JP2532577B2 - 記録媒体の製造方法 - Google Patents
記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JP2532577B2 JP2532577B2 JP63126404A JP12640488A JP2532577B2 JP 2532577 B2 JP2532577 B2 JP 2532577B2 JP 63126404 A JP63126404 A JP 63126404A JP 12640488 A JP12640488 A JP 12640488A JP 2532577 B2 JP2532577 B2 JP 2532577B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording medium
- group
- film
- silane
- magnetic recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、記録媒体及びその製造方法に関するもので
ある。さらに詳しくは、磁気テープ、磁気ディスク、磁
気カード、光磁気ディスク等の磁気記録媒体の記録層の
保護膜形成方法及びその方法を用いて製造される磁気記
録媒体に関するものである。
ある。さらに詳しくは、磁気テープ、磁気ディスク、磁
気カード、光磁気ディスク等の磁気記録媒体の記録層の
保護膜形成方法及びその方法を用いて製造される磁気記
録媒体に関するものである。
従来の技術 従来より、磁気記録媒体には、大きく分けて塗布型と
蒸着型がある。
蒸着型がある。
塗布型の磁気記録媒体では、一般にFe2O3やCoを添加
したγ−Fe2O3等の磁性粉末をポリビニール・ブチラー
ル、トルエン、メチルイソブチル等のに混合物に混合分
散して塗料化し、媒体基体表面に４〜５μｍの厚みで塗
布する方法である。
したγ−Fe2O3等の磁性粉末をポリビニール・ブチラー
ル、トルエン、メチルイソブチル等のに混合物に混合分
散して塗料化し、媒体基体表面に４〜５μｍの厚みで塗
布する方法である。
発明が解決しようとする課題 この方法では製造が容易である反面、磁性粉末を小さ
くすることに限界があり、高密度記録用としては性能が
不十分であった。
くすることに限界があり、高密度記録用としては性能が
不十分であった。
一方、蒸着型の記録媒体では、記録密度は塗布型に比
べ良くなるが、磁性金属層が表面に出ているため耐久性
に問題がある。そこで、1000〜2000の金属を電子ビーム
やスッパタ法で蒸着した上へ、オーバーコートを行い、
さらに磁気記録媒体表面に潤滑性を与えるために滑剤を
塗布しているが、まだ十分な耐久性が得られていない現
状である。さらに、オーバーコートや滑剤の塗布を薄く
均一に行えないため、記録用磁気ヘッドと記録層のギャ
ップが大きくなり、蒸着型本来の高密度記録が十分発揮
できない状況である。
べ良くなるが、磁性金属層が表面に出ているため耐久性
に問題がある。そこで、1000〜2000の金属を電子ビーム
やスッパタ法で蒸着した上へ、オーバーコートを行い、
さらに磁気記録媒体表面に潤滑性を与えるために滑剤を
塗布しているが、まだ十分な耐久性が得られていない現
状である。さらに、オーバーコートや滑剤の塗布を薄く
均一に行えないため、記録用磁気ヘッドと記録層のギャ
ップが大きくなり、蒸着型本来の高密度記録が十分発揮
できない状況である。
以上述べてきた従来法の欠点に鑑み、本発明の目的
は、オーバーコートや滑剤をより薄く均一に且つピンホ
ール無く行う方法を提供し、蒸着型磁気記録媒体の信頼
性を向上させると共に高密度記録を実現することにあ
る。
は、オーバーコートや滑剤をより薄く均一に且つピンホ
ール無く行う方法を提供し、蒸着型磁気記録媒体の信頼
性を向上させると共に高密度記録を実現することにあ
る。
課題を解決するための手段 本発明は、媒体基体上に蒸着形成された磁気記録層の
表面に直接または間接にシラン界面活性剤よりなる単分
子を形成するもので、その方法はシラン界面活性剤を単
分子状に化学吸着させる工程と、膜形成後さらに所定の
ガスを含む雰囲気中でエネルギー線（光、電子ビーム、
Ｘ線、γ線、イオンビーム等）を照射、あるいはプラズ
マ処理を行うこと等によりシラン界面活性剤の感応基を
変性させる工程とを含み、これらの工程を複数回交互に
