JPH01194124A - 磁気記録媒体保護膜の形成方法 - Google Patents
磁気記録媒体保護膜の形成方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、磁気記録媒体の基板上へ、金属酸化膜を形成
した後、化学反応を用いて単分子吸着膜形成を行うこと
を特徴とした磁気記録媒体保護膜の形成方法に関するも
のである。
した後、化学反応を用いて単分子吸着膜形成を行うこと
を特徴とした磁気記録媒体保護膜の形成方法に関するも
のである。
従来の技術
従来、エレクトロニクス分野などにおいて開発されてい
る磁気ディスクの実用化には、性能上、磁気基板表面の
耐摩耗性の向上が必要不可欠である。
る磁気ディスクの実用化には、性能上、磁気基板表面の
耐摩耗性の向上が必要不可欠である。
例エバ、クロム（Ｏｒ、）、ニッケル（Ｎｉ） 、コバ
ル）（Ｃｏ）などから成る磁気記録基板は、以上の成分
および構造のみでは表面が非常に軟かく、そのためカー
ボンを蒸着後、潤滑剤を塗布することにより基板表面の
耐摩耗性の向上を図っている。
ル）（Ｃｏ）などから成る磁気記録基板は、以上の成分
および構造のみでは表面が非常に軟かく、そのためカー
ボンを蒸着後、潤滑剤を塗布することにより基板表面の
耐摩耗性の向上を図っている。
発明が解決しようとする課題
従来から用いられている磁気記録基板の保護膜は、製造
プロセス上、潤滑剤を塗布することによって形成されて
いるため、基板内の膜厚均一性が悪い点や、基板と膜の
密着性が悪く、耐久性が低い点などの課題があった。
プロセス上、潤滑剤を塗布することによって形成されて
いるため、基板内の膜厚均一性が悪い点や、基板と膜の
密着性が悪く、耐久性が低い点などの課題があった。
課題を解決するための手段
本発明は、課題を解決するため次のような手段を用いる
。すなわち、本発明の磁気記録媒体保護膜の形成方法は
、基板表面にあらかじめ金属酸化膜を形成した後、シラ
ン系（あるいはフルオロシラン系）単分子吸着膜を化学
的に形成することを特徴とするものである。
。すなわち、本発明の磁気記録媒体保護膜の形成方法は
、基板表面にあらかじめ金属酸化膜を形成した後、シラ
ン系（あるいはフルオロシラン系）単分子吸着膜を化学
的に形成することを特徴とするものである。
作 用
本発明により、基板表面と、化学的に分子レベルで高密
度に結合（共有結合）しているために磁気記録媒体の基
板上に、半永久的に強固で、しかも単分子膜の厚さで均
一な耐摩耗性保護膜を形成することが可能となる。
度に結合（共有結合）しているために磁気記録媒体の基
板上に、半永久的に強固で、しかも単分子膜の厚さで均
一な耐摩耗性保護膜を形成することが可能となる。
実施例
以下、図面に基いて更に詳しく説明する。
第１図に示す第１の実施例では、第１図ａに示すように
クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）等から成る磁気記録
媒体の基板１の表面に、あらかじめトリクレン等により
脱脂洗浄を行った後、第１図すに示すようにスパッタ法
等を用いて金属酸化膜Ｍｅｎｘ２を形成する。次に、第
１図Ｃに示すように、化学吸着法によジシラン界面活性
剤（例えば、ＣＨ２＝ＣＨ−（ＣＨ２）ｎ−５ｉｃ１３
（ｎは整数で１０〜３ｏが良い。なお、ＣＨ２＝ＣＨ−
はＣＨ＝Ｃ−、まだ単分子吸着膜３を形成する。
クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）等から成る磁気記録
媒体の基板１の表面に、あらかじめトリクレン等により
脱脂洗浄を行った後、第１図すに示すようにスパッタ法
等を用いて金属酸化膜Ｍｅｎｘ２を形成する。次に、第
１図Ｃに示すように、化学吸着法によジシラン界面活性
剤（例えば、ＣＨ２＝ＣＨ−（ＣＨ２）ｎ−５ｉｃ１３
（ｎは整数で１０〜３ｏが良い。なお、ＣＨ２＝ＣＨ−
はＣＨ＝Ｃ−、まだ単分子吸着膜３を形成する。
例えば、２．０Ｘ１０ 〜５．０Ｘ１０ （ｍｏｌ／
ｌ）の濃度で溶したａ ｏ ％ ｎ−セタン、１２％四
塩化炭素。
ｌ）の濃度で溶したａ ｏ ％ ｎ−セタン、１２％四
塩化炭素。
４を形成し、シラン界面活性剤の各分子は、Ｍｅｏｘ２
の表面上にて分子レベルで密度高くかつ均一に配列して
おυ、この工程によって単分子吸着膜３を含んで磁気記
録基板１の表面は、優れた耐摩耗性を示す。このように
ＭｅＯ工等の金属酸化膜上に形成すると、表面で前記結
合４が形成されるためすぐれた単分子吸着膜３を形成す
ることができる。
の表面上にて分子レベルで密度高くかつ均一に配列して
おυ、この工程によって単分子吸着膜３を含んで磁気記
録基板１の表面は、優れた耐摩耗性を示す。このように
ＭｅＯ工等の金属酸化膜上に形成すると、表面で前記結
合４が形成されるためすぐれた単分子吸着膜３を形成す
ることができる。
第２の実施例では、第１の実施例にて使用した単分子吸
着膜４の代わりに、分子末端にフッソを３０が良い）を
用い、第１の実施例と同様の工程を行い、第２図ａに示
すようにＭｅＯ工２の表面で吸着反応させ、単分子吸着
膜５を形成する。ここで単分子吸着膜５は、第２図すに
示すようＫＭｅＯｘている。一般に、−ＣＦ３基は炭化
水素基よシも、耐摩耗性が高いので、この工程によって
膜５を含んで磁気記録基板１の表面は優れた耐摩耗性を
示す。
着膜４の代わりに、分子末端にフッソを３０が良い）を
用い、第１の実施例と同様の工程を行い、第２図ａに示
すようにＭｅＯ工２の表面で吸着反応させ、単分子吸着
膜５を形成する。ここで単分子吸着膜５は、第２図すに
