JP2528209B2 - 磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフイルム - Google Patents
磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフイルムInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフイル
ムに関し、更に詳しくは大粒径の不活性無機粒子及び
(又は)耐熱性高分子粒子,小粒径のアルミナ粒子及び
コロイダルシリカ粒子を含み、該粒子により形成される
特定の突起分布により滑り性,耐削れ性,耐スクラッチ
性の改善された磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフ
イルムに関する。
ムに関し、更に詳しくは大粒径の不活性無機粒子及び
(又は)耐熱性高分子粒子,小粒径のアルミナ粒子及び
コロイダルシリカ粒子を含み、該粒子により形成される
特定の突起分布により滑り性,耐削れ性,耐スクラッチ
性の改善された磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフ
イルムに関する。
[従来技術] ポリエチレンテレフタレートフイルムに代表される二
軸配向ポリエステルフイルムは、その優れた物理的,化
学的特性の故に、磁気記録媒体のベースフイルムとして
広く用いられている。
軸配向ポリエステルフイルムは、その優れた物理的,化
学的特性の故に、磁気記録媒体のベースフイルムとして
広く用いられている。
二軸配向ポリエステルフイルムにおいては、その滑り
性や耐削れ性がフイルムの製造工程及び加工工程の作業
性の良否、さらにはその製品品質を左右する大きな要因
となっている。これらが不足すると、例えば二軸配向ポ
リエステルフイルム表面に磁性層を塗布し磁気テープと
して用いる場合にコーティングロールとフイルム表面と
の摩擦が激しく、削れ粉が発生したり、フイルム表面に
スクラッチが発生する。またVTRやデータカートリッジ
用として用いる場合にも、カセットに高速で巻き込む工
程で削れ粉やスクラッチが発生しD/Oの原因となる。
性や耐削れ性がフイルムの製造工程及び加工工程の作業
性の良否、さらにはその製品品質を左右する大きな要因
となっている。これらが不足すると、例えば二軸配向ポ
リエステルフイルム表面に磁性層を塗布し磁気テープと
して用いる場合にコーティングロールとフイルム表面と
の摩擦が激しく、削れ粉が発生したり、フイルム表面に
スクラッチが発生する。またVTRやデータカートリッジ
用として用いる場合にも、カセットに高速で巻き込む工
程で削れ粉やスクラッチが発生しD/Oの原因となる。
特にVTR用途では、最近コストダウンを目的としてカ
セット内に固定されたガイドポストに、表面を十分に仕
上げていない金属ガイドやプラスチックガイドを用いる
場合があるが、該ガイドポストの表面は極めて粗く、バ
ックコートを設けない磁気テープでは、従来のフイルム
の易滑性,削れ性を向上させる技術、例えば酸化ケイ
素,二酸化チタン,炭酸カルシウム,タルク,クレイ,
焼成カオリン等の無機質粒子を添加する方法(例えば特
開昭54-57562号公報参照)又は重合系内でカルシウム,
リチウムあるいはリンを含む微粒子を析出せしめる方法
(例えば特公昭52-32914号公報参照)では、カセットに
高速で巻き込む工程において削れ粉やスクラッチが発生
し、D/Oのレベルが高く、問題となっている。それ故従
来から使用されている表面仕上げの良好な金属ガイドと
新たに出てきた粗い表面の金属ガイド、プラスチックガ
イドなど全てにわたって良好な耐削れ性,耐スクラッチ
性を有するフイルムが切望されているのが現状である。
セット内に固定されたガイドポストに、表面を十分に仕
上げていない金属ガイドやプラスチックガイドを用いる
場合があるが、該ガイドポストの表面は極めて粗く、バ
ックコートを設けない磁気テープでは、従来のフイルム
の易滑性,削れ性を向上させる技術、例えば酸化ケイ
素,二酸化チタン,炭酸カルシウム,タルク,クレイ,
焼成カオリン等の無機質粒子を添加する方法(例えば特
開昭54-57562号公報参照)又は重合系内でカルシウム,
リチウムあるいはリンを含む微粒子を析出せしめる方法
(例えば特公昭52-32914号公報参照)では、カセットに
高速で巻き込む工程において削れ粉やスクラッチが発生
し、D/Oのレベルが高く、問題となっている。それ故従
来から使用されている表面仕上げの良好な金属ガイドと
新たに出てきた粗い表面の金属ガイド、プラスチックガ
イドなど全てにわたって良好な耐削れ性,耐スクラッチ
性を有するフイルムが切望されているのが現状である。
[発明の目的] 本発明の目的は、従来から使用されている表面仕上げ
の良好な金属ガイドはもちろん、新たに出てきた粗い表
面仕上げの金属ガイドやプラスチックガイドにおいても
良好な耐削れ性,耐スクラッチ性を有する易滑性に優れ
た磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフイルムを提供
することにある。
の良好な金属ガイドはもちろん、新たに出てきた粗い表
面仕上げの金属ガイドやプラスチックガイドにおいても
良好な耐削れ性,耐スクラッチ性を有する易滑性に優れ
た磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフイルムを提供
することにある。
[発明の構成,効果] 本発明によれば、本発明の上記目的は、第1に、二軸
配向されたポリエステルフイルムであって、(A)ポリ
エステル中に存在する粒子によって形成されているフイ
ルム表面の突起の分布曲線が、高さx(μm)が0.05μ
m以上で突起の数y(個/mm2)が30個/mm2以上の範囲
において、下記式(A)を満足し、(B)走行摩擦係数
上昇(Δμk)が0.15未満であり、かつ(C)該突起
が、フイルム中での独立存在率が80%以上、平均粒径が
0.06〜0.2μmであるアルミナ粒子0.05〜1.0重量%と、