行う等の方法により複数層の単分子膜が保護膜として形
成されていることを特徴とする高密度記録媒体を提供す
るものである。
表面に直接または間接にシラン界面活性剤よりなる単分
子を形成するもので、その方法はシラン界面活性剤を単
分子状に化学吸着させる工程と、膜形成後さらに所定の
ガスを含む雰囲気中でエネルギー線（光、電子ビーム、
Ｘ線、γ線、イオンビーム等）を照射、あるいはプラズ
マ処理を行うこと等によりシラン界面活性剤の感応基を
変性させる工程とを含み、これらの工程を複数回交互に
行う等の方法により複数層の単分子膜が保護膜として形
成されていることを特徴とする高密度記録媒体を提供す
るものである。
作用 本発明によれば、磁気記録媒体の表面に複数層の単分
子保護膜が互いに層間で化学結合した状態の高密度の有
機薄膜を、ピンホールなくかつ均一な厚みで非常に薄く
形成でき、高性能な表面保護膜を形成することが可能と
なる。
子保護膜が互いに層間で化学結合した状態の高密度の有
機薄膜を、ピンホールなくかつ均一な厚みで非常に薄く
形成でき、高性能な表面保護膜を形成することが可能と
なる。
実施例 以下、実施例を第１〜７図を用いて説明する。例え
ば、第１図に示すように、磁気記録用ディスク基板（媒
体基体）１上にスッパタ法等により磁気記録層２（Fe−
Ni、Ni−Co……等の磁性金属や磁性金属酸化膜）を形成
した後、シラン界面活性剤としてCH2＝CH−（CH2）ｎ−
SiCl3（n:整数。10〜20程度が最も扱いやすい）を用
い、２×10-3〜５×10-2Mol/l程度の濃度で溶かした80
％ｎ−ヘキサン、12％四塩化炭素、８％クロロホルム溶
液を調整し、前記磁気記録層の形成された媒体基体を浸
漬すると、磁気記録層として蒸着された金属表面はナチ
ュラルオキサイドが形成されているので表面で の結合が生成され、シラン界面活性剤による単分子吸着
膜３が一層（20〜30の厚み）形成される。
ば、第１図に示すように、磁気記録用ディスク基板（媒
体基体）１上にスッパタ法等により磁気記録層２（Fe−
Ni、Ni−Co……等の磁性金属や磁性金属酸化膜）を形成
した後、シラン界面活性剤としてCH2＝CH−（CH2）ｎ−
SiCl3（n:整数。10〜20程度が最も扱いやすい）を用
い、２×10-3〜５×10-2Mol/l程度の濃度で溶かした80
％ｎ−ヘキサン、12％四塩化炭素、８％クロロホルム溶
液を調整し、前記磁気記録層の形成された媒体基体を浸
漬すると、磁気記録層として蒸着された金属表面はナチ
ュラルオキサイドが形成されているので表面で の結合が生成され、シラン界面活性剤による単分子吸着
膜３が一層（20〜30の厚み）形成される。
次に、酸素あるいはN2を含んだ雰囲気中で（空気中で
もよい）ビニル基４（CH2＝CH−）をエネルギー線（電
子線、Ｘ線、γ線、紫外線、イオン線）で照射し、ビニ
ル基４に水酸（−OH）基５（第３図）あるいはアミノ
（−NH2）基６（第４図）を付加させる。なお、これら
の感応基がビニル基に付加することはFTIR分析により確
認された。また、このとき表面に並んだビニル基は、O2
やN2を含んだプラズマ中で処理する方法でも−OH基や−
NH2基の付加を行うことができる。以下、同じ反応液を
用い化学吸着工程およびOH基あるいはNH2基付加工程を
繰り返すことにより、磁気記録媒体等の表面に複数層の
単分子膜が互いに層間で化学結合した状態の高密度の単
分子累積膜７（保護膜８（第１図））を得ることができ
る。（第５図及び第６図）更に、最終層にＦを含んだ単
分子膜を形成しようとする場合には、最終の吸着工程で
試薬としてCF3−CF2−（CH2）16−SiCl3等Ｆを含んだシ
リコン界面活性剤を用いて化学吸着を行ったり、或は成
膜を終えた後、さらに最表面の単分子膜をフッ素を含む
ガス中でプラズマ処理することにより表面にＦを含む単
分子累積膜を形成できる。
もよい）ビニル基４（CH2＝CH−）をエネルギー線（電
子線、Ｘ線、γ線、紫外線、イオン線）で照射し、ビニ
ル基４に水酸（−OH）基５（第３図）あるいはアミノ
（−NH2）基６（第４図）を付加させる。なお、これら
の感応基がビニル基に付加することはFTIR分析により確
認された。また、このとき表面に並んだビニル基は、O2
やN2を含んだプラズマ中で処理する方法でも−OH基や−
