JPH041237A - 磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフィルム
に関し、更に詳しくは特定のコロイダルシリカ粒子及び
耐熱性高分子粒子を含有し、これら粒子によりフィルム
表面に形成された突起により滑り性、耐削れ性、耐スク
ラッチ性の改善された磁気記録媒体用二軸配向ポリエス
テルフィルムに関する。

［従来技術］ ポリエチレンテレフタレートフィルムに代表される二軸
配向ポリエステルフィルムは、その優れた物理的、化学
的特性の故に、磁気記録媒体用として広く用いられてい
る。

二軸配向ポリエステルフィルムにおいては、その滑り性
や耐削れ性がフィルムの製造工程及び加工工程の作業性
の良否、さらにはその製品品質を左右する大きな要因と
なっている。これらが不足すると、例えば二軸配向ポリ
エステルフィルム表面に磁性層を塗布して磁気テープと
して用いる場合に、コーティングロールとフィルム表面
との摩擦が激しく、削れ粉が発生したり、フィルム表面
にスクラッチが発生する。またＶＴＲやデータカートリ
ッジ用として用いる場合にも、カセットに高速で巻き込
む工程で、削れ粉やスクラッチが発生し、信号の欠落（
Ｄｌｏ）の原因となる。

特にＶＴＲ用途では、最近コストダウンを目的としてカ
セット内に固定されたガイドボストに、表面を十分に仕
上げていない金属ガイドやプラスチックガイドを用いる
場合があるが、これらガイドポストの表面は極めて粗く
、バックコートを設けない磁気テープでは、従来のフィ
ルムの易滑性。

削れ性を向上させる技術、例えば酸化ケイ素、二酸化チ
タン、炭酸カルシウム、タルク、クレイ。

焼成カオリン等の無機質粒子を添加する方法（例えば特
開昭５４−５７５６２号公報参照）又は重合系内でカル
シウム、リチウムあるいはリンを含む微粒子を析出せし
める方法（例えば特公昭５２−３２９１４号公報参照）
では、カセットに高速で巻き込む工程において、削れ粉
やスクラッチが発生し、Ｄ１０レベルがアップすること
から、この改善が求められている。

［発明の目的］ 本発明の目的は易滑性に優れ、表面を十分に仕上げてい
ない金属ガイドやプラスチックガイドを用いたカセット
へのテープの高速巻き込みにおいても優れた耐削れ性及
び耐スクラッチ性を有する磁気記録媒体用二軸配向ポリ
エステルフィルムを提供することにある。

［発明の構成、効果］ 本発明の目的は、本発明によれば、二軸配向されたポリ
エステルフィルムであって、該フィルム中に平均粒径が
０．０３〜１．５μｍである耐熱性高分子粒子を０．０
０１〜０．５重１％、及び独立存在率が８０％以上、平
均粒径が０．３０μｍ以下であるコロイダルシリカ粒子
を０．０５〜２．０重量％存在させ、これら粒子によっ
てフィルム表面に形成された突起の、高さ（ｘ：μｍ）
が０．０５μｍ以上で突起の数くｙ：個／ｒｌｔｒｎ２
）が３０個／陶２以上の範囲にオケる分布曲線が下記式
Ａ １１．４ｘ＋４＜ｌｏｇ　ｙ＜−１０，Ｏｘ＋５　−−
−Ａを満足し、かつフィルムの走行摩擦係数の変化（Δ
μｋ）が０．１５未満であることを特徴とする磁気記録
媒体用二軸配向ポリエステルフィルムによって達成され
る。

本発明におけるポリエステルとは、芳香族ジカルボン酸
を主たる酸成分とし、脂肪族グリコールを主たるグリコ
ール成分とするポリエステルである。かかるポリエステ
ルは実質的に線状であり、そしてフィルム形成性特に溶
融成形によるフィルム成形性を有する。芳香族ジカルボ
ン酸としては、例えばテレフタル酸、ナフタレンジカル
ボン酸。

イソフタｌし酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸。

ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボ
ン酸、ジフェニルスルホンジカルボンジフェニルケトン
ジカルボン酸，アンスラセンジカルボン酸等を挙げるこ
とができる。脂肪族グリコールとしては、例えばエチレ
ングリコール、トリメチレングリコール、テトラメチレ
ングリコール、ペンタメチレングリコール、ヘキサメチ
レングリコール、デカメチレングリコール等の如き炭素
数２〜１０のポリメチレングリコールあるいはシクロヘ
キサンジメタツールの如き脂環族ジオール等を挙げるこ
とができる。

