JP2528209B2 - 磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフイルム - Google Patents

磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフイルム

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JP2528209B2 JP2275221A JP27522190A JP2528209B2 JP 2528209 B2 JP2528209 B2 JP 2528209B2 JP 2275221 A JP2275221 A JP 2275221A JP 27522190 A JP27522190 A JP 27522190A JP 2528209 B2 JP2528209 B2 JP 2528209B2
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【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフイル
ムに関し、更に詳しくは大粒径の不活性無機粒子及び
(又は)耐熱性高分子粒子,小粒径のアルミナ粒子及び
コロイダルシリカ粒子を含み、該粒子により形成される
特定の突起分布により滑り性,耐削れ性,耐スクラッチ
性の改善された磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフ
イルムに関する。
[従来技術] ポリエチレンテレフタレートフイルムに代表される二
軸配向ポリエステルフイルムは、その優れた物理的,化
学的特性の故に、磁気記録媒体のベースフイルムとして
広く用いられている。
二軸配向ポリエステルフイルムにおいては、その滑り
性や耐削れ性がフイルムの製造工程及び加工工程の作業
性の良否、さらにはその製品品質を左右する大きな要因
となっている。これらが不足すると、例えば二軸配向ポ
リエステルフイルム表面に磁性層を塗布し磁気テープと
して用いる場合にコーティングロールとフイルム表面と
の摩擦が激しく、削れ粉が発生したり、フイルム表面に
スクラッチが発生する。またVTRやデータカートリッジ
用として用いる場合にも、カセットに高速で巻き込む工
程で削れ粉やスクラッチが発生しD/Oの原因となる。
特にVTR用途では、最近コストダウンを目的としてカ
セット内に固定されたガイドポストに、表面を十分に仕
上げていない金属ガイドやプラスチックガイドを用いる
場合があるが、該ガイドポストの表面は極めて粗く、バ
ックコートを設けない磁気テープでは、従来のフイルム
の易滑性,削れ性を向上させる技術、例えば酸化ケイ
素,二酸化チタン,炭酸カルシウム,タルク,クレイ,
焼成カオリン等の無機質粒子を添加する方法(例えば特
開昭54-57562号公報参照)又は重合系内でカルシウム,
リチウムあるいはリンを含む微粒子を析出せしめる方法
(例えば特公昭52-32914号公報参照)では、カセットに
高速で巻き込む工程において削れ粉やスクラッチが発生
し、D/Oのレベルが高く、問題となっている。それ故従
来から使用されている表面仕上げの良好な金属ガイドと
新たに出てきた粗い表面の金属ガイド、プラスチックガ
イドなど全てにわたって良好な耐削れ性,耐スクラッチ
性を有するフイルムが切望されているのが現状である。
[発明の目的] 本発明の目的は、従来から使用されている表面仕上げ
の良好な金属ガイドはもちろん、新たに出てきた粗い表
面仕上げの金属ガイドやプラスチックガイドにおいても
良好な耐削れ性,耐スクラッチ性を有する易滑性に優れ
た磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフイルムを提供
することにある。
[発明の構成,効果] 本発明によれば、本発明の上記目的は、第1に、二軸
配向されたポリエステルフイルムであって、(A)ポリ
エステル中に存在する粒子によって形成されているフイ
ルム表面の突起の分布曲線が、高さx(μm)が0.05μ
m以上で突起の数y(個/mm2)が30個/mm2以上の範囲
において、下記式(A)を満足し、(B)走行摩擦係数
上昇(Δμk)が0.15未満であり、かつ(C)該突起
が、フイルム中での独立存在率が80%以上、平均粒径が
0.06〜0.2μmであるアルミナ粒子0.05〜1.0重量%と、
平均粒径がアルミナ粒子より大きくて0.1〜0.3μmであ
るコロイダルシリカ粒子0.05〜2.0重量%と、平均粒径
0.4〜1.5μmである不活性無機粒子及び(又は)耐熱性
高分子粒子0.01〜1.0重量%の存在によって形成されて
いることを特徴とする磁気記録媒体用二軸配向ポリエス
テルフイルム −11.4x+4<logy<−10.0x+5 …(A) ここで、xは基準レベルからの高さ方向の距離(μ