示すようＫＭｅＯｘている。一般に、−ＣＦ３基は炭化
水素基よシも、耐摩耗性が高いので、この工程によって
膜５を含んで磁気記録基板１の表面は優れた耐摩耗性を
示す。
なお、本発明において前記実施例の中の金属酸化膜Ｍｅ
ｏｘには、モリブデン（Ｍｏ）、チタニウム（Ｔｉ）、
タングステン（Ｗ）等の酸化膜が適用される。
ｏｘには、モリブデン（Ｍｏ）、チタニウム（Ｔｉ）、
タングステン（Ｗ）等の酸化膜が適用される。
また、上記２つの実施例においては、磁気記録基板上に
あらかじめ金属酸化膜を形成後、保護膜を形成させる方
法を示したが、金属酸化膜の代わりに金属膜を形成し、
その表面に自然に形成される金属酸化膜に対して保護膜
を形成することもできる。
あらかじめ金属酸化膜を形成後、保護膜を形成させる方
法を示したが、金属酸化膜の代わりに金属膜を形成し、
その表面に自然に形成される金属酸化膜に対して保護膜
を形成することもできる。
発明の効果
以上のように、本発明の方法によシ形成した保護、嘆で
は、潤滑剤とディスクの間は共有結合で強固に結ばれて
おり、しかも潤滑剤は分子オーダーで並んだ密度の高い
分子１個の厚さの超薄膜であるので、磁気記録媒体、た
とえば磁気ディスクの表面の耐摩耗性の向上を、従来に
ない非常に薄い膜でかつ半永久的に行うことができる。
は、潤滑剤とディスクの間は共有結合で強固に結ばれて
おり、しかも潤滑剤は分子オーダーで並んだ密度の高い
分子１個の厚さの超薄膜であるので、磁気記録媒体、た
とえば磁気ディスクの表面の耐摩耗性の向上を、従来に
ない非常に薄い膜でかつ半永久的に行うことができる。
第１図は本発明の第１の実施例方法の工程図、第２図は
同第２の実施例の工程図である。 １・・・・・・磁気記録基板、２・・・・・・Ｍｅｏｘ
、３，５・・・・・・単分子吸着膜、４，６・・・・・
・結合。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名／−
一、１ａ気把録基ス ど−−−ＭｅＯｘ ３−一一車分子吸着頑 第１図 ４一対へ ｌ−磁気紀要り基ズ ？−−ｔイ巴０ｘ ５− 単分子吸着、模 ６−［Δ 第２図
同第２の実施例の工程図である。 １・・・・・・磁気記録基板、２・・・・・・Ｍｅｏｘ
、３，５・・・・・・単分子吸着膜、４，６・・・・・
・結合。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名／−
一、１ａ気把録基ス ど−−−ＭｅＯｘ ３−一一車分子吸着頑 第１図 ４一対へ ｌ−磁気紀要り基ズ ？−−ｔイ巴０ｘ ５− 単分子吸着、模 ６−［Δ 第２図
Claims (2)
- （１）磁気ディスク基板の表面に、金属酸化膜を形成し
た後、前記金属酸化膜上に、シラン系単分子吸着膜を形
成してなる磁気記録媒体保護膜の形成方法。 - （２）単分子吸着膜を基板の表面に形成する工程におい
て、前記吸着膜の化学式の中にフッ素を持たせた特許請
求の範囲第１項記載の磁気記録媒体保護膜の形成方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63020491A JPH01194124A (ja) | 1988-01-29 | 1988-01-29 | 磁気記録媒体保護膜の形成方法 |
| EP19890300888 EP0326438A3 (en) | 1988-01-29 | 1989-01-30 | Forming method of magnetic recording medium protective film |
| US07/768,468 US5147684A (en) | 1988-01-29 | 1991-09-30 | Forming method of magnetic recording medium protective film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63020491A JPH01194124A (ja) | 1988-01-29 | 1988-01-29 | 磁気記録媒体保護膜の形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01194124A true JPH01194124A (ja) | 1989-08-04 |
Family
ID=12028620
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63020491A Pending JPH01194124A (ja) | 1988-01-29 | 1988-01-29 | 磁気記録媒体保護膜の形成方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5147684A (ja) |
| EP (1) | EP0326438A3 (ja) |
| JP (1) | JPH01194124A (ja) |
Cited By (2)
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|---|---|---|---|---|
| JPH04256710A (ja) * | 1991-02-06 | 1992-09-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 調理器具およびその製造方法 |
| JPH04298817A (ja) * | 1991-02-05 | 1992-10-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