本発明において、ポリエステルとしては、例えばアルキ
レンテレフタレート及び／又はアルキレンナフタレート
を主なる構成成分とするものが好ましく用いられる。

かかるポリエステルのうちでも特にポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、全ジ
カルボン酸成分の８０モル％以上がテレフタル酸及び／
又は２，６−ナフタレンジカルボン酸であり、全グリコ
ール成分の８０モル％以上がエチレングリコールである
共重合体が好ましい。

その際全酸成分の２０モル％以下はテレフタル酸及び／
又は２，６−ナフタレンジカルボン酸以外の上記芳香族
ジカルボン酸であることができ、また例えばアジピン酸
，セパチン酸等の如き脂肪族ジカルボン酸；シクロヘキ
サン−１．４−ジカルボン酸の如き脂環族ジカルボン酸
等であることができる。

また、全グリコール成分の２０モル％以下は、エチレン
グリコール以外の上記グリコールであることができ、ま
た例えばハイドロキノン、レゾルシン。

２２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン等の如
き芳香族ジオール；１，４−ジヒドロキシジメチルベン
ゼンの如き芳香環を有する脂肪族ジオール；ポリエチレ
ングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラ
メチレングリコール等の如きポリアルキレングリコール
（ポリオキシアルキレングリコール）等であることもで
きる。

また、本発明におけるポリエステルには、例えばヒドロ
キシ安息香酸の如き芳香族オキシ酸，ω−ヒドロキシカ
プロン酸の如き脂肪族オキシ酸等のオキシカルボン酸に
由来する成分を、ジカルボン酸成分及びオキシカルボン
酸成分の総量に対し２０モル％以下で共重合あるいは結
合するものも包含される。

更に本発明におけるポリエステルには実質的に線状であ
る範囲の量、例えば全酸成分に対し２モル％以下の量で
、三官能以上のポリカルボン酸又はポリヒドロキシ化合
物、例えばトリメリット酸。

ペンタエリスリトール等を共重合したものも包含される
。

上記ポリエステルは、それ自体公知であり、かつそれ自
体公知の方法で製造することができる。

上記ポリエステルとしては、０−タロロワエノール中の
溶液として３５℃で測定して求めた固有粘度が約０、４
〜約０，９のものが好ましい。

本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、その表面に
多数の微細な突起を有している。これら微細な突起はポ
リエステル中に分散して含有される多数の実質的に不活
性な耐熱性高分子粒子及びコロイダルシリカ粒子に由来
する。

本発明においては、これら粒子によってフィルム表面に
形成される突起の、高さ（ｘ：μｍ）が０、０５μｍ以
上で突起の数（ｙ：個／ｒｌＩＩＴ１２）が３０個／ｒ
ｌｔＩＴ＋２以上の範囲における分布曲線が下記式Ａを
満足することが肝要である。

１１、４ｘ＋４＜ｌｏｇ　ｙ＜−１０．０ｘ＋５　　−
−−Ａ突起分布曲線が上記式Ａを満足しないと、バック
コートを設けないで磁気テープとして使用すると走行が
不十分になったり、磁性層を設けても大突起の存在によ
って磁性層面が粗くなり、電磁変更特性が不十分となり
、磁気記録媒体用としては好ましくない。

本発明において表面突起形成のために用いる耐熱性高分
子粒子は窒素ガス雰囲気下での５％加熱減量温度が３１
０℃以上、更には３３０℃以上、特に３５０℃以上のも
のが好ましい。かかる粒子の例としてはシリコン樹脂粒
子、架橋アクリル樹脂粒子。

架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリエステル粒子。

テフロン粒子、ポリイミド粒子等を挙げることができる
。なかでもシリコン樹脂粒子が好ましい。

耐熱性高分子粒子は、更に平均粒径が０．３〜１．５μ
ｍであるものであり、この量はポリエステルに対し０．
００１〜０．３重量％である。好ましい平均粒径は０．
５〜１．０μｍであり、好ましい含有量は０．００５〜
０．３重量％である。耐熱性高分子粒子の平均粒径がＯ
ｊμｍ未満では形成される突起の高さが不十分であり、
得られるフィルムの易滑性が不十分になる。一方、平均
粒径が１．５μｍを越えると形成される突起の高さが大
きくなりすぎ、磁気記録媒体用として用いるにはフィル
ム表面が粗くなりすぎ、好ましくない。また、耐熱性高
分子粒子の添加含有量が０．００１重量％未満では形成
される突起数が不足し易滑性が不十分になるし、一方、
添加含有量が０．５重量％を越えるとフィルム表面が粗
くなりすぎ、磁気記録媒体用としては適さない。