平均粒径がアルミナ粒子より大きくて0.1〜0.3μmであ
るコロイダルシリカ粒子0.05〜2.0重量%と、平均粒径
0.4〜1.5μmである不活性無機粒子及び(又は)耐熱性
高分子粒子0.01〜1.0重量%の存在によって形成されて
いることを特徴とする磁気記録媒体用二軸配向ポリエス
テルフイルム −11.4x+4<logy<−10.0x+5 …(A) ここで、xは基準レベルからの高さ方向の距離(μ
m)であり、yは高さxでカットした時にカウントされ
る突起の数(個/mm2)である、によって達成される。
配向されたポリエステルフイルムであって、(A)ポリ
エステル中に存在する粒子によって形成されているフイ
ルム表面の突起の分布曲線が、高さx(μm)が0.05μ
m以上で突起の数y(個/mm2)が30個/mm2以上の範囲
において、下記式(A)を満足し、(B)走行摩擦係数
上昇(Δμk)が0.15未満であり、かつ(C)該突起
が、フイルム中での独立存在率が80%以上、平均粒径が
0.06〜0.2μmであるアルミナ粒子0.05〜1.0重量%と、
平均粒径がアルミナ粒子より大きくて0.1〜0.3μmであ
るコロイダルシリカ粒子0.05〜2.0重量%と、平均粒径
0.4〜1.5μmである不活性無機粒子及び(又は)耐熱性
高分子粒子0.01〜1.0重量%の存在によって形成されて
いることを特徴とする磁気記録媒体用二軸配向ポリエス
テルフイルム −11.4x+4<logy<−10.0x+5 …(A) ここで、xは基準レベルからの高さ方向の距離(μ
m)であり、yは高さxでカットした時にカウントされ
る突起の数(個/mm2)である、によって達成される。
本発明におけるポリエステルとは、芳香族ジカルボン
酸を主たる酸成分とし、脂肪族グリコールを主たるグリ
コール成分とするポリエステルである。かかるポリエス
テルは実質的に線状であり、そしてフイルム形成性特に
溶融成形によるフイルム形成性を有する。芳香族ジカル
ボン酸としては、例えばテレフタル酸,ナフタレンジカ
ルボン酸,イソフタル酸,ジフェノキシエタンジカルボ
ン酸,ジフェニルジカルボン酸,ジフェニルエーテルジ
カルボン酸,ジフェニルスルホンジカルボン酸,ジフェ
ニルケトンジカルボン酸,アンスラセンジカルボン酸等
を挙げることができる。脂肪族グリコールとしては、例
えばエチレングリコール,トリメチレングリコール,テ
トラメチレングリコール,ペンタメチレングリコール,
ヘキサメチレングリコール,デカメチレングリコール等
の如き炭素数2〜10のポリメチレングリコールあるいは
シクロヘキサンジメタノールの如き脂環族ジオール等を
挙げることができる。
酸を主たる酸成分とし、脂肪族グリコールを主たるグリ
コール成分とするポリエステルである。かかるポリエス
テルは実質的に線状であり、そしてフイルム形成性特に
溶融成形によるフイルム形成性を有する。芳香族ジカル
ボン酸としては、例えばテレフタル酸,ナフタレンジカ
ルボン酸,イソフタル酸,ジフェノキシエタンジカルボ
ン酸,ジフェニルジカルボン酸,ジフェニルエーテルジ
カルボン酸,ジフェニルスルホンジカルボン酸,ジフェ
ニルケトンジカルボン酸,アンスラセンジカルボン酸等
を挙げることができる。脂肪族グリコールとしては、例
えばエチレングリコール,トリメチレングリコール,テ
トラメチレングリコール,ペンタメチレングリコール,
ヘキサメチレングリコール,デカメチレングリコール等
の如き炭素数2〜10のポリメチレングリコールあるいは
シクロヘキサンジメタノールの如き脂環族ジオール等を
挙げることができる。
本発明において、ポリエステルとしては、例えばアル
キレンテレフタレートおよび/又はアルキレンナフタレ
ートを主たる構成成分とするものが好ましく用いられ
る。
キレンテレフタレートおよび/又はアルキレンナフタレ
ートを主たる構成成分とするものが好ましく用いられ
る。
かかるポリエステルのうちでも例えばポリエチレンテ
レフタレート,ポリエチレン−2,6−ナフタレートはも
ちろんのこと、例えば全じカルボン酸成分の80モル%以
上がテレフタル酸および/又は2,6−ナフタレンジカル
ボン酸であり、全グリコール成分の80モル%以上がエチ
レングリコールである共重合体が好ましい。その際全酸
成分の20モル%以下はテレフタル酸および/又は2,6−
ナフタレンジカルボン酸以外の上記芳香族ジカルボン酸
であることができ、また例えばアジピン酸,セバチン酸
等の如き脂肪族ジカルボン酸;シクロヘキサン−1,4−
ジカルボン酸の如き脂環族ジカルボン酸等であることが
できる。また、全グリコール成分の20モル%以下は、エ
チレングリコール以外の上記グリコールであることがで
き、あるいは例えばハイドロキノン,レゾルシン,2,2−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン等の如き芳香
族ジオール;1,4−ジヒドロキシジメチルベンゼンの如き
芳香環を有する脂肪族ジオール;ポリエチレングリコー
ル,ポリプロピレングリコール,ポリテトラメチレング
リコール等の如きポリアルキレングリコール(ポリオキ
シアルキレングリコール)等であることもできる。
レフタレート,ポリエチレン−2,6−ナフタレートはも
ちろんのこと、例えば全じカルボン酸成分の80モル%以
上がテレフタル酸および/又は2,6−ナフタレンジカル
ボン酸であり、全グリコール成分の80モル%以上がエチ
レングリコールである共重合体が好ましい。その際全酸
成分の20モル%以下はテレフタル酸および/又は2,6−
ナフタレンジカルボン酸以外の上記芳香族ジカルボン酸
であることができ、また例えばアジピン酸,セバチン酸
等の如き脂肪族ジカルボン酸;シクロヘキサン−1,4−
ジカルボン酸の如き脂環族ジカルボン酸等であることが
できる。また、全グリコール成分の20モル%以下は、エ
チレングリコール以外の上記グリコールであることがで
き、あるいは例えばハイドロキノン,レゾルシン,2,2−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン等の如き芳香
族ジオール;1,4−ジヒドロキシジメチルベンゼンの如き