m)であり、yは高さxでカットした時にカウントされ
る突起の数(個/mm2)である、によって達成される。
本発明におけるポリエステルとは、芳香族ジカルボン
酸を主たる酸成分とし、脂肪族グリコールを主たるグリ
コール成分とするポリエステルである。かかるポリエス
テルは実質的に線状であり、そしてフイルム形成性特に
溶融成形によるフイルム形成性を有する。芳香族ジカル
ボン酸としては、例えばテレフタル酸,ナフタレンジカ
ルボン酸,イソフタル酸,ジフェノキシエタンジカルボ
ン酸,ジフェニルジカルボン酸,ジフェニルエーテルジ
カルボン酸,ジフェニルスルホンジカルボン酸,ジフェ
ニルケトンジカルボン酸,アンスラセンジカルボン酸等
を挙げることができる。脂肪族グリコールとしては、例
えばエチレングリコール,トリメチレングリコール,テ
トラメチレングリコール,ペンタメチレングリコール,
ヘキサメチレングリコール,デカメチレングリコール等
の如き炭素数2〜10のポリメチレングリコールあるいは
シクロヘキサンジメタノールの如き脂環族ジオール等を
挙げることができる。
本発明において、ポリエステルとしては、例えばアル
キレンテレフタレートおよび/又はアルキレンナフタレ
ートを主たる構成成分とするものが好ましく用いられ
る。
かかるポリエステルのうちでも例えばポリエチレンテ
レフタレート,ポリエチレン−2,6−ナフタレートはも
ちろんのこと、例えば全じカルボン酸成分の80モル%以
上がテレフタル酸および/又は2,6−ナフタレンジカル
ボン酸であり、全グリコール成分の80モル%以上がエチ
レングリコールである共重合体が好ましい。その際全酸
成分の20モル%以下はテレフタル酸および/又は2,6−
ナフタレンジカルボン酸以外の上記芳香族ジカルボン酸
であることができ、また例えばアジピン酸,セバチン酸
等の如き脂肪族ジカルボン酸;シクロヘキサン−1,4−
ジカルボン酸の如き脂環族ジカルボン酸等であることが
できる。また、全グリコール成分の20モル%以下は、エ
チレングリコール以外の上記グリコールであることがで
き、あるいは例えばハイドロキノン,レゾルシン,2,2−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン等の如き芳香
族ジオール;1,4−ジヒドロキシジメチルベンゼンの如き
芳香環を有する脂肪族ジオール;ポリエチレングリコー
ル,ポリプロピレングリコール,ポリテトラメチレング
リコール等の如きポリアルキレングリコール(ポリオキ
シアルキレングリコール)等であることもできる。
また、本発明におけるポリエステルには例えばヒドロ
キシ安息香酸の如き芳香族オキシ酸,ω−ヒドロキシカ
プロン酸の如き脂肪族オキシ酸等のオキシカルボン酸に
由来する成分を、ジカルボン酸成分及びオキシカルボン
酸成分の総量に対し20モル%以下で共重合あるいは結合
するものも包含される。
さらに本発明におけるポリエステルには実質的に線状
である範囲の量、例えば全酸成分に対し2モル%以下の
量で、3官能以上のポリカルボン酸又はポリヒドロキシ
化合物、例えばトリメリット酸,ペンタエリスリトール
等を共重合したものも包含される。
上記ポリエステルは、それ自体公知であり、かつそれ
自体公知の方法で製造することができる。
上記ポリエステルとしては、o−クロロフェノール中
の溶液として35℃で測定して求めた固有粘度が約0.4〜
約0.9のものが好ましい。
本発明の二軸配向ポリエステルフイルムは、そのフイ
ルム表面の平坦性を定義する突起分布の説明から明らか
なとおり、フイルム表面に多数の微細な突起を有してい
る。
それらの多数の微細な突起は本発明によればポリエス
テル中に分散して含有される多数の実質的に不活性な固
体微粒子に由来する。
ポリエステル中に存在する粒子によって形成されてい
るフイルム表面の突起の分布曲線が、高さx(μm)が
0.05μm以上で突起の数y(個/mm2)が30個/mm2以上
の範囲において、下記式(A)を満足することが肝要で
ある。
−11.4x+4<logy<−10.0x+5 …(A) ここで、xは基準レベルからの高さ方向の距離(μ
m)であり、yは高さxでカットした時にカウントされ
る突起の数(個/mm2)である。
突起分布曲線が(A)式の範囲から外れると、フイル
ムはバックコートを設けないで磁気テープとして使用す
ると、走行性が不充分になったり、磁性層を設けても大
突起の存在により磁性層面が粗くなり、電磁変更特性が
不充分となり、磁気記録媒体用としては好ましくない。
本発明において、フイルム表面に形成される突起は、
不活性無機粒子及び(または)耐熱性高分子粒子から選
ばれる粒子、好ましくは2種以内の粒子と、アルミナ粒
子及びコロイダルシリカ粒子とからなる、少なくとも3
種の粒子によることが肝要である。即ち、平均粒径が0.
