JPH04117621A - 記録再生装置 - Google Patents

記録再生装置

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JPH04117621A
JPH04117621A JP2237532A JP23753290A JPH04117621A JP H04117621 A JPH04117621 A JP H04117621A JP 2237532 A JP2237532 A JP 2237532A JP 23753290 A JP23753290 A JP 23753290A JP H04117621 A JPH04117621 A JP H04117621A
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Norihisa Mino
規央 美濃
Toshinobu Ishihara
俊信 石原
Mikio Endo
幹夫 遠藤
Toru Kubota
透 久保田
Yasuhisa Tanaka
靖久 田中
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は記録再生装置に関し　特に記録媒体又は記録あ
るいは再生ヘッドに関すム　さらに詳しく法　磁気テー
プ、磁気ディス久　磁気カード、光磁気ディスク等の磁
気記録媒体　及び記録再生用ヘッドの記録再生訊　すな
わちアナログ信号を記録するＶＴＲやデジタル信号を記
録したり消去したりする磁気ディスク用の磁気記録へ・
シト、光磁気記録用の光磁気記録ヘッドあるいは光へ・
ソド等の記録ヘッドに関する。
従来の技術 従来より、磁気記録媒体に１１　大きく分けて塗布型と
蒸着型があａ 塗布型の磁気記録媒体では　一般にＦｅ１ｏｎやＣｏを
添加したγ−Ｆ　ｅ２ｏｓ等の磁性粉末を例えばポリビ
ニール・ブチラール、　トルエン、メチルイソブチル等
のに混合物に混合分散して塗料化し媒体基体表面に４〜
５μｍの厚みで塗布する方法である。
ま？、ＶＴＲやフロッピーディスク等の記録用ヘッドの
製造Ｇ１　　セラミック基体の表面に磁性膜を蒸着し　
さらにもう一つのセラミックを接着し媒体と接触する部
分を研磨した後切断する方法が一般に用いられていも 発明が解決しようとした、課題 前述の塗布型記録媒体の製造方法では製造が容易である
反匣　磁性粉末を小さくすることに限界があり、高密度
記録用としては性能が不十分であった また　蒸着型の記録媒体で（よ　記録密度は塗布型に比
べ良くなる力（磁性金属層が表面に出ているため耐久性
に問題があム　そこで、　１０００〜２０００人の磁性
金属を電子ビームやスツバタ法で蒸着した上へ　オーバ
ーコートを行Ｌ〜　さらに磁気記録媒体表面に潤滑性を
与えるために滑剤を塗布している力匁　まだ十分な耐久
性が得られていない現状であム ざら（−オーバーコートや滑剤の塗布を薄く均一に行え
ないたム　記録用磁気ヘッドと記録層のギャップが大き
くなり、蒸着型本来の高密度記録が十分発揮できないで
、　５．２５インチ基板で２０Ｍビット程度の記録密度
に留まっていも一人　記録読み取り用ヘッドでＣ１記録
媒体と接触する部分の研磨は行われている力（耐摩耗性
を目的とした特別な表面処理は行われてい、なかつ九　
たｔ４　　セラミックスの材質などを変えて耐摩耗性を
向上させていたに過ぎなｔ〜 従って、従来の記録ヘッドは記録媒体に対して損傷が大
きく、また摩耗も激しく信頼性に乏しかつ九 以上述べてきた従来法の欠点に鑑へ　本発明の目的は　
オーバーコートや滑剤をより薄く均一に且つピンホール
が無い記録媒体を提供し　蒸着型磁気記録媒体の耐摩耗
性を改良し信頼性を向上させると共に高密度記録を実現
し　ま７’＝　　滑剤をより薄く均一１．：、且つピン
ホール無く記録再生ヘッド上に形成し　記録媒体に対す
る損傷を少なくすると共に記録再生ヘッド自体の耐摩耗
性を改良し信頼性を向上した記録再生装置を提供するこ