芳香環を有する脂肪族ジオール;ポリエチレングリコー
ル,ポリプロピレングリコール,ポリテトラメチレング
リコール等の如きポリアルキレングリコール(ポリオキ
シアルキレングリコール)等であることもできる。
また、本発明におけるポリエステルには例えばヒドロ
キシ安息香酸の如き芳香族オキシ酸,ω−ヒドロキシカ
プロン酸の如き脂肪族オキシ酸等のオキシカルボン酸に
由来する成分を、ジカルボン酸成分及びオキシカルボン
酸成分の総量に対し20モル%以下で共重合あるいは結合
するものも包含される。
キシ安息香酸の如き芳香族オキシ酸,ω−ヒドロキシカ
プロン酸の如き脂肪族オキシ酸等のオキシカルボン酸に
由来する成分を、ジカルボン酸成分及びオキシカルボン
酸成分の総量に対し20モル%以下で共重合あるいは結合
するものも包含される。
さらに本発明におけるポリエステルには実質的に線状
である範囲の量、例えば全酸成分に対し2モル%以下の
量で、3官能以上のポリカルボン酸又はポリヒドロキシ
化合物、例えばトリメリット酸,ペンタエリスリトール
等を共重合したものも包含される。
である範囲の量、例えば全酸成分に対し2モル%以下の
量で、3官能以上のポリカルボン酸又はポリヒドロキシ
化合物、例えばトリメリット酸,ペンタエリスリトール
等を共重合したものも包含される。
上記ポリエステルは、それ自体公知であり、かつそれ
自体公知の方法で製造することができる。
自体公知の方法で製造することができる。
上記ポリエステルとしては、o−クロロフェノール中
の溶液として35℃で測定して求めた固有粘度が約0.4〜
約0.9のものが好ましい。
の溶液として35℃で測定して求めた固有粘度が約0.4〜
約0.9のものが好ましい。
本発明の二軸配向ポリエステルフイルムは、そのフイ
ルム表面の平坦性を定義する突起分布の説明から明らか
なとおり、フイルム表面に多数の微細な突起を有してい
る。
ルム表面の平坦性を定義する突起分布の説明から明らか
なとおり、フイルム表面に多数の微細な突起を有してい
る。
それらの多数の微細な突起は本発明によればポリエス
テル中に分散して含有される多数の実質的に不活性な固
体微粒子に由来する。
テル中に分散して含有される多数の実質的に不活性な固
体微粒子に由来する。
ポリエステル中に存在する粒子によって形成されてい
るフイルム表面の突起の分布曲線が、高さx(μm)が
0.05μm以上で突起の数y(個/mm2)が30個/mm2以上
の範囲において、下記式(A)を満足することが肝要で
ある。
るフイルム表面の突起の分布曲線が、高さx(μm)が
0.05μm以上で突起の数y(個/mm2)が30個/mm2以上
の範囲において、下記式(A)を満足することが肝要で
ある。
−11.4x+4<logy<−10.0x+5 …(A) ここで、xは基準レベルからの高さ方向の距離(μ
m)であり、yは高さxでカットした時にカウントされ
る突起の数(個/mm2)である。
m)であり、yは高さxでカットした時にカウントされ
る突起の数(個/mm2)である。
突起分布曲線が(A)式の範囲から外れると、フイル
ムはバックコートを設けないで磁気テープとして使用す
ると、走行性が不充分になったり、磁性層を設けても大
突起の存在により磁性層面が粗くなり、電磁変更特性が
不充分となり、磁気記録媒体用としては好ましくない。
ムはバックコートを設けないで磁気テープとして使用す
ると、走行性が不充分になったり、磁性層を設けても大
突起の存在により磁性層面が粗くなり、電磁変更特性が
不充分となり、磁気記録媒体用としては好ましくない。
本発明において、フイルム表面に形成される突起は、
不活性無機粒子及び(または)耐熱性高分子粒子から選
ばれる粒子、好ましくは2種以内の粒子と、アルミナ粒
子及びコロイダルシリカ粒子とからなる、少なくとも3
種の粒子によることが肝要である。即ち、平均粒径が0.
4〜1.5μmである不活性無機粒子及び(又は)耐熱性高
分子粒子から選ばれる粒子0.01〜1.0重量%と、フイル
ム中での独立存在率が80%以上、平均粒径が0.06〜0.2
μmであるアルミナ粒子0.05〜1.0重量%と、平均粒径
がアルミナ粒子より大きくて0.1〜0.3μmであるコロイ
ダルシリカ粒子0.05〜2.0重量%とをポリエステル中に
存在させることにより、フイルム表面に突起を形成する
ことが必要である。
不活性無機粒子及び(または)耐熱性高分子粒子から選
ばれる粒子、好ましくは2種以内の粒子と、アルミナ粒
子及びコロイダルシリカ粒子とからなる、少なくとも3
種の粒子によることが肝要である。即ち、平均粒径が0.
4〜1.5μmである不活性無機粒子及び(又は)耐熱性高
分子粒子から選ばれる粒子0.01〜1.0重量%と、フイル
ム中での独立存在率が80%以上、平均粒径が0.06〜0.2
μmであるアルミナ粒子0.05〜1.0重量%と、平均粒径
がアルミナ粒子より大きくて0.1〜0.3μmであるコロイ
ダルシリカ粒子0.05〜2.0重量%とをポリエステル中に
存在させることにより、フイルム表面に突起を形成する
ことが必要である。
本発明における不活性無機粒子及び(又は)耐熱性高
分子粒子から選ばれる粒子は、平均粒径が0.4〜1.5μ
m、好ましくは0.5〜1.0μmであり、添加量が0.01〜1.
0重量%、好ましくは0.05〜0.5重量%であるが、該粒子
は併用することができ、この場合2種以内の粒子の使用
が好ましい。この場合、それぞれの粒子は上記平均粒径
を満足する必要があり、また添加量は合計量が上記添加
量を満足するようにする。これら粒子の平均粒径が0.4
μm未満では形成される突起の高さが不十分であり、得
られるフイルムの易滑性が不十分になる。一方平均粒径
が1.5μmを越えると、形成される突起の高さが大きく
なりすぎ、磁気記録媒体用として用いるにはフイルム表
面が粗くなりすぎ、好ましくない。また添加量が0.01重
量%未満では形成される突起数が不足し易滑性が不十分
になるし、添加量が1.0重量%を越えるとフイルム表面
が粗くなりすぎ、磁気記録媒体用としては適さない。
分子粒子から選ばれる粒子は、平均粒径が0.4〜1.5μ
m、好ましくは0.5〜1.0μmであり、添加量が0.01〜1.