耐熱性高分子粒子は、更に、その形状が球状ライクであ
り、粒度分布がシャープなものが好ましく、特に体積形
状係数（ｆ）及び粒度分布比（γ）が下記式Ｂ、Ｃを満
足することが好ましい。

０．４＜ｆ≦π／６　　　・・・Ｂ １くγ〈１．４　　　　　　　・・・Ｃ本発明において
は、上記耐熱性高分子粒子と組合せてコロイダルシリカ
粒子を用いるが、このコロイダルシリカ粒子はフィルム
表面で、耐熱性高分子粒子により形成される高突起間に
微細な突起を形成する。この突起の存在により、表面を
十分仕上げていない金属ガイドやプラスチックガイドと
の接触においても、フィルム地肌部分の摩擦係数が低下
し、耐熱性高分子粒子によって形成される高突起とあい
まって優れな耐削れ性及び耐スクラッチ性を発揮するも
のと考えられる。

コロイダルシリカ粒子はフィルム中での独立存在率が８
０％以上、平均粒径が０．３０μｍ以下であるものであ
る。この量はポリエステルに対し０．０５〜２．０重量
％である。コロイダルシリカ粒子の平均粒径が０．３０
μｍを越えると形成される突起が大きくなりすぎ、摩擦
体との高速の接触時の削れ性が悪化し、望ましくない。

また、コロイダルシリカ粒子の添加含有量が０，０５重
量％未満では地肌に形成される突起数が不十分で耐削れ
性、耐スクラッチ性の改良が望めないし、一方２．０重
量％を越えると、地肌部分でコロイダルシリカ粒子の突
起の重なりが発生し、耐削れ性が悪化する。更にまた、
コロイダルシリカ粒子の８０％以上がフィルム中で独立
していることも重要であり、これを満たさないと耐削れ
性が悪化する。

コロイダルシリカ粒子は粉体重量比１００〜３０００ｐ
ｐｍのＮａを含有するものであることが好ましい。

Ｎａ含有量が上記範囲外になると耐スクラッチ性の改良
効果が劣ったり、フィルム中での粒子の独立存在率が低
下し、耐削れ性が悪化しゃすい。該コロイダルシリカの
製法については硅酸Ｎａを出発原料として透析法、電気
分解法、塩析用法及びイオン交換樹脂により活性シリカ
ゾルを作り、次いで重合する方法等があるが、得られる
粒子の均一性からイオン交換樹脂−重合法が最も好まし
い。

本発明の二軸配向ポリエステルフィルムを製造する際に
、耐熱性高分子粒子及びコロイダルシリカ粒子をポリエ
ステルと緊密に混合するにはこれらの微粒子を、ポリエ
ステルの重合前又は重合中に重合釜中で、重合終了後ペ
レタイズするどき押出機中で、あるいはシート状に溶融
押出しする際押出機中で、該ポリエステルと十分に混練
すればよい。

本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、例えば、融
点（Ｔｍ：’Ｃ）ないしくＴｍ＋７０）’Ｃの温度でポ
リエステルを溶融して固有粘度０．３５〜０．９ｄｌ／
ｇの未延伸フィルムを得、該未延伸フィルムを一軸方向
く縦方向又は横方向）に（Ｔｇ−１０）〜（Ｔｇ＋７０
）℃の温度（但し、Ｔｇ：ポリエステルのガラス転移温
度）で２．５〜５゜０倍の倍率で延伸し、次いで上記延
伸方向と直角方向く一段目延伸が縦方向の場合には、二
段目延伸は横方向となる）にＴｇ　（’Ｃ）−（Ｔｇ＋
７０）’Ｃの温度で２．５〜５．０倍の倍率で延伸する
ことで製造できる。この場合、面積延伸倍率は９〜２２
倍、更には１２〜２２倍にするのが好ましい。延伸手段
は同時二軸延伸、逐次二軸延伸のいずれでもよい。

更に、二軸配向フィルムは、（Ｔｇ＋７０＞’Ｃ〜Ｔｍ
（’Ｃ）の温度で熱固定することができる。例えばポリ
エチレンテレフタレートフィルムについては１９０〜２
３０℃で熱固定することが好ましい。