NH2基の付加を行うことができる。以下、同じ反応液を
用い化学吸着工程およびOH基あるいはNH2基付加工程を
繰り返すことにより、磁気記録媒体等の表面に複数層の
単分子膜が互いに層間で化学結合した状態の高密度の単
分子累積膜７（保護膜８（第１図））を得ることができ
る。（第５図及び第６図）更に、最終層にＦを含んだ単
分子膜を形成しようとする場合には、最終の吸着工程で
試薬としてCF3−CF2−（CH2）16−SiCl3等Ｆを含んだシ
リコン界面活性剤を用いて化学吸着を行ったり、或は成
膜を終えた後、さらに最表面の単分子膜をフッ素を含む
ガス中でプラズマ処理することにより表面にＦを含む単
分子累積膜を形成できる。
一方、シラン界面活性剤を一層化学吸着法で形成した
基板を長鎖脂肪酸（例えば、CH2−（CH2）ｎ−COOH、ｎ
は10〜25）あるいは、長鎖アルコール（例えば、CH3−
（CH2）ｎ−OH、ｎは10〜25）を溶かした水溶液中に浸
せきすることにより、長鎖脂肪酸あるいは長鎖アルコー
ルの単分子膜をさらに一層前記シラン界面活性剤よりな
る単分子膜表面に吸着形成できる。
基板を長鎖脂肪酸（例えば、CH2−（CH2）ｎ−COOH、ｎ
は10〜25）あるいは、長鎖アルコール（例えば、CH3−
（CH2）ｎ−OH、ｎは10〜25）を溶かした水溶液中に浸
せきすることにより、長鎖脂肪酸あるいは長鎖アルコー
ルの単分子膜をさらに一層前記シラン界面活性剤よりな
る単分子膜表面に吸着形成できる。
例えば、CH3−（CH2）17−OHを10-5mol/l溶かした水
溶液中に10℃で30分浸せきすると長鎖アルコールの単分
子膜がOH基を表にして一層長鎖アルコールの単分子膜９
を吸着形成できる。（第７図） なお、上記実施例では、直接磁気記録媒体表面に単分
子累積膜を形成した例を示したが、磁気記録媒体上にＣ
やＷ、Mo等の物質を蒸着しこれらの膜を介して単分子累
積膜を形成しても同じ効果が得られることは言うまでも
ない。また、磁気ディスクを例にして説明したが、磁気
テープ、磁気カード、さらに媒体基体にPMMA等の透明体
を用いれば光磁気記録媒体へ応用できることも言うまで
もない。
溶液中に10℃で30分浸せきすると長鎖アルコールの単分
子膜がOH基を表にして一層長鎖アルコールの単分子膜９
を吸着形成できる。（第７図） なお、上記実施例では、直接磁気記録媒体表面に単分
子累積膜を形成した例を示したが、磁気記録媒体上にＣ
やＷ、Mo等の物質を蒸着しこれらの膜を介して単分子累
積膜を形成しても同じ効果が得られることは言うまでも
ない。また、磁気ディスクを例にして説明したが、磁気
テープ、磁気カード、さらに媒体基体にPMMA等の透明体
を用いれば光磁気記録媒体へ応用できることも言うまで
もない。
また、本方法は、磁気記録媒体の保護膜形成以外に
も、光記録媒体や半導体素子の保護膜としても応用可能
である。
も、光記録媒体や半導体素子の保護膜としても応用可能
である。
発明の効果 以上述べてきた本発明により、磁気記録媒体等の表面
に複数層の単分子保護膜が互いに層間で化学結合した状
態の高密度の有機薄膜をピンホール無く、かつ均一な厚
みで、非常に薄く形成できる。従って、基体が磁気記録
媒体等の場合、記録再生ヘッドの効率が向上し、ノイズ
も減少でき、効果大なるものである。すなわち、本発明
の方法により基体表面に複数層の単分子膜よりなる超薄
膜を化学吸着することにより、ピンホールフリーで均一
な膜厚の有機保護膜が得られる。さらに有機薄膜表面に
Ｆを含ませることにより、保護膜に滑性を持たせること
ができ、ヘッドの滑り性が向上される。従って、耐摩耗
性向上効果大なるものである。
に複数層の単分子保護膜が互いに層間で化学結合した状
態の高密度の有機薄膜をピンホール無く、かつ均一な厚
みで、非常に薄く形成できる。従って、基体が磁気記録
媒体等の場合、記録再生ヘッドの効率が向上し、ノイズ
も減少でき、効果大なるものである。すなわち、本発明
の方法により基体表面に複数層の単分子膜よりなる超薄
膜を化学吸着することにより、ピンホールフリーで均一
な膜厚の有機保護膜が得られる。さらに有機薄膜表面に
Ｆを含ませることにより、保護膜に滑性を持たせること
ができ、ヘッドの滑り性が向上される。従って、耐摩耗
性向上効果大なるものである。
以上、述べてきた実施例は、基体として磁気記録媒体
を用いて説明してきたが、光ディスク、レコード等耐摩