0重量%、好ましくは0.05〜0.5重量%であるが、該粒子
は併用することができ、この場合2種以内の粒子の使用
が好ましい。この場合、それぞれの粒子は上記平均粒径
を満足する必要があり、また添加量は合計量が上記添加
量を満足するようにする。これら粒子の平均粒径が0.4
μm未満では形成される突起の高さが不十分であり、得
られるフイルムの易滑性が不十分になる。一方平均粒径
が1.5μmを越えると、形成される突起の高さが大きく
なりすぎ、磁気記録媒体用として用いるにはフイルム表
面が粗くなりすぎ、好ましくない。また添加量が0.01重
量%未満では形成される突起数が不足し易滑性が不十分
になるし、添加量が1.0重量%を越えるとフイルム表面
が粗くなりすぎ、磁気記録媒体用としては適さない。
上記不活性無機粒子の具体例としては、酸化ケイ素,
炭酸カルシウム,タルク,クレイ,カオリン等が挙げら
れるが、なかでも球状シリカ,炭酸カルシウムが易滑性
の点より好ましい。また上記耐熱性高分子粒子の具体例
としては、シリコーン樹脂粒子,架橋アクリル粒子,架
橋ポリスチレン粒子,架橋ポリエステル粒子,テフロン
粒子,ポリイミド粒子などの有機高分子粒子が挙げられ
るが、なかでもシリコーン樹脂粒子が好ましい。
炭酸カルシウム,タルク,クレイ,カオリン等が挙げら
れるが、なかでも球状シリカ,炭酸カルシウムが易滑性
の点より好ましい。また上記耐熱性高分子粒子の具体例
としては、シリコーン樹脂粒子,架橋アクリル粒子,架
橋ポリスチレン粒子,架橋ポリエステル粒子,テフロン
粒子,ポリイミド粒子などの有機高分子粒子が挙げられ
るが、なかでもシリコーン樹脂粒子が好ましい。
本発明においては、上記不活性無機粒子及び(又は)
耐熱性高分子粒子に加えて、フイルム中での独立存在率
が80%以上、平均粒径が0.06〜0.2μmであるアルミナ
粒子0.05〜1.0重量%と、平均粒径がアルミナ粒子より
大きくて0.1〜0.3μmであるコロイダルシリカ粒子0.05
〜2.0重量%、より好ましくは0.1〜1.0重量%添加する
ことが肝要である。添加するアルミナ粒子及びコロイダ
ルシリカ粒子はフイルム表面上で不活性無機粒子及び/
又は耐熱性高分子粒子により形成される高突起間に微細
な突起を形成する。
耐熱性高分子粒子に加えて、フイルム中での独立存在率
が80%以上、平均粒径が0.06〜0.2μmであるアルミナ
粒子0.05〜1.0重量%と、平均粒径がアルミナ粒子より
大きくて0.1〜0.3μmであるコロイダルシリカ粒子0.05
〜2.0重量%、より好ましくは0.1〜1.0重量%添加する
ことが肝要である。添加するアルミナ粒子及びコロイダ
ルシリカ粒子はフイルム表面上で不活性無機粒子及び/
又は耐熱性高分子粒子により形成される高突起間に微細
な突起を形成する。
この2種類の微細な突起は、フイルムの地肌部分の摩
擦係数の低下に寄与していると考えられるが、本発明者
の検討ではその作用効果が異なり、アルミナ粒子による
微細な突起は表面を十分に仕上げていない金属ガイドや
プラスチックガイドとの接触において優れた耐削れ性及
び耐スクラッチ性を発揮し、コロイダルシリカ粒子によ
る微細な突起はプラスチックガイドや表面仕上げの良好
な金属ガイドとの接触において優れた耐削れ性及び耐ス
クラッチ性を発揮すること、そして表面仕上げの良好な
金属ガイド、表面を十分に仕上げていない金属ガイド及
びプラスチックガイドの全てにわたって優れた耐削れ
性,耐スクラッチ性を得るためにはこの2種の粒子を特
定の範囲で共存させることが必要であることが明らかと
なった。
擦係数の低下に寄与していると考えられるが、本発明者
の検討ではその作用効果が異なり、アルミナ粒子による
微細な突起は表面を十分に仕上げていない金属ガイドや
プラスチックガイドとの接触において優れた耐削れ性及
び耐スクラッチ性を発揮し、コロイダルシリカ粒子によ
る微細な突起はプラスチックガイドや表面仕上げの良好
な金属ガイドとの接触において優れた耐削れ性及び耐ス
クラッチ性を発揮すること、そして表面仕上げの良好な
金属ガイド、表面を十分に仕上げていない金属ガイド及
びプラスチックガイドの全てにわたって優れた耐削れ
性,耐スクラッチ性を得るためにはこの2種の粒子を特
定の範囲で共存させることが必要であることが明らかと
なった。
本発明で用いるアルミナ粒子は上記した特性をもつ必
要があり、平均粒径が0.06μm未満ではフイルム地肌部
分に形成される突起が小さく、摩擦係数低下が不十分と
なり、一方0.2μmを越えると形成される突起が大きく
なりすぎ、摩擦体特にプラスチックガイドとの高速接触
時の削れ性が悪化し、望ましくない。またアルミナ粒子
の添加量が0.05重量%未満ではフイルム地肌部分に形成
される突起数が不十分で耐削れ性,耐スクラッチ性の改
良が望めないし、一方1.0重量%を越えると、地肌部分
でアルミナ粒子の突起の重なりが発生し、耐削れ性が悪
化する。さらに添加するアルミナ粒子の80%以上がフイ
ルム中で独立していることも重要であり、これを満たさ
ないと耐削れ性が悪化する。
要があり、平均粒径が0.06μm未満ではフイルム地肌部
分に形成される突起が小さく、摩擦係数低下が不十分と
なり、一方0.2μmを越えると形成される突起が大きく
なりすぎ、摩擦体特にプラスチックガイドとの高速接触
時の削れ性が悪化し、望ましくない。またアルミナ粒子
の添加量が0.05重量%未満ではフイルム地肌部分に形成
される突起数が不十分で耐削れ性,耐スクラッチ性の改
良が望めないし、一方1.0重量%を越えると、地肌部分
でアルミナ粒子の突起の重なりが発生し、耐削れ性が悪
化する。さらに添加するアルミナ粒子の80%以上がフイ
ルム中で独立していることも重要であり、これを満たさ
ないと耐削れ性が悪化する。
本発明で用いるアルミナ粒子は、モース硬度が8未満
のγタイプ結晶体であることがより好ましい。モース硬
度が9のαタイプ結晶体のアルミナ粒子を用いる場合に
は、添加条件によっては、磁気テープ等の製造工程で長
時間ランニングされた時、添加粒子が硬すぎるため、工
程内のロール等を傷つけることがあるし、また、磁気テ
ープ等の走行及びカセットへの巻込み時に金属ガイド側
を傷つけ、削れ粉の発生やベースクラッチの原因となる
ことがある。
のγタイプ結晶体であることがより好ましい。モース硬
度が9のαタイプ結晶体のアルミナ粒子を用いる場合に
は、添加条件によっては、磁気テープ等の製造工程で長
時間ランニングされた時、添加粒子が硬すぎるため、工
程内のロール等を傷つけることがあるし、また、磁気テ
ープ等の走行及びカセットへの巻込み時に金属ガイド側
を傷つけ、削れ粉の発生やベースクラッチの原因となる
ことがある。
本発明で用いるコロイダルシリカ粒子は平均粒径が共
存するアルミナ粒子より大きくて0.1〜0.3μmでなけれ
ばならない。この粒径がアルミナ粒子より小さいと、表
面仕上げの良好な金属ガイドとの接触において耐スクラ
ッチ性が劣る。またこの粒径が0.1μm未満でも表面仕
上げの良好な金属ガイドとの接触において耐スクラッチ
性が劣る。一方この粒径が0.3μmを越えると、形成さ
れる突起が大きくなりすぎ、摩擦体、特に表面を十分に
仕上げていない金属ガイドとの高速接触時の削れ性が悪
化し望ましくない。添加量が0.05重量%未満では形成さ
れる突起数が不十分で耐スクラッチ性の改良が認められ
ないし、一方2.0重量%を越えると耐削れ性が悪化す
る。本発明で用いるコロイダルシリカ粒子は粉体重量比
100〜300ppmのNaを含有することが好ましい。Na含有量
がこの範囲を外れると対スクラッチ性が劣るようにな
る。この原因は定かではないが、ポリエステル中で粒子
の存在状態に微妙な差が出ることによるものと考えられ
る。
存するアルミナ粒子より大きくて0.1〜0.3μmでなけれ
ばならない。この粒径がアルミナ粒子より小さいと、表
面仕上げの良好な金属ガイドとの接触において耐スクラ
ッチ性が劣る。またこの粒径が0.1μm未満でも表面仕
上げの良好な金属ガイドとの接触において耐スクラッチ
性が劣る。一方この粒径が0.3μmを越えると、形成さ
れる突起が大きくなりすぎ、摩擦体、特に表面を十分に
仕上げていない金属ガイドとの高速接触時の削れ性が悪
化し望ましくない。添加量が0.05重量%未満では形成さ
れる突起数が不十分で耐スクラッチ性の改良が認められ
ないし、一方2.0重量%を越えると耐削れ性が悪化す
る。本発明で用いるコロイダルシリカ粒子は粉体重量比
100〜300ppmのNaを含有することが好ましい。Na含有量
がこの範囲を外れると対スクラッチ性が劣るようにな
る。この原因は定かではないが、ポリエステル中で粒子
の存在状態に微妙な差が出ることによるものと考えられ
る。
かかるコロイダルシリカの製造法としては硅酸Naを出
発原料として透析法,電気分解法,塩析出法あるいはイ
オン交換樹脂により活性シリカゾルを作り、ついで重合
する方法等があげられるが、得られる粒子の均一性から
イオン交換樹脂−重合法が最も好ましい。
発原料として透析法,電気分解法,塩析出法あるいはイ
オン交換樹脂により活性シリカゾルを作り、ついで重合
する方法等があげられるが、得られる粒子の均一性から
イオン交換樹脂−重合法が最も好ましい。
本発明においてポリエステル中に上述した不活性粒子
を含有させる方法は、特に限定されないが、例えば不活
性無機粒子及び(又は)耐熱性高分子粒子とアルミナ粒
子及びコロイダルシリカ粒子とを、ポリエステルの重合
前又は重合中に添加しポリエステルと緊密に混合する方
法、重合終了後のポリステルをペレタイズするとき添加
し押出機中で緊密に混合する方法、シート状に溶融押出
しする際押出機中でポリエステルと十分に混練する方法
等が挙げられる。これらの中、ポリエステルの重合前又
は重合中に添加する方法が好ましい。
を含有させる方法は、特に限定されないが、例えば不活
性無機粒子及び(又は)耐熱性高分子粒子とアルミナ粒
子及びコロイダルシリカ粒子とを、ポリエステルの重合
前又は重合中に添加しポリエステルと緊密に混合する方
法、重合終了後のポリステルをペレタイズするとき添加
し押出機中で緊密に混合する方法、シート状に溶融押出
しする際押出機中でポリエステルと十分に混練する方法
等が挙げられる。これらの中、ポリエステルの重合前又
は重合中に添加する方法が好ましい。
本発明の二軸配向フイルムは走行摩擦係数上昇(Δμ
k)が0.15未満である必要がある。Δμkが0.15以上に
なると、走行特性が不十分となり、例えば磁気テープを
繰返し使用すると該テープの走行性が低下し、μkが0.
3を越えると走行ストップのトラブルを起すようにな
る。Δμkの調節は、不活性粒子の種類,粒径,添加量
や延伸配向条件等で行うが、特に他の不活性無機粒子及
び(又は)耐熱性高分子粒子の特性選択で行うのが好ま
しい。
k)が0.15未満である必要がある。Δμkが0.15以上に
なると、走行特性が不十分となり、例えば磁気テープを
繰返し使用すると該テープの走行性が低下し、μkが0.