熱固定時間は例えば１〜６０秒である。

本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、易滑性に優
れるとともに、表面を十分に仕上げていない金属ガイド
やプラスチックガイドと接触走行しても優れた耐削れ性
及び耐スクラッチ性を有しており、磁気記録媒体用とし
て極めて有用である。

なお、本発明における種々の物性値及び特性は以下の如
くして測定されたものでありかつ定義される。

け）粒子の平均粒径（ＤＰ＞ 高滓製作所製ＣＰ−５０型セントリフニゲル　パーティ
クル　サイズ　アナライザー（Ｃｅｎｔｒｉｆｕｇａｌ
　Ｐａｒｔｉｃｌｅ　５ｉｚｅ　Ａｎａｌｙｓｅｒ）を
用いて測定する。得られる遠心沈降曲線を基に算出した
各粒径の粒子とその存在量との積算曲線から、５ｏマス
パーセントに相当する粒径を読み取り、この値を上記平
均粒径とする（Ｂｏｏｋ　ｒ粒度測定技術」日刊工業新
聞社発行、　１９７５年９頁２４２〜２４７参照）。

（２）粒子の粒度分布比（γ） 粒子の平均粒径の測定において得られた遠心沈降曲線を
基に、各粒径の粒子とその存在量との積算曲線を算出し
て描き、粒径の大きい方がら積算した粒子の積算重量が
２５パーセントに相当する粒径（Ｄ２５＞と、粒子の積
算重量が７５パーセントに相当する粒径（Ｄ７５）を読
み取り、前者の値を後者の値で除しく　Ｄ　２５／　Ｄ
　７５）　、各々の粒子の粒度分布比（γ）を算出する
。

（３）フィルムの走行摩擦係数（μｋ）第１図に示した
装置を用いて下記のようにして測定する。第１図中、１
は巻出しリール、２はテンションコントローラ、　３．
５．６．８．９及び１１はフリーローラー、４はテンシ
ョン検出機（入口）、７はステンレス鋼５ＵＳ３０４製
の固定棒（外径５ｍｍφ１表面粗Ｒａ　＝０．Ｏｂｚｍ
）、１０はテンション検出機（出口）、１２はガイドロ
ーラー１３は巻取りリールをそれぞれ示す。

温度２０℃、湿度６０％の環境で、巾１／２インチに裁
断したフィルムを７の固定棒に角度θ＝（１５２／１８
１）πラジアル（１５２°）で接触させて毎分２００国
の速さで移動（摩擦）させる。入口テンションＴ１が３
５ｇとなるようにテンションコントローラー２を調整し
た時の出口テンション（Ｔ２：ｇ）をフィルムが９０ｍ
走行したのちに出口テンション検出機で検出し、次式で
走行摩擦係数μｋを算出する。

μに＝＜２．３０３　／θ）　ｌｏｇ　　（Ｔ　２　／
　Ｔ　１）＝０．８６８　ｌｏｇ　　（Ｔ２　／３５＞
（４）フィルムの走行摩擦係数の変動（Δμｋ）上記（
３）の走行摩擦係数を測定する装置を用いてフィルムの
移動速度を２ｍ／分として１０ｍ長のフィルムを５０回
繰返し走行させる。その時の１回目の摩擦係数をμに１
，５０回目の摩擦係数をμｋｓｏとして下記式によりΔ
μｋを算出する。

Δμｋ　＝　μｋ　５０　　ＡＬ　ｋ　ｔ（５）フィル
ム表面の平坦性 Ｒａ　　（中心線平均粗さ）をＪＩＳ　Ｂ　０６０１に
準じて測定する。東京精密社■製の触針式表面粗さ計＜
　ＳＵＲＦＣＯＭ３Ｂ）を用いて、針の半径２μ、荷重
０．０７ｇの条件下にチャート〈フィルム表面粗さ曲線
）をかかせ、得られるフィルム表面粗さ曲線からその中
心線の方向に測定長さしの部分を抜き取り、この抜き取
り部分の中心線をＸ軸とし、縦方向をＹ軸として、粗さ
曲線Ｙ＝ｆ（ｘｉで表わしたとき、次の式で与えられる
値（Ｒａ　＋μｍ）をフィルム表面の平坦性として定義
する。

本発明では、基準長を０．２５ｍｍとして８個測定し、
値の大きい方から３個除いた５個の平均値としてＲａを
表わす。

（６）フィルム表面の突起分布 小板研究所三次元粗さ計（５Ｒ−３０に＋を用いて針径
２μｍＲ，針圧３０■、測定長１ｍｍ、サンプリングピ
ッチ２μｍ、カットオフ０．２５ｍｍ、縦方向拡大倍率
２万倍、横方向拡大倍率２００倍、走査本数１５０本の
条件にてフィルム表面の突起のプロファイルを三次元的
（立体的）にイメージさせる。

そのプロファイルをフィルムの厚さ方向と直角方向の平
面でカットした場合に、各突起のプロファイルの断面積
の合計が、フィルムの測定領域の面積の７０％となる平
面を基準レベル（０レベル〉とし、その基準レベルの平
面と平行に突起の高さ方向に距離Ｘだけな離れた平面で
カットしたときにカットされる突起の数をｙとする。Ｘ
を順次増加又は減少させ、そのときのｙの数を読み取り
、グラフにプロットすることにより、突起分布曲線を描
く。

（７）体積形状係数（ｆ） 走査型電子顕微鏡により粒子の写真を例えば５０００倍
で１０視野撮影し、例えば画像解析処理装置ルーゼック
ス５００（日本レギュレーター製）を用い、最大径の平
均値を各視野毎に測定し、更に、１０視野の平均値を求
め、Ｄとする。

測定力の上記（１）で求めた、粒子の平均粒径ｄより、
粒子の平均体積（■＝（π／６）ｄｌを求め、形状係数
ｆを次式により算出する。

ｆ＝ｖ／Ｄ３ 式中、■は粒子１個当りの平均体積（μｍ３）、Ｄは粒
子の平均最大粒径（μｍ）を表わす。

（８）粒子の独立存在率 製膜し得られた二軸配向ポリエステルフィルムを走査型
電子顕微鏡用試料台に固定し、日本電子■製スパッタリ
ング装置（ＪＦＣ−１１００型イオンスパツターリング
装置）を用いて、フィルム表面を下記条件にてイオンエ
ツチング処理を施す。ベンジャ−内に上記試料台を設置
し、約１Ｏ−３Ｔｏｒｒの真空状態まで真空度を上げ電
圧０．２５ｋＶ、電流１２．５ｍＡにて約１０分間イオ
ンエツチングを実施する。更に同装置にてフィルム表面
に金スパッターを施し、約２００　Ａ程度の金薄膜層を
形成し、走査型電子顕微鏡を用いて２万倍の倍率にて測
定を行う。測定はランダムに１００視野について行い、
総確認粒子数ａ、及び凝気剥離粒子数ｂ（製膜時の延伸
応力により近接粒子間全幅にわたってボイド発生を伴う
もの）を求め下記式により粒子の独立存在率を求める。

（９）削れ性、スクラッチ性 フィルム走行摩擦係数の測定に使用した第１図と同様の
装置において、７のステンレス鋼Ｓ　Ｕ　Ｓ　３０４製
固定棒の変りにＳＵＳ焼結板を円柱形に曲げな６φの固
定棒で表面粗さＲａが０．１５μｍのもの及び第一精工
社製カーボンブラック含有ポリアセクールの６φテープ
ガイドを使い、角度を３０度とし毎分３００ｍの速さで
入口張力が５０ｇ／ｌ／２インチとなるようにして２０
０ｍ走行させる。

走行後にガイド状に付着した削れ粉及び走行後テープの
スクラッチを評価する。

〈削れ粉判定〉 ◎　削れ粉が全く見られない ○　うっすらと削れ粉がみられる △　削れ粉の存在が一見して判る ×　削れ粉がひどく付着している 〈スクラッチ判定〉 ◎　スクラッチが全く見られない ０１〜５本のスクラッチが見られる △　６〜１５本のスクラッチが見られる×１６本以上の
スクラッチが見られる （１０）コロイダルシリカ粉体中のＮａ含有量コロイダ
ルシリカ粉体をフッ化水素酸を用いて、完全に溶解し原
子吸光法によりＮａを定量し、粉体中のＮａ含有量を求
める。

［実施例］ 以下、実施例をあげて本発明を説明する。

実施例１，２及び比較例１〜４ ジメチルテレフタレートとエチレングリコールとを、エ
ステル交換触媒として酢酸マンガンを、重合触媒として
三酸化アンチモンを、安定剤として亜燐酸を、更に滑剤
として第１表に示す添加粒子を添加して、常法により重
合し、固有粘度（オルソクロロフェノール、３５℃）０
．６２のポリエチレンテレフタレートを得な。

このポリエチレンテレフタレートのペレットを１７０℃
で３時間乾燥後押出機ホッパーに供給し、溶融温度２８
０〜３００℃で溶融し、この溶融ポリマーを１ｒｌＩＩ
Ｔ＋のスリット状ダイを通して表面仕上げ０．３Ｓ程度
、表面温度２０℃の回転冷却ドラム上に押出し、２００
μｍの未延伸フィルムを得な。

このようにして得られた未延伸フィルムを７５℃にて予
熱し、更に低速、高速のロール間で１５ｍｍ上方より９
００℃の表面温度のＩＲヒーター１本にて加熱して３．
６倍に延伸し、急冷し、続いてステンターに供給し、１
０５℃にて横方向に３．９倍に延伸した。得られた二軸
配向フィルムを２０５℃の温度で５秒間熱固定し、厚み
１４．２μｍの熱固定二軸配向フィルムを得た。

このようにして得られた１４．２μｍの二軸配向ポリエ
ステルフィルムの特性を第１表に示す。

なお、得られたフィルムの突起分布曲線を調べたところ
、実施例１，２のもの及び比較例１，２゜４のものは下
記（Ａ）式を満たしているものの、比較例３のものは突
起の数ｙ（個／ｒｌＩＩＴ＋２）がｌｏｇ　ｙ＜−１０
，Ｏｘ＋５の関係を規程全範囲については満足していな
かった。

−１１，４ｘ＋４＜ｌｏｇ　ｙ＜−１０，Ｏｘ＋５　−
Ａ第１表で明らかなように、本発明によるものは磁気記
録媒体用として優れた表面性を有するとともに易滑性に
優れ、かつ表面が十分に仕上げられていない金属ガイド
及びプラスチックガイドでも優れた耐削れ性、耐スクラ
ッチ性を有しており、磁気記録媒体用二軸配向ポリエス
テルフィルムとして、極めて優れた特性を有している。

【図面の簡単な説明】

第１図は、フィルムの走行摩擦係数を測定する装置の概
略図である。図中の記号は次の通りである。 に巻出しリール、２：テンションコントローラ、４：テ
ンション検出機〈入口）、７：固定棒。 】０：テンション検出機（出口）、１３：巻取りリール
。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、二軸配向されたポリエステルフィルムであって、該
   フィルム中に平均粒径が０．０３〜１．５μｍである耐
   熱性高分子粒子を０．００１〜０．５重量％、及び独立
   存在率が８０％以上、平均粒径が０．３０μｍ以下であ
   るコロイダルシリカ粒子を０．０５〜２．０重量％存在
   させ、これら粒子によってフィルム表面に形成された突
   起の、高さ（ｘ：μｍ）が０．０５μｍ以上で突起の数
   （ｙ：個／ｍｍ＾２）が３０個／ｍｍ＾２以上の範囲に
   おける分布曲線が下記式Ａを満足し、かつフィルムの走
   行摩擦係数の変化（Δμｋ）が０．１５未満であること
   を特徴とする磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフィ
   ルム。 −１１．４ｘ＋４＜ｌｏｇｙ＜−１０．０ｘ＋５・・・
   Ａ［式中、ｘは基準レベルからの高さ（μｍ）であり、
   ｙは高さｘでカットしたときにカウントされる突起の数
   （個／ｍｍ＾２）である。］２、耐熱性高分子粒子の体
   積形状係数（ｆ）及び粒度分布比（γ）が下記式Ｂ、Ｃ
   を満足することを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒
   体用二軸配向ポリエステルフィルム。 ０．４＜ｆ≦π／６・・・Ｂ ［式中、ｆ＝Ｖ／Ｄ＾３であり、Ｖは粒子１個当りの平
   均体積（μｍ＾３）であり、Ｄは粒子の平均最大粒径（
   μｍ）である。］ １＜γ＜１．４・・・Ｃ ［式中、γ＝Ｄ＿２＿５／Ｄ＿７＿５であり、Ｄ＿２＿
   ５、Ｄ＿７＿５はそれぞれ粒子の積算重量が２５％、７
   ５％のときの平均粒径（μｍ）である。］ ３、コロイダルシリカ粒子が粉体重量比１００〜３００
   ０ｐｐｍのＮａを含有することを特徴とする請求項１記
   載の磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフィルム。