JPH1116313A - 磁気ヘッドスライダおよびその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドスライダおよびその製造方法Info
- Publication number
- JPH1116313A JPH1116313A JP16567197A JP16567197A JPH1116313A JP H1116313 A JPH1116313 A JP H1116313A JP 16567197 A JP16567197 A JP 16567197A JP 16567197 A JP16567197 A JP 16567197A JP H1116313 A JPH1116313 A JP H1116313A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slider
- magnetic head
- head slider
- film
- oil
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁気ヘッドスライダの表面への磁気ディスク
媒体側の潤滑剤の付着を抑制し、磁気ディスク停止時に
おけるスライダの粘着現象を回避する。 【解決手段】 磁気ヘッドスライダの表面を活性な酸素
等により活性化した表面にしておき、そこにフルオロア
ルキルシランのフッ素を含むアルキルシラン剤を塗布す
ることにより、末端のシラノール基と前記スライダ表面
とが脱水縮合反応し、極めて撥油性に富む表面を形成す
る。
媒体側の潤滑剤の付着を抑制し、磁気ディスク停止時に
おけるスライダの粘着現象を回避する。 【解決手段】 磁気ヘッドスライダの表面を活性な酸素
等により活性化した表面にしておき、そこにフルオロア
ルキルシランのフッ素を含むアルキルシラン剤を塗布す
ることにより、末端のシラノール基と前記スライダ表面
とが脱水縮合反応し、極めて撥油性に富む表面を形成す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は磁気ディスク装置に
おける磁気ヘッドスライダ表面の低表面エネルギ被膜作
成方法に関する。
おける磁気ヘッドスライダ表面の低表面エネルギ被膜作
成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク装置はその記憶容量の増大
とともに、記録すき間を微小化して高記録密度化を実現
することが重要な課題となっている。この記録すき間の
微小化を実現するには磁気ディスク媒体表面を平滑化す
る必要がある。しかし、平滑化した磁気ディスク媒体
は、運転停止時にはスライダと接触しているのでスライ
ダを吸着してしまい、起動ができなくなってしまうとい
う障害が発生する。特に、磁気ディスク媒体表面には回
転起動および回転停止時における摺動性を考慮して通常
数ナノメータの厚みに潤滑剤が塗布してあるので、この
潤滑剤が静止時にスライダとのすき間に集まって入り込
むことが主原因で吸着現象を引き起こす。この吸着を抑
制するために、スライダ表面に潤滑剤が付着しにくく、
かつ停止時に表面拡散等によりすき間への潤滑剤の進入
を抑制することを目的にした撥油処理を行うことが提案
されている。例えば、特開昭54-58736号公報記載のよう
に、スライダの表面をアルカリで処理した後に、フッ素
化されたアルキル基を持ちかつ末端にハロゲン、シアン
化物、またはアルコキシド基を有する物質を付着させ、
低表面エネルギ被膜を形成する方法が提案されている。
とともに、記録すき間を微小化して高記録密度化を実現
することが重要な課題となっている。この記録すき間の
微小化を実現するには磁気ディスク媒体表面を平滑化す
る必要がある。しかし、平滑化した磁気ディスク媒体
は、運転停止時にはスライダと接触しているのでスライ
ダを吸着してしまい、起動ができなくなってしまうとい
う障害が発生する。特に、磁気ディスク媒体表面には回
転起動および回転停止時における摺動性を考慮して通常
数ナノメータの厚みに潤滑剤が塗布してあるので、この
潤滑剤が静止時にスライダとのすき間に集まって入り込
むことが主原因で吸着現象を引き起こす。この吸着を抑
制するために、スライダ表面に潤滑剤が付着しにくく、
かつ停止時に表面拡散等によりすき間への潤滑剤の進入
を抑制することを目的にした撥油処理を行うことが提案
されている。例えば、特開昭54-58736号公報記載のよう
に、スライダの表面をアルカリで処理した後に、フッ素
化されたアルキル基を持ちかつ末端にハロゲン、シアン
化物、またはアルコキシド基を有する物質を付着させ、
低表面エネルギ被膜を形成する方法が提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】被処理表面をアルカリ