4〜1.5μmである不活性無機粒子及び(又は)耐熱性高
分子粒子から選ばれる粒子0.01〜1.0重量%と、フイル
ム中での独立存在率が80%以上、平均粒径が0.06〜0.2
μmであるアルミナ粒子0.05〜1.0重量%と、平均粒径
がアルミナ粒子より大きくて0.1〜0.3μmであるコロイ
ダルシリカ粒子0.05〜2.0重量%とをポリエステル中に
存在させることにより、フイルム表面に突起を形成する
ことが必要である。
本発明における不活性無機粒子及び(又は)耐熱性高
分子粒子から選ばれる粒子は、平均粒径が0.4〜1.5μ
m、好ましくは0.5〜1.0μmであり、添加量が0.01〜1.
0重量%、好ましくは0.05〜0.5重量%であるが、該粒子
は併用することができ、この場合2種以内の粒子の使用
が好ましい。この場合、それぞれの粒子は上記平均粒径
を満足する必要があり、また添加量は合計量が上記添加
量を満足するようにする。これら粒子の平均粒径が0.4
μm未満では形成される突起の高さが不十分であり、得
られるフイルムの易滑性が不十分になる。一方平均粒径
が1.5μmを越えると、形成される突起の高さが大きく
なりすぎ、磁気記録媒体用として用いるにはフイルム表
面が粗くなりすぎ、好ましくない。また添加量が0.01重
量%未満では形成される突起数が不足し易滑性が不十分
になるし、添加量が1.0重量%を越えるとフイルム表面
が粗くなりすぎ、磁気記録媒体用としては適さない。
上記不活性無機粒子の具体例としては、酸化ケイ素,
炭酸カルシウム,タルク,クレイ,カオリン等が挙げら
れるが、なかでも球状シリカ,炭酸カルシウムが易滑性
の点より好ましい。また上記耐熱性高分子粒子の具体例
としては、シリコーン樹脂粒子,架橋アクリル粒子,架
橋ポリスチレン粒子,架橋ポリエステル粒子,テフロン
粒子,ポリイミド粒子などの有機高分子粒子が挙げられ
るが、なかでもシリコーン樹脂粒子が好ましい。
本発明においては、上記不活性無機粒子及び(又は)
耐熱性高分子粒子に加えて、フイルム中での独立存在率
が80%以上、平均粒径が0.06〜0.2μmであるアルミナ
粒子0.05〜1.0重量%と、平均粒径がアルミナ粒子より
大きくて0.1〜0.3μmであるコロイダルシリカ粒子0.05
〜2.0重量%、より好ましくは0.1〜1.0重量%添加する
ことが肝要である。添加するアルミナ粒子及びコロイダ
ルシリカ粒子はフイルム表面上で不活性無機粒子及び/
又は耐熱性高分子粒子により形成される高突起間に微細
な突起を形成する。
この2種類の微細な突起は、フイルムの地肌部分の摩
擦係数の低下に寄与していると考えられるが、本発明者
の検討ではその作用効果が異なり、アルミナ粒子による
微細な突起は表面を十分に仕上げていない金属ガイドや
プラスチックガイドとの接触において優れた耐削れ性及
び耐スクラッチ性を発揮し、コロイダルシリカ粒子によ
る微細な突起はプラスチックガイドや表面仕上げの良好
な金属ガイドとの接触において優れた耐削れ性及び耐ス
クラッチ性を発揮すること、そして表面仕上げの良好な
金属ガイド、表面を十分に仕上げていない金属ガイド及
びプラスチックガイドの全てにわたって優れた耐削れ
性,耐スクラッチ性を得るためにはこの2種の粒子を特
定の範囲で共存させることが必要であることが明らかと
なった。
本発明で用いるアルミナ粒子は上記した特性をもつ必
要があり、平均粒径が0.06μm未満ではフイルム地肌部
分に形成される突起が小さく、摩擦係数低下が不十分と
なり、一方0.2μmを越えると形成される突起が大きく
なりすぎ、摩擦体特にプラスチックガイドとの高速接触
時の削れ性が悪化し、望ましくない。またアルミナ粒子
の添加量が0.05重量%未満ではフイルム地肌部分に形成
される突起数が不十分で耐削れ性,耐スクラッチ性の改
良が望めないし、一方1.0重量%を越えると、地肌部分
でアルミナ粒子の突起の重なりが発生し、耐削れ性が悪
化する。さらに添加するアルミナ粒子の80%以上がフイ
ルム中で独立していることも重要であり、これを満たさ
ないと耐削れ性が悪化する。
本発明で用いるアルミナ粒子は、モース硬度が8未満
のγタイプ結晶体であることがより好ましい。モース硬
度が9のαタイプ結晶体のアルミナ粒子を用いる場合に
は、添加条件によっては、磁気テープ等の製造工程で長
時間ランニングされた時、添加粒子が硬すぎるため、工
程内のロール等を傷つけることがあるし、また、磁気テ
ープ等の走行及びカセットへの巻込み時に金属ガイド側
を傷つけ、削れ粉の発生やベースクラッチの原因となる
ことがある。
本発明で用いるコロイダルシリカ粒子は平均粒径が共
存するアルミナ粒子より大きくて0.1〜0.3μmでなけれ
ばならない。この粒径がアルミナ粒子より小さいと、表
面仕上げの良好な金属ガイドとの接触において耐スクラ
ッチ性が劣る。またこの粒径が0.1μm未満でも表面仕
上げの良好な金属ガイドとの接触において耐スクラッチ
性が劣る。一方この粒径が0.3μmを越えると、形成さ
れる突起が大きくなりすぎ、摩擦体、特に表面を十分に
仕上げていない金属ガイドとの高速接触時の削れ性が悪
化し望ましくない。添加量が0.05重量%未満では形成さ
れる突起数が不十分で耐スクラッチ性の改良が認められ
ないし、一方2.0重量%を越えると耐削れ性が悪化す
る。本発明で用いるコロイダルシリカ粒子は粉体重量比
100〜300ppmのNaを含有することが好ましい。Na含有量
がこの範囲を外れると対スクラッチ性が劣るようにな
る。この原因は定かではないが、ポリエステル中で粒子
の存在状態に微妙な差が出ることによるものと考えられ
る。
かかるコロイダルシリカの製造法としては硅酸Naを出
発原料として透析法,電気分解法,塩析出法あるいはイ
オン交換樹脂により活性シリカゾルを作り、ついで重合
する方法等があげられるが、得られる粒子の均一性から
イオン交換樹脂−重合法が最も好ましい。
本発明においてポリエステル中に上述した不活性粒子
を含有させる方法は、特に限定されないが、例えば不活
性無機粒子及び(又は)耐熱性高分子粒子とアルミナ粒
子及びコロイダルシリカ粒子とを、ポリエステルの重合
前又は重合中に添加しポリエステルと緊密に混合する方
法、重合終了後のポリステルをペレタイズするとき添加
し押出機中で緊密に混合する方法、シート状に溶融押出
しする際押出機中でポリエステルと十分に混練する方法
等が挙げられる。これらの中、ポリエステルの重合前又
は重合中に添加する方法が好ましい。
本発明の二軸配向フイルムは走行摩擦係数上昇(Δμ
k)が0.15未満である必要がある。Δμkが0.15以上に
なると、走行特性が不十分となり、例えば磁気テープを
繰返し使用すると該テープの走行性が低下し、μkが0.
3を越えると走行ストップのトラブルを起すようにな
る。Δμkの調節は、不活性粒子の種類,粒径,添加量
や延伸配向条件等で行うが、特に他の不活性無機粒子及
び(又は)耐熱性高分子粒子の特性選択で行うのが好ま
しい。
本発明の二軸配向ポリエステルフイルムは、例えば、
融点(Tm:℃)ないし(Tm+70)℃の温度でポリエステ
ルを溶押して固有粘度0.35〜0.9dl/gの未延伸フイルム
を得、該未延伸フイルムを一軸方向(縦方向又は横方
向)に(Tg−10)〜(Tg+70)℃の温度(ただし、Tg:
ポリエステルのガラス転移温度)で2.5〜5.0倍の倍率で
延伸し、次いで上記延伸方向と直角方向(一段目延伸が
縦方向の場合には、二段目延伸は横方向となる)にTg
(℃)〜(Tg+70)℃の温度で2.5〜5.0倍の倍率で延伸
することで製造できる。この場合、面積延伸倍率は9〜
22倍、さらには12〜22倍にするのが好ましい。延伸手段
は同時二軸延伸、逐次二軸延伸のいずれでもよいが、後
者がより好ましい。
さらに、二軸配向フイルムは、(Tg+70)℃〜Tm
(℃)の温度で熱固定することができる。例えばポリエ
チレンテレフタレートフイルムについては190〜230℃で
熱固定することが好ましい。熱固定時間は例えば1〜60
秒である。
本発明の二軸配向ポリエステルフイルムは、特定範囲
の不活性無機粒子及び(又は)耐熱性高分子粒子、及び
アルミナ粒子,コロイダルシリカ粒子を含有するため、
易滑性に優れるとともに、表面仕上げの良好な金属ガイ
ド、表面を十分に仕上げていない金属ガイド及びプラス
チックガイドの全てにわたって優れた耐削れ性,耐スク
ラッチ性を有しており、磁気記録媒体用として極めて有
用である。
なお、本発明における種々の物性値及び特性は以下の
如くして測定されたものでありかつ定義される。
(1)粒子の平均粒径(DP) 島津製作所製CP−50型セントリフュグルパーティクル
サイズ アナライザー(Centrifugal Particle Size
Analyser)を用いて測定する。得られる遠心沈降曲線を
基に算出した各粒径の粒子とその存在量との積算曲線か
ら、50マスパーセントに相当する粒径を読み取り、この
値を上記平均粒径とする(Book「粒度測定技術」日刊工
業新聞社発行,1975年,頁242〜247参照)。
(2)フイルムの走行摩擦係数(μk) 第1図に示した装置を用いて下記のようにして測定す
る。第1図中、1は巻出しリール、2はテンションコン
トローラ、3,5,6,8,9及び11はフリーローラー、4はテ
ンション検出機(入口)、7はステンレス鋼SUS304製の
固定棒(外径5mmφ、表面粗Ra=0.02μm)、10はテン
ション検出機(出口)、12はガイドローラー、13は巻取
りリールをそれぞれ示す。
温度20℃,湿度60%の環境で、巾1/2インチに裁断し
たフイルムを7の固定棒に角度θ=(152/181)πラジ
アン(152°)で接触させて毎分200cmの速さで移動(摩
擦)させる。入口テンションT1が35gとなるようにテン
ションコントローラー2を調整した時の出口テンション
(T2:g)をフイルムが90m走行したのちに出口テンショ
ン検出機で検出し、次式で走行摩擦係数μkを算出す
る。
μk=(2.303/θ)log(T2/T1) =0.868log(T2/35) (3)フイルムの走行摩擦係数上昇(Δμk) 上記フイルムの走行摩擦係数(μk)を測定する装置
を用いてフイルム移動速度を2m/分として10m長のフイル
ムを50回繰返し走行させる。その時の1回目の摩擦係数
をμk1,50回目の摩擦係数をμk50として下記式によりΔ
μkを算出する。
Δμk=μk50−μk1 (4)フイルム表面の平坦性 Ra(中心線平均粗さ)をJIS B 0601に準じて測定す
る。東京精密社(株)製の触針式表面粗さ計(SURFCOM3
B)を用いて、針の半径2μm,荷重0.7gの条件下にチャ
ート(フイルム表面粗さ曲線)をかかせ、得られるフイ
ルム表面粗さ曲線からその中心線の方向に測定長さLの
部分を抜き取り、この抜き取り部分の中心線をX軸と
し、縦倍率の方向をY軸として、粗さ曲線Y=f(X)
で表わしたとき、次の式で与えられる値(Ra:μm)を
フイルム表面の平坦性として定義する。
本発明では、基準長を0.25mmとして8個測定し、値の
大きい方から3個除いた5個の平均値としてRaを表わ
す。
(5)突起分布 小坂研究所製三次元粗さ計(SE−30K)を用いて針径
2μmR,針圧30mg,測定長1mm,サンプリングピッチ2μm,
カットオフ0.25mm,縦方向拡大倍率2万倍,横方向拡大
倍率200倍,走査本数150本の条件にてフイルム表面の突
起のプロファイルを三次元的(立体的)にイメージさせ
る。
そのプロファイルをフイルムの厚さ方向と直角方向の
平面でカットした場合に、各突起のプロファイルの断面
積の合計が、フイルムの測定領域の面積の70%となる平
面を基準レベル(0レベル)とし、その基準レベルの平
面と平行に突起の高さ方向に距離x(μm)だけ離れた
平面でカットしたときにカウントされる突起の数をy
(個/mm2)とする。xを順次増加又は減少させ、その
ときのyの数を読み取り、グラフにプロットすることに
より、突起分布曲線を描く。
(6)粒子の独立存在率 製膜し得られた二軸配向ポリエステルフイルムを走査
型電子顕微鏡用試料台に固定し、日本電子(株)製スパ
ッタリング装置(JFC-1100型イオンスパッターリング装
置)を用いて、フイルム表面を下記条件にてイオンエッ
チング処理を施す。ベンジャー内に上記試料台を設置
し、約10-3Torrの真空状態まで真空度を上げ電圧0.25k
V、電流12.5mAにて約10分間イオンエッチングを実施す
る。さらに同装置にてフイルム表面に金スパッターを施
し、約200Å程度の金薄膜層を形成し、XMA付き走査型電
子顕微鏡を用いて2万倍の倍率について測定を行なう。
測定はランダムに100視野について行ない、アルミナ粒
子であることを確認しつつ総粒子数a及び凝集剥離粒子
数b(製膜時の延伸応力により近接粒子間全幅にわたっ
てボイド発生を伴なうもの)を求め、下記式により、粒
子の独立存在率を求める。
(7)コロイダルシリカ粉体中のNa含有量 コロイダルシリカ粉体をフッ化水素酸を用いて完全に
溶解し、原子吸光法によりNaを定量し、粉体中のNa含有
量を求める。
(8)削れ性,スクラッチ性 フイルムの走行摩擦係数の測定に使用した第1図と同
様の装置において7のステンレス鋼SUS304製固定棒の代
りにSUS304製で表面を十分に仕上げた6φのテープガイ
ド(表面粗さRa=0.015μm)を使った場合をA法、SUS
焼結板を円柱形に曲げた表面仕上げが不十分な6φのテ
ープガイド(表面粗さRa=0.15μm)を使った場合をB
法、第一精工社製カーボンブラック含有ポリアセタール
の6φのテープガイドを使った場合をC法として、かつ
テープガイドでの接触角度を30度として毎分300mの速さ
で入口張力が50g/1/2″となるようにして200m走行させ
る。走行後にガイド上に付着した削れ粉及び走行後テー
プのスクラッチを評価する。
〈削れ粉判定〉 ◎ 削れ粉が全くみられない ○ うっすらと削れ粉がみられる △ 削れ粉の存在が一見して判る × 削れ粉がひどく付着している 〈スクラッチ判定〉 ◎ スクラッチ性が全くみられない ○ 1〜5本のスクラッチが見られる △ 6〜15本のスクラッチが見られる × 16本以上のスクラッチが見られる [実施例] 以下、実施例をあげて本発明を説明する。
実施例1〜4、比較例1〜6 ジメチルテレフタレートとエチレングリコールとを、
エステル交換触媒として酢酸マンガンを、重合触媒とし
て三酸化アンチモンを、安定剤として亜燐酸を、更に滑
剤として第1表に示す添加粒子を添加して、常法により
重合し、固有粘度(オルソクロロフェノール,35℃)0.6
2のポリエチレンテレフタレートを得た。
このポリエチレンテレフタレートのペレットを170℃
で3時間乾燥後押出機ホッパーに供給し、溶融温度280
〜300℃で溶融し、この溶融ポリマーを1mmのスリット状
ダイを通して表面仕上げ0.3s程度、表面温度20℃の回転
冷却ドラム上に押出し、200μmの未延伸フイルムを得
た。
このようにして得られた未延伸フイルムを75℃にて予
