JPH04119348A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents

ハロゲン化銀写真感光材料

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JPH04119348A
JPH04119348A JP23946690A JP23946690A JPH04119348A JP H04119348 A JPH04119348 A JP H04119348A JP 23946690 A JP23946690 A JP 23946690A JP 23946690 A JP23946690 A JP 23946690A JP H04119348 A JPH04119348 A JP H04119348A
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JP
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silver halide
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denotes
atom
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JP23946690A
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English (en)
Inventor
Takahiro Goto
孝浩 後藤
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はハロゲン化銀写真感光材料に関するものであり
、さらに詳しくは実質的に明室と呼び得る環境下で取扱
うことが可能なハロゲン化銀写真感光材料に関するもの
である。
(従来の技術) 印刷複製の分野においては、印刷物の多様性、複雑性に
対処するために、写真製版工程の作業能率の向上が要望
されている。
特に集版、かえし工程の作業においては、より明るい環
境下で作業を行なうことで作業能率の向上がはかられて
きており、このために実質的に明室と呼びうる環境下で
取り扱うことのできる製版用ハロゲン化銀写真感光材料
の開発および露光プリンターの開発がすすめられてきた
本特許で述べる明室用ハロゲン化銀写真感光材料とは、
紫外光成分を含まない400n霧以上の波長の光をセー
フライト光として用いることのできる写真感光材料のこ
とである。
集版、かえし工程に用いられる明室用ノ\ロゲン化銀写
真感光材料は、文字あるいは網点画像の形成された現像
処理ずみフィルムを原稿としてこれらの原稿と、かえし
用ハロゲン化銀写真感光材料とを密着露光して、ネガ像
/ポジ像変換ある(Iは、ポジ像/ネガ像変換を行なう
のに利用される感光材料であるが、 ■ 網点画像および線画、文字画像がおのおのその網点
面積および線巾、文字画像中に従ってネガ像/ポジ像変
換される性能を有するこ■ 網点画像のトーン調節、文
字、線画像の線巾調節が可能である性能を有すること が要望され、それに応える明室かえし用ハロゲン化銀写
真感光材料が提供されてきた。
しかるに明室用ハロゲン化銀写真感光材料を用いた明室
かえし工程での網点画像のトーン調節において、アンダ
ー露光になった場合本来全面に現像され、黒化すべき部
分の濃度が著しく低下し易いという欠点を持っていた。
硬調化り膳上昇を得ている方法としては現像主薬をハロ
ゲン化銀写真感光材料中に含有せしめるものが、米国特
許第4617258号、特開昭59−171947号、
同59−206828号、特開平1−262533号等
に開示されているが、セーフライト、経時保存性、D−
の性能をすべて満足するものではない、又、チオスルフ
ィン酸をハロゲン化銀写真感光材料中に含有せしめて経
時保存性を改良している方法として特開平l−2375
38号が開示されている。
(発明が解決しようとする問題点) したがって本発明の目的は明室環境下で取り扱うことが
可能な明室用ハロゲン化銀写真感光材料を用いて、アン
ダー露光時の濃度低下の小さい優れたかえし性能を与え
るハロゲン化銀写真感光材料を提供することにある。
(問題点を解決するための手段) 本発明は、 銀1モル当り1×10−’モル以上のロジウム塩を含有
し、塩化銀含有率が90モル%以上のハロゲン化銀粒子
からなるハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真
感光材料において、下記一般式(夏)で表される化合物
又は、一般式(■)で表される化合物のうち少なくとも
1種及び下記−般式(A)、〔B〕、又は〔C〕で表さ
れる化合物の少なくとも1種を、ハロゲン化銀乳剤層又
はその他の親水性コロイド層の少なくとも1層に含有す
ることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
一般式(I) (式中、Yはハロゲン化銀に吸着する基を表わす。Xは
水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子か
ら選ばれた原子または原子群よりなる2価の連結基を表
わす。Aは2価の連結基を表わす。Bはアミノ基、アン
モニウム基および含窒素へテロ環を表わし、アミノ基は
置換されていてもよい。mは1.2又は3を表わし、n
は0又は1を表わす。) 一般式(II) 式中、R1、R2は各々水素原子又は脂肪族残基を表わ
す。
R1とR2は互に結合して環を形成してもよい。
R3は二価の脂肪族基を表わす。
Xは窒素、酸素若しくは硫黄原子を含む二価のへテロ環
を表わす。
nは0またはlを表わす0Mは水素原子、アルカリ金属
、アルカリ土類金属、四級アンモニウム塩、四級ホスホ
ニウム塩又はアミジノ基を表わす。
一般式[A)   Z−3○zSM 但し、Z:アルキル基(炭素数1〜18)、アリール基
(炭素数6〜18)、又は ヘテロ環基 Y:芳香環(炭素数6〜18)、又はペテロ環を形成す
るに必要な原子 M:金属原子、又は有機カチオン n:2〜10の整数 本発明に用いられる一般式(I)及び(I[)の化合物
について詳しく説明する。
一般式(I)において、Yが表わすハロゲン化銀に吸着
する基としては含窒素複素環化合物があげられる。
Yが含窒素複素環化合物を表わす場合は一般式(i)の
化合物は下記一般式(I れる。
一般式CI−a) )で表わさ 式中、lは0筐たは/全表わし、mは/、−2筐たは3
を表わし、nはOまたは/を表わす。
((X)−A−B)  は前記一般式(I)におけるそ
n        m れと同義でるり、Qは炭素原子、窒素原子、酸素原子、
硫黄原子の少なくとも一種の原子から構成される!また
は2員の複素環を形成するのに必要な原子群を表わす。
またこの複素環は炭素芳香環または複素芳香環と縮合し
ていてもよい。
Qによって形成される複素環としては例えばそれぞれ置
換または無置換のインダゾール類、ベンズイミダゾール
類、ベンゾトリアゾール類、ベンズオキサゾール類、ベ