3を越えると走行ストップのトラブルを起すようにな
る。Δμkの調節は、不活性粒子の種類,粒径,添加量
や延伸配向条件等で行うが、特に他の不活性無機粒子及
び(又は)耐熱性高分子粒子の特性選択で行うのが好ま
しい。
本発明の二軸配向ポリエステルフイルムは、例えば、
融点(Tm:℃)ないし(Tm+70)℃の温度でポリエステ
ルを溶押して固有粘度0.35〜0.9dl/gの未延伸フイルム
を得、該未延伸フイルムを一軸方向(縦方向又は横方
向)に(Tg−10)〜(Tg+70)℃の温度(ただし、Tg:
ポリエステルのガラス転移温度)で2.5〜5.0倍の倍率で
延伸し、次いで上記延伸方向と直角方向(一段目延伸が
縦方向の場合には、二段目延伸は横方向となる)にTg
(℃)〜(Tg+70)℃の温度で2.5〜5.0倍の倍率で延伸
することで製造できる。この場合、面積延伸倍率は9〜
22倍、さらには12〜22倍にするのが好ましい。延伸手段
は同時二軸延伸、逐次二軸延伸のいずれでもよいが、後
者がより好ましい。
融点(Tm:℃)ないし(Tm+70)℃の温度でポリエステ
ルを溶押して固有粘度0.35〜0.9dl/gの未延伸フイルム
を得、該未延伸フイルムを一軸方向(縦方向又は横方
向)に(Tg−10)〜(Tg+70)℃の温度(ただし、Tg:
ポリエステルのガラス転移温度)で2.5〜5.0倍の倍率で
延伸し、次いで上記延伸方向と直角方向(一段目延伸が
縦方向の場合には、二段目延伸は横方向となる)にTg
(℃)〜(Tg+70)℃の温度で2.5〜5.0倍の倍率で延伸
することで製造できる。この場合、面積延伸倍率は9〜
22倍、さらには12〜22倍にするのが好ましい。延伸手段
は同時二軸延伸、逐次二軸延伸のいずれでもよいが、後
者がより好ましい。
さらに、二軸配向フイルムは、(Tg+70)℃〜Tm
(℃)の温度で熱固定することができる。例えばポリエ
チレンテレフタレートフイルムについては190〜230℃で
熱固定することが好ましい。熱固定時間は例えば1〜60
秒である。
(℃)の温度で熱固定することができる。例えばポリエ
チレンテレフタレートフイルムについては190〜230℃で
熱固定することが好ましい。熱固定時間は例えば1〜60
秒である。
本発明の二軸配向ポリエステルフイルムは、特定範囲
の不活性無機粒子及び(又は)耐熱性高分子粒子、及び
アルミナ粒子,コロイダルシリカ粒子を含有するため、
易滑性に優れるとともに、表面仕上げの良好な金属ガイ
ド、表面を十分に仕上げていない金属ガイド及びプラス
チックガイドの全てにわたって優れた耐削れ性,耐スク
ラッチ性を有しており、磁気記録媒体用として極めて有
用である。
の不活性無機粒子及び(又は)耐熱性高分子粒子、及び
アルミナ粒子,コロイダルシリカ粒子を含有するため、
易滑性に優れるとともに、表面仕上げの良好な金属ガイ
ド、表面を十分に仕上げていない金属ガイド及びプラス
チックガイドの全てにわたって優れた耐削れ性,耐スク
ラッチ性を有しており、磁気記録媒体用として極めて有
用である。
なお、本発明における種々の物性値及び特性は以下の
如くして測定されたものでありかつ定義される。
如くして測定されたものでありかつ定義される。
(1)粒子の平均粒径(DP) 島津製作所製CP−50型セントリフュグルパーティクル
サイズ アナライザー(Centrifugal Particle Size
Analyser)を用いて測定する。得られる遠心沈降曲線を
基に算出した各粒径の粒子とその存在量との積算曲線か
ら、50マスパーセントに相当する粒径を読み取り、この
値を上記平均粒径とする(Book「粒度測定技術」日刊工
業新聞社発行,1975年,頁242〜247参照)。
サイズ アナライザー(Centrifugal Particle Size
Analyser)を用いて測定する。得られる遠心沈降曲線を
基に算出した各粒径の粒子とその存在量との積算曲線か
ら、50マスパーセントに相当する粒径を読み取り、この
値を上記平均粒径とする(Book「粒度測定技術」日刊工
業新聞社発行,1975年,頁242〜247参照)。
(2)フイルムの走行摩擦係数(μk) 第1図に示した装置を用いて下記のようにして測定す
る。第1図中、1は巻出しリール、2はテンションコン
トローラ、3,5,6,8,9及び11はフリーローラー、4はテ
ンション検出機(入口)、7はステンレス鋼SUS304製の
固定棒(外径5mmφ、表面粗Ra=0.02μm)、10はテン
ション検出機(出口)、12はガイドローラー、13は巻取
りリールをそれぞれ示す。
る。第1図中、1は巻出しリール、2はテンションコン
トローラ、3,5,6,8,9及び11はフリーローラー、4はテ
ンション検出機(入口)、7はステンレス鋼SUS304製の
固定棒(外径5mmφ、表面粗Ra=0.02μm)、10はテン
ション検出機(出口)、12はガイドローラー、13は巻取
りリールをそれぞれ示す。
温度20℃,湿度60%の環境で、巾1/2インチに裁断し
たフイルムを7の固定棒に角度θ=(152/181)πラジ
アン(152°)で接触させて毎分200cmの速さで移動(摩
擦)させる。入口テンションT1が35gとなるようにテン
ションコントローラー2を調整した時の出口テンション
(T2:g)をフイルムが90m走行したのちに出口テンショ
ン検出機で検出し、次式で走行摩擦係数μkを算出す
る。
たフイルムを7の固定棒に角度θ=(152/181)πラジ
アン(152°)で接触させて毎分200cmの速さで移動(摩
擦)させる。入口テンションT1が35gとなるようにテン
ションコントローラー2を調整した時の出口テンション
(T2:g)をフイルムが90m走行したのちに出口テンショ
ン検出機で検出し、次式で走行摩擦係数μkを算出す
る。
μk=(2.303/θ)log(T2/T1) =0.868log(T2/35) (3)フイルムの走行摩擦係数上昇(Δμk) 上記フイルムの走行摩擦係数(μk)を測定する装置
を用いてフイルム移動速度を2m/分として10m長のフイル
ムを50回繰返し走行させる。その時の1回目の摩擦係数
をμk1,50回目の摩擦係数をμk50として下記式によりΔ
μkを算出する。
を用いてフイルム移動速度を2m/分として10m長のフイル
ムを50回繰返し走行させる。その時の1回目の摩擦係数
をμk1,50回目の摩擦係数をμk50として下記式によりΔ
μkを算出する。
Δμk=μk50−μk1 (4)フイルム表面の平坦性 Ra(中心線平均粗さ)をJIS B 0601に準じて測定す
る。東京精密社(株)製の触針式表面粗さ計(SURFCOM3
B)を用いて、針の半径2μm,荷重0.7gの条件下にチャ
ート(フイルム表面粗さ曲線)をかかせ、得られるフイ
ルム表面粗さ曲線からその中心線の方向に測定長さLの
部分を抜き取り、この抜き取り部分の中心線をX軸と
し、縦倍率の方向をY軸として、粗さ曲線Y=f(X)
で表わしたとき、次の式で与えられる値(Ra:μm)を
フイルム表面の平坦性として定義する。
る。東京精密社(株)製の触針式表面粗さ計(SURFCOM3
B)を用いて、針の半径2μm,荷重0.7gの条件下にチャ
ート(フイルム表面粗さ曲線)をかかせ、得られるフイ
ルム表面粗さ曲線からその中心線の方向に測定長さLの
部分を抜き取り、この抜き取り部分の中心線をX軸と
し、縦倍率の方向をY軸として、粗さ曲線Y=f(X)
で表わしたとき、次の式で与えられる値(Ra:μm)を
フイルム表面の平坦性として定義する。
