JPH04120546A - 水なし平版印刷版の製版方法 - Google Patents

水なし平版印刷版の製版方法

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JPH04120546A
JPH04120546A JP2241445A JP24144590A JPH04120546A JP H04120546 A JPH04120546 A JP H04120546A JP 2241445 A JP2241445 A JP 2241445A JP 24144590 A JP24144590 A JP 24144590A JP H04120546 A JPH04120546 A JP H04120546A
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silicone rubber
waterless
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layer
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進 吉田
Seiji Shigetaka
繁高 誠司
Koji Furukawa
弘司 古川
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means

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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 C産業上の利用分野〕 本発明は、シリコーンゴム層をインキ反発層とする水な
し平版印刷版の製版方法に関するものであり、特に現像
性、耐久性、およびメンテナンス件に優れた水なし平版
印刷版の新規な製版方法に関するものである。
〔従来の技術〕
シリコーンゴム層をインキ反発層とする水なし平版印刷
版としては、例えば特公昭46−16044号、特公昭
54−26923号、特公昭55−22781号、特公
昭56−23150号、特公昭61−616号などに提
示されているものが挙げられる。これらの水なし平版印
刷版原版(以下、「水なしPS版Jという)は、公知の
方法により画像露光が施された後に、現像液の存在下で
、スポンジ、不織布、ガーゼ又は現像パッド等により版
面をこすり、該印刷原版の画像部シリコーンゴム層を除
去して、水なし平版印刷版とされる。又、自動現像機を
用いて現像処理を行う場合は、特開昭60−59351
号、特開昭63163357号などに提示されているよ
うに、鉄水なしPS版をローラーで搬送しながら、その
表面に接するよう配置された1〜3本のブラシローラー
で、水なしPS版の画像部のシリコーンゴム層をこすり
取る方法が一般的である。
しかし、現像パッドで版面をこすり、シリコーンゴム層
を除去する方法は、力が不均一にかかり、現像むらが発
生しやすく、又、多くの水なしPS版を処理すると、パ
ッドが摩耗し、現像に時間がかかり、たいへんな重労働
である。
さらに、自動現像機にブラシロールを用いる方法は、水
なしPS版の処理量とともにブラシが摩耗又は屈曲し、
網点再現性が低下したり、ブラシローラーの幅方向に現
像むらが生じたりする重大な問題が発生した。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明の目的は、上記の欠点を解消し、耐久性、均一性
があり、現像性およびメンテナンス性に優れた、水なし
平版印刷版の新規な製版方法を提供することである。
〔課題を解決するための手段: 本発明者等は、この問題点を解決すべく鋭意研究の結果
、画像部のシリコーンゴム層を除去する方法として、水
又は水を主成分とする水溶液等の液体を高圧にし、画像
露光された水なしPS版の版面に噴射することにより解
決することを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち本発明は、支持体上に、感光層とシリコーンゴム層
とをこの順に積層した水なしPS版を画像露光した後、
高圧の液体を版面に噴射して、画像部のシリコーンゴム
層を除去することを特徴とする水なし平版印刷版の製版
方法である。
以下、本発明の詳細な説明する。
まず、本発明の露光工程では、基板上に感光層とシリコ
ーンゴム層および必要により保護フィルムを積層した水
なしPS版に、通常の平版用真空焼枠を用いて、ポジフ
ィルムあるいはネガフィルムを真空密着し、該フィルム
を通して活性な光線を照射する。この露光工程で用いら
れる光源は、紫外線を豊富に発生するものであり、水銀
灯、カーボンアーク灯、キセノンランプ、メタルハライ
ドランプ、蛍光灯などを使うことができる。
保護フィルムが存在する場合は、保護フィルムを取り去
った後、該印刷版の版面に、高圧の液体を噴射して、画
像部のシリコーンゴム層を除去する。この際、処理の方
法としては、印刷版全体を処理液中に浸漬した後、高圧
の液体を噴射してもよいし、版面に処理液をスポンジ、
不織布、ガーゼなどで均一に塗布した後、高圧の液体を
噴射してもよい。又、噴射する高圧の液体は、前述の処
理液と同一であってもよいし、異なってもよい。
特に上記の処理方法を自動現像機で行う場合には、処理
液中に浸漬又は、処理液の塗布を行うゾーンと高圧の液
体を噴射してシリコーンゴム層を除去するゾーンを別別
に設けても良いし、同一のゾーン内で処理液を噴射して
もよい。又、浸漬と同時に、処理液を噴射してもよい。
さらに又、画像部のシリコーンゴム層を除去する他の方
法としては、処理液による浸漬を行なわずに、高圧の液
体を噴射して行うこともできる。
上記高圧の液体を版面に噴射し、シリコーンコム層を除
去する方法に、ブラシローラー又は、現像パッドを使用
する方法を併用してもよい。又、シリコーンゴム層を除
去すると同時に、感光層の一部又は全部を除去してもよ
い。
本発明において使用される高圧の液体としては、水;ア
ルコール類(例えばメタノール、エタノール、n−プロ
パツール、イソプロパツール、3−メトキシブタノール
、3−メチル−3−メトキシブタノール、エチルカルピ
トール、ブチルカルピトール、エチルセロソルブ、ブチ
ルセロソルブ、ベンジルアルコール、n−アミルアルコ
ール等);グリコール類(例えば1.2−ブタンジオー
ル、1.3−ブタンジオール、■、4−ブタンジオール
、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレ
ングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピ
レングリコール、ポリプロピレングリコールエチレンオ
キサイド付加反応物等)エステル@(例えばコハク酸ジ
エチル、フタル類ンメチル、安息香酸ベンジル、エチレ
ングリコールジアセテート、酢酸エチル、酢酸ブチル、
エチルセロソルブアセテート、酢酸カルピトール、安息
香酸メチル、リン酸トリエチル、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、シュウ酸ジエチル、酢酸イソブチル等);ケトン類
(例えばアセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ノン、ジイソブチルケトン、アセトフェノン、イソホロ
ン等);エーテル類(例えばエチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル
、トリエチレングリコールジメチルエーテノベ トリプ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレ
ングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリ
コールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチル
エーテル、エチレングリコールモノ−n−ヘキシルエー
テル、ジエチレングリコールモノ−n−ヘキシルエーテ
ル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレ
ングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコール
ジ−n−ブチルエーテル、エチレングリコールベンジル
エーテル、ジエチレングリコールモノ−メチルエーテル
、ジエチレングリコール−モノ−n−ペンチルエーテル
、ジエチレングリコール−モノ−n−へプチルエーテノ
ペジエチレングリコールーモノーオクチルエーテル、エ
チレングリコール−モノ−n−ペンチルエーテル、エチ
レングリコール−モノ−n−へブチルエーテル、エチレ
ングリコール−モノ−オクチルエーテル、プロピレング
リコール−モノ−ブチルエーテル、プロピレングリコー
ルーモノーベンチルエーテノベプロピレングリコールー
モノーn−ヘキシルエーテル、プロピレングリコール−
モノ−ヘプチルエーテル、プロピレングリコール−モノ
−オクチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチ
ルエーテノペジブロビレングリコールーモノーブチルエ
ーテル、ジプロピレングリコール−モノ−ペンチルエー
テル、ジプロピレングリコール−モノ−n−ヘキシルエ
ーテル、ジプロピレングリコール−モノ−オクチルエー
テル、ジエチレングリコール−モノ−オクテニルエーテ
ル等);アミン類(メチルアミン、エチルアミン、ジメ
チルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、プ
ロピルアミン、ブチルアミン、アミルアミン、ジプロピ
ルアミン、ジブチルアミン、シアミルアミン、トリプロ
ピルアミン、トリブチルアミン、メチルジエチルアミン
、エチレンジアミン、トリメチレンジアミン、テトラメ
チレンジアミン、ベンジルアミン、N、N−ジメチルベ
ンジルアミン、N、N−ジエチルベンジルアミン、0−
またはm−またはp−メトキシまたはメチルベンジルア
ミン、N。
N−ジ(メトキシベンジル)アミン、β−フェニルエチ
ルアミン、r−フェニルプロピルアミン、シクロヘキシ
ルアミン、αまたはβ−ナフチルアミン、o−またはm
−またはp−フェニレンジアミン、モノエタノールアミ
ン、ジェタノールアミン、トリエタノールアミン、2−
メチルアミノエタノーノベ 2−エチルアミンエタノー
ル、2(2−アミノエチル)エタノール、2−アミノ−
2−メチル−1,3−プロパンジオール、2−アミノ−
1,3−プロパンジオール 2−アミノ−2−ヒドロキ
シメチル−1,3−プロパンジオール、3−メトキシプ
ロピルアミン、3−エトキシプロピルアミン、3−プロ
ポキシプロピルアミン、3−イソプロポ牛ジプロピルア
ミン、3ブトキシプロピルアミン、3−インブトキシプ
ロピルアミン、2−エチルへキシロ牛ジプロピルアミン
、2エトキシエチルアミン、2−プロポキシエチルアミ
ン、2−ブトキシエチルアミン等);有機酸類(例えば
乳酸、酢酸、プロピオン酸、n−酪酸、イソ酪酸、n〜
吉草酸、イソ吉草酸、メチルエチル酢酸、トリメチル酢
酸、カプロン酸、インカプロン酸、α−メチル吉草酸、
2−エチル−n−酪酸、エナント酸、カプリル酸、2−
エチルへ牛サン酸等);鮨肪族炭化水素類(ヘキサン、
ヘプタン、“アイソパーE、H,G” (エッソ化学製
’AM肪族炭化水素類の商品名)あるいはガソリン、灯
油等);芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等);
あるいはハロゲン化炭化水素類(トリクレン等)などの
単独または混合溶媒が使用される。
又、これらの単独または混合物の水溶液、さらに上記溶
剤を適当な可溶化剤で可溶化したもの、さらに又、上記
溶剤を適当な乳化剤でエマルションとしたものも使用で
きる。
又、無機塩類、キレート剤、界面活性剤、染料その他の
添加剤等を加えることもできる。
これらのうち、水又は水を主成分とする水溶液が特に好
ましい。
高圧の液体の圧力は、10〜200 kg/’cd、好
ましくは、10〜100kg/ctが適当である。圧力
が低いと現像に時間がかかるかもしくは現像不良となる
。又圧力が高すぎると、除去しないで残すべき部分を損
傷させたり、機器が大型になり、コスト的にも不利であ
る。また、高圧の液体の温度は、5〜80℃、好ましく
は20〜50℃が適当である。
また、浸漬処理のための処理液としては、上記にあげた
液体を使用することができる。
(支持体) 本発明に使用する水なしPS版の支持体としては、寸度
的に安定な板状物が用いられる。このような寸度的に安
定な板状物としては、従来印刷板の支持体として使用さ
れたものが含まれ、それらを好適に使用することができ
る。かかる支持体としては、紙、プラスチック(例えば
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど)が
ラミネトされた紙、例えばアルミニウム(アルミニウム
合金も含む。)、亜鉛、銅などのような金萬の板、例え
ば二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸
セルロース、酢酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝
酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチ
レン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネー
ト、ポリビニルアセタールなどのようなプラスチックの
フィルム、上記の如き金属がラミネートもしくは蒸着さ
れた紙もしくはプラスチックフィルムなどが含まれる。
これらの支持体のうち、アルミニウム板は寸度的に著し
く安定であり、しかも安価であるので特に好ましい。更
に、特公昭48−18327号公報に記されているよう
なポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウ
ムシートが結合された複合体シートも好ましい。
(プライマー層) 本発明で使用する水なしPS版は、支持体と感光層の接
着を強固にするた約、プライマー層を設けても良い。
本発明で使用する水なしPS版のプライマー層は、次の
条件を満たすことが必要である。すなわち、支持体と感
光層とをよく接着し、経時において安一定であること、
さらに現像液の溶剤に対する耐溶剤性が良いこと、であ
る。
この様な条件を満たすものとして、特公昭61−542
19号公報に示されるようなエポキシ樹脂を含むものの
他、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、ア
ルキッド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、メ
ラミン樹脂等を使用することが出来る。また、感光性層
と類似の組成物を光硬化したものを使用してもよい。ま
た、これ等のプライマー層にはハレーション防止及びそ
の他の目的で染料、顔料等の添加剤も含有させてもよい
プライマー層の厚さは被覆量にして1〜50g/m″の
範囲が適当である。
(感光層) 本発明で使用される感光層は一般的には露光によって現
像液に対する溶解性に差が生じるか、又は上層のシリコ
ーンゴム層との界面で接着性に変化を生じるものであれ
ばいかなるものであっても使用することができる。画像
形成は、ネガ型でもポジ型でもよい。
このような感光層を構成する化合物又は組成物には、次
のものが含まれる。
(A)光重合型感光性樹脂層: (i)オレフィン性不飽和二重結合基を有するモノマー
又はオリゴマー (ii)必要に応じて使用される、フ
ィルム形成能を有する高分子化合物及び(iii )光
重合開始剤からなる光重合性組成物の層。
上記成分(1)〜(iii )を含む感光性樹脂層の中
で成分(i>と(11)が結合した高分子化合物、即ち
、側鎖に光重合可能又は光架橋可能でかつオレフィン性
の不飽和二重結合基を有するとともにフィルム形成能を
有する高分子化合物を含む感光性樹脂層も本発明に用い
るのに好適である。また、成分(i)と(11)が結合
した化合物に、更に成分(1)の千ツマ−又はオリゴマ
ーを添加した感光性樹脂層は更に好適である。
このようなモノマー又はオリコマ−としては、ポリエチ
レングリコールモノ (メタ)アクリレート、ポリプロ
ピレングリコールモノ (メタ)アクリレート、フェノ
キンエチル(メタ)アクリレート等の単官能のアクリレ
ートやメタクリレート;ポリプロレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールエタントリ (メタ
)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)ア
クリレート、ペンタエリスリトールトリ (メタ)アク
リレート、ペンタエリスリトールテトラ (メタ)アク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキ勺 (メタ)ア
クリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート
、トリメチロールプロパントリ (゛γクリロイルオキ
シプロピル)エーテル、トリ (アクリロイルオキシエ
チル)イソシアヌレート、(メタ)アクリル酸カルシウ
ム、(メタ)アクリル酸ナトリウム、グリセリンやトリ
メチロールエタン等の多官能アルコールにエチレンオキ
サイドやプロピレンオキサイドを付加させた後(メタ)
アクリレート化したもの、特公昭48−41708号、
特公昭50−6034号、特開昭51−37193号各
公報に記載されているようなウレタンアクリレート類、
特開昭48−64183号、特公昭49−43191号
、特公昭51−30490号各公報に記載されているポ
リエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)ア
クリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官
能のアクリレートやメタクリレート、米国特許第454
0649号公報に記載のN−メチロールアクリルアミド
誘導体を挙げることができる。更に日本接着協会誌Vo
l、 20、No、 7.300〜308頁(1984
年)に光硬化件モノ7−及びオリゴマーとして紹介され
ているものも使用することができる。これらの千ツマ−
及びオリゴマーは一般に全感光性樹脂層の70〜1重量
%、好ましくは50〜3重量%で含まれる。
成分(ii):フィルム形成能を有する化合物このよう
なフィルム形成能を有する高分子化合物としては、メタ
クリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、クロトン酸共
重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン
酸共重合体、酸性セルロース誘導体、ポリビニルピロリ
ドン、ポリエチレンオキサイド、アルコール可溶性ナイ
ロン、ポリエステル、不飽和ポリエステル、ポリウレタ
ン、ポリスチレン、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポ
リビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリ塩化
ビニル、ポリビニルアルコール、部分アセタール化ポリ
ビニルアルコール、水溶性ナイロン、水溶性ウレタン樹
脂、ゼラチン、水溶性セルロース誘導体等を挙げること
が出来る。
成分(1)と(11)が結合した高分子化合物このよう
な高分子化合物としては、特開昭59−53836号公
報に記載されているようなアリル(メタ)アクリレート
/(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合
性ビニルモノマー共重合体、及びそのアルカリ金属塩又
はアミン塩;特公昭59−45979号公報に記載され
ているヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/(メタ
)アクリル酸/アルキル(メタ)アクリレート共重合体
及びそのアルカリ金属塩又はアミン塩に(メタ)アクリ
ル酸クロライドを反応させたもの;特開昭59−710
48号公報に記載されているような無水マレイン酸共重
合体にペンタエリスリトールトリアクリレートを半エス
テル化で付加させたもの及びそのアルカリ金属塩又はア
ミン塩;スチレン/無水マレイン酸共重合体にモノヒド
ロキシアルキル(メタ)アクリレート、ポリエチレング
リコールモノ (メタ)アクリレートやポリプロピレン
グリコールモノ (メタ)アクリレートを半エステル化
で付加させたもの及びそのアルカリ金属塩やアミン塩;
 (メタ)アクリル酸共重合体やクロトン酸共重合体の
カルボン酸の一部にグリシジル(メタ)アクリレートを
反応させたもの及びそのアルカリ金属塩やアミン塩;ヒ
ドロキシアルキル(メタ)アクリレート共重合体、ポリ
ヒ゛ニルホルマール、ポリビニルブチラールに無水マレ
イン酸や無水イタコン酸を反応させたもの及びそのアル
カリ金属塩やアミン塩;ヒドロキシアルキル(メタ)ア
クリレート/(メタ)アクリル酸共重合体に2.4−)
リレンジイソシアネート/ヒト′ロキシアルキル(メタ
)アクリレート−1/1付加物を反応させたもの及びそ
のアルカリ金属塩やアミン塩;特開昭59−53836
号公報に記載されている(メタ)アクリル酸共重合体の
一部を了りルグリシジルエーテルで反応させたもの及び
そのアルカリ金属塩又はアミン塩; (メタ)アクリル
酸ビニル/(メタ)アクリル酸共重合体及びそのアルカ
リ金属塩又はアミン塩; (メタ)アリルアクリレート
/スチレンスルホン酸ナトリウム共重合体;(メタ)ア
クリル酸ビニル/スチレンスルホン酸ナトリウム共重合
体、(メタ)アリルアクリレート/アクリルアミド−1
.1−ジメチルエチレンスルホン酸ナトリウム共重合体
、(メタ)アクリル酸ビニル/アクリルアミド−1.1
ジメチル工チレンスルホン酸ナトリウム共重合体、2−
アリロキシエチルヌクアクリレート/メタクリル酸共重
合体、2−アリロキシエチルメタアクリレート/2−メ
タクリロキシエチル水素サクシネート共重合体等を挙げ
ることが出来る。
この高分子化合物は、一般に全感光性樹脂層中30〜9
9重量%、好ましくは50〜97重量%で含まれる。
成分(iii):光重合開始剤 このような光重合開始剤としては、米国特許第2、 3
67、 660号明細書に開示されているヒ゛シナール
ポリケタルドニル化合物、米国特許第2, 367、 
661号及び第2, 367、 670号明細書に開示
されているα−カルボニル化合物、米国特許第2, 4
88, 828号明細書に開示されているアシロインエ
ーテル、米国特許第2, 722. 512号明細書に
開示されているα位が炭化水素で置換された芳香族アシ
ロイン化合物、米国特許第3, 046, 127号及
び第2, 951,758号明細書に開示されている多
核牛ノン化合物、米国特許第3, 549. 367号
明細書に開示されているトリアリールイミダゾールダイ
マー/p−アミノフェニルケトンの組み合せ、米国特許
第3, 870, 524号明細書に開示されているベ
ンゾチアゾール系化合物、米国特許第4, 239, 
850号明細書に開示されているベンゾチアゾール系化
合物/トリハロメチル−S−トリアジン系化合物及び米
国特許第3, 751, 259号明,細書に開示され
ているアクリジン及びフェナジン化合物、米国特許第4
, 212, 970号明細書に開示されているオキサ
ジアゾール化合物、米国特許第3, 954, 475
号、特開昭53−133428号、米国特許第4, 1
89. 323号、特開昭60105667号、特開昭
26−58241号、特開昭6 3−1 5 3 5 
4 2号公報に開示されている発色団基を有するトリハ
ロメチル−S−1 !Jアジン系化合物、特開昭59−
197401号、特開昭60−76503号公報に開示
されているベンゾフェノン基含有ペルオキシエステル化
合物等を挙げることができる。
これらの光重合開始剤の添加量は全感光性樹脂層に対し
て0.1〜20重量%、好ましくは1〜10重量%であ
る。
その他の成分 以上の他に、感光性樹脂層には、プライマー層との接着
性を改善させるために少量の光硬化性ジアゾ樹脂を添加
しても良い。このようなジアゾ樹脂としては、米国特許
第3, 867、 147号や米国特許第2, 632
, 703号記載のものが挙げられるが、特に芳香族ジ
アゾニウム塩と活性なカルボニル含有化合物(例えばホ
ルムアルデヒド)との縮合物で代表されるジアゾ樹脂が
有用である。好ましいジアゾ樹脂には、例えばp−ジア
ゾジフェニルアミンとホルムアルデヒド又はアセトアル
デヒドの縮合物のへキサフルオロリン酸塩、テトラフル
オロホウ酸塩、リン酸塩が含まれる。また、米国特許第
3、 300, 309号に記載されているようなp−
ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドの縮合物の
スルホン酸塩(例工It p  )ルエンスルホン酸塩
、ドデシルベンゼンスルホン酸塩、2−メトキシ4−ヒ
ドロキシ−5−ベンゾイルベンゼンスルホン酸塩など)
、ホスフィン酸塩、有機カルボン酸塩なども好ましい。
上記ジアゾ樹脂の好ましい添加量は全感光性樹脂層に対
して0.1〜5重量%である。
更に、感光性樹脂層には熱重合防止剤を加えておくこと
が好ましい。例えば、ハイドロキノン、p−メトキシフ
ェノール、ジ−t−ブチル−pクレソ′−ル、ピロガロ
ール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4.4’
 −チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール
)、2.2’メチレンビス(4−メチル−3−t−ブチ
ルフェノール)、2−メルカプトベンゾイミダゾール等
が有用である。
また、場合によっては感光性樹脂層の着色を目的として
染料もしくは顔料や焼き出し剤としてp+指示薬やロイ
コ染料を添加してもよい。目的によっては更に感光性樹
脂層中に少量のポリジメチルシロキサン、メチルスチレ
ン変性ポリジメチルシロキサン、オレフィン変・性ポリ
ジメチルシロキサン、ポリエーテル変性ポリジメチルシ
ロキサン、シランカップリング斉Lシリコーンジアクリ
レート、シリコーンジメタクリレート等のシリコーン化
合物を添加してもよい。また、塗布適性を向上させるた
めにフッ素系界面活性剤を添加してもよい。これらの添
加剤の添加量は通常全感光性樹脂層に対して10重量%
以下である。更に場合によってはシリコーンゴム層との
接着性を強化するた約に、シリカ粉末や、表面を(メタ
)アクリロイル基やアリル基含有シランカップリング剤
で処理した疎水性シリカ粉末を全感光性樹脂層に対して
50重量%以下の量で添加してもよい。
(B)光二量化型感光層: 重合体の主鎖又は側鎖に、 (1?’は炭素数1−1 0のアルキル (R”、 R3はそれぞれアルキル基を示し、 R2とR3と が一緒になって5員環又は6員環を形成してもよい) 又は (R’は炭素数1〜10のアルキル基)基を含む高分子
化合物からなるものが含まれる。
重合体主鎖又は側鎖に感光性基として、チル類、ポリア
ミド類、ポリカーボネート類のような感光性重合体を主
成分とするもの(例えば米国特許第3, 030, 2
08号、同第3, 707, 373号及び同第3、 
453, 237号の各明細書に記載されているような
化合物);シンナミリデンマロン酸等の(2−プロペニ
リデン)マロン酸化合物及び二官能性グリコール類から
誘導される感光性ポリエステル類を主成分としたもの(
例えば、米国特許第2, 956, 878号及び同第
3, 173, 737号の各明細書に記載されている
ような感光性重合体);ポリビニルアルコール、澱粉、
セルロース及びその類似物のような水酸基含有重合体の
ケイ皮酸エステル類(例えば、米国特許第2.690.
966号、同第2.752.372号、同第2.732
.301号等の各明細書に記載されているような感光性
重合体)、更に特開昭58〜25302号、同59−1
7550号公報に記載されている重合体等が包含される
(C)光硬化性ジアゾ樹脂あるいはアジド樹脂と、必要
ならば光増感剤と、若干の充填材添加物とからなる組成
物: 光硬化性ジアゾ樹脂としては、バラジアゾジフェニルア
ミン、バラジアゾモノエチルアニリン、バラジアゾベン
ジルエチルアニリンなどのジアゾ系アミンとホルムアル
デヒドとの縮合物の塩化亜鉛複塩を挙げることができる
この感光性樹脂層は光重合性不飽和二重結合基を有する
化合物を含有しない点で(A>で挙げた感光性樹脂層と
は本質的に異る。
光硬化性アジド樹脂としては、ポリビニルアルコールの
アジドフタル酸エステル、あるいはアジド安息香酸エス
テル、スチレン−無水マレイン酸共重合体と、芳香族ア
ジド系アルコーノベ例えばβ−(4−アジドフェノール
)エタノールのエステルなどが挙げられる。
光増感剤、充填剤、添加物としては(A)の例で挙げた
ものを使用できる。
(D) o−キノンジアジド化合物かみなる組成物。
特に好ましい0−キノンジアジド化合物は0ナフトキノ
ンジアジド化合物であり、例えば米国特許第2.766
、118号、同第2.767、092号、同第2、77
2.972号、同第2.859.112号、同第2.9
07.665号、同第3.046.110号、同第3.
046.1.11号、同第3、046.115号、同第
3.046.118号、同第3.046.119号、同
第3.046.120号、同第3.046.121号、
同第3、046.122号、同第3.046.123号
、同第3.061.430号、同第3.102.809
号、同第3.106.465号、同第3、635.70
9号、同第3.647.443号の各明細書をはじ杓、
多数の刊行物に記されており、好適に使用することがで
きる。これらの内でも、特に芳香族ヒドロキシ化合物の
0−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル又は0〜
ナフトキノンジアジドカルボン酸エステル、及び芳香族
アミン化合物の0−ナフトキノンジアジドスルホン酸ア
ミド又は0−ナフトキノンジアジドカルボン酸アミドが
好ましく、例えばベンゾキノン−1,2−ジアジドスル
ホン酸、ナフトキノン−1,2−ジアジドスルホン酸と
ポリヒドロキシフェニルとのエステル(以下、エステル
とは部分エステルも含める)、ナフトキノン−1,2−
ジアジド−4−スルホン酸又はナフトキノン−1,2−
ジアジド−5−スルホン酸とピロガロールアセトン樹脂
とのエステル、ベンゾキノン−1,2−ジアジドスルホ
ン酸又はナフトキノン−1,2−ジアジドスルホン酸と
ノボラック型フェノールホルムアルデヒド樹脂又はノボ
ラック型クレゾールホルムアルデヒド樹脂のエステル、
ポリ (p−アミノスチレン)とナフトキノン−1,2
−ジアジド−4−スルホン酸又はナフトキノン−1,2
−ジアジド−5−スルホン酸のアミド、ポリp−ヒドロ
キシスチレンとナフトキノン−1,2−ジアジド−4−
スルホン酸又はナフトキノン−1,2−ジアジド−5−
スルホン酸のエステル、ポリエチレングリコールとナフ
トキノン−1,2−ジ了シトー4−スルボン酸又はナフ
トキノン−1,2−ジγシトー5−スルホン酸のエステ
ル、重合体アミンとナフトキノン−1,2−ジアジド−
4−スルポン酸又はナフトキノン−1,2−ジアジド−
5−スルポン酸のアミド、ポリメタクリル酸p−ヒドロ
キンアニリドとナフトキノン−1,2−ジアジド−4−
スルホン酸又はナフトキノン−1,2−ジアジド−5ス
ルホン酸のエステル、天然樹脂ロジンをアミン変性した
ものとナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン
酸のアミド、ビスフェノールAとプロピレンオキシドか
らのエポキシ樹脂とナフトキノン−1,2−ジアジド−
5−スルポン酸のエステル、(メタ)アクリル酸とジヒ
ドロ牛ジフェニルのモノエステルのポリマーとナフトキ
ノン−1,2−ジアジド−4−スルポン酸又はナフトキ
ノン−1,2−ジアジド−5−スルポン酸のエステル、
アミノイソフタル酸ジアリルエステルとナフトキノンジ
アジドスルポン酸の縮合物を重合させたもの、ポリカル
ボナートとのキノンジアジドスルホン酸エステル又はキ
ノンジアジド類をイソシアネート等で架橋したもの、ビ
スフェノールAとナフトキノン−1,2−ジアジド−4
−スルホン酸又はナフトキノン−1,2−ジアジド−5
−スルホン酸のエステル、ナフトキノン−1,2−ジア
ジド−5−スルホン酸とフェノーノベpクレゾールなど
のフェノール順、エチル、プロピル、ブチル、アミルア
ルコールなどのアルコール類とのエステル、ナフトキノ
ン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸とアニリン、p
−ヒドロキシアニリンなどのアミン類との酸アミドなど
が挙げられる。
上述の如き感光層用の組成物は、更に必要に応じて米国
特許第3.787.351号、同第4.487.823
号、同第4.822.713号などに記載されているよ
うな界面活性剤を含有させた上、例えば2−メトキシエ
タノール、2−メトキシエチルアセテート、乳酸メチル
、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、メタノール、エタノール、メチルエチルケトン、水
などの適当な溶剤の単独又はこれらの適当に組合せた混
合溶媒に溶解して、支持体上に塗布される。その被覆量
は乾燥後の重量で約0.1〜10 g /’m’の範囲
が適当であり、好ましくは0.5〜5 g / m’で
ある。
また、感光層は、現像で除去されてもされフニ<でも良
い。現像で除去されなかった場合は、露出した感光層が
画線部になることから、染色液に染色されやすいことも
必要である。
(シリコーンゴム層) 本発明に用いる水なしPS版のシリコーンゴム層は0.
5〜50μm、好ましくは0.5〜5μmの厚さが望ま
しい。有用なシリコーンゴムは末端基同志の縮合によっ
て架橋する分子量100−100.000の線状オルガ
ノポリシロキサン(好ましくはジメチルポリシロキサン
)を主成分とする、いわゆる縮合型シリコーンゴム組成
物、あるいは両末端あるいは主鎖中にビニル基を有する
線状オルガノポリシロキサンと白金触媒存在下でメチル
ハイドロジエンシロキサン単位を有する架橋剤とを反応
させる、いわゆる付加型シリコーンゴム組成物から得ら
れるものがある。
(保護層) シリコーンゴム層はインキ反発性を有するものであり、
その表面はいくぶん粘着性を有し、埃などが付着し・や
すい。そのため、露光工程においてポジフィルム又はネ
ガフィルムが十分に密着しにくいなどの問題が起こりや
すい。そこで、シリコーンゴム層の表面に、薄い透明性
の保護フィルムを張りつけることもできる。このように
、保護フィルムは露光工程において有用であるが、勿論
、現像工程において剥離又は溶解によって除去され、印
刷工程においては不必要なものである。有用な保護フィ
ルムは紫外線を透過し得る透明性と、100μm以下、
好ましくは10μm以下の厚みを有する。その代表例と
しては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩
化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール
、ポリエチレンテレフタレート、セロファンを挙げるこ
とができる。
更に、上記保護フィルムの表面にポジフィルム又は、ネ
ガフィルムの真空焼枠中での密着速度を向上させるた約
、例えば特公昭61−11673号公報に記載されてい
るような方法でドツトパターンを付与することも出来る
〔発明の効果〕
本発明において、画像部のシリコーンゴム層を除去する
方法として、高圧の液体を版面に噴射している。この方
法では、ブラシロール又は、現像パッドのように直接版
面に接する部分がないため、ブラシロールおよび現像パ
ッドのように摩耗したり、屈曲したりすることがない。
そのため、常に一定の現像性を維持できる。
さらに、現像パッドの摩耗によるパッドの交換等がない
ため、メンテナンス性にも優れている。
さらにまた、ブラシロール等の不均一な摩耗が生じない
ため、均一に現像できるという利点がある。
(実施例) 以下、実施例により本発明を更に詳しく説明する。なお
、「%」は他に指定のない限り、重量%を示す。
実施例1 通常の方法で脱脂し、ケイ酸ソーダ水溶液で処理したス
ムースアルミニウム板をγ−アミノプロピルトリメト牛
ジシラン0.1%水溶液で10秒間処理し、140℃で
1分間乾燥した。このアルミニウム板上に下記処方のチ
タンホワイト分散液を塗布し、乾燥重量で4.0g/r
n’のプライマー層を設けた。
チタンホワイト分散液 o  ハラフレンP26SRNAT      10重
量部(日本ポリウレタン製) 0 タイベークR−7821〃 (石原産業性) 0 メチルエチルケトン     60〃0 ジメチル
スルホキシド    2o〃上記プライマ一層を塗設し
たアルミニウム板上に、下記の光重合性感光組成物を用
い、乾燥重量で2.0g/m’の感光層を設けた。
感光組成物 0 アジピン酸とエチレンクリコール及び14−ブタン
ジオールとのポリエチレンジオール、1,4−ブタンジ
オール並びにイソホロンシイソンアネートよりなるポリ
ウレタン             2重量部0 メタ
クリル酸グリシジルとキシリレンジアミンとの4モル/
1モル付加反応物 0.45重量部 OCH2=CH−[1:0−0−(−CH2CH2O+
r  C0CH=Cf120.45重量部 0.1  重量部 ディフェンサ−M[:F  (フッ素系界面活性剤)(
大日本インキ化学工業■製) 0.1  重量部 0 ブロムフェノールブルー(pH指示薬)0.01 
 重量部 0 プロピレングリコールモノ メチルエーテル       45重量部0 メチルエ
チルケトン      7重量部次に、上記感光層上に
下記のシリコーンゴム組成物を乾燥重量で2.0g/m
’になるように塗布し、乾燥して、シリコーンゴム硬化
層を得た。
シリコーンゴム組成物 0 両末端に水酸基を有するジメチルポリシロキサン(
分子量:約70,000)  90重量部0 エチルト
リアセトキシシラン  3重量部0 ジブチル錫ジオク
タノエート  1重量部0 アイソバー G (エッソ
化学社製) 1重量部上記のようにして得られたシリコ
ーンゴム層の表面に厚さ9μmの片面マット化OPP 
(二軸延伸ポリプロピレン)フィルムをラミネートし、
水なしPS版を得た。このようにして得られた水なしP
S版にポジフィルムを重ね、真空密着させ、通常の露光
装置を用いて画像露光した後、ラミネートフィルムを剥
離し、30℃のジエチレングリコール千ノーn−ヘキシ
ルエーテルに1分間浸漬した。浸漬後、ゴムスキージで
版面および裏面に付着した処理液を除去した後、株式会
社イッキ社製、高圧ジェット噴射洗浄機JB57’0を
用い、水道水の圧力を40kg/CI[+にして版面に
均一に噴射することにより、画像部のシリコーンゴム層
を除去させた。さらにクリスタルバイオレットの0.5
重量%水溶液で上記印刷版を染色したところ、未露光部
のシリコーンゴム層が除去された部分が染まり、ポジフ
ィルムの画像を忠実に再現した水なし平版印刷版が得ら
れた。
かくして得られた水なし平版印刷版を用いて湿し水供給
装置をはずした小森印刷機械■製「リスロン」印刷機で
印刷した結果、5万枚以上の良好な印刷物が得られた。
実施例2 支持体上に、感光層とシリコーンゴム層とを設けた水な
しPS版TAP (東し製)にポジフィルムを重ね、真
空密着させ、通常の露光装置を用いて画像露光した後、
ラミネートフィルムを剥離し40℃のポリプロピレング
リコール(分子量200)に1分間浸漬した。浸漬後、
実施例1と同様の方法で処理液を除去した後、実施例1
と同様の高圧ジェット噴射洗浄機を用い、水道水の圧力
を30 kg/amにして版面に均一に噴射することに
より、画像部のシリコーンゴム層が除去された。
さらに実施例1と同様に染色したところ、ポジフィルム
の画像を忠実に再現した水なし平版印刷版が得られた。
上比較例 1 高圧ジェット噴射洗浄機の圧力を5kg/cmにした以
外、実施例2と同様の方法で現像および染色処理を行っ
た。
しかし、画像部のシリコーンゴム層が十分に除去されず
、ポジフィルムの画像を忠実に再現することはできなか
った。
実施例3 支持体上に、感光層とシリコーンゴム層とを設けた水な
しPS版TAN−E (東し製)にネガフィルムを重ね
、真空密着させ、通常の露光装置を用いて画像露光した
後、ラミネートフィルムを剥離し、45℃の前処理液N
P−1(東し製)に1分間浸漬した。浸漬後、コムスキ
ージで版面および裏面に付着した処理液を除去した後、
実施例1と同様に水道水の圧力を40kg/crdにし
て版面に噴射した。さらに後処理NA−1(東し製)で
上記印刷版を染色したところ、未露光部のシリコーンゴ
ム層が除去された部分が染まり、ネガフィルムの画像を
忠実に再現した水なし平版印刷版が得られた。
比較例2 高圧ジェット噴射洗浄機の圧力を7kg/cmにした以
外、実施例3と同様の方法で現像および染色処理を行っ
た。
しかし、ネガフィルムの画像を忠実に再現することはで
きなかった。
実施例4 実施例1と同様にして得られた水なしPS版を実施例1
と同様に露光した後、ラミネートフィルムを剥離し、3
5℃の下記水系前処理液に1分間浸漬した。
前処理液 0 ジエチレングリコール−モノ−n−ヘキシルエーテ
ル        15重量部0 ニューコールB4S
N (日本乳化創製)1重量部 0 純水           84重量部浸漬後、ゴ
ムスキージで版面および裏面に付着した処理液を除去し
た後、実施例1と同様の高圧ジェット噴射洗浄機の圧力
を50kg/c#にして水道水を版面に均一に噴射し、
さらに実施例1と同様に染色したところ、ポジフィルム
の画像を忠実に再現した水なし平版印刷版が得られた。
実施例5 実施例1と同様にして得られた水なしPS版を実施例1
と同様に露光した後、ラミネートフィルムを剥離し、3
0℃の下記水溶液を株式会社イッキ社製高圧ジェット噴
射洗浄機JB570を用い45kg/cutの圧力で版
面に均一に噴射したところ、画像部のシリコーンゴム層
が除去された。
かくして得られた水なし平版印刷版を用いて実施例1と
同様に印刷したところ、微小網点部の再現性も良好な印
刷物が得られた。
水溶液 0 ジエチレングリコール−モノ−n−ヘキシルエーテ
ル        20重量部ジエチレングリコール−
モノ−エチル エーテル          12重量部0 イオン交
換水       68重量部実施例6 通常の方法で脱脂したスムースアルミニウム板上に乾燥
重量で1.0g/m”にするように下記のプライマー層
用組成物を塗布し、100℃で2分間加熱し、乾燥硬膜
させた。
0 写真用セラチン680(新田ゼラチン■)重量部 Na oN−β(アミノエチル)T−アミノ プロピルトリメトキシシラン 7重量部0 純水   
       4000重量部上記プライマー層を塗設
したアルミニウム板上に、下記の光重合性感光組成物を
乾燥重量で1.0g/m2になるよう塗布し、乾燥した
0 ペンタエリスリトールトリアクリレート0.7g 0 ポリ (アリルメタクリレート/ メタクリル酸ナトリウム:共電 合モル比80/20)       2.Ogo、1g Oメタノール          1.5gO水   
                   25  g次
に、上記感光層上に下記のシリコーンコム組成物を乾燥
重量で1.3g/m’になるように塗布し、乾燥し、シ
リコーンゴム硬化層を得た。
0 両末端に水酸基を有するジメチルポリシロキサン(
分子量 約100,000 ) 100重量部0 両末
端にトリメチルシリル基を有するメチルハイドロジエン
ポリシロキサン (分子量 約2500)     3.5重量部o  
14リメトキシシリルプ口ピル−3,5ジアリルイソシ
アヌレ−)    6重iaOジブチル錫ジオクタノエ
ート 3.3重量部0 アイソパーG(エッソ化学社製
) 1800重量部 上記のようにして得られたシリコーンゴム層の表面に厚
さ12μの片面マット化ポリプロピレンフィルムをラミ
ネートし、水なしPS版を得た。
この水なしPS版を実施例1と同様に画像露光し、ラミ
ネートフィルムを剥離し、実施例1と同様の高圧ジェッ
ト噴射洗浄機を用い、45℃の温水を40kg/rn’
の圧力で版面に均一に噴射することにより、画像部のシ
リコーンゴム層を除去させた。
さらに実施例Iと同様に染色したところ、ポジフィルム
の画像を忠実に再現した水なし平版印刷版が得られた。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 支持体上に、感光層とシリコーンゴム層とをこの順に積
    層した水なし感光性平版印刷版を画像露光した後、高圧
    の液体を版面に噴射して、画像部のシリコーンゴム層を
    除去することを特徴とする水なし平版印刷版の製版方法
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005331924A (ja) * 2004-04-23 2005-12-02 Toray Ind Inc 直描型水なし平版印刷版原版の製造方法

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69303809T2 (de) 1993-04-16 1997-02-20 Agfa Gevaert Nv Verfahren zur Herstellung lithographischer Druckformen
EP0684524B1 (en) * 1994-05-25 2003-10-15 Agfa-Gevaert Method and apparatus for making a lithographic offset plate by the silver salt diffusion transfer process
JP3789565B2 (ja) * 1996-07-25 2006-06-28 富士写真フイルム株式会社 湿し水不要平版印刷版の形成方法
EP0938028A1 (en) * 1998-02-24 1999-08-25 Toray Industries, Inc. A precursor of waterless planographic printing plates
US6924085B2 (en) * 2003-03-18 2005-08-02 Printing Developments, Inc. Photoresist coatings for copper clad stainless steel printing plates
US8343707B2 (en) 2005-07-29 2013-01-01 Anocoil Corporation Lithographic printing plate for in-solidus development on press
US8377630B2 (en) * 2005-07-29 2013-02-19 Anocoil Corporation On-press plate development without contamination of fountain fluid
US8133658B2 (en) * 2005-07-29 2012-03-13 Anocoil Corporation Non-chemical development of printing plates
US8137897B2 (en) * 2005-07-29 2012-03-20 Anocoil Corporation Processless development of printing plate
US7700266B2 (en) * 2007-06-25 2010-04-20 Anocoil Corporation Water spray development of planographic plates
US7867691B2 (en) * 2007-06-25 2011-01-11 Anocoil Corporation Heated water spray processor

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5099325A (ja) * 1973-12-26 1975-08-07
JPS57145322A (en) * 1981-03-03 1982-09-08 Nec Corp Method for peeling-off of photoresist
JPS6059351A (ja) * 1983-09-12 1985-04-05 Toray Ind Inc 湿し水不要平版印刷版の現像方法
JPS62205355A (ja) * 1986-03-06 1987-09-09 Toray Ind Inc 水なし平版印刷版の現像方法
JPS6310157A (ja) * 1986-07-02 1988-01-16 Dainippon Printing Co Ltd 感光性樹脂層の形成法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2702335C3 (de) * 1976-02-09 1984-06-07 E.I. Du Pont De Nemours And Co., Wilmington, Del. Vorrichtung zum Behandeln einer lichtempfindlichen Schicht auf einem Substrat
JPS5422205A (en) * 1977-07-18 1979-02-20 Asahi Chemical Ind Method and device for washing photosensitive resin plate
DE3015160A1 (de) * 1979-04-24 1980-11-06 Svecia Silkscreen Maskiner Ab Vorrichtung zum waschen einer schablone
JPS5765339U (ja) * 1980-10-07 1982-04-19
US4428659A (en) * 1981-06-02 1984-01-31 Napp Systems (Usa), Inc. Apparatus and method for removing soluble portions of a coating
US4588277A (en) * 1984-06-22 1986-05-13 Robert Buckler Waterless lithographic plate processor
JPH01159644A (ja) * 1987-12-16 1989-06-22 Fuji Photo Film Co Ltd 水なしps版用現像液
EP0371123B1 (en) * 1988-05-31 1997-01-29 Napp Systems Inc. Apparatus and process for processing printing plates
US5055870A (en) * 1989-02-17 1991-10-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Waterless presensitized lithographic printing plate developing apparatus
JPH02250056A (ja) * 1989-03-23 1990-10-05 Konica Corp 感光性平版印刷版の処理方法及び装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5099325A (ja) * 1973-12-26 1975-08-07
JPS57145322A (en) * 1981-03-03 1982-09-08 Nec Corp Method for peeling-off of photoresist
JPS6059351A (ja) * 1983-09-12 1985-04-05 Toray Ind Inc 湿し水不要平版印刷版の現像方法
JPS62205355A (ja) * 1986-03-06 1987-09-09 Toray Ind Inc 水なし平版印刷版の現像方法
JPS6310157A (ja) * 1986-07-02 1988-01-16 Dainippon Printing Co Ltd 感光性樹脂層の形成法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005331924A (ja) * 2004-04-23 2005-12-02 Toray Ind Inc 直描型水なし平版印刷版原版の製造方法

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