で処理すると、フッ素化されたアルキル基を持ちかつ末
端にハロゲン、シアン化物、またはアルコキシド基を有
する前記物質の付着性を高める効果はあるものの、スラ
イダの後端にある磁気ヘッド磁性膜を腐食させてしまう
欠点があった。また、スライダがカーボン系物質などの
ように非金属である場合上記末端基は付着しにくく、そ
の安定性は非常に低いものとなってしまうという課題が
あった。
で処理すると、フッ素化されたアルキル基を持ちかつ末
端にハロゲン、シアン化物、またはアルコキシド基を有
する前記物質の付着性を高める効果はあるものの、スラ
イダの後端にある磁気ヘッド磁性膜を腐食させてしまう
欠点があった。また、スライダがカーボン系物質などの
ように非金属である場合上記末端基は付着しにくく、そ
の安定性は非常に低いものとなってしまうという課題が
あった。
【０００４】本発明の目的は、スライダがカーボン系物
質などのように非金属である場合でも、スライダ表面
を、フッ素化されたアルキル基を持ちかつ末端にハロゲ
ン、シアン化物、またはアルコキシド基を有する前記物
質がきちんと付着する表面にすることにある。
質などのように非金属である場合でも、スライダ表面
を、フッ素化されたアルキル基を持ちかつ末端にハロゲ
ン、シアン化物、またはアルコキシド基を有する前記物
質がきちんと付着する表面にすることにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】スライダ表面に接する領
域に活性化した酸素を外部から導入し、スライダの表面
を酸素富裕な状態にすることにより、被処理面であるス
ライダ表層に多くの水酸基を導入することができる。一
方、シラン系撥油剤、例えばアルキルアルコキシシラン
はフッ素を含有するアルキル基を持ち、その末端にはシ
ランを有する。これは余剰の水分と反応して末端はシラ
ノール基Ｓi−ＯＨとなる。このシラノール基は、前記
スライダ表面の水酸基と反応し、式（１）に示すように
脱水縮合反応が進行する。
域に活性化した酸素を外部から導入し、スライダの表面
を酸素富裕な状態にすることにより、被処理面であるス
ライダ表層に多くの水酸基を導入することができる。一
方、シラン系撥油剤、例えばアルキルアルコキシシラン
はフッ素を含有するアルキル基を持ち、その末端にはシ
ランを有する。これは余剰の水分と反応して末端はシラ
ノール基Ｓi−ＯＨとなる。このシラノール基は、前記
スライダ表面の水酸基と反応し、式（１）に示すように
脱水縮合反応が進行する。
【０００６】 なお、Ｘはスライダ表層を構成する元素で通常はカーボ
ン、Ｒはフッ素を持つアルキル基である。この結果、ス
ライダ母材元素と前記のフッ素を持つシラン系撥油剤と
の結合がなされ、極めて結合点密度が高くかつ緻密な被
膜（低表面エネルギ被膜）を形成することができる。
ン、Ｒはフッ素を持つアルキル基である。この結果、ス
ライダ母材元素と前記のフッ素を持つシラン系撥油剤と
の結合がなされ、極めて結合点密度が高くかつ緻密な被
膜（低表面エネルギ被膜）を形成することができる。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例について説
明する。第１の実施例については図１〜図５をもって、
第２の実施例については図６、第３の実施例については
図７、第４の実施例については図８をもってそれぞれ説
明する。
明する。第１の実施例については図１〜図５をもって、
第２の実施例については図６、第３の実施例については
図７、第４の実施例については図８をもってそれぞれ説
明する。
【０００８】第１の実施例である磁気ディスク装置の磁
気スライダと磁気ディスク７の側面断面図を図１に示
す。図１は、磁気スライダと磁気ディスク７を、磁気デ
ィスクの移動方向に平行で磁気ディスクの表面（記録
面）に垂直な面で切った断面を概念的に示している。記
録媒体である磁気ディスク７は、ＮiＰメッキしてある
ディスク基板８と、その上に形成されたＣr中間膜９
と、Ｃr中間膜９の上に形成された厚さ３０nmのＣoＣr
系の磁性膜１０と、磁性膜１０の上に摺動保護膜として
形成された厚さ２０nmのカーボン保護膜１１と、を含ん
で構成されている。さらに、その摺動信頼性を確保する
ため、カーボン保護膜１１に液体潤滑剤１２が約２nmの
厚さで塗布されている。一方、サスペンション１の先端
には、柔軟支持するためのジンバル２が形成され、これ
を介してスライダ３が接合されている。このスライダ３
の磁気ディスク移動方向の長さは２mmであり、後端には
データを記録再生する磁気変換素子４を搭載している。
磁気ディスク７は、図の左から右に向かって動く。この
スライダ３は、アルミナチタンカーバイドＡl2Ｏ3ＴiＣ
のスライダ本体にヘッド保護膜としてカーボン薄膜５を