本発明では、基準長を0.25mmとして8個測定し、値の
大きい方から3個除いた5個の平均値としてRaを表わ
す。
大きい方から3個除いた5個の平均値としてRaを表わ
す。
(5)突起分布 小坂研究所製三次元粗さ計(SE−30K)を用いて針径
2μmR,針圧30mg,測定長1mm,サンプリングピッチ2μm,
カットオフ0.25mm,縦方向拡大倍率2万倍,横方向拡大
倍率200倍,走査本数150本の条件にてフイルム表面の突
起のプロファイルを三次元的(立体的)にイメージさせ
る。
2μmR,針圧30mg,測定長1mm,サンプリングピッチ2μm,
カットオフ0.25mm,縦方向拡大倍率2万倍,横方向拡大
倍率200倍,走査本数150本の条件にてフイルム表面の突
起のプロファイルを三次元的(立体的)にイメージさせ
る。
そのプロファイルをフイルムの厚さ方向と直角方向の
平面でカットした場合に、各突起のプロファイルの断面
積の合計が、フイルムの測定領域の面積の70%となる平
面を基準レベル(0レベル)とし、その基準レベルの平
面と平行に突起の高さ方向に距離x(μm)だけ離れた
平面でカットしたときにカウントされる突起の数をy
(個/mm2)とする。xを順次増加又は減少させ、その
ときのyの数を読み取り、グラフにプロットすることに
より、突起分布曲線を描く。
平面でカットした場合に、各突起のプロファイルの断面
積の合計が、フイルムの測定領域の面積の70%となる平
面を基準レベル(0レベル)とし、その基準レベルの平
面と平行に突起の高さ方向に距離x(μm)だけ離れた
平面でカットしたときにカウントされる突起の数をy
(個/mm2)とする。xを順次増加又は減少させ、その
ときのyの数を読み取り、グラフにプロットすることに
より、突起分布曲線を描く。
(6)粒子の独立存在率 製膜し得られた二軸配向ポリエステルフイルムを走査
型電子顕微鏡用試料台に固定し、日本電子(株)製スパ
ッタリング装置(JFC-1100型イオンスパッターリング装
置)を用いて、フイルム表面を下記条件にてイオンエッ
チング処理を施す。ベンジャー内に上記試料台を設置
し、約10-3Torrの真空状態まで真空度を上げ電圧0.25k
V、電流12.5mAにて約10分間イオンエッチングを実施す
る。さらに同装置にてフイルム表面に金スパッターを施
し、約200Å程度の金薄膜層を形成し、XMA付き走査型電
子顕微鏡を用いて2万倍の倍率について測定を行なう。
測定はランダムに100視野について行ない、アルミナ粒
子であることを確認しつつ総粒子数a及び凝集剥離粒子
数b(製膜時の延伸応力により近接粒子間全幅にわたっ
てボイド発生を伴なうもの)を求め、下記式により、粒
子の独立存在率を求める。
型電子顕微鏡用試料台に固定し、日本電子(株)製スパ
ッタリング装置(JFC-1100型イオンスパッターリング装
置)を用いて、フイルム表面を下記条件にてイオンエッ
チング処理を施す。ベンジャー内に上記試料台を設置
し、約10-3Torrの真空状態まで真空度を上げ電圧0.25k
V、電流12.5mAにて約10分間イオンエッチングを実施す
る。さらに同装置にてフイルム表面に金スパッターを施
し、約200Å程度の金薄膜層を形成し、XMA付き走査型電
子顕微鏡を用いて2万倍の倍率について測定を行なう。
測定はランダムに100視野について行ない、アルミナ粒
子であることを確認しつつ総粒子数a及び凝集剥離粒子
数b(製膜時の延伸応力により近接粒子間全幅にわたっ
てボイド発生を伴なうもの)を求め、下記式により、粒
子の独立存在率を求める。
(7)コロイダルシリカ粉体中のNa含有量 コロイダルシリカ粉体をフッ化水素酸を用いて完全に
溶解し、原子吸光法によりNaを定量し、粉体中のNa含有
量を求める。
溶解し、原子吸光法によりNaを定量し、粉体中のNa含有
量を求める。
(8)削れ性,スクラッチ性 フイルムの走行摩擦係数の測定に使用した第1図と同
様の装置において7のステンレス鋼SUS304製固定棒の代
りにSUS304製で表面を十分に仕上げた6φのテープガイ
ド(表面粗さRa=0.015μm)を使った場合をA法、SUS
焼結板を円柱形に曲げた表面仕上げが不十分な6φのテ
ープガイド(表面粗さRa=0.15μm)を使った場合をB
法、第一精工社製カーボンブラック含有ポリアセタール
の6φのテープガイドを使った場合をC法として、かつ
テープガイドでの接触角度を30度として毎分300mの速さ
で入口張力が50g/1/2″となるようにして200m走行させ
る。走行後にガイド上に付着した削れ粉及び走行後テー
プのスクラッチを評価する。
様の装置において7のステンレス鋼SUS304製固定棒の代
りにSUS304製で表面を十分に仕上げた6φのテープガイ
ド(表面粗さRa=0.015μm)を使った場合をA法、SUS
焼結板を円柱形に曲げた表面仕上げが不十分な6φのテ
ープガイド(表面粗さRa=0.15μm)を使った場合をB
法、第一精工社製カーボンブラック含有ポリアセタール
の6φのテープガイドを使った場合をC法として、かつ
テープガイドでの接触角度を30度として毎分300mの速さ
で入口張力が50g/1/2″となるようにして200m走行させ
る。走行後にガイド上に付着した削れ粉及び走行後テー
プのスクラッチを評価する。
〈削れ粉判定〉 ◎ 削れ粉が全くみられない ○ うっすらと削れ粉がみられる △ 削れ粉の存在が一見して判る × 削れ粉がひどく付着している 〈スクラッチ判定〉 ◎ スクラッチ性が全くみられない ○ 1〜5本のスクラッチが見られる △ 6〜15本のスクラッチが見られる × 16本以上のスクラッチが見られる [実施例] 以下、実施例をあげて本発明を説明する。
実施例1〜4、比較例1〜6 ジメチルテレフタレートとエチレングリコールとを、
エステル交換触媒として酢酸マンガンを、重合触媒とし
て三酸化アンチモンを、安定剤として亜燐酸を、更に滑
剤として第1表に示す添加粒子を添加して、常法により
重合し、固有粘度(オルソクロロフェノール,35℃)0.6
2のポリエチレンテレフタレートを得た。
エステル交換触媒として酢酸マンガンを、重合触媒とし
て三酸化アンチモンを、安定剤として亜燐酸を、更に滑
剤として第1表に示す添加粒子を添加して、常法により
重合し、固有粘度(オルソクロロフェノール,35℃)0.6
2のポリエチレンテレフタレートを得た。
このポリエチレンテレフタレートのペレットを170℃
で3時間乾燥後押出機ホッパーに供給し、溶融温度280
〜300℃で溶融し、この溶融ポリマーを1mmのスリット状
ダイを通して表面仕上げ0.3s程度、表面温度20℃の回転
冷却ドラム上に押出し、200μmの未延伸フイルムを得
た。
で3時間乾燥後押出機ホッパーに供給し、溶融温度280
〜300℃で溶融し、この溶融ポリマーを1mmのスリット状
ダイを通して表面仕上げ0.3s程度、表面温度20℃の回転
冷却ドラム上に押出し、200μmの未延伸フイルムを得
た。
このようにして得られた未延伸フイルムを75℃にて予
熱し、更に低速,高速のロール間で15mm上方より900℃
の表面温度のIRヒーター1本にて加熱して3.6倍に延伸
し、急冷し、続いてステンターに供給し、105℃にて横
方向に3.9倍に延伸した。得られた二軸配向フイルムを2
05℃の温度で5秒間熱固定し、厚み14.2μmの熱固定二
軸配向フイルムを得た。
熱し、更に低速,高速のロール間で15mm上方より900℃
の表面温度のIRヒーター1本にて加熱して3.6倍に延伸
し、急冷し、続いてステンターに供給し、105℃にて横
方向に3.9倍に延伸した。得られた二軸配向フイルムを2
05℃の温度で5秒間熱固定し、厚み14.2μmの熱固定二
軸配向フイルムを得た。
このようにして得られた14.2μmの二軸配向ポリエス
テルフイルムの特性を第1表に示す。なお、得られたフ
イルムの突起分布を調べたところ実施例1〜4、比較例
1〜5は下記(A)式を満足しており易滑性に優れたも
のになっていたが、比較例6は突起の数y(個/mm2)
がlogy<−10.0x+5の関係を規定全範囲については満
足しておらず、50回繰返し走行した後の走行摩擦係数が
0.31と高くなって実用上懸念のあるレベルになってい
る。
テルフイルムの特性を第1表に示す。なお、得られたフ
イルムの突起分布を調べたところ実施例1〜4、比較例
1〜5は下記(A)式を満足しており易滑性に優れたも
のになっていたが、比較例6は突起の数y(個/mm2)
がlogy<−10.0x+5の関係を規定全範囲については満
足しておらず、50回繰返し走行した後の走行摩擦係数が
0.31と高くなって実用上懸念のあるレベルになってい
る。
−11.4x+4<logy<−10.0x+5 (A) 第1表における削れ性,スクラッチ性の判定としては
○レベル以上であれば磁気テープとしても実用上なんら
懸念はないが、△レベルになると使用条件にもよるが、
テープガイド上の削れ粉やテープ上に入るスクラッチ傷
によってドロップアウトの増加が懸念される。
○レベル以上であれば磁気テープとしても実用上なんら
懸念はないが、△レベルになると使用条件にもよるが、
テープガイド上の削れ粉やテープ上に入るスクラッチ傷
によってドロップアウトの増加が懸念される。
第1表で明らかなように、本発明によるものは磁気記
録媒体用として優れた易滑性を有するとともに、表面が
十分に仕上げられた金属テープガイド、表面が十分に仕
上げられていない金属テープガイド及びプラスチックテ
ープガイド全てにわたって、優れた耐削れ性,耐スクラ
ッチ性を有しており、磁気記録媒体用二軸配向ポリエス
テルフイルムとして極めて優れた特性を有している。
録媒体用として優れた易滑性を有するとともに、表面が
十分に仕上げられた金属テープガイド、表面が十分に仕
上げられていない金属テープガイド及びプラスチックテ
ープガイド全てにわたって、優れた耐削れ性,耐スクラ
ッチ性を有しており、磁気記録媒体用二軸配向ポリエス
テルフイルムとして極めて優れた特性を有している。
第1図はフイルムの走行摩擦係数を測定する装置の概略
図である。図中、1は巻出しリール,2はテンションコン
トローラ,4はテンション検出機(入口),7は固定棒,10
はテンション検出機(出口),13は巻取りリールであ
る。
図である。図中、1は巻出しリール,2はテンションコン
トローラ,4はテンション検出機(入口),7は固定棒,10
はテンション検出機(出口),13は巻取りリールであ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B29L 7:00 B29L 7:00 (56)参考文献 特開 平2−214734(JP,A) 特開 平2−202924(JP,A)
Claims (3)
- 【請求項1】二軸配向されたポリエステルフイルムであ
って、(A)ポリエステル中に存在する粒子によって形
成されているフイルム表面の突起の分布曲線が、高さx
(μm)が0.05μm以上で突起の数y(個/mm2)が30
個/mm2以上の範囲において、下記式(A)を満足し、
(B)走行摩擦係数上昇(Δμk)が0.15未満であり、
かつ(C)該突起が、フイルム中での独立存在率が80%
以上、平均粒径が0.06〜0.2μmであるアルミナ粒子0.0
5〜1.0重量%と、平均粒径がアルミナ粒子より大きくて
0.1〜0.3μmであるコロイダルシリカ粒子0.05〜2.0重
量%と、平均粒径0.4〜1.5μmである不活性無機粒子及
び(又は)耐熱性高分子粒子0.01〜1.0重量%の存在に
よって形成されていることを特徴とする磁気記録媒体用
二軸配向ポリエステルフイルム。 −11.4x+4<logy<−10.0x+5 …(A) ここで、xは基準レベルからの高さ方向の距離(μm)
であり、yは高さxでカットした時にカウントされる突
起の数(個/mm2)である。 - 【請求項2】アルミナ粒子がモース硬度8未満のγタイ
プ結晶体の粒子であることを特徴とする請求項1記載の
磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフイルム。 - 【請求項3】コロイダルシリカ粒子が粉体重量比100〜3
000ppmのNaを含有することを特徴とする請求項1記載の
磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフイルム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2275221A JP2528209B2 (ja) | 1990-10-16 | 1990-10-16 | 磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフイルム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2275221A JP2528209B2 (ja) | 1990-10-16 | 1990-10-16 | 磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフイルム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04151231A JPH04151231A (ja) | 1992-05-25 |
JP2528209B2 true JP2528209B2 (ja) | 1996-08-28 |
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ID=17552395
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2275221A Expired - Fee Related JP2528209B2 (ja) | 1990-10-16 | 1990-10-16 | 磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフイルム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2528209B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR960009293B1 (ko) * | 1992-09-03 | 1996-07-18 | 제일합섬 주식회사 | 필름용 폴리에스테르 제조방법 |
-
1990
- 1990-10-16 JP JP2275221A patent/JP2528209B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04151231A (ja) | 1992-05-25 |
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