耗性を向上したり、表面保護を目的とする全てのものに
使用できることは明かである。
を用いて説明してきたが、光ディスク、レコード等耐摩
耗性を向上したり、表面保護を目的とする全てのものに
使用できることは明かである。
なお、化学吸着用の材料として、ジアセチレン系の誘
導体〔例えば、CH2＝CH−（CH2）ｎ−CC−Ｃ Ｃ−（CH
2）ｍ−SiCl3（ｎ、m:整数）等〕を用いた場合には、紫
外線照射により架橋を生成させ面方向の導電性を持たす
ことができ、基体表面の帯電を防止することも可能であ
る。
導体〔例えば、CH2＝CH−（CH2）ｎ−CC−Ｃ Ｃ−（CH
2）ｍ−SiCl3（ｎ、m:整数）等〕を用いた場合には、紫
外線照射により架橋を生成させ面方向の導電性を持たす
ことができ、基体表面の帯電を防止することも可能であ
る。
第１図〜第７図は本発明の方法を説明するための磁気記
録媒体断面図を示し、第１図は概念図、第２図〜第７図
は第１図中Ｏ印Ａ部を分子レベルまで拡大した工程断面
図である。 １……媒体基体、２……磁気記録層、３……単分子吸着
膜、４……ビニル基、５……水酸基、６……アミノ基、
７……単分子累積膜、８……長鎖アルコールの単分子
膜。
録媒体断面図を示し、第１図は概念図、第２図〜第７図
は第１図中Ｏ印Ａ部を分子レベルまで拡大した工程断面
図である。 １……媒体基体、２……磁気記録層、３……単分子吸着
膜、４……ビニル基、５……水酸基、６……アミノ基、
７……単分子累積膜、８……長鎖アルコールの単分子
膜。
Claims (3)
- 【請求項１】媒体基体表面に記録層を形成する工程と、
一端にビニル基他の一端にクロロシリル基を含む第１の
シラン系界面活性剤を化学結合させ前記記録層上に直接
または間接に前記第１のシラン系界面活性剤のシリコン
と記録層上の酸素を化学結合させて第１層目の単分子膜
を形成する工程との後に、O2またはN2を含むガス雰囲気
中で高エネルギービームを照射するかあるいはプラズマ
処理して前記単分子膜表面のビニル基に水酸基あるいは
アミノ基を付加する工程と、一端にCF3基他の一端にク
ロロシリル基を含む第２のシラン系界面活性剤を化学結
合させて化学吸着単分子膜を累積する工程とを少なくと
も１回含むことを特徴とした記録媒体の製造方法。 - 【請求項２】第１のシラン界面活性剤として、CH2＝CH
−（CH2）ｎ−SiCl3（n:整数）で表される化学物質を用
いることを特徴とした請求項１記載の記録媒体の製造方
法。 - 【請求項３】媒体基体として光学的に透明な材料を用い
たことを特徴とした請求項１又は２記載の記録媒体の製
造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63126404A JP2532577B2 (ja) | 1988-05-24 | 1988-05-24 | 記録媒体の製造方法 |
| US07/354,240 US4992300A (en) | 1988-05-24 | 1989-05-19 | Manufacturing method for a recording medium or a recording head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63126404A JP2532577B2 (ja) | 1988-05-24 | 1988-05-24 | 記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01296429A JPH01296429A (ja) | 1989-11-29 |
| JP2532577B2 true JP2532577B2 (ja) | 1996-09-11 |
Family
ID=14934316
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63126404A Expired - Fee Related JP2532577B2 (ja) | 1988-05-24 | 1988-05-24 | 記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2532577B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001001403A1 (fr) | 1999-06-24 | 2001-01-04 | Fujitsu Limited | Procede de production d'un support d'enregistrement magnetique et support d'enregistrement magnetique ainsi obtenu |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61122925A (ja) * | 1984-11-19 | 1986-06-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 記録媒体の製造方法 |
-
1988
- 1988-05-24 JP JP63126404A patent/JP2532577B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01296429A (ja) | 1989-11-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4992300A (en) | Manufacturing method for a recording medium or a recording head | |
| JPH022221B2 (ja) | ||
| JP2912694B2 (ja) | 記録再生装置 | |
| JPH0534729B2 (ja) | ||
| JP3936197B2 (ja) | 磁性材料用極薄保護被覆 | |
| EP0182367B1 (en) | Magnetic recording medium and production of the same | |
| US6479111B2 (en) | Process for production of ultrathin protective overcoats | |
| US5366762A (en) | Method of manufacturing a recording medium | |
| US20020034666A1 (en) | Magnetic recording medium utilizing patterned nanoparticle arrays | |
| JP2532577B2 (ja) | 記録媒体の製造方法 | |
| JP2532683B2 (ja) | 記録媒体の製造方法 | |
| JPH0516087B2 (ja) | ||
| JP2517067B2 (ja) | 記録再生用ヘッドとその製造方法 | |
| US5747158A (en) | Chemically adsorbed multilayer film | |
| JPH075924B2 (ja) | 金属微粒子集合体とその製造方法および金属微粒子集合体を用いた磁気記録媒体とその製造方法 | |
| JPH0650564B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2719268B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2003223710A (ja) | 磁気記録媒体、潤滑膜及び磁気記録装置 | |
| JP2507531B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2003331416A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH02225534A (ja) | 無機物微粒子超薄膜およびその製造方法およびそれを応用した磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH103642A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH043008B2 (ja) | ||
| JPS58171722A (ja) | 金属薄膜磁気記録媒体の製法 | |
| JPH0836732A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |