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US6331637B1 (en) | 1993-10-21 | 2001-12-18 | Texas Biotechnology Corporation | N-Alkyl, N-Alkenyl, N-Alkynyl, N-Aryl and N-fused bicyclo or tricyclo thienyl-, furyl-,and Pyrrolyl-sulfonamides and derivatives thereof that modulate the activity of endothelin |
US5977117A (en) * | 1996-01-05 | 1999-11-02 | Texas Biotechnology Corporation | Substituted phenyl compounds and derivatives thereof that modulate the activity of endothelin |
US5804585A (en) * | 1996-04-15 | 1998-09-08 | Texas Biotechnology Corporation | Thieno-pyridine sulfonamides derivatives thereof and related compounds that modulate the activity of endothelin |
US6013655A (en) * | 1996-04-15 | 2000-01-11 | Texas Biotechnology Corporation | Thieno-pyridine sulfonamides derivatives thereof and related compounds that modulate the activity of endothelin |
US6420567B1 (en) | 1996-09-27 | 2002-07-16 | Texas Biotechnology Corporation | N-heteroaryl aryl-substituted thienyl-furyl-and pyrrolyl-sulfonamides and derviatives thereof that modulate the activity of endothelin |
US6248767B1 (en) | 1997-04-28 | 2001-06-19 | Texas Biotechnology Corp. | Formulation of sulfonamides for treatment of endothelin-mediated disorders |
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