約１０nmの厚さに成膜したもので、カーボン薄膜５の表
面に撥油膜６が形成されている。
気スライダと磁気ディスク７の側面断面図を図１に示
す。図１は、磁気スライダと磁気ディスク７を、磁気デ
ィスクの移動方向に平行で磁気ディスクの表面（記録
面）に垂直な面で切った断面を概念的に示している。記
録媒体である磁気ディスク７は、ＮiＰメッキしてある
ディスク基板８と、その上に形成されたＣr中間膜９
と、Ｃr中間膜９の上に形成された厚さ３０nmのＣoＣr
系の磁性膜１０と、磁性膜１０の上に摺動保護膜として
形成された厚さ２０nmのカーボン保護膜１１と、を含ん
で構成されている。さらに、その摺動信頼性を確保する
ため、カーボン保護膜１１に液体潤滑剤１２が約２nmの
厚さで塗布されている。一方、サスペンション１の先端
には、柔軟支持するためのジンバル２が形成され、これ
を介してスライダ３が接合されている。このスライダ３
の磁気ディスク移動方向の長さは２mmであり、後端には
データを記録再生する磁気変換素子４を搭載している。
磁気ディスク７は、図の左から右に向かって動く。この
スライダ３は、アルミナチタンカーバイドＡl2Ｏ3ＴiＣ
のスライダ本体にヘッド保護膜としてカーボン薄膜５を
約１０nmの厚さに成膜したもので、カーボン薄膜５の表
面に撥油膜６が形成されている。
【０００９】図２には、撥油処理したスライダ表面の分
子構造、つまり撥油膜６の分子構造を模式的に示してあ
る。この分子構造は、最表面すなわち磁気ディスクと対
向する面には表面張力が非常に低いＣＦ3，ＣＦ2の末端
基があり、反対側のスライダ面とはシラノール基により
スライダ保護膜（カーボン薄膜５）と密に結合してい
る。
子構造、つまり撥油膜６の分子構造を模式的に示してあ
る。この分子構造は、最表面すなわち磁気ディスクと対
向する面には表面張力が非常に低いＣＦ3，ＣＦ2の末端
基があり、反対側のスライダ面とはシラノール基により
スライダ保護膜（カーボン薄膜５）と密に結合してい
る。
【００１０】本発明の撥油処理の特徴を図３を用いて説
明する。シラン系撥油剤、例えばアルキルアルコキシシ
ランのフッ素基を持つアルキル基の末端は、メトキシ基
−ＣＨ3Ｏを持っている。このアルキルアルコキシシラ
ンを溶媒に溶かすと、内在する微量な水分と反応して、
末端は水酸基を持つようになる。
明する。シラン系撥油剤、例えばアルキルアルコキシシ
ランのフッ素基を持つアルキル基の末端は、メトキシ基
−ＣＨ3Ｏを持っている。このアルキルアルコキシシラ
ンを溶媒に溶かすと、内在する微量な水分と反応して、
末端は水酸基を持つようになる。
【００１１】 ＣＦ3−（ＣＦ2）n−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｓi（Ｏ−ＣＨ3）3 ＋ ３Ｈ2Ｏ →ＣＦ3−（ＣＦ2）n−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｓi（ＯＨ）3 ＋ ３ＣＨ3ＯＨ ……………………（２） 図３中の〈Ａ〉，〈Ｂ〉図に示すように、脱アルコール
反応が進み、シラノール（Ｓi−ＯＨ）が生成される。
反応が進み、シラノール（Ｓi−ＯＨ）が生成される。
【００１２】一方、スライダは、以下に示すプラズマ表
面処理をする。処理槽は、大気圧下で容器内にＨeの雰
囲気ガスにメタノールあるいはエタノールの副反応ガス
を混入した混合ガスを用い、電源として１０ＭＨz以上
の高周波電源でプラズマを発生できるものである。この
上記混合ガス雰囲気に前記高周波を印加してプラズマを
生成させ、その中に磁気ヘッドスライダを約１分入れて
表面処理することにより、メタノールあるいはエタノー
ルの一部が分解して図中の〈Ｄ〉に示すように、水酸基
を表面に多く導入することができる。
面処理をする。処理槽は、大気圧下で容器内にＨeの雰
囲気ガスにメタノールあるいはエタノールの副反応ガス
を混入した混合ガスを用い、電源として１０ＭＨz以上
の高周波電源でプラズマを発生できるものである。この
上記混合ガス雰囲気に前記高周波を印加してプラズマを
生成させ、その中に磁気ヘッドスライダを約１分入れて
表面処理することにより、メタノールあるいはエタノー
ルの一部が分解して図中の〈Ｄ〉に示すように、水酸基
を表面に多く導入することができる。
【００１３】この表面処理したスライダを、前記の溶媒
に浸漬し、ディッピングにより引き上げた後、約１５０
度に加熱すると図中の〈Ｅ〉に示すように脱水反応が生
じ、アルコキシル基が形成される。
に浸漬し、ディッピングにより引き上げた後、約１５０
度に加熱すると図中の〈Ｅ〉に示すように脱水反応が生
じ、アルコキシル基が形成される。
【００１４】 Ｒ−Ｓi(ＯＨ)3 ＋ Ｘ−ＯＨ → Ｒ−Ｓi(ＯＨ)2−ＯＸ ＋ Ｈ2Ｏ……（３） 但し、表面材料の元素をＸとする。Ｒ−Ｓi(ＯＨ)2−Ｏ
Ｘがアルキルシラン化合物である。
Ｘがアルキルシラン化合物である。
【００１５】この反応は表面に活性化された酸素基、水
酸基が多数存在するため、多くのフッ素アルコキシル基
が吸着し、緻密で吸着点の多い膜を形成することができ
る。また、隣り合う分子間では、Ｓi−Ｏ−Ｓiなるシロ
キサン結合も生成でき架橋も進むので、強固な被膜を形
成することができる。
酸基が多数存在するため、多くのフッ素アルコキシル基
が吸着し、緻密で吸着点の多い膜を形成することができ
る。また、隣り合う分子間では、Ｓi−Ｏ−Ｓiなるシロ
キサン結合も生成でき架橋も進むので、強固な被膜を形
成することができる。
【００１６】この膜の撥油効果を確認するため、処理面
にフッ素系潤滑剤の液を０．０５ml滴下し接触角を測定
した。この結果を図４に示す。未処理状態のスライダ、
そのスライダに直接撥油処理したもの、およびこのプラ
ズマ前処理をいれたものの３種類で測定し、結果を比較
した。未処理のものは、接触角は平均約１２°と低いの
に対し、撥油処理したものは平均で２４°となり、また
本発明である前処理としてプラズマ処理を導入した試料
では平均約４０°と大きな接触角を示すことが確認され
た。
にフッ素系潤滑剤の液を０．０５ml滴下し接触角を測定
した。この結果を図４に示す。未処理状態のスライダ、
そのスライダに直接撥油処理したもの、およびこのプラ
ズマ前処理をいれたものの３種類で測定し、結果を比較
した。未処理のものは、接触角は平均約１２°と低いの
に対し、撥油処理したものは平均で２４°となり、また
本発明である前処理としてプラズマ処理を導入した試料
では平均約４０°と大きな接触角を示すことが確認され
た。
【００１７】次に、この性能が実ディスクにおいて発揮
されるかどうかを確認するため、実際のディスク装置を
用い一定時間駆動した後に、３０℃，６０％ＲＨの環境
下で２４時間停止し、その後起動する際の静摩擦力を計
測した。磁気ディスク媒体はカーボン膜表面の粗さＲa
が５nmのものの上に、フッ素系潤滑剤を１．５nm塗布し
たものを用いた。サスペンションの押付け荷重は３gfで
ある。結果を図５に示す。未処理のスライダの摩擦力
は、２〜１２gfとばらつきが多く、その平均値も８gfと
高いのに対し、プラズマ処理なしで撥油処理したものは
２〜６gfとなり、平均でも４gfと低くなる。次に、プラ
ズマ前処理を導入した本発明の実施例である試料を作成
した。この実施例によれば、スライダの摩擦力は、１．
５〜２．５gfと非常に低く、平均約２gfと低減でき、吸
着力の低減に大きな効果があることが示された。
されるかどうかを確認するため、実際のディスク装置を
用い一定時間駆動した後に、３０℃，６０％ＲＨの環境
下で２４時間停止し、その後起動する際の静摩擦力を計
測した。磁気ディスク媒体はカーボン膜表面の粗さＲa
が５nmのものの上に、フッ素系潤滑剤を１．５nm塗布し
たものを用いた。サスペンションの押付け荷重は３gfで
ある。結果を図５に示す。未処理のスライダの摩擦力
は、２〜１２gfとばらつきが多く、その平均値も８gfと
高いのに対し、プラズマ処理なしで撥油処理したものは
２〜６gfとなり、平均でも４gfと低くなる。次に、プラ
ズマ前処理を導入した本発明の実施例である試料を作成
した。この実施例によれば、スライダの摩擦力は、１．
５〜２．５gfと非常に低く、平均約２gfと低減でき、吸
着力の低減に大きな効果があることが示された。
【００１８】次に第２の実施例である磁気スライダの表
面処理方法を説明する。まず、ジルコニアのスライダ本
体にスパッタリング成膜時に水素を窒素ガスに混入した
条件でカーボン薄膜を約１０nmの厚みに形成した。この
カーボン薄膜をイオン注入により前処理した。注入条件
は、酸素ガスを加速電圧１０ＫＶで加速し、処理時間に
して３０秒処理した。注入量は、２×１０16 ions／cm2
である。カーボンに対する酸素の原子濃度比でほぼ３％
に相当する。この酸素原子濃度比は、３〜２０％の範囲
とするのが望ましく、２０％を超えると材質がボロボロ
になる恐れがある。
面処理方法を説明する。まず、ジルコニアのスライダ本
体にスパッタリング成膜時に水素を窒素ガスに混入した
条件でカーボン薄膜を約１０nmの厚みに形成した。この
カーボン薄膜をイオン注入により前処理した。注入条件
は、酸素ガスを加速電圧１０ＫＶで加速し、処理時間に
して３０秒処理した。注入量は、２×１０16 ions／cm2
である。カーボンに対する酸素の原子濃度比でほぼ３％
に相当する。この酸素原子濃度比は、３〜２０％の範囲
とするのが望ましく、２０％を超えると材質がボロボロ
になる恐れがある。
【００１９】この前処理を行った後、フルオロアルキル
アルコキシシラン液を密閉容器に入れ約１００℃に加熱
蒸発させ、その上部にスライダを設置することにより、
表面に付着させた。この結果、第１の実施例の反応であ
る式（２），（３）が同時に進み、スライダ表面にアル
コキシル基が強固に吸着した撥油膜を形成することがで
きる。この性能を、起動時の摩擦力で測定した結果を図
６に示す。未処理のスライダの摩擦力は、平均で８gfと
高いのに対し、撥油処理したものは４gfとなり、また本
実施例であるイオン注入処理を導入した試料では平均約
２．５gfと非常に小さくなり、吸着力の低減に大きな効
果があることが示された。なお、加速電圧に関しては、
２〜３０ＫＶの範囲でも、ほぼ同様の効果が確認され
た。本実施例では、高い撥油効果のある被膜形成ができ
るほか、保護膜自体も硬度が高くなり摩耗低減の効果も
ある。
アルコキシシラン液を密閉容器に入れ約１００℃に加熱
蒸発させ、その上部にスライダを設置することにより、
表面に付着させた。この結果、第１の実施例の反応であ
る式（２），（３）が同時に進み、スライダ表面にアル
コキシル基が強固に吸着した撥油膜を形成することがで
きる。この性能を、起動時の摩擦力で測定した結果を図
６に示す。未処理のスライダの摩擦力は、平均で８gfと
高いのに対し、撥油処理したものは４gfとなり、また本
実施例であるイオン注入処理を導入した試料では平均約
２．５gfと非常に小さくなり、吸着力の低減に大きな効
果があることが示された。なお、加速電圧に関しては、
２〜３０ＫＶの範囲でも、ほぼ同様の効果が確認され
た。本実施例では、高い撥油効果のある被膜形成ができ
るほか、保護膜自体も硬度が高くなり摩耗低減の効果も
ある。
【００２０】第３の実施例である磁気スライダの表面処
理方法を説明する。このスライダ３は、アルミナチタン
カーバイドのスライダ本体に、窒素を混入した条件での
スパッタリングによりカーボン薄膜を８nmの厚さに形成
している。このスライダを、フルオロシラン溶媒液に浸
漬し、ディッピングにより付着させた。次に、オゾン雰
囲気内で低圧水銀灯を用いて紫外光を照射した。紫外光
照射は５０ｍＷ／cm2の強度で１０分間行った。この
後、温度をパラメータとし、３０℃から２５０℃の間で
約２０分ベーキング処理した。この処理を行ったスライ
ダの耐粘着性能を、起動時の摩擦力で測定した結果を図
７に示す。未処理のスライダの摩擦力は、８gfと高いの
に対し、紫外光処理したものは全般に低くなっており、
しかもその後のベーキング処理温度依存性があることが
分かった。３０℃では６gfとその低減効果は小さいのに
対し、５０℃では４gf以下に低下し、その傾向はベーキ
ング温度の上昇に対して若干の上昇はあるもののあまり
変わらないが、２００℃を越えると逆に低下がみられ
た。理由は明らかでないが、分子構造の変化あるいは下
地膜の強度劣化に起因していると考えられる。発明者等
の実験によれば、ベーキング温度は、５０〜１５０℃の
範囲とするのが望ましい。
理方法を説明する。このスライダ３は、アルミナチタン
カーバイドのスライダ本体に、窒素を混入した条件での
スパッタリングによりカーボン薄膜を８nmの厚さに形成
している。このスライダを、フルオロシラン溶媒液に浸
漬し、ディッピングにより付着させた。次に、オゾン雰
囲気内で低圧水銀灯を用いて紫外光を照射した。紫外光
照射は５０ｍＷ／cm2の強度で１０分間行った。この
後、温度をパラメータとし、３０℃から２５０℃の間で
約２０分ベーキング処理した。この処理を行ったスライ
ダの耐粘着性能を、起動時の摩擦力で測定した結果を図
７に示す。未処理のスライダの摩擦力は、８gfと高いの
に対し、紫外光処理したものは全般に低くなっており、
しかもその後のベーキング処理温度依存性があることが
分かった。３０℃では６gfとその低減効果は小さいのに
対し、５０℃では４gf以下に低下し、その傾向はベーキ
ング温度の上昇に対して若干の上昇はあるもののあまり
変わらないが、２００℃を越えると逆に低下がみられ
た。理由は明らかでないが、分子構造の変化あるいは下
地膜の強度劣化に起因していると考えられる。発明者等
の実験によれば、ベーキング温度は、５０〜１５０℃の
範囲とするのが望ましい。
【００２１】本実施例では表面の撥油効果のほか、紫外
光照射による有機物等の汚染付着物も分解でき表面の清
浄作用の効果もある。
光照射による有機物等の汚染付着物も分解でき表面の清
浄作用の効果もある。
【００２２】次に、吸着力は媒体の粗さにも大きく依存
するため、この影響を明らかにする試験を行った。第３
の実施例でベーキング温度１５０℃のスライダを用い、
媒体の粗さとして中心線平均粗さＲaの大きさが、２、
５、１０、１５、２０nmの磁気ディスク媒体を用意して
試験した。結果を図８に示す。粗さ１５nm以上では、こ
の撥油未処理のサンプルでも摩擦力は３gf以下と低く、
処理自体の必要性がないことが確認されたが、Ｒa１０n
m以下のディスク媒体に対しては、未処理スライダでは
８gf以上と大きいのに対し、この撥油処理により５gf以
下に低減される効果が大きいことが確認された。
するため、この影響を明らかにする試験を行った。第３
の実施例でベーキング温度１５０℃のスライダを用い、
媒体の粗さとして中心線平均粗さＲaの大きさが、２、
５、１０、１５、２０nmの磁気ディスク媒体を用意して
試験した。結果を図８に示す。粗さ１５nm以上では、こ
の撥油未処理のサンプルでも摩擦力は３gf以下と低く、
処理自体の必要性がないことが確認されたが、Ｒa１０n
m以下のディスク媒体に対しては、未処理スライダでは
８gf以上と大きいのに対し、この撥油処理により５gf以
下に低減される効果が大きいことが確認された。
【００２３】
【発明の効果】本発明によれば、スライダ表面に、シラ
ン基を有するフッ化アルキル化合物を強固に付着形成で
きるので、撥油性の高い表面となり、ディスクに対して
吸着が生じない磁気ヘッドスライダを実現できる。ま
た、潤滑剤のみならずコンタミネーションとなる異物の
スライダ面に対する付着も低減できる効果もある。
ン基を有するフッ化アルキル化合物を強固に付着形成で
きるので、撥油性の高い表面となり、ディスクに対して
吸着が生じない磁気ヘッドスライダを実現できる。ま
た、潤滑剤のみならずコンタミネーションとなる異物の
スライダ面に対する付着も低減できる効果もある。
【図１】本発明の第１の実施例である磁気ヘッドスライ
ダの側面断面図である。
ダの側面断面図である。
【図２】図１に示す磁気ヘッドスライダ表面の撥油高分
子膜の模式図である。
子膜の模式図である。
【図３】図１の実施例におけるシラン系撥油剤の表面吸
着過程を示す説明図である。
着過程を示す説明図である。
【図４】図１に示す実施例における磁気ヘッドスライダ
の潤滑剤接触角の試験結果を従来例と比較して示す図で
ある。
の潤滑剤接触角の試験結果を従来例と比較して示す図で
ある。
【図５】図１に示す実施例における磁気ヘッドスライダ
の静摩擦力試験結果を従来例と比較して示す図である。
の静摩擦力試験結果を従来例と比較して示す図である。
【図６】本発明の第２の実施例である磁気ヘッドスライ
ダの静摩擦力試験結果を従来例と比較して示す図であ
る。
ダの静摩擦力試験結果を従来例と比較して示す図であ
る。
【図７】本発明の第３の実施例である磁気ヘッドスライ
ダの静摩擦力試験結果を従来例と比較して示す図であ
る。
ダの静摩擦力試験結果を従来例と比較して示す図であ
る。
【図８】本発明の撥油処理磁気ヘッドスライダを用いた
場合の静摩擦力に対する磁気ディスクの面粗さ依存性を
示すグラフである。
場合の静摩擦力に対する磁気ディスクの面粗さ依存性を
示すグラフである。
１ サスペンション ２ ジンバル ３ スライダ ４ 磁気記録変換素子 ５ ヘッド保護膜 ６ 撥油膜 ７ 磁気ディスク ８ ディスク基板 ９ Ｃr中間膜 １０ 磁性膜 １１ カーボン保護膜 １２ 液体潤滑剤
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 遠藤 喜重 茨城県土浦市神立町502番地 株式会社日 立製作所機械研究所内 (72)発明者 時末 裕充 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内
Claims (6)
- 【請求項１】 浮上型磁気ヘッドスライダを、酸素イオ
ンを含むプラズマに入れ表面を活性化した後に、フッ素
を有するアルキルシラン化合物を、前記スライダ浮上面
あるいは浮上面と周囲に付着させることを特徴とする磁
気ヘッドスライダの表面処理方法。 - 【請求項２】 浮上型磁気ヘッドスライダの浮上面ある
いは浮上面とその側面に、酸素イオンを照射した後に、
フッ素を有するアルキルシラン化合物を付着させたこと
を特徴とする磁気ヘッドスライダの表面処理方法。 - 【請求項３】 浮上型磁気ヘッドスライダの浮上面ある
いは浮上面と周囲に、フッ素を有するアルキルシラン化
合物を付着させた後、酸素あるいはオゾン雰囲気で紫外
線照射させたことを特徴とする磁気ヘッドスライダの表
面処理方法。 - 【請求項４】 磁気ヘッドスライダの表層はカーボンを
主材料とした薄膜で被われており、その表面にフッ素を
有するアルキルシラン化合物の膜が形成されていること
を特徴とする磁気ヘッドスライダ。 - 【請求項５】 磁気ヘッドスライダの表層はカーボンを
主材料とした薄膜で被われており、その表面にフッ素を
有するアルキルシラン化合物の膜が形成され、前記カー
ボン被膜のカーボンに対する酸素原子濃度比Ｏ／Ｃは少
なくとも３％であることを特徴とした磁気ヘッドスライ
ダ。 - 【請求項６】 請求項１乃至４のいずれかの方法で表面
処理された磁気ヘッドスライダと、表面の中心線平均粗
さＲaが１０nｍを超えない平滑な磁気ディスク媒体と、
を含んでなる磁気ディスク装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16567197A JPH1116313A (ja) | 1997-06-23 | 1997-06-23 | 磁気ヘッドスライダおよびその製造方法 |
| US09/080,417 US6249403B1 (en) | 1997-05-23 | 1998-05-18 | Magnetic hard disk drive and process for producing the same |
| KR1019980020056A KR100276535B1 (ko) | 1997-05-30 | 1998-05-30 | 자기 하드 디스크 드라이브 및 그 제조 공정 |
| US09/784,218 US6329023B2 (en) | 1997-05-30 | 2001-02-16 | Process for producing a magnetic head slider |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16567197A JPH1116313A (ja) | 1997-06-23 | 1997-06-23 | 磁気ヘッドスライダおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1116313A true JPH1116313A (ja) | 1999-01-22 |
Family
ID=15816822
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16567197A Pending JPH1116313A (ja) | 1997-05-23 | 1997-06-23 | 磁気ヘッドスライダおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1116313A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002041318A1 (fr) * | 2000-11-17 | 2002-05-23 | Fujitsu Limited | Patin de tete, unite de disque pourvue de ce patin, et procede de finition hydrofuge de du patin |
| US7259937B2 (en) | 2004-05-26 | 2007-08-21 | Fujitsu Limited | Magnetic recording device having a head slider utilizing a water-repellant resin lubricant having specified surface tension properties |
-
1997
- 1997-06-23 JP JP16567197A patent/JPH1116313A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002041318A1 (fr) * | 2000-11-17 | 2002-05-23 | Fujitsu Limited | Patin de tete, unite de disque pourvue de ce patin, et procede de finition hydrofuge de du patin |
| US6961217B2 (en) | 2000-11-17 | 2005-11-01 | Fujitsu Limited | Head slider and disk drive employing same head slider, and method for providing water repellent treatment to same head slider |
| US7116521B2 (en) | 2000-11-17 | 2006-10-03 | Fujitsu Limited | Head slider and disk drive employing same head slider, and method for providing water repellent treatment to same head slider |
| US7352531B2 (en) | 2000-11-17 | 2008-04-01 | Fujitsu Limited | Head slider having a flat first step and a second flat step with a groove therein, and disk drive employing the head slider |
| US7417829B2 (en) | 2000-11-17 | 2008-08-26 | Fujitsu Limited | Head slider having a flat first step and a second flat step with a groove therein, and disk drive employing the head slider |
| US7259937B2 (en) | 2004-05-26 | 2007-08-21 | Fujitsu Limited | Magnetic recording device having a head slider utilizing a water-repellant resin lubricant having specified surface tension properties |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6329023B2 (en) | Process for producing a magnetic head slider | |
| JP4078317B2 (ja) | 固体表面の評価方法、磁気ディスクの評価方法、磁気ディスクおよびその製造方法 | |
| US4992300A (en) | Manufacturing method for a recording medium or a recording head | |
| JP2781656B2 (ja) | 記録媒体 | |
| WO2010106790A1 (ja) | 磁気記録媒体の検査方法、磁気記録媒体、及び磁気記録再生装置 | |
| US5425988A (en) | Recording and reproducing device which includes a protective film and a monomolecular fluoro organo silicon film | |
| US8018683B2 (en) | Head slider and magnetic recording device therewith | |
| JP5469924B2 (ja) | 磁気記録媒体及び磁気記録媒体の製造方法、並びに磁気記録再生装置 | |
| JPH06116430A (ja) | 撥水撥油性フィルムとその製造方法 | |
| JPH1116313A (ja) | 磁気ヘッドスライダおよびその製造方法 | |
| US5443901A (en) | Magnetic recording medium having an adsorbed film of molecules comprising two species of straight carbon chain molecules | |
| JP3755765B2 (ja) | 磁気ディスクの製造方法 | |
| US7081277B1 (en) | Magnetic disk drive having a surface coating on a magnetic disk | |
| JPH07312051A (ja) | 磁気ヘッドスライダの製造方法および磁気ヘッドスライダ | |
| JP2001236638A (ja) | 潤滑膜形成方法、記録媒体及び磁気記録装置 | |
| JP3904143B2 (ja) | 磁気記録媒体及び磁気記録装置 | |
| Tani et al. | Hybrid lubricant film with high bonding ratio and high coverage | |
| JPH06162491A (ja) | 磁気記録媒体とその製造方法及び磁気記録装置 | |
| JP2900923B2 (ja) | 磁気ヘッドスライダおよびその製造方法 | |
| JP2821711B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP3115742B2 (ja) | 潤滑膜及びその製造方法 | |
| JP2001143253A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH11134626A (ja) | 磁気ディスク装置の製造方法 | |
| JP2507531B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH04114317A (ja) | 磁気デイスクおよびその製法 |