JPH04130607A - 積層チップ・インダクタの製造方法 - Google Patents

積層チップ・インダクタの製造方法

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JPH04130607A
JPH04130607A JP25092790A JP25092790A JPH04130607A JP H04130607 A JPH04130607 A JP H04130607A JP 25092790 A JP25092790 A JP 25092790A JP 25092790 A JP25092790 A JP 25092790A JP H04130607 A JPH04130607 A JP H04130607A
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magnetic
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chip inductor
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Chikashi Nakazawa
睦士 中澤
Masanori Tomaru
渡丸 昌典
Yasutetsu Kioka
木岡 康哲
Sadaaki Kurata
倉田 定明
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野1 この発明は、導電体パターンが形成された未焼成の磁性
体シートを積層・焼成してなる積層チップ・インダクタ
とその製造方法に関するものである。
[従来の技術] 第3図は従来の積層チップ・インダクタの斜視図、第4
図は従来の積層チップ・インダクタの素゛子の分解斜視
図である。
第3図に示すように、従来の積層チップ・インダクタは
、サイコロ状の素子10と、この素子lOの両端部に各
々形成された一対の外部電極20.20とからなる。
積層チップ・インダクタの素子10は、第4図に示すよ
うに、複数枚の未焼成の磁性体シート12と、この未焼
成の磁性体シート12の上に各々形成された導電体パタ
ーン14とからなる。
この磁性体シート12としては、例えばフェライト粉末
をバインダーで結合させて、厚さ50μm程度のシート
状に形成したものが使用されている。
また、導電体パターン14としては、例えばAg粉末を
バインダーで混練して形成した導電性ペーストが使用さ
れている。
導電体パターン14の形状は、未焼成の磁性体シー)−
12を積層したときに接続されてコイル状になるように
、換言すれば、コイルを所定長さ毎に切断してバラバラ
にしたような形状になっている。
磁性体シート12を介して隣接する導電体パターン14
.14は磁性体シート12に形成されたスルーホール(
図示せず)を介して相互に接続されている。
そして、導電体パターン14のうちで、最外の導電体パ
ターン14a、14bの端末16は素子IOの端面に表
われており、ここで外部電極20.20と電気的に接続
されている。
なお、未焼成の磁性体シート12の焼成収縮率と導電体
パターン14の焼成収縮率とはできるだけ近似させ、磁
性体シート12と導電体パターン14との間、すなわち
磁性体と導電体との間にデラミネーション(剥1iit
)が生じないようにしである。
この積層チップ・インダクタは、例えば次のようにして
製造される。
まず、Few Os 、Nip、ZnO等からなる原料
粉末を均一に混合・分散させた後、800℃程度の温度
で仮焼してフェライト粉末を生成させる。
次に、このフェライト粉末にバインダーを混合してスラ
リーとし、このスラリーをポリエステルフィルム上にド
クターブレード法等によって所定の厚さで塗布し、乾燥
後、所定サイズに切断して未焼成の磁性体シート12を
複数枚形成する。
次に、この複数枚の未焼成の磁性体シート12にAgペ
ーストからなる導電体パターン14を各パターン毎に印
刷する。
次に、この複数枚の磁性体シート12を、導電体パター
ン14がコイル状に接続するように積層させ、この積層
させた磁性体シート12を所定位置でサイコロ状に裁断