熱し、更に低速,高速のロール間で15mm上方より900℃
の表面温度のIRヒーター1本にて加熱して3.6倍に延伸
し、急冷し、続いてステンターに供給し、105℃にて横
方向に3.9倍に延伸した。得られた二軸配向フイルムを2
05℃の温度で5秒間熱固定し、厚み14.2μmの熱固定二
軸配向フイルムを得た。
このようにして得られた14.2μmの二軸配向ポリエス
テルフイルムの特性を第1表に示す。なお、得られたフ
イルムの突起分布を調べたところ実施例1〜4、比較例
1〜5は下記(A)式を満足しており易滑性に優れたも
のになっていたが、比較例6は突起の数y(個/mm2
がlogy<−10.0x+5の関係を規定全範囲については満
足しておらず、50回繰返し走行した後の走行摩擦係数が
0.31と高くなって実用上懸念のあるレベルになってい
る。
−11.4x+4<logy<−10.0x+5 (A) 第1表における削れ性,スクラッチ性の判定としては
○レベル以上であれば磁気テープとしても実用上なんら
懸念はないが、△レベルになると使用条件にもよるが、
テープガイド上の削れ粉やテープ上に入るスクラッチ傷
によってドロップアウトの増加が懸念される。
第1表で明らかなように、本発明によるものは磁気記
録媒体用として優れた易滑性を有するとともに、表面が
十分に仕上げられた金属テープガイド、表面が十分に仕
上げられていない金属テープガイド及びプラスチックテ
ープガイド全てにわたって、優れた耐削れ性,耐スクラ
ッチ性を有しており、磁気記録媒体用二軸配向ポリエス
テルフイルムとして極めて優れた特性を有している。
【図面の簡単な説明】
第1図はフイルムの走行摩擦係数を測定する装置の概略
図である。図中、1は巻出しリール,2はテンションコン
トローラ,4はテンション検出機(入口),7は固定棒,10
はテンション検出機(出口),13は巻取りリールであ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B29L 7:00 B29L 7:00 (56)参考文献 特開 平2−214734(JP,A) 特開 平2−202924(JP,A)

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】二軸配向されたポリエステルフイルムであ
    って、(A)ポリエステル中に存在する粒子によって形
    成されているフイルム表面の突起の分布曲線が、高さx
    (μm)が0.05μm以上で突起の数y(個/mm2)が30
    個/mm2以上の範囲において、下記式(A)を満足し、
    (B)走行摩擦係数上昇(Δμk)が0.15未満であり、
    かつ(C)該突起が、フイルム中での独立存在率が80%
    以上、平均粒径が0.06〜0.2μmであるアルミナ粒子0.0
    5〜1.0重量%と、平均粒径がアルミナ粒子より大きくて
    0.1〜0.3μmであるコロイダルシリカ粒子0.05〜2.0重
    量%と、平均粒径0.4〜1.5μmである不活性無機粒子及
    び(又は)耐熱性高分子粒子0.01〜1.0重量%の存在に
    よって形成されていることを特徴とする磁気記録媒体用
    二軸配向ポリエステルフイルム。 −11.4x+4<logy<−10.0x+5 …(A) ここで、xは基準レベルからの高さ方向の距離(μm)
    であり、yは高さxでカットした時にカウントされる突
    起の数(個/mm2)である。
  2. 【請求項2】アルミナ粒子がモース硬度8未満のγタイ
    プ結晶体の粒子であることを特徴とする請求項1記載の
    磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフイルム。
  3. 【請求項3】コロイダルシリカ粒子が粉体重量比100〜3
    000ppmのNaを含有することを特徴とする請求項1記載の
    磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフイルム。
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