とにあも 課題を解決するための手段 本発明（よ　記録媒体　この記録媒体に記録信号の授受
を行う記録もしくは再生ヘッド及び記録信号の授受を扱
う機構部及び回路部を具備し　記録媒体もしくは前記ヘ
ッドの何れかの表層く　金属層　金属酸化Ａ　半導体膜
　半導体酸化風　あるいは単層または複数層の有機単分
子膜よりなる保護膜を介して Ｐ（ＣＦ＊　）＠　（ＣＨＩ　）ＩＩＡ（ＣＨＩ　）＊
５ｉ（Ｃｈ　）＊　Ｘｓ−喝（式中ｍ＝１〜８、　ｎ＝
ｏ〜２、　ｐ＝５〜２５、ｑ＝Ｑ〜２の各整数を示り、
Ｘはハロゲン原子あるいはアルコキシ基を表わＬＡは酸
素原子（−０−）、カルボキシ基（−Ｃｏｏ−）、ある
いはジメチルシリレン基（Ｊｉ（ＣＨｓ　）ｅ−）を表
わす。）で表わされるクロロシラン界面活性剤が化学結
合してなる単分子膜を、少なくとも１層形成された記録
再生装置により、上述の課題を解決した作用 記録媒体表面にフッ素およびジメチルシリレンまたは酸
素原子またはカルボキシを含むクロロシラン系界面活性
剤を化学吸着させることで、保護膜が記録媒体と強固に
付着するた八　及びフッ素の滑性及び撥水性があるため
磁気記録媒体の信頼性を向上させると共へ　蒸着型記録
媒体自体が本来有する高密度記録を実現できる作用があ
もまた　記録再生用ヘッドの表面へ　単分子保護膜ある
いは複数層の単分子保護膜が互いに層間で化学結合した
状態の有機薄膜を高密度でピンホール無く、かつ均一な
厚みで、非常に薄く形成されているので、記録或は再生
ヘッドの効率が向上しノイズも減少できる作用があム さらに単分子有機薄膜表面にフッ素を含ませることによ
り、保護膜に滑性を持たせることかで献ヘッドの滑り性
が向上できる作用もあムまた　直鎖状のシラン系界面活
性剤分子内にジメチルシリレンまたは酸素原子またはカ
ルボキシを含ませておくこと℃　単分子膜内でのシラン
系界面活性剤分子の自由度を向上させることができ、吸
着された単分子膜の耐摩耗性を大幅に向上できる作用も
あム 実施例 本発明１上　記録媒体あるいは記録ヘッドに設けた保護
膜に特徴があり、記録装置の記録媒体を走査する機構及
び記録あるいは再生用の回路等４ｉ特に限定するもので
はな（℃　従って本発明の特徴の中心部である記録媒体
もしくは記録ヘッドについて詳細に説明すも 以下、本発明の記録媒体の一実施例を、第１図〜第９図
を用いて説明すも 第１図に示すようへ　例えば磁気記録用ディスク基板（
媒体基体）１上にスッパタ法等により磁気記録層２（例
えばＦｅ−Ｎｉ、Ｎｉ−Ｃｏ等の磁性金属や磁性金属酸
化膜）を１，０００人形成すもその丸　さらにスパッタ
蒸着法で、例えば炭素（Ｃ）等の保護風　例えばＣｒ、
Ｍｎ、Ｗ、ＭＯｌＴｉ等の金属薄罠　例えばＣｒｅｐｔ
、Ｍｎ０ｅ、ＷＯｓ、Ｍｏ＊Ｏｓ、Ｔｉｅ’ｓ等の金属
酸化罠　例えばＳｉ、ＳｉＣ等の半導体風　あるいは例
えば５ｉ０２（な抵　この場合？＆　　蒸着のへ　塗布
ガラスである有機Ｓｉ化合物を用い塗布した黴　熱処理
でＳ　ｉ　Ｏｓ膜を作成してもよＬｔ　　）等の半導体
酸化膜を２００人程度蒸着形成した徽　酸素を含むプラ
ズマガス雰囲気　あるいはオゾン発生器よりとりだした
１０％程度のオゾンを含むガス雰囲気中に１０分程度曝
すも　このとき、オゾンガスに保護膜３が曝されること
により、保護膜表面は完全に酸化されて親水性となり、
後工程の化学吸着が完全に行えるようになム 次へ　フッ素を含むシラン界面活性剤としてＣＨ＊＝Ｃ
Ｈ−（ＣＨｅ）−３ｉ　Ｃｌ５（ｎは整数で、　１０〜
２０程度が最も扱いやすい）を用（（例えば３　ｘ　１
０−”　〜５　ｘ　１０−１１Ｍｏｌ／１程度の濃度で
溶かした８０％ｎ−ヘキサデカン、　１２％四塩化炭秦
　８％クロロホルム溶液を調整し　記録層が形成された
媒体基体を浸漬すると、第３図に示したように媒体保護
膜３あるいはヘッド本体４表面に形成された金属酸化物
薄膜５Ｃ友　　表面に水酸基を含んでいるたヘ　クロロ
シラン系界面活性剤のクロロシリル基と水酸４基が反応
して表面にＣＨｅ−ＣＨ−（ＣＨａ）ＩＩ−３ｉ　−０
−の結合が生成され〇− ビニル基（ＣＨｅ−ＣＨ−）６を含んだ単分子吸着膜７
が一凰　酸素原子を介して化学結合した形で２０〜３０
人の厚みの保護膜が形成されもさらＬ　　酸素あるいは
Ｎｔを含んだ雰囲気中でこの媒体基体あるいはヘッドを
エネルギー線（電子龜Ｘ線　ｒ＠　　紫外線　イオン線
）で３Ｍｒ　ａｄ程度照射し　ビニル基部６に水酸（−
ＯＨ）基８（第４図）あるいはアミノ　（−ＮＨｔ）基
９（第５図）を付加させも な耘　これらの官能基がビニル基に付加すること＋１Ｆ
ＴＩＲ分析により確認されｋ また　このとき表面に並んだビニル基ＬＬＯａやＮ２を
含んだプラズマ中で処理する方法でＬ　　−ＯＨ基や−
ＮＨｅ基を付加させた単分子膜７−１　（第６図）およ
び７−２　（第７図）を形成する。
最後へ　化学吸着試薬として一般式 ％式％ （式中ｍ＝１〜８、ｎ＝０〜２、ｐ＝５〜２５、ｑ＝Ｑ
〜２の各整数を示ＬＸはハロゲン原子あるいはアルコキ
シを表わＬＡは酸素原子（−０−）、カルボキシ基（−
ＣＯＯ−）、あるいはジメチルシリレン基（−３ｉ（Ｃ
Ｔｏ　）ｅ−）を表わ！ｌ″ｏ）で表わされるフッ素を
含むシラン界面活性剋　例えば ＣｈＣＨｅＯ（ＣＨａ　）＋　５ｓｉｃｈを用（＼　２
　Ｘ　１０””　〜５　Ｘ　１０−’Ｍｏｌ／ｌ程度の
濃度で溶かした８０％ｎ−ヘキサデカン、　１２％四塩
化炭秦　８％クロロホルム溶液を調整し　前記単分子膜
７−１もしくは７−２が形成された媒体基体やヘッドを
浸漬すると、第４図あるいは第５図に示したように表面
に一層Ｈ基や−ＮＨａ基が露出しているた取　フッ素を
含むクロロシラン系界面活性剤のクロロシリル基と一層
Ｈ基あるいは−ＮＨ２基が反応して、表面に 〇− ＣｈＣＨｉＯ（ＣＨｔ　）＋　５ｓｉｏ−の結合が生成
され〇− 磁気記録媒体やヘッドの表面にフッ素を含む単分子吸着
膜１０力交　下層の単分子膜と層間で化学結合した状態
の高密度な単分子累積膜１１　（即ち滑性膜１２　（第
１図及び第２図））を得ることができも　（第５図及び
第６図） な耘　記録媒体の保護Ｍ３と滑性膜１２との肌あるいは
ヘッドの金属酸化物薄膜５と滑性膜１２との間に単分子
膜を必要としない場合には　第１回目の吸着でフッ素お
よびジメチルシリレンまたは酸素原子またはカルボキシ
を含むシラン界面活性剤を用いれ（瓜　表面にフッ素を
含む単分子吸着膜のみ１層形成することができも また　複数層の単分子膜を必要とした、場合に（表吸着
試薬として例えばＣＨｅ　＝ＣＨ−（ＣＨ２）。−３ｉ
Ｃ１ｇを用Ｉ、Ｘ。
化学吸着と放射線照射の工程を繰り返し　最後に吸着試
薬としてフッ素を含むクロロシラン系界面活性剤を吸着
すれば　必要とした、層数の単分子膜を介して表面にフ
ッ素を含む単分子吸着膜を１層形成した滑性膜が得られ
も な抵　上記実施例で（よ　最表面に形成すべきフッ素お
よびジメチルシリレンまたは酸素原子またはカルボキシ
を含む単分子吸着膜作成用の試薬として ＣＦｓＣＨｅＯ（ＣＨｉ　）＋　５ｓｉｃ１ｓを用いた
力丈　本発明はこれ以外にも Ｃｈ　（ＣＨｚ　：１２５Ｌ（ＣＨｓ　）ｔ　（ＣＨｔ
　）＋　ｓ　５ｉＣｈＦ（ＣＦｅ　）ａ　（ＣＨａ　）
ｅ　５ｉ（ＣＨｓ　）ｅ　（ＣＨ２）ｓｓｉｃｌｊＣｈ
ＣＯＯ（ＣＨ２）＋　５ｓｉｃｌｓ等が利用でき九 次番ミ　　吸着形成した単分子膜の表面エネルギーを測
定した結果を第８図に示す。
第８図より明らかなようへ　フッ素の数が多くなるほど
表面エネルギーが小さくなることが判っ九 なお第８図屯 Ｆ１７はＦ（ＣＦ２）ｓ　５ｉ（ＣＨｓ　）ｓ　（ＣＨ
２）ｅｓｉｃｌｇ。
ＦｅはＦ（ＣＦ２）４　（ＣＨｅ　）ｔｏ（ＣＨ２）＋
　５ｓｉｃｌｓＦ３はＣｈＣＯＯ（ＣＨｔ　）＋　５Ｓ
ｉＣｂＮＴＳはＣＨｓ　（ＣＨｓ　）＋　＊５ｉＣ１ｓ
、でそれぞれ作成された吸着単分子膜を示す。
さらく　耐摩耗性の評価結果を第９図に示す。
第９図より明らかなように　フッ素の数が多くジメチル
シリレンまたは酸素原子またはカルボキシを含む単分子
吸着膜力（耐摩耗性が高いことが判っ九 なお第９図においてＬ Ｆ１７はＦ（ＣＦ２　）口５ｉ（ＣＨａ　）ｓ　（ＣＨ
２）ｅｓｉｃｌｓ。
ＦｅはＦ（ＣＦｅ　）４　（ＣＨ２）２ｏ（ＣＨｔ）＋
　Ｇ５１ｃｌｓＦ３はＣＦｓＣＯＯ（ＣＨｅ　）＋　５
ｓｉｃｌｔＮＴＳはＣ１ｈ　（ＣＨａ　）＋　ｓｓｉｃ
ｌｇ。
でそれぞれ作成された吸着単分子膜を示す。
な耘　上記実施例で（友　磁気ディスクやヘッドを例に
して説明した力（磁気記録媒体や記録用ヘッドの保護膜
形成以外にＬ　光記録媒体や光デイスク用のレーザヘッ
ド、　レコード針等の耐摩耗性を向上したり、その地表
面保護を目的とした、全ての記録媒体やヘッド、或はそ
れらを用いたアナログやデジタル信号等の電気信号を記
録するＶＴＲ１磁気デイスク装置　光磁気ディスク装置
等に等に本発明の基本思想は応用できも 発明の効果 以上述べてきたよう艮　本発明の記録再生装置ζよ　記
録媒体表面又は記録もしくは再生ヘッド表面に　Ｆ（Ｃ
Ｆｆ　）ｍ　（ＣＨ２）Ｊ（ＣＨ２）＃　８１（ＣＨ３
）ａ　Ｘｉ　−ａで表わされるクロロシラン界面活性剤
が化学結合してなる単分子膜を、少なくとも１層形成す
ることで、単分子保護膜あるいは複数層の単分子保護膜
が互いに層間で化学結合した状態の有機薄膜を、高密度
でピンホール無く、かつ均一な厚み℃　非常に薄く形成
できも このとき、吸着用の直鎖状シラン系界面活性剤分子内に
ジメチルシリレンまたは酸素原子またはカルボキシを含
ませておくことで、単分子膜内でのシラン系界面活性剤
分子の自由度を向上させることができ、吸着された単分
子膜の耐摩耗性を大幅に向上できも 従って、磁気記録媒体としての性能を向上でき、ノイズ
も減少できて効果大なるものであムまた　このヘッドを
用いれば　磁気ディスクや磁気テープ等の記録媒体に与
える損傷を少なく押さえることができる効果もあム 従って、本願発明の記録媒体や記録読み取りヘッドをア
ナログやデジタル信号を記録するＶＴＲ１磁気デイスク
装置　光磁気ディスク装置等に応用すれば　装置として
の性能も大幅に向上できも
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の記録装置に適応される記録媒体の一実
施例の概念断面＠　第２図は本発明の記録装置に適応さ
れる記録もしくは再生ヘッドの一実施例の概念断面＠　
第３図〜第７図は本発明の記録装置中の記録媒体あるい
はヘッドに適応される保護膜の一実施例の工程断面医　
第８図は本発明のフッ素を含む化学吸着膜と従来の化学
吸着膜との表面エネルギーの関係を示す＠　第９図は本
発明のフッ素を含む化学吸着膜の摩擦係数と摩擦回数と
の関係を表した図である。 １・・・媒体基体　２・・・磁気記録慰　３・・・保護
膜４・・・ヘッド本体　５・・・金属酸化膜薄１１Ｅ６
・・・ビニル基　７・・・単分子吸着脱　８・・・水酸
展　９・・・アミノ基　１１・・・単分子累積風　１２
・・・滑性風代理人の氏名　弁理士　小鍜治　明　ほか
２名第１図 箭 図 第 図 第 区 に市張力 （ｄｙｎｅ／　Ｃｍ　） ！ｒ 転 Ｕ〕 憾 （〕 硅

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）記録媒体、前記記録媒体に記録信号の授受を行う
    記録もしくは再生ヘッド及び前記記録信号の授受を扱う
    機構部及び回路部を具備し、前記記録媒体もしくは前記
    ヘッドの何れかの表層に、金属膜、金属酸化膜、半導体
    膜、半導体酸化膜、あるいは単層または複数層の有機単
    分子膜よりなる保護膜を介して Ｆ（ＣＦ＿２）＿ｍ（ＣＨ＿２）＿ｎＡ（ＣＨ＿２）＿
    ｐＳｉ（ＣＨ＿３）＿ｑＸ＿３＿−＿ｑ（式中ｍ＝１〜
    ８、ｎ＝０〜２、ｐ＝５〜２５、ｑ＝０〜２の各整数を
    示し、Ｘはハロゲン原子あるいはアルコキシ基を表わし
    、Ａは酸素原子（−Ｏ−）、カルボキシ基（−ＣＯＯ−
    ）、あるいはジメチルシリレン基（−Ｓｉ（ＣＨ＿３）
    ＿２−）を表わす。）で表わされるクロロシラン界面活
    性剤が化学結合してなる単分子膜を、少なくとも１層形
    成されていることを特徴とした記録再生装置。
  2. （２）単層または複数層の単分子保護膜と、クロロシラ
    ン界面活性剤とが化学結合してなる単分子膜が、互いに
    層間で化学結合していることを特徴とした、請求項１記
    載の記録媒体。
  3. （３）クロロシラン界面活性剤が、 ＣＦ＿３（ＣＨ＿２）＿２Ｓｉ（ＣＨ＿３）＿２（ＣＨ
    ＿２）＿１＿５ＳｉＣｌ＿３であることを特徴とした、
    請求項１もしくは２何れかに記載の記録媒体。
  4. （４）クロロシラン界面活性剤が、 Ｆ（ＣＦ＿２）＿４（ＣＨ＿２）＿２Ｓｉ（ＣＨ＿３）
    ＿２（ＣＨ２）＿３ＳｉＣｌ＿３であることを特徴とし
    た、請求項１もしくは２何れかに記載の記録媒体。
  5. （５）クロロシラン界面活性剤が、 ＣＦ＿３ＣＨ＿２Ｏ（ＣＨ＿２）＿１＿５ＳｉＣｌ＿３
    であることを特徴とした、請求項１もしくは２何れかに
    記載の記録媒体。
  6. （６）クロロシラン界面活性剤が、 ＣＦ＿３ＣＯＯ（ＣＨ＿２）＿１＿５ＳｉＣｌ＿３であ
    ることを特徴とした、請求項１もしくは２何れかに記載
    の記録媒体。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007116812A1 (ja) * 2006-03-29 2007-10-18 Hoya Corporation 磁気ディスク及びその製造方法

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69122212T2 (de) * 1990-10-25 1997-01-30 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kadoma, Osaka Durch chemische Adsorption laminierter monomolekularer Film und Verfahren zu seiner Herstellung
EP0501298B1 (en) * 1991-02-27 1996-06-05 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Self-lubricating device
EP0511548B1 (en) * 1991-04-30 1997-07-09 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Chemically adsorbed film and method of manufacturing the same
EP0559119B1 (en) 1992-03-02 2000-10-11 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Chemically adsorbed film and method of manufacturing the same
JP2741823B2 (ja) * 1992-05-27 1998-04-22 松下電器産業株式会社 表面処理剤及びその使用方法
EP0582131B1 (en) * 1992-07-29 1997-05-02 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Lubricating film and method of manufacturing the same
FR2694369A1 (fr) * 1992-07-29 1994-02-04 Lyon Ecole Centrale Procédé de lubrification d'une pièce mécanique de frottement.
DE4323115A1 (de) * 1992-08-03 1994-02-10 Philips Electronics Nv Magnetkopf mit einer im wesentlichen Cr¶2¶O¶3¶-haltigen Schicht und Verfahren zum Herstellen eines derartigen Magnetkopfes
EP0606174A1 (fr) * 1993-01-05 1994-07-13 Elf Atochem S.A. Solide muni d'une couche hydrophobe et oléophobe et procédé d'application de ladite couche
JPH0845017A (ja) * 1994-07-13 1996-02-16 Samsung Electron Co Ltd 磁気ヘッドの製造方法
US5948532A (en) * 1996-12-10 1999-09-07 International Business Machines Corporation Cermet adhesion layer with carbonaceous wear layer for head/disk interfaces
JP2000155084A (ja) * 1998-11-20 2000-06-06 Hitachi Ltd 原子間力顕微鏡、それを用いた表面形状の測定方法及び磁気記録媒体の製造方法
TWI228538B (en) * 2000-10-23 2005-03-01 Kao Corp Polishing composition
KR100589041B1 (ko) * 2001-03-30 2006-06-13 삼성전자주식회사 마스크 및 그 형성방법
KR20040097179A (ko) * 2002-03-26 2004-11-17 티디케이가부시기가이샤 복합 하드코트층 부여 물체 및 복합 하드코트층의 형성 방법
DE10223359B4 (de) 2002-05-25 2011-08-11 Robert Bosch GmbH, 70469 Mikromechanisches Bauteil und Verfahren zur Herstellung einer Anti-Haftschicht auf einem mikromechanischen Bauteil
US8182868B2 (en) * 2003-01-09 2012-05-22 Maxtor Corporation Encapsulation of particulate contamination
US7746600B2 (en) * 2003-04-08 2010-06-29 Seagate Technology Llc Encapsulant for a disc drive component
US7327535B2 (en) * 2003-05-08 2008-02-05 Sae Magnetics (H.K.) Ltd. Hybrid coating for magnetic heads
US7758982B2 (en) * 2005-09-02 2010-07-20 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. SiN overcoat for perpendicular magnetic recording media
CN104685565A (zh) * 2012-10-15 2015-06-03 富士电机株式会社 用于热辅助记录方式的磁记录介质及其制造方法
US9153256B2 (en) * 2013-07-10 2015-10-06 Seagate Technology Llc Slider with self-assembled monolayer pattern

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4152487A (en) * 1976-12-17 1979-05-01 Nippon Electric Co., Ltd. Magnetic record member
US4120995A (en) * 1977-10-18 1978-10-17 International Business Machines Corporation Process for bonding a durable low surface energy coating
DE3374152D1 (en) * 1983-05-02 1987-11-26 Ibm Deutschland Device consisting of a magnetic disc with a lubricant and a magnetic head, and process for manufacturing the device
DE3337064C1 (de) * 1983-10-12 1990-11-29 Diehl Gmbh & Co Differenzdruckkolben-Brennkammersystem fuer Rohrwaffen
US4529659A (en) * 1983-11-05 1985-07-16 Nippon Telegraph & Telephone Public Corporation Magnetic recording member and process for manufacturing the same
JPS61122925A (ja) * 1984-11-19 1986-06-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 記録媒体の製造方法
JPS63220420A (ja) * 1987-03-09 1988-09-13 Matsushita Electric Ind Co Ltd 記録媒体およびその製造方法
JPH01194124A (ja) * 1988-01-29 1989-08-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd 磁気記録媒体保護膜の形成方法
US5039555A (en) * 1988-10-12 1991-08-13 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method of preparing lubricant for recording media

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007116812A1 (ja) * 2006-03-29 2007-10-18 Hoya Corporation 磁気ディスク及びその製造方法
JPWO2007116812A1 (ja) * 2006-03-29 2009-08-20 Hoya株式会社 磁気ディスク及びその製造方法
US8257783B2 (en) 2006-03-29 2012-09-04 Wd Media (Singapore) Pte. Ltd. Magnetic disk and method of manufacturing the same

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