して未焼成の積層体チップ(素子)を形成する。
次に、未焼成の積層体チップの端面のうちで、最外の導
電体パターン14a、14bの端末16が表われている
端面に外部電極用のAgペーストを塗布し、この未焼成
の積層体チップを外部電極用のAgペーストとともに9
00℃程度の温度で焼成して、外部電極20.20が形
成された積層チップ・インダクタを得る。
または、先に未焼成の積層体チップを焼成し、その後、
この積層体チップの端面に外部電極用のAgペーストを
焼き付けて、外部電極20.20が形成された積層チッ
プ・インダクタを得る。
[発明が解決しようとする課題1 ところで、従来の積層チップ・インダクタは、磁石を近
付け、その後磁石を除去した場合、磁石を近付ける以前
のインダクタンス(以下、L値という)と、磁石を除去
した後のL値とが異なる。
また、従来の積層チップ・インダクタは、直流を重畳し
た交流電流を流し、その後1重畳した直流を除去した交
流電流を流してL値を測定した場合、直流を重畳する以
前のL値と、重量した直流を除去した後のL値とが異な
る。
このように、従来の積層チップ・インダクタは磁界の影
響によってそのL値が変化してしまい、安定した品質特
性を保証することができないという問題点を有していた
この発明は、磁界の影響によってL値が変化しない・、
安定した電磁気的特性を有する積層チップ・インダクタ
とその製造方法を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段] この発明に係る積層チップ・インダクタは。
未焼成の磁性体シートを積層・焼成してなる磁性体と、
この磁性体内に連続的に接続形成された導電体と、この
導電体の両端に各々接続された一対の外部電極とを備え
た積層チップ・インダクタにおいて、前記磁性体と前記
導電体とがその境界の全部または一部において剥離して
いるものである。
ここで、未焼成の磁性体シートとは、例えばフェライト
等の原料粉末をバインダーで連結してシート状に形成し
たものをいう。
また、導電体とは、連続的に接続形成された導電体パタ
ーンを磁性体シートとともに焼成して導体に変化させた
ものをいう。
また、導電体パターンとは、導電性ペーストからなる所
定形状、例えば導電体がコイル状の場合はコイルを細切
れに切断したような形状のパターンをいう。
また、導電性ペーストとは、例えばAg等の導電性物質
粉をバインダーとともに混練して形成したペーストをい
う。
また、導電体パターンを連続的に接続形成するとは、導
電体パターンを順次接続して、導電体を磁性体内におい
て、例えばコイル状に連続的に巻回・形成することをい
う。
また、磁性体と導電体とが剥離しているとは。
例えば、&tI性体と導電体との間に空隙(デラミネー
ション)が形成されている場合のように、磁性体と導電
体との間の結合が無くなっていることをいう。
また、この発明に係る積層チップ・インダクタの製造方
法は、未焼成の磁性体シートと、導電性ペーストからな
る所定形状の導電体パターンとを交互に積層して前記磁
性体シート間に前記導電体パターンを連続的に形成させ
、この積層した未焼成の磁性体シートおよび前記導電体
パターンを焼成して、前記未焼成の磁性体シートを磁性
体に変化させ、前記導電体パターンを導電体に変化させ
る積層チップ・インダクタの製造方法において、 前記磁性体シートの原料および前記導電体パターンの原
料として、前記磁性体シートの焼成収縮量よりも前記導
電体パターンの焼成収縮量の方が大きくなるものを使用
したことを特徴とするものである。
ここで、前記磁性体シートの焼成による収縮量よりも前
記導電体パターンの焼成による収縮量を大きくする手段
としては、前記磁性体シートの原料である磁性体粉末の
比表面積と、前記導電体パターンの導電体粉末の比表面
積を調節することにより行なうことができる。
この発明では、特に、前記磁性体シートの原料である磁
性体粉末の比表面積を1.0〜10.0m”7g、前記
導電体パターンの原料である導電体粉末の比表面積を0
.5〜5.0m”7gとするのが好ましい。
ここで、磁性体粉末の比表面積を1.0〜10.0m”
7gとしたのは、磁性体粉末の比表面積が1.0m”7
g未満の場合は1000℃以下の温度の焼成で焼結させ
ることができず、また磁性体粉末の比表面積が10.0
m”7gを越える場合は粉末を製造するのに手間がかか
り、コスト高になるからである。
また、導電体粉末の比表面積を0.5m”7g以上とし
たのは、磁性体粉末の比表面積を1.0m”7g以上と
した場合、導電体粉末の比表面積を0.5m”7g以上
としなければ、両者間に空隙を形成させる収縮が得られ
ないからである。
また、導電体粉末の比表面積を5.0m”7g以下とし
たのは、磁性体粉末の比表面積を10.0m”7g以下
とした場合、導電体粉末の比表面積を5.0m”7g以
下とすれば、両者間に空隙を形成させるに足る収縮が得
られるからである。
また、未焼成の磁性体シート上への導電体パターンの塗
布はスクリーン印刷等の印刷手段によって行なうことが
できる。
なお、後述する実施例では導電体パターンを印刷形成し
た未焼成の磁性体シートを順次積層して磁性体シートと
導電体パターンとを積層しているが、磁性体シートと導
電体パターンとを直接交互に形成して磁性体シートと導
電体パターンとを積層してもよい。
[作用1 この発明に係る積層チップ・インダクタは、磁性体と導
電体とがその境界の全部または一部において剥離してい
るので、磁界によって磁性体が膨張または収縮した際に
、これら磁性体と導電体とが互いに応力を及ぼし合わな
い。
また、この発明に係る積層チップ・インダクタの製造方
法においては、磁性体シートの焼成収縮量よりも導電体
パターンの焼成収縮量の方が太きいので、焼成の際に、
この磁性体と導電体とがその境界の全部または一部にお
いて剥離する。
[実施例] 実施例1 配合lの化合物を各々秤量し、これらの化合物を水とと
もにボールミルで混合して混合物を得た。
次に、この混合物を乾燥させ、大気中において800℃
で2時間仮焼して仮焼物(フェライト)を形成させた。
そして、この仮焼物を水とともにボールミルで15時間
粉砕し、乾燥させ、解砕してフェライト粉末を得た。こ
のフェライト粉末の比表面積は、2.8m”7gであっ
た。
次に、このフェライト粉末とポリビニール・ブチラール
を主成分とするバインダーとをボールミルで混合してス
ラリーを形成した。
次に、このスラリーを真空脱泡機で脱泡させた後、ポリ
エステルフィルム上にドクターブレード法で塗布し、乾
燥させた後、所定の大きさに切断して、所定位置にスル
ーホールを設けた厚さ約50umの磁性体シートを得た
また、エチルセルロース、α−ターピネオール、ブチル
カルピトールアセテートからなるバインダー中にAg粉
末(比表面積は2.2m”7g)を加えて混練し、Ag
ペーストを作成した。
次に、前記未焼成の磁性体シートにAgペーストからな
る導電体パターンをそのパターン毎にスクリーン印刷法
で印刷した。
次に、導電体パターンが乾燥した後、この磁性体シート
を積層し、500kg/cm”の圧力で加圧・圧着させ
て、磁性体シート間を接合一体化させ、そして、所定の
位置でサイコロ状に裁断して多数の積層体チップを形成
した。
次に、この積層体チップを加熱してバインダーを燃焼除
去させ、その後、900℃の温度で1時間焼成した。
次に、積層体チップの端面のうちで、最外の導電体パタ
ーンの端末が導出されている端面にAgペーストを塗布
し、大気中において700℃の温度で焼き付け、導電体
パターンの端末に外部電極が接続形成された状態の多数
の積層チップ・インダクタを形成した。
次に、この多数の積層チップ・インダクタから20個を
抜き取り、これらの積層チップ・インダクタの内部にエ
ポキシ樹脂を加圧して含浸させ、加熱してこのエポキシ
樹脂を熱硬化させた後、破断してその破断面を観察した
ところ、第1図に示すように、導電体(導電体パターン
14)と磁性体(&nn鉢体シー1−12との間にエポ
キシ樹脂の侵入、すなわち空隙(デラミネーション)1
8の形成が認められた。
次に、前記した多数の積層チップ・インダクタから50
個を抜き取り、これらの積層チップ・インダクタのL値
を測定したところ、その平均値は7.2μHであった。
また、前記した多数の積層チップ・インダクタから50
個を抜き取り、これらの積層チップ・インダクタに10
00ガウスの磁石を近接させた後、再びL値を測定した
ところ、その平均値は。
前記のL(直(7,2LLH)よりも約2.8%多い、
7.4μHであった。
また、前記した多数の積層チップ・インダクタから残り
の50個を抜き取り、これらの積層チップ・インダクタ
に直流電圧を印加し、50mAの直流を流した後、直流
電圧の印加を除去し、L値を測定したところ、その平均
値は、前記のL値(7,2LLH)よりも約1.4%少
ない、7.1uHであった。
比較例1 磁性体シートの原料であるフェライト粉末の比表面積を
5.5m”7g、導電体パターンの原料であるAg粉末
の比表面積を0.7m”7gとした以外は、実施例Iと
同様にして積層チップ・インダクタを形成した。
そして、実施例1と同様にして積層チップ・インダクタ
の破断面を観察したところ、第2図に示すように導電体
(導電体パターン14)と磁性体(磁性体シート12)
との間にエポキシ樹脂の侵入、すなわち空隙の形成は認
められなかった。
また、実施例1と同様にして50個の積層チップ・イン
ダクタのL値を測定したところ、その平均値は5.5u
)iであった。
また、別の50個の積層チップ・インダクタに1000
ガウスの磁石を接近させた後のL値を測定したところ、
その平均値は、先の測定で得られたL値(5,5μH)
より27.3%少ない4.1uHであった。
また、残りの50個の積層チップ・インダクタに50m
Aの直流を流した後、直流電圧の印加を除去して測定し
たL値は、先の測定で得られたL値(5,5uH)より
22%少ない4.OuHであった。
[発明の効果] この発明によれば、磁性体と導電体の境界の全部または
一部を剥離させたので、磁界の影響によって磁性体と導
電体とが別々に膨張または収縮しても、その膨張率の違
いによる内部歪が生じなくなり、従って、磁界の影響に
よるL値の変動を低減させ、積層チップ・インダクタの
信頼性を高めることが可能になった。
【図面の簡単な説明】
第1図は実施例1に係る積層チップ・インダクタの断面
図、第2図は比較例1に係る積層チップ・インダクタの
断面図、第3図は従来の積層チップ・インダクタの斜視
図、第4図は従来の積層チップ・インダクタの分解斜視
図である。 10・・−素子     12・・・磁性体シート14
・・・導電体パターン 14a、14b−・・最外の導電体パターン16・・・
導電体パターンの端末 18・・・空11!(デラミネーション)20゜ 0・・・外部電極

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.未焼成の磁性体シートを積層・焼成してなる磁性体
    と、この磁性体内に連続的に接続形成された導電体と、
    この導電体の両端に各々接続された一対の外部電極とを
    備えた積層チップ・インダクタにおいて、 前記磁性体と前記導電体とがその境界の全部または一部
    において剥離していることを特徴とする積層チップ・イ
    ンダクタ。
  2. 2.未焼成の磁性体シートと、導電性ペーストからなる
    所定形状の導電体パターンとを交互に積層して前記磁性
    体シート間に前記導電体パターンを連続的に形成させ、
    この積層した未焼成の磁性体シートおよび前記導電体パ
    ターンを焼成して、前記未焼成の磁性体シートを磁性体
    に変化させ、前記導電体パターンを導電体に変化させる
    積層チップ・インダクタの製造方法において、 前記磁性体シートの原料および前記導電体 パターンの原料として、前記磁性体シートの焼成収縮量
    よりも前記導電体パターンの焼成収縮量の方が大きくな
    るものを使用したことを特徴とする積層チップ・インダ
    クタの製造方法。
  3. 3.前記磁性体シートの原料である磁性体粉末の比表面
    積を1.0〜10.0m^2/g、前記導電体パターン
    の原料である導電体粉末の比表面積を0.5〜5.0m
    ^2/gとしたことを特徴とする請求項2記載の積層チ
    ップ・インダクタの製造方法。
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