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| EP0493747B1 (en) * | 1990-12-25 | 1996-07-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Anti-contaminating adsorbed film and method of manufacturing the same |
| US5268211A (en) * | 1991-01-17 | 1993-12-07 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical recording medium |
| CA2060294C (en) * | 1991-02-06 | 2000-01-18 | Kazufumi Ogawa | Chemically absorbed film and method of manufacturing the same |
| DE69228143T2 (de) * | 1991-04-30 | 1999-05-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Hydrophiler chemisch adsorbierter Film und Verfahren zu dessen Herstellung |
| US5296263A (en) * | 1992-01-07 | 1994-03-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of manufacturing a recording medium |
| EP0559119B1 (en) * | 1992-03-02 | 2000-10-11 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Chemically adsorbed film and method of manufacturing the same |
| FR2694369A1 (fr) * | 1992-07-29 | 1994-02-04 | Lyon Ecole Centrale | Procédé de lubrification d'une pièce mécanique de frottement. |
| US6249403B1 (en) | 1997-05-23 | 2001-06-19 | Hitachi, Ltd. | Magnetic hard disk drive and process for producing the same |
| JP2008004200A (ja) * | 2006-06-23 | 2008-01-10 | Fujifilm Corp | マスター記録媒体の製造方法及び、製造されたマスター記録媒体を用いた磁気転写方法、磁気記録媒体の製造方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5255603A (en) * | 1975-10-31 | 1977-05-07 | Nec Corp | Magnetic memory element and production of same |
| JPS59188826A (ja) * | 1983-04-12 | 1984-10-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS63220420A (ja) * | 1987-03-09 | 1988-09-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 記録媒体およびその製造方法 |
-
1988
- 1988-01-29 JP JP63020491A patent/JPH01194124A/ja active Pending
-
1989
- 1989-01-30 EP EP19890300888 patent/EP0326438A3/en not_active Withdrawn
-
1991
- 1991-09-30 US US07/768,468 patent/US5147684A/en not_active Expired - Lifetime
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| JPH04298817A (ja) * | 1991-02-05 | 1992-10-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPH04256710A (ja) * | 1991-02-06 | 1992-09-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 調理器具およびその製造方法 |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0326438A2 (en) | 1989-08-02 |
| EP0326438A3 (en) | 1990-10-03 |
| US5147684A (en) | 1992-09-15 |
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