ンズチアゾール類、イミダゾール類、チアゾール類、オ
キサゾール類、トリアゾール類、テトラゾール類、アザ
インデン類、ピラゾール類、インドール類、トリアジン
類、ピリミジン類、ピリジン類、キノリン類等があげら
れる。
Mは水素原子、アルカリ金属原子(例えばナトリウム原
子、カリウム原子、等)、アンモニウム基(例えばトリ
メチルアンモニウム基、ジメチルベンジルアンモニウム
基、等)、アルカリ条件下でM=Hまたはアルカリ金属
原子となりうる基(例えばアセチル基、シアンエチル基
、メタンスルホニルエチル基、等)を表わす。
また、これらの複素環はニトロ基、ノ・ロゲン原子(例
えば塩素原子、臭素原子、等)、メルカプト基、シアノ
基、それぞれ置換もしくは無置換のアルキル基(例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、t−ブチル基、シア
ノエチル基、メトキシエチル基、メチルチオエチル基、
等)、アリール基(例えばフェニル基、クーメタンスル
ホンアミドフェニル基、μmメチルフェニル基、3.t
t−ジクロルフェニル基、ナフチル基、等)、アルケー
ル基(例えばアリル基、等)、アラルキル基(例工ばベ
ンジル基、≠−メチルベンジル基、フェネチル基、等)
、アルコキゾ基(例えばメトキシ基、エトキシi、等)
、アリールオキシ基(例、Cはフェノキシ基、弘−メト
キシフェノキシ基、等)、アルキルチオ基(例えばメチ
ルチオ基、エチルチオ基、メトキシエチルチオ基)、ア
リールチオ基(例えばフェニルチオ基)、スルホニル基
(flltハメタンスルホニル基、エタンスルホニルi
、I)−)シアンスルホニル基、等)、カルバモイル基
(例えば無置換カルバモイル基、メチルカルバモイル基
、フェニルカルバモイル基、等〕、スルファモイル基(
例えば無置換スルファモイル基、メチルスルファモイル
基、フェニルスルファモイル基、等〕、カルボンアミド
基(例えばアセトアミド基、ベンズアミド基、等)、ス
ルホンアミド基(例えばメタンスルホンアミド基、ベン
ゼンスルホンアミドi、p−)シアンスルホンアミド基
、等)、アシルオキシ基(例えばアセチルオキシ基、ベ
ンゾイルオキシ基、等)、スルホニルオキシ基(例えば
メタンスルホニルオキ7基、等)、ウレイド基(例えば
無置換のウレイド基、メチルウレイド基、エチルウレイ
ド基、フェニルウレイド基、等)、チオウレイド基(例
えば無置換のチオウレイド基、メチルチオウレイド基、
等)、アシル基(例えばアセチル基、ベンゾイル基、等
)、ヘテロ環基(例えばl−モルホリノ基、/−ピはリ
ジノ基、2−ピリジル基、リーピリジル基、コーチェニ
ル基、7−ピラゾリル基、/−イミダゾリル基、2−テ
トラヒドロフリル蟇、テトラヒドロチエニル!、等)、
オキシカルボニル基(例えばメトキシカルlニル基、フ
ェノキシカルボニル基、等)、オキシカルボニルアミノ
基(例えばメトキシ力ルメニルアミノ基、フェノキシカ
ルlニルアミノ基、l−エチルへキシルオキシカルボニ
ルアミノ基、等)、アミノ基(例えば無置換アミノ基、
ジメチルアミノ基、メトキシエチルアミノ基、アニリノ
基、等)、カルlン酸またはその塩、スルホン酸または
その塩、ヒドロキシ基などで置換されていてもよい。
Xが表わす2価の連結基としてはvl」えば、U   
    (JO 結基はQとの間に直鎖または分岐のアルキレフ基(例え
ばメチレン基、エチレン基、ゾaビレ7基、ブチレン基
、ヘキシレフ基、l−メチルエチレン基、等)を介して
結合されていてもよい。R1、R2・ R3・ R4・
 R5・ H6・ R7・ R8・R9および’10は
水素原子、それぞれ置換もしくは無置換のアルキル基(
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基
、等)、置換もしくは無置換のアリール基(例えばフェ
ニル基、−一メチルフェニル基、等)、置換もしくは無
置換のアルケニル基(例えばプ0イニル基、/−メチル
ビニル丞、等)、または置換もしくは嘱置換のアラルキ
ル基(例えばベンジル基、フェネチル基、等〕を表わす
Aは1価の連結基を衣わし、1価の連結基としては直鎖
または分岐のアルキレン基(例えばメチレン基、エチレ
ン基、プロピレン基、−jチv)基、ヘキシレン基、/
−メチルウレイ基、等L  i鎖または分岐のアルケニ
レン2!!:(例えばビニレン基、/−メチルビニレン
基、等)、直鎖または分岐のアラルキレン基(例えばベ
ンジリデン基、等)、アIJ −L/ン基(例えばフェ
ニレン、ナフチレン、等9等が挙げられる。Aで表わさ
れる上記の基はXとAは任意の組合せで更に置換されて
いてもよい。
Bの置換もしくは無置換のアミン基は一般式%式% 一般式(I−b) (式中 R11、R12は同一であっても異なってもよ
く、各々水素原子、置換もしくは無置換の炭素数7〜3
0のアルキル基、アルケニル基またはアラルキル基金表
わし、これらの基は直鎖(fllえげメチル基、エチル
基、n−プロピルi、n−7゛チル基、n−オクチル基
、アリル基、3−ズテニル基、ベンジル基、/−ナフチ
ルメチル基、等)、分岐(例えばisoプロピル基、【
−オクチル基等)、または環状(例えばシクロヘキシル
基、等〕、でもよい。
父、R11トR12は連結して環を形成してもよく、そ
の中に1つまたはそれ以上のへテロ原子(例えば酸素原
子、硫黄原子、窒素原子など〕を含んだid和のへテロ
環を形成するように環化されていてもよく、例えばピロ
リジル基、ピはリジル暴、モルホリノ基などを挙げるこ
とができる。又、R11、R12の置換清としては例え
ば、カルホキフル基、スルホ基、シアノ基、ハロゲン原
子(例えばフン素原子、塩素原子、臭素原子である。)
、ヒドロキシ基、炭素数20以下のアルフキ/カルボニ
ル基(例えばメトキシカルボニル憂、エトキンカルボニ
ル基、フェノキシカルボニル基、ベンジルオキシカルミ
ニル基など)、炭素数λOy、下のアルコキ・/基(例
えばメトキン基、エトキシ基、ペンジルオキン基、フェ
ネチルオキンiftど)、炭素数20以下の単環式のア
リールオキシ基(例えばフェノキシ基、p−)リルオキ
シ基など)、炭素数!O以下のアシルオキシ基(例えば
アセチルオキシ基、プロピオニルアミノ基など)、炭素
tv、−20以下のアシル基(例えばアセチル基、プロ
ピオニル基、ベンゾイル基、メシル基など)、カルバモ
イル基(例えばカルバモイル基、N、Nジメチルカルバ
モイル基、モルホリノスルホニル基、ピペリジノカルボ
ニル基など)、スルファモイル基(例えばスルファモイ
ル基、N、N−ジメチルスルファモイル基、モルホリノ
スルホニル基、ピペリジノスルホニル基など)、炭素数
20以下のアブルアミノ基(例えばアセチルアミノ基、
プロピオニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メシルア
ミノ基など)、スルホンアミド基(エチルスルホンアミ
ド基、p−トルエンスルホンアミド基など〕、炭素数λ
O以下のカルボ/アミド基(例えばメチルカルボンアミ
ド基、フェニルカルlノアミド基など)、炭素数−2Q
以下のウレイド基(例えばメチルウレイド基、フェニル
ウレイド基など)、アミン基などが挙げられる。
Bのアンモニウム基は一般式(I−c)で表わされるも
のである。
一般式(f−C) 7′ N   R14 ■\□15 (Zo)p (式中、R13、R14、R15は上述の一般式CI−
b)におけるB 11およびR12と同様の基であ!+
、zeはアニオンを表わし、例えばハライドイオン(例
えばαθ Bre Ieなど)、スルホナートイオン(
例えばトリフルオロメタンスルホナート、/eラドルエ
ンスルホナート、ベンゼンスルホナート、パラクロロベ
ンゼンスルホナートなど)、スルファトイオン(例えば
エチルスル7アート、メチルスル7アートなど)、/ξ
−りaラード、テトラフルオロボラートなどが挙げられ
る。pはOまたはlを表わし、化合物が分子内塩を形成
する場合は0である。〕 Bの含窒素へテロ環は、少なくとも7つ以上の窒素原子
を含んだ!またはt員環であり、それらの環は置換基を
有していてもよく、また他の環と縮合していてもよい。
含窒素へテロ環としては例えばイミダゾリル基、ピリジ
ル基、チアゾリル基などが挙げられる。
一般式(I)のうち好ましいものとしては、下記一般式
(I−m)、(I−n)、(I−0)tたは(I−p)
で表わされる化せ物が挙げられる。
一般式( 一般式( −n 一般式( %式% 一般式( 1−p) (式中、(Xi A −B、 M、 mは前記一般式(
ニーa )のそれと同義でろる。Z□、Z2およびZ3
は前記一般式(工=Jにおける+X+−A−Bと同義で
あるか、又はハロゲン原子、炭素数−〇以下のアルコキ
シ基(例えばメト牛シ基)、ヒドロキシ基)ヒドロキシ
アミノ基、置換および未置換のアミン基を嵌ねし、その
置換基としては前記一般式(l−b)におけるHll、
HI3の置換基の中から選ぶことができる。但しZ工、
Z2及びZ3の内の少なくとも1つは(X←A−B  
と同義である。
またこれら複素環は一般式CI)の複葉環に適用される
置換基で置換されてもよい。
次に一般式(I)で表わされる化会物例を示すが本発明
はこれに限定されるものではない。
−t ■−μ −z α し+h− ■ I−タ ーフ0 I−// ■−/2 H3 人 1−/4t ■ / ! i−/ 乙 ■ / g I−/ り 一般式( 式中、 R2は各々水素原子又は脂肪族残 基を表わす。
R、:Rは互に結合して環を形成してもよい。
R3は二価の脂肪族基を表わす。
Xは窒素、酸素若しくは硫黄原子を含む二価のへテロ環
を表わす。
nは0またはlを表わす。kiは水素原子、アルカリ金
属、アルカリ土類金属、四級アンモニウム塩、四級ホス
ホニウム塩又はアミジノ基を表わす。
R1、R2の脂肪族残基としては、各々炭素l〜ノーの
アルキル基、アルケニル基およびアルキニル基が好まし
くそれぞれ適当な基で置換されていてもよい。アルキル
基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ヘキシル基、デシル基、ドデシル基、インプ
ロピル基、5ec−ブチル基、シクロヘキシル基などで
ある。
アルケニル基としては例えばアリル基、−一プテニル基
、λ−へキセニル基、コーオクテニル基すどである。ア
ルキル基としては例えばプロパルギル基、コーはンチニ
ル基などがある。置換基としテハ、フェニル基、置換フ
ェニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ヒドロキシ
基、カルボキシル基、スルホ卆、アルキルアミノ暴、ア
ミド基等である。
R1とR2とで環を形成する場合としては、炭素又は窒
素・酸素の組合せからなるj員又はt員の炭素環又はへ
テロ環で、特に飽和の環が好1しなどがあけられる。
R1とR2として爵に好ましいものは炭素原子数7〜3
のアルキル基で更に好ましくはエチル基である。
R3の二価の脂肪族基としては−R4−又は−)R4S
−が好ましい。ここで1(4は二価の脂肪族残基で、好
ましくは炭素数/〜乙の飽和及び不飽和のもので、例え
ば−CH2−−CH2CH2−−(C)(2)3− −
(CH2)4− −(C)12)6−CI CH=C)
iCH−−CH2C”:CCH2−CH2C)iCH2
−などである。
CH3 R4の好ましい炭素数としてはλ〜μのもので、R4と
してさらに好ましくは−CH2CH2−及び−CH2C
H2C1(2である。なお(XへのnがOのときのR3
は−R4−だけを表わす・ Xのへテロ環としては、9紫、e紫又は硫黄を含む!及
びt員のへテロ環でベンゼン環に縮合していてもよい。
ヘテロ環として好ましくは芳香族のもので例えば、テト
ラゾール、トリアゾール、チアジアゾール、オキサジア
ゾール、イミダゾール、チアゾール、オキサゾール、ベ
ンズイミダゾール、ベンツチアゾール、ベンズオキサゾ
ールなどである。このうち特にテトラゾールとチアジア
ゾールが好ましい。
Mのアルカリ金属としては、Na、K Li+などがある。
アルカリ土類金属としては Ca + + 、Mg +
 +などがある。
Mの四級アンモニウム塩としては、炭素数弘〜30から
なるもので、例えば(CH3)4Nの、(C2H5)4
Ne、  (C4H9)4N63%C6)15C)12
NΦ(CH3)3、C□6H33”の(CFi3)3な
どである。四級ホスホニウム塩としては、(C4H8)
4P69X C16H33P@CCH3)3、C6H3
CH2PΦ(C)I3)などでるる。
一般式(II)で表わされる化合物の無接散塩としては
例えば塩酸基、硫酸塩、リン酸塩などかろpl 有機酸
塩としては酢酸塩、プロピオン酸塩、メタンスルホン酸
塩、ベンゼンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩
などがある。
以下に一般式(n)で表わされる化合物の具体例を挙げ
る。
1−/ ■−2 ■ ■−<= ■ ■ (−−j ■−g (HOCH2CH2)2NCH2CH2SH■ り ■ / O ■ / 3 ■ /4t ■ / ! ■−/7 ■ / ♂ ■ / り ■ +20 i−j/ II−,2,! これらの一般式(I)及び(II)で表わされる促進剤
は、化合物の種類によって最適添加量が異なるが1.0
XIO−3〜0.5g/ボ、好ましくは5.0XIO−
” 〜0.3g/mの範囲で用いるのが望ましい、これ
らの促進剤は適当な溶媒(Hz O、メタノールやエタ
ノールなどのアルコール類、アセトン、ジメチルホルム
アミド、メチルセルソルブなど)に溶解して塗布液に添
加される。
これらの添加剤を複数の種類を併用してもよい。
これらの化合物の添加場所としてはハロゲン化銀乳剤層
であることが好ましい。
本発明において用いられる一般式(A)、(B)及び(
C)について詳しく説明する。
一般式(A)、〔B〕、又は(C)に於ける、2及びY
で表わされるアルキル基、アリール基、ヘテロ環基、芳
香環及びヘテロ環は置換されていてもよい。
置換基としては、例えばメチル基、エチル基等の低級ア
ルキル基、フェニル基等のアリール基、炭素数1〜8の
アルコキシル基、塩素等のハーロゲン原子、ニトロ基、
アミノ基、カルボキシル基などを挙げることが出来る。
Z及びYで表わされるヘテロ環としては、チアゾール、
ベンズチアゾール、イミダゾール、ベンズイミダゾール
、オキサゾール環等を挙げることが出来る。
Mで表わされる金属原子としては、ナトリウムイオン、
カリウムイオンの如きアルカリ金属原子が、有機カチオ
ンとしては、アンモニウムイオン、グアニジン基などが
好ましい、Zとして好ましい基は炭素数1〜12のアル
キル基である。
一般式(A)、(B)又は(C)で表わされる化合物の
具体例としては、下記のものを挙げることが出来る。
化合物例 HsC−3ow ・SNa ncsH+tsO1・SNa ncltHzssOz ・SNa nctJsssOz HSNa 1−シスチン−ジスルホオキサイド 15   CJs・50g5Na 16C411,・SO2・5Na 一般式(A)、(B)又は〔C〕に含まれる化合物は一
般に、よく知られた方法で合成することが出来る。
例えば、相当するスルホニルフロリドと硫化ソーダを反
応させるか、相当するスルフィン酸ソーダと硫黄を反応
させる方法により合成することが出来る。一方、これら
の化合物は市販品として容易に入手することも出来る。
本発明に於ける一般式[A]、CB]又は〔C]で表わ
される化合物の添加量はハロゲン化m1モル当り1×1
0−’〜1×10−3モル、特に5×10−5〜1×1
0−3モルが好ましい、これらの化合物の添加場所とし
ては乳剤層であることが好ましく、その添加時期は、粒
子形成時、化学熟成時又は塗布直前である。特に好まし
いのは塗布直前である。
本発明に用いられるハロゲン化銀写真感光材料のハロゲ
ン化銀乳剤は90モル%以上が塩化銀からなるハロゲン
化銀であり、臭化銀を0〜5モル%含む塩臭化銀もしく
は塩沃臭化銀である。臭化銀あるいは沃化銀の比率が増
加すると明室下でのセーフライト安全性の悪化、あるい
はγが低下して好ましくない。
ロジウム原子を含有せしめるには、単塩、錯塩など任意
の形の金属塩にして粒子調製時に添加することができる
ロジウム塩としては、−塩化ロジウム、二塩化ロジウム
、三塩化ロジウム、ヘキサクロロロジウム酸アンモニウ
ム等が挙げられるが、好ましくは水溶性の三価のロジウ
ムのハロゲン錯化合物、例えばヘキサクロロロジウム(
I[[)#もしくはその塩(アンモニウム塩、ナトリウ
ム塩、カリウム塩など)である。
これらの水溶性ロジウム塩の添加量はハロゲン化銀1モ
ル当り1.0XIO−’モル〜1,0×10−3モルの
範囲で用いられる。好ましくは5゜0XIO−’モル〜
1.0XIO−’モルである。
ロジウム塩が10−3モル以上であると充分硬調化する
ことが不可能となる。逆に10−6モル未満であると明
室感材に適した低感化ができなくなる。
本発明に用いられるハロゲン化銀は云わゆるコア/シェ
ル型ハロゲン化銀が好ましく、特にシェルに比べてコア
のロジウム含有率の高いコア/シェル型ハロゲン化銀が
好ましい。
上記水溶性ロジウム塩を用いてハロゲン化銀粒子中に存
在させるには水溶性銀塩と水溶性ハライド溶液を同時混
合するとき、水溶性銀塩中にまたはハライド溶液中に添
加しておく方法が好ましい。
あるいは銀塩とハライド溶液が同時に混合されるとき第
3の溶液として、3液間時混合の方法でハロゲン化銀粒
子を調製してもよい。
本発明のハロゲン化銀乳剤の粒子サイズは0゜20μ以
下が好ましい。
本発明においてハロゲン化銀微粒子を調製するには混合
条件として反応温度は50°C以下、好ましくは40℃
以下、より好ましくは30°C以下で、均一混合するよ
うに充分攪拌速度の高い条件下で銀電位70+V以上、
好ましくは80−v〜120麺Vで調整すると良好な結
果を得ることができる。
粒子サイズ分布は基本的には制限ないが単分散である方
が好ましい。ここでいう単分散とは重量もしくは粒子数
で少なくともその95%が平均粒子サイズの±40%以
内の大きさを持つ粒子群から構成され、より好ましくは
±20%以内である。
本発明のハロゲン化銀粒子は立方体、八面体のような規
則的な結晶体を有するものが好ましく、特に立方体が好
ましい。
本発明の方法で用いるハロゲン化銀乳剤は化学増感され
ていなくてもよいが、化学増感されていてもよい、ハロ
ゲン化銀乳剤の化学増感の方法として、硫黄増感、還元
増感及び貴金属増感法が知られており、これらのいずれ
をも単独で用いても、又併用して化学増感してもよい。
貴金属増感法のうち金増感法はその代表的なもので金化
合物、主として全錯塩を用いる。全以外の貴金属、たと
えば白金、パラジウム、イリジウム等の錯塩を含有して
も差支えない、具体例は米国特許2.448,060号
、英国特許618゜061号などに記載されている。
硫黄増感剤としては、ゼラチン中に含まれる硫黄化合物
のほか、種々の硫黄化合物、たとえば千オ硫酸塩、チオ
尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用いることが
できる。
還元増感剤としては第一すず塩、アミン類、ホルムアミ
ジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いることがで
きる。
本発明を用いて作られた感光材料には、親水性コロイド
層にフィルター染料として、あるいはイラジェーシッン
防止その他種々の目的で水溶性染料を含有していてもよ
い、このような染料には、オキソノール染料、ヘミオキ
ソノール染料、スチリル染料、メロシアニン染料、シア
ニン染料及びアゾ染料が包含される。なかでもオキソノ
ール染料;ヘミオキソノール染料及びメロシアニン染料
が有用である。
本発明の写真乳剤及び非感光性の親水性コロイドには無
機または有機の硬膜剤を含有してよい。
例えば活性ビニル化合物(I,3,5−)リアクリロイ
ル−へキサヒドロ−S−トリアジン、ビス(ビニルスル
ホニルコメチルエーテル、N、N−メチレンビス−〔β
−(ビニルスルホニル)プロピオンアミド〕など)、活
性ハロゲン化合@ff(24−ジクロル−6−ヒドロキ
シ−5−)リアジンなど)、ムコハロゲン酸類(ムコク
ロル酸など)、N−カルバモイルピリジニウム塩類((
I−モルポリ)カルボニル−3−ピリジニオ)メタンス
ルホナートなど)、ハロアミジニウム塩類(I−(l−
クロロ−1−ピリジノメチレン)ピロリジニウム、2−
ナフタレンスルホナートなど)を単独または組合せて用
いることができる。なかでも、特開昭53−41220
.同53−57257、同59−162546、同60
−80846にg己載の活性ビニル化合物および米国特
許3,325゜287号に記載の活性ハロゲン化物が好
ましい。
本発明を用いて作られる怒光材料の写真乳剤層または他
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着防止及び写真特性姓良(例えば、
現像促進、硬調化、増S)等種々の目的で、種々の界面
活性剤を含んでもよい。
例えばサポニン(ステロイド系)、アルキレンオキサイ
ド誘導体(例えばポリエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール/ポリプロピレングリコール縮合物、ポリ
エチレングリコールアルキルエーテル類又はポリエチレ
ングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチレ
ングリコールエステル類、ポリエチレングリコールソル
ビタンエステル類、ポリアルキレングリコールアルキル
アミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオキサ
イド付加物類)、グ、リシドールT!、導体(例えばア
ルケニルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフェノール
ポリグリセリド)、多価アルコールのA旨肪酸エステル
類、糖のアルキルエステルどの非イオン性界面活性剤;
アルキルカルボン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、アル
キルベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスル
フォン酸塩、アルキル硫酸エステル頚、アルキルリン酸
エステル類、N−アンルーN−アルキルタウリン類、ス
ルホコハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエ
チレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレ
ンアルキルリン酸エステル類などのような、カルボキシ
基、スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、リン酸エス
テル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;アミノ酔
顔、アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫酸
又はリン酸エステル類、アルキルベタイン類、アミンオ
キシド類などの両性界面活性剤;アルキルアミン塩類、
脂肪族あるいは芳香族第4級アンモニウム塩類、ピリジ
ニウム、イミダゾリウムなどの複素環第4級アンモニウ
ム塩類、及び脂肪族又は複素環を含むホスホニウム又は
スルホニウム塩類などのカチオン界面活性剤を用いるこ
とができる。
また、帯電防止のたるには特開昭60−80849号な
どに記載された含フッ素系界面活性剤を用いることが好
ましい。
本発明の写真怒光材料には写真乳剤層その他の親水性コ
ロイド層に接着防止の目的でシリカ、酸化マグ2/ウム
、ポリメチルメタクリレート等のマント剤を含むことが
できる。
本発明で用いられるS先付V4には寸度安定性の目的で
水不溶または難溶性合成ポリマーの分散物を含むことが
できる。たとえばアルキル(メタ)アクリレート、アル
コキシアクリル(メタ)アクリレート、グリシジル(メ
タ)アクリレート、などの単独もしくは組合わせ、また
はこれらとアクリル酸、メタアクリル酸、などの組合せ
を単量体成分とするポリマーを用いることができる。
写真乳剤の縮合剤または保護コロイドとしては、ゼラチ
ンを用いるのが存利であるが、それ以外の親水性コロイ
ドも用いることができる。たとえばゼラチン誘導体、ゼ
ラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミン
、カゼイン等の蛋白賀;ヒドロキシエチルセルロース、
カルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸エステル
類等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ソーダ、澱粉
誘導体などのPM誘導体ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルアルコール部分アセタール、ポリ−N−ビニルピロ
リドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアク
リルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピラ
ゾール等の単一あるいは共重合体の如き多種の合成親水
性高分子物質を用いることができる。
ゼラチンとしては石炭処理ゼラチンのほか、酸処理ゼラ
チンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン酵
素分解物も用いることができる。
本発明で用いられるハロゲン化銀乳剤層には、アルキル
アクリレートの如きポリマーラテックスを含有せしめる
ことができる。
本発明の恣光材料の支持体としてはセルローストリアセ
テート、セルロースジアセテート、ニトロセルロース、
ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレート紙、バライ
タ塗覆祇、ポリオレフィン被覆紙などを用いることがで
きる。
本発明に使用する現像液に用いる現像生薬には特別な制
限はないが、良好な網点品質を得やすい点で、ジヒドロ
キシベンゼン類を含むことが好ましく、ジヒドロキシベ
ンゼン類と1−フェニル−3−ピラゾリドンJρの組合
せまたはジヒドロキシベンゼン類とP−7ミノフエノー
ル類の組合せを用いる場合もある。
本発明に用いるジヒドロキシベンゼン現像主薬としては
ハイドロキノン、クロロハイF′ロキノン、フaムハイ
ドロキノン、イソプロピルハイどロキノン、メチルハイ
どロキノン、23−ジクロロハイドロキノン、2,5−
ジクロロハイドロキノン、2.3−ジクロロハイドロキ
ノン、25−ジメチルハイドロキノンなどがあるが待に
ハイドロキノンが好ましい。
本発明に用いるニーフェニル−3−ピラゾリドン又はそ
の誘導体の現像玉薬としてはI−フェニル−3−ヒラゾ
リドン、ニーフェニル−44−ジメチル−3−ピラゾリ
ドン、1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメチ
ル−3−ピラゾリドン、■−フェニルー4.4−ジヒド
ロキシメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−5−
メチル−3−ピラゾリドン、t−p−アミノフェニル4
.4−ジメチル−3−ピラゾリドン、l−P−トリル−
4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン、1−P−トリル
−4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリド
ンなどがある。
本発明に用いるp−アミノフェノール系現像生薬として
はN−メチル−p−アミンフェノール、P−アミノフェ
ノール、N−(β−ヒドロキシエチル)−p−アミノフ
ェノール、N−(4−ヒドロキシフェニル)グリシン、
2−メチル−P−アミノフェノール、p−ベンジルアミ
ノフェノール等があるが、なかでもN−メチル−P−ア
ミノフェノールが好ましい。
現像生薬は通常0.05モル/i!〜0.8モル/j!
の量で用いられるのが好ましい、またジヒドロキシベン
ゼン類と1−フェニル−3−ピラゾリドン類又はp・ア
ミノ・フェノール類との組合せを用いる場合には前者を
0.05モ/I// 1−0.5 モル/ 1、後者を
0.06モル/l以下の量で用いるのが好ましい。
本発明に用いる亜g酸塩の保恒剤としては亜硫酸ナトリ
ウム、亜g酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アンモ
ニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、
ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある。亜硫
酸塩は0.3モルフ1以上、特に0.4モル/i以上が
好ましい、また上限は2.5モル/lまて、特に、1.
2までとするのが好ましい。
pHの設定のために用いるアルカリ剤には水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
、第三リン酸ナトリウム、第三リン酸カリウム、ケイ酸
ナトリウム、ケイ酸カリウムの如きpH114m剤や緩
衝剤を含む。
上記成分以外に用いられる添加剤としてはホウ酸、ホウ
砂などの化合物、臭化ナトリウム、臭化カリウム、沃化
カリウムの如き現像抑制剤:エチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、ジメチル
ホルムアミド、メチルセロソルブ、ヘキシレングリコー
ル、エタノール、メタノールの如き育機溶剤:l−フェ
ニルー5−メルカプトテトラゾール、2−メルカプトベ
ンツイミダゾール−5−スルホン酸ナトリウム塩等のメ
ルカプト系化合物、5−ニトロインダゾール等のインダ
ゾール系化合物、5−メチルベンツトリアゾール等のベ
ンツトリアゾール系化合物などのカブリ防止剤を含んで
もよく、更にl・要に応して色調剤、界面活性剤、消泡
剤、硬水軟化剤、硬膜剤、などを含んでもよい、特に特
開昭56−106244号に記載のアミノ化合物、特公
昭48−35493号にg8載のイミダゾール化合物が
現像促進あるいは悪魔上昇という点で好ましい。
本発明に用いられる現住液には、銀汚れ防止剤として特
開昭56−24347号に記載の化合物、現像ムラ防止
剤として(特開昭62−212,651号)に記載の化
合物、熔解助剤として特願昭60−109743号に記
載の化合物を用いることができる。
本発明に用いられる現像液には、緩衝剤として特願昭6
1−28708に記載のホウ酸、特開昭60−9343
3に記載の糖類(例えばサッカロース)、オキシム類(
例えば、アセトオキシム)、フェノールM(例えば、5
−スルホサルチル酸)、第3リン酸塩(例えばナトリウ
ム塩、カリウム塩)などが用いられ、好ましくはホウ酸
が用いられる。
定着液は定着剤の他に必要に応じて硬膜剤(例えば水溶
性アルミニウム化合物)、酢酸及び二塩基酸(例えば酒
石酸、クエン酸又はこれらの塩)を含む水溶液であり、
好ましくは、pH3,8以上、より好ましくは4.0〜
5.5ををする。
定着剤としてはチオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニ
ウムなどであり、定着速度の点からチオ硫酸アンモニウ
ムが特に好ましい、定着剤の使用量は適宜変えることが
でき、−aには約0.1〜約5モル/1である。
定着液中で主として硬膜剤として作用する水溶性アルミ
ニウム塩は一般に酸性rJ!膜定着液の硬膜剤として知
られている化合物であり、例えば塩化アルミニウム、硫
酸アルミニウム、カリ明ばんなどがある。
前述の二塩基酸として、酒石酸あるいはその誘導体、ク
エン酸あるいはその誘導体が単独で、あるいは二種以上
を併用することができる。これらの化合物は定N?a1
1.につき0.005モル以上含むものが有効で、特に
0.01モル//!〜0.03モル/lが特に有効であ
る。
具体的には、酒石酸、酒石酸カリウム、酒石酸ナトリウ
ム、酒石酸カリウムナトリウム、酒石酸アンモニウム、
酒石酸アンモニウムカリウム、などがある。
本発明において有効なりエン酸あるいはその誘導体の例
としてクエン酸、クエン酸ナトリウム、クエン酸カリウ
ム、などがある。
定着液にはさらに所望により保恒剤(例えば、亜硫酸塩
、重亜硫酸塩)、pH緩衝剤(例えば、酢酸、硼酸)、
pHm整剤(例えば、アンモニア、硫酸)、画像保存良
化側(例えば沃化カリ)、キレート剤を含むことができ
る。ここでpH11衝剤は、現像液のpHが高いので1
0〜40 g / l、より好ましくは18〜25g/
I!、程度用いる。
定着温度及び時間は現像の場合と同様であり、約り0℃
〜約50℃で10秒〜1分が好ましい。
また、水洗水には、カビ防止剤(例えば堀口著「防m防
ばイノ化学」、特1160−253807号明細書に記
載の化合物)、水洗促進剤(亜硫酸塩など)、キレート
剤などを含をしていてもよい。
上記の方法によれば、現像、定着された写真材料は水洗
及び乾燥される。水洗は定着によって溶解した銀塩をほ
ぼ完全に除くために行なわれ、約20’C〜約50″C
で10秒〜3分が好ましい、乾燥は約20’C〜約10
0’Cで行なわれ、乾燥時間は周囲の状態によって適宜
変えられるが、通常は約5秒〜3分30秒でよい。
ローラー搬送型の自動現像機については米国特許第30
25779号明細書、同第3545971号明細書など
に記載されており、本明細書においては単にローラー搬
送型プロセッサーとして言及する。ローラー搬送型プロ
センサーは現像、定着、水洗及び乾燥の四工程からなっ
ており、本発明の方法も、他の工程(例えば、停止工程
)を除外しないが、この四二程を踏襲するのが最も好ま
しい、ここで、水洗工程は、2〜3段の向流水洗方式を
用いることによって節水処理することかできる。
本発明に用いられる現像液;ま特願昭59−196.2
00号に記載された酸素通過性の低い包材て保管するこ
とが好ましい、また本発明に用いられる現像液は特願昭
60−232.471号に記載された補充システムを好
ましく用いることができる。
本発明のハロゲン化恨写真怒光材料は高いDmaxを与
えるが故に、画像形成後に減力処理を受けた場合、網点
面積が減少しても高い濃度を維持している。
本発明に用いられる減力液に関しては特に制限はなく、
例えば、ミーズ著rThe Theory of th
ePhotographic Process」738
〜744ページ(I954年、門acmillan)、
矢野哲夫著「写真処理その理論と実際」166〜169
頁(I978年、共立出版)などの成層のほか特開昭5
0−27543号、同52−68429号、同55−1
7123号、同55−79444号、同57−1014
0号、同57−142639号、特願昭59−1824
56号などに記載されたものが使用できる。即ち、酸化
剤として、過マンガン酸塩、過硫酸塩、第二鉄塩、第二
銅塩、第二セリウム塩、赤血塩、重クロム酸塩などを単
独或いは併用し、更に必要に応して硫酸などの無機酸、
アルコール類を含有せしめた減力液、或いは赤血塩やエ
チレンジアミン四酢酸第二鉄塩などの酸化剤と、チオ硫
酸塩、ロダン塩、チオ尿素或いはこれらの誘導体などの
ハロゲン化銀溶剤および必要に応じて硫酸などの無機酸
を含有せしめた減力液などが用いられる。
本発明において使用される減力液の代表的な例としては
所謂ファーマー減力液、エチレンジアミン四酢酸第二銖
塩、過マンガン酸カリ、過硫酸アンモニウム減力液(コ
ダックR−5)、第二セリウム塩減力液が挙げられる。
減力処理の条件は一般には10°C〜40’C1特に1
5°C〜30°Cの温度で、数秒ないし数10分特に数
分内の時間で紡了できることが好ましい0本発明の製版
用怒材を用いればこの条件の範囲内で十分に広い滅力巾
を得ることができる。
減力液は本発明の化合物を含む非感光性上部層を介して
乳剤層中に形成されている銀画像に作用させる。
具体的には種々のやり形があり、例えば減力液中に製版
用感剤を浸たして液を撹拌したり、減力液を筆、ローラ
ーなどによって製版用感剤の表面に付与するなどの方法
が利用できる。
以下、本発明を実施例によって具体的に説明するが、本
発明がこれらによって限定されるものではない。
尚、実施例においては下記処方の現像液を用いた。
・亜硫酸カリウム           67g・エチ
レンジアミン−4−酢酸−2 ナトリウム            3.Og・ハイド
ロキノン            23g・4−ヒドロ
キシメチル−4−メチル 1−フェニル−3−ピラゾリド ン                        
      0. 4 g・2−メルカプトヘンライミ
ダゾール −5−スルホン酸ソーダ ・水酸化カリウム ・5−メチルベンゾトリアゾール ・炭酸ナトリウム ・臭化カリウム 水を加えて11とする。
(実施例) 1五曵星繁 乳剤A:2.′9Mの硝酸銀水溶液と、3.0Mの塩化
ナトリウムと5.3X10−’Mのへキサクロロロジウ
ム(m)faアンモニウムを含むハロゲン塩水溶液を、
塩化ナトリウムを含有するpH2゜0のゼラチン水溶液
に攪拌しながら38℃で4分間100mVの定電位で添
加して核形成を行う。1分後に2.9Mの硝酸銀水溶液
と3.0Mの塩化ナトリウムを含むハロゲン塩水溶液を
38℃で核形成時の1/2のスピードで8分間100m
Vの定電位で添加した。その後、常法に従ってフロキュ
レーション法により水洗し、ゼラチンを加え、0、3g 1g 0、1g 1g 3.0g 7に調整) (P H10゜ pH5,7、pAg7.4に調整し、安定剤として5.
6−ドリメチレンー7−ヒドロキシ〜S−トリアゾロ(
2,3,−a)ピリミジンを銀1モル当り0.05モル
加えた。得られた粒子は銀1モル当りRhを8.0XI
O−’モル含有する平均粒子サイズ0.13μmの塩化
銀立方体粒子であた。(変動係数11%) 乳剤B1.9Mの硝酸銀水溶液と、3. 0Mの塩化ナ
トリウムと2.0XIO−’Mのへキサクロロロジウム
(I[[)酸アンモニウムを含むハロゲン塩水溶液を塩
化ナトリウムを含有するpH2゜0のゼラチン水溶液に
撹拌しなから40゛cで4分間85mVの定電位で添加
し核形成を行う、1分後に2.9Mの硝酸銀水溶液と3
.0Mの塩化ナトリウムを含むハロゲン塩水溶液を40
°Cで核形成時の1/2のスピードで8分間85s+V
の定電位で添加した。その後、常法に従ってフロキュー
レーション法により水洗し、ゼラチンを加え、pH5゜
7、pAg7.4に調整し、安定剤として5.6−ドリ
メチレンー7−ヒドロキシーS −) 1,1アゾo 
(2,3,−a)ピリミジンと銀1モル当り1゜8X1
0−3モル及び6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,
3a、7−チトラアザインデンを銀1モル当り1.5X
10−’モル加えた。得られた粒子は銀1モル当りRh
を3.0X10−’モル含有する平均粒子サイズ0.1
6μmの塩化銀立方体粒子であった。(変動係数12%
) 乳剤C1,9Mの硝酸銀水溶液と2.6Mの塩化ナトリ
ウムと0.4Mの臭化カリウムと5゜3X10−’Mの
へキサクロロロジウム(III)酸アンモニウムを含む
ハロゲン塩水溶液を塩化ナトリウムを含有するpH2,
0のゼラチン水溶液に攪拌しながら40°Cで4分間8
5−vの定電位で添加し核形成を行う、1分後に2.9
Mの硝酸銀水溶Iと2.6Mの塩化ナトリウムと0.4
Mの臭化カリウムを含むハロゲン塩水溶液を40°Cで
核形成時の172のスピードで8分間85−■の定電位
で添加した。その後、常法に従ってフロキュレーション
法により水洗し、ゼラチンを加え、pH5゜7、pAg
7.4に調整し、安定剤として6−メチル−4−とドロ
牛シー1.3.3a、7−チトラアザインデンを銀1モ
ル当り3.0XIO−’モル加えた。得られた粒子は銀
1モル当りRhを8゜0XIO”モル含有する平均粒子
サイズ0.16μmの塩臭化銀立方体粒子であった。(
Br含有率15%、変動係数12%) 里五跋料■作成 乳剤A、B、Cに表に示した様に本発明の一般式(I)
あるいは一般式(n)の化合物及び一般式(A)〜(C
)の化合物を添加した後、次のUV吸収剤■を18■/
ボ、1−フェニル−5−メルカプトテトラゾールを2.
5■/ボ、エチルアクリレートラテックス(平均粒径0
.05μm)を770■/nf添加し、硬膜剤として2
−ビス(ビニルスルホニルアセトアミド)エタンを12
6■/ポ加え、ポリエステル支持体上に銀3.6g/r
dになるように塗布した。ゼラチンは1.5g/イであ
った。
この上に保護層下層として、ゼラチン0.8g/ボ、リ
ポ酸8IIg/rrf、エチルアクリレートラテックス
(平均粒径0.05μm)230■/ポを塗布し、さら
に、この上に保護層上層として、ゼラチン0.5g/r
rf、マント剤(二酸化ケイ素、平均粒径3.5μm)
55■/ボ、メタノールシリカ(平均粒径0,02μm
)135■/ボ、塗布助剤としてドデシルヘンゼンスル
ホン酸ナトリウム25■/rrr、ポリ(重合度5)オ
キシエチレンノニルフェニルエーテルの硫酸エステルナ
トリウム塩20■/ポ、N−パーフルオロオクタンスル
ホニル−N−プロピルグリシンボタジウム塩3■/rr
fを同時に塗布し、試料を作製した。
なお本実施例で使用したベースは下記組成のハック層及
びハック保護層を有する。(バック側の膨潤率は110
%である。) (バック層) ゼラチン           170■/n(ドデシ
ルベンゼンスルホン酸 ナトリウム           32■/ポジヘキシ
ル−α−スルホサク ナートナトリウム 5nOz/5b(9/1重量比、平均粒径0.25μm
) (ハック保護層) ゼラチン 二酸化ケイ素マント剤 (平均粒径3,5μm) ジヘキシルーα−スルホサク ナートナトリウム ドデシルベンゼンスルホン酸 ナトリウム c、p l tSOJ−(CH2CH2O) a−(C
L) 4zHt 35に/ボ 3181g/ボ 26g/ボ 20[/n( 67IIg/rr! 0sLi 5■/ポ 190mg/n( 染料B 32ag/ボ 染料C エチルアクリレートラテックス (平均粒径0.05μm) 1.3−ジビニル−スルホニル 2−プロパツール 260■/ボ 149■/ボ 写JLI脂 この様にして得られた試料を光模を通して大日本スクリ
ーン社製P−617DQプリンター(クォーツ)で露光
し、38°Cで20秒間現像処理し、定着、水洗、乾燥
した。(自動現像機FG−800RA)これらの試料に
対し、以下の項目を評価した。
1)相対感度;濃度1.5を与える露光量の逆数、試料
lを100とする。
2)γ; (3,0−0,3)/ −11ogUfA度
0.3を与える露光量)−1og(’a度3.0を与え
る露光量)) 3 ) Dad、 Dm(−1り ;貼り込みベースの
上に網点画像が形成されたフィルム(網点原稿)を接着
テープで固定したものを各フィルム試料の保護層と前記
網点原稿が面対面で重なるように密着させ、50%の網
点面積がフィルム試料上に50%、49%の網点面積と
なる様に露光を与えた時の最大黒化濃度を各々D(I)
+(−1χ)とする。
4)経時保存性(△fog) ;フィルムを60°C3
0%の条件下に5日間放置した後、38°C20秒現像
を行ない、塗布直後のカブリに対する変化をフィルム4
枚重ねで示した。
5)セーフライト照射後のかぶり;東芝製白色蛍光灯(
F L 40sw)に富士写真フィルム■製シャープカ
ットフィルター5C−42をかぶせ、約800Lux下
で30分間照射後、現像処理を行ったときのかぶり。
表から明らかな様に本発明の試料は、かえし工程におい
て露光がアンダーの場合でも濃度の低下が小さく、経時
保存性、セーフライト性に優れている。
平成3年 にカメ。2−日 ■。
事件の表示 平成2年特願第239466号 2゜ 発明の名称 ハロゲン化銀写真感光材料 3゜ 補正をする者 事件との関係

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 銀1モル当り1×10^−^6モル以上のロジウム塩を
    含有し、塩化銀含有率が90モル%以上のハロゲン化銀
    粒子からなるハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀
    写真感光材料において、下記一般式( I )で表される
    化合物又は、一般式(II)で表される化合物のうち少な
    くとも1種及び下記一般式〔A〕、〔B〕、又は〔C〕
    で表される化合物の少なくとも1種を、ハロゲン化銀乳
    剤層又はその他の親水性コロイド層の少なくとも1層に
    含有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Yはハロゲン化銀に吸着する基を表わす。Xは
    水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子か
    ら選ばれた原子または原子群よりなる2価の連結基を表
    わす、Aは2価の連結基を表わす、Bはアミノ基、アン
    モニウム基および含窒素ヘテロ環を表わし、アミノ基は
    置換されていてもよい。mは1、2又は3を表わし、n
    は0又は1を表わす。) 一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R^1、R^2は各々水素原子又は脂肪族残基を
    表わす。 R^1とR^2は互に結合して環を形成してもよい。 R^3は二価の脂肪族基を表わす。 Xは窒素、酸素若しくは硫黄原子を含む二価のヘテロ環
    を表わす。 nは0または1を表わす。Mは水素原子、アルカリ金属
    、アルカリ土類金属、四級アンモニウム塩、四級ホスホ
    ニウム塩又はアミジノ基を表わす。 一般式〔A〕Z−SO_2−S−M 一般式〔B〕▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式〔C〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 但し、Z:アルキル基(炭素数1〜18)、アリール基
    (炭素数6〜18)、又は ヘテロ環基 Y:芳香環(炭素数6〜18)、又はヘテロ環を形成す
    るに必要な原子 M:金属原子、又は有機カチオン n:2〜10の整数
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