JPH0411618A - 高屈折率光学用樹脂 - Google Patents
高屈折率光学用樹脂Info
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- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract description 21
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract description 21
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 18
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 28
- 150000002898 organic sulfur compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims abstract description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 19
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 3
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- -1 diol compound Chemical class 0.000 abstract description 5
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 abstract description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 4
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 abstract description 3
- IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 3-chloroprop-1-enylbenzene Chemical compound ClCC=CC1=CC=CC=C1 IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N chloroacetic acid Chemical compound OC(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 125000001340 2-chloroethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)C([H])([H])* 0.000 abstract 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 abstract 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 abstract 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 abstract 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 7
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 7
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 4
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 4
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 4
- ROLAGNYPWIVYTG-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(4-methoxyphenyl)ethanamine;hydrochloride Chemical compound Cl.C1=CC(OC)=CC=C1CC(N)C1=CC=C(OC)C=C1 ROLAGNYPWIVYTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1 KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical group N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- SNVLJLYUUXKWOJ-UHFFFAOYSA-N methylidenecarbene Chemical compound C=[C] SNVLJLYUUXKWOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1 QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- PRJNEUBECVAVAG-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(ethenyl)benzene Chemical compound C=CC1=CC=CC(C=C)=C1 PRJNEUBECVAVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEERVPDNCOGWJF-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(ethenyl)benzene Chemical compound C=CC1=CC=C(C=C)C=C1 WEERVPDNCOGWJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGGLDBIZIQMEGH-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-4-ethenylbenzene Chemical compound BrC1=CC=C(C=C)C=C1 WGGLDBIZIQMEGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYSVFZBXZVPIFA-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-(4-ethenylphenyl)benzene Chemical group C1=CC(C=C)=CC=C1C1=CC=C(C=C)C=C1 IYSVFZBXZVPIFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEKOFIRRDATTAG-UHFFFAOYSA-N 2,2,5,8-tetramethyl-3,4-dihydrochromen-6-ol Chemical compound C1CC(C)(C)OC2=C1C(C)=C(O)C=C2C MEKOFIRRDATTAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJPHCFJECRBXFG-UHFFFAOYSA-N 2-(2-carboxyoxyethoxy)ethyl hydrogen carbonate Chemical compound OC(=O)OCCOCCOC(O)=O JJPHCFJECRBXFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOC(=O)C(C)=C XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFZBUNLOTDDXNY-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)propoxy]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)OCC(C)OC(=O)C(C)=C JFZBUNLOTDDXNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMMSYVRRDYJQSI-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C DMMSYVRRDYJQSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLSOQAIHJUPFLD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C LLSOQAIHJUPFLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIYWVRIBDZTTMH-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-[4-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]phenyl]propan-2-yl]phenoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC(OCCOC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OCCOC(=O)C(C)=C)C=C1 VIYWVRIBDZTTMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPOGMJLHWQHEGF-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCl GPOGMJLHWQHEGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl prop-2-enoate Chemical compound ClCCOC(=O)C=C WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(=O)C=C VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYJHVEDILOKZCG-UHFFFAOYSA-N Allyl benzoate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 LYJHVEDILOKZCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XWUNIDGEMNBBAQ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A ethoxylate diacrylate Chemical compound C=1C=C(OCCOC(=O)C=C)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OCCOC(=O)C=C)C=C1 XWUNIDGEMNBBAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N benzoic acid ethyl ester Natural products CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UABBDCURCBTIIQ-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) 3,4,5,6-tetrachlorobenzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound ClC1=C(Cl)C(Cl)=C(C(=O)OCC=C)C(C(=O)OCC=C)=C1Cl UABBDCURCBTIIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate;2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound OCCOCCO.C=CCOC(=O)OCC=C SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPIWXMRIPODGLE-UHFFFAOYSA-N butyl benzenecarboperoxoate Chemical group CCCCOOC(=O)C1=CC=CC=C1 UPIWXMRIPODGLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- VAYDQPPHPFGABZ-UHFFFAOYSA-N ethene prop-2-enoic acid Chemical compound C=C.C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C VAYDQPPHPFGABZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene Chemical group C=CCCC=C PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N tert-butyl benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWAXTRYEYUTSAP-UHFFFAOYSA-N tert-butyl ethaneperoxoate Chemical compound CC(=O)OOC(C)(C)C SWAXTRYEYUTSAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 235000021122 unsaturated fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000004670 unsaturated fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は光学用樹脂に関し、更に詳しくは、透明性に優
れ、且つ高屈折率を有する、メガネ用プラスチックレン
ズなどに有用な高屈折率光学用樹脂に関する。
れ、且つ高屈折率を有する、メガネ用プラスチックレン
ズなどに有用な高屈折率光学用樹脂に関する。
〈従来の技術〉
近年、軽量性、成形容易性、耐衝撃性および染色性など
に優れた合成樹脂材料が、無機硝子に代わってプラスチ
ックレンズ等の光学材料として使用されている。前記合
成樹脂材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリジエチレングリコールビスアリルカーボネート
、ポリスチレン、ポリカーボネートが知られている。し
かしながら、前記ポリメチルメタクリレート、ポリジエ
チレングリコールビスアリルカーボネートは、これら自
体は軽量であり、耐衝撃性にも優れているものの、屈折
率が1.49程度と低いためレンズとして用いる際、無
機硝子に比べて厚いレンズが要求され、高倍率化、軽量
化には適さないという欠点がある。また前記ポリスチレ
ン、ポリカーボネートにおいては屈折率は、1.58〜
1.59程度と高いものの、これらは熱可塑性樹脂であ
るため、射出成形時に複屈折による光学歪を生じやずい
という問題があり、このほかにも耐溶剤性、耐擦傷性に
劣るなどの欠点がある。
に優れた合成樹脂材料が、無機硝子に代わってプラスチ
ックレンズ等の光学材料として使用されている。前記合
成樹脂材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリジエチレングリコールビスアリルカーボネート
、ポリスチレン、ポリカーボネートが知られている。し
かしながら、前記ポリメチルメタクリレート、ポリジエ
チレングリコールビスアリルカーボネートは、これら自
体は軽量であり、耐衝撃性にも優れているものの、屈折
率が1.49程度と低いためレンズとして用いる際、無
機硝子に比べて厚いレンズが要求され、高倍率化、軽量
化には適さないという欠点がある。また前記ポリスチレ
ン、ポリカーボネートにおいては屈折率は、1.58〜
1.59程度と高いものの、これらは熱可塑性樹脂であ
るため、射出成形時に複屈折による光学歪を生じやずい
という問題があり、このほかにも耐溶剤性、耐擦傷性に
劣るなどの欠点がある。
そこで最近では、これら従来の欠点を改善するために種
々の技術提案がなされている。例えば、特開昭53−7
787号公報には、ジエチレングリコールビスカーボネ
ートとジアリルイソフタレートとの共重合体、特開昭5
9−81318号公報には、ジアリルフタレートと不飽
和脂肪酸アルコール安息香酸エステルとの共重合体及び
特開昭59−191708号公報には、ビスフェノール
Aを有するジ(メタ)アクリレート、ジアリルイソフタ
レートとジエチレングリコールビスアリルカーボネート
などとの共重合体が開示されている。
々の技術提案がなされている。例えば、特開昭53−7
787号公報には、ジエチレングリコールビスカーボネ
ートとジアリルイソフタレートとの共重合体、特開昭5
9−81318号公報には、ジアリルフタレートと不飽
和脂肪酸アルコール安息香酸エステルとの共重合体及び
特開昭59−191708号公報には、ビスフェノール
Aを有するジ(メタ)アクリレート、ジアリルイソフタ
レートとジエチレングリコールビスアリルカーボネート
などとの共重合体が開示されている。
しかしながら、前記提案による光学樹脂はいずれも屈折
率が1.52〜1.56と低い上、未反応のアリルモノ
マーが残存しやすいという問題がある。
率が1.52〜1.56と低い上、未反応のアリルモノ
マーが残存しやすいという問題がある。
また、特開昭57−28115号公報において、スチレ
ン系ビニル単量体と不飽和カルボン酸重金属塩との共重
合物が、特開昭60−55007号公報には、ハロゲン
置換ジアリルフタレートとハロゲン置換安息香酸アリル
との共重合体が提案されているが、これらは屈折率の点
では1.58〜1.60程度と高いものの重合物の比重
が大きく、レンズ等を軽量化できないという欠点がある
。
ン系ビニル単量体と不飽和カルボン酸重金属塩との共重
合物が、特開昭60−55007号公報には、ハロゲン
置換ジアリルフタレートとハロゲン置換安息香酸アリル
との共重合体が提案されているが、これらは屈折率の点
では1.58〜1.60程度と高いものの重合物の比重
が大きく、レンズ等を軽量化できないという欠点がある
。
さらに、特開昭55−13747号公報では、ハロゲン
置換スチレン、ビスフェノールAを有するジ(メタ)ア
クリレート、ベンジルメタクリレート系モノマー、フェ
ノールメタクリレート系モノマーの共重合体が、特開昭
59−133211号公報では、芳香族環を有するヒド
ロキシン(メタ)アクリレート、ジイソシアネート系化
合物とスチレン糸上ツマ−との共重合物が提案されてい
るが、これらの樹脂の場合には、屈折率の点では1.6
0前後と高いものの、重合反応の制御が難しく、重合物
の比重が大きく、しかも耐候性に問題があるという欠点
を有している。
置換スチレン、ビスフェノールAを有するジ(メタ)ア
クリレート、ベンジルメタクリレート系モノマー、フェ
ノールメタクリレート系モノマーの共重合体が、特開昭
59−133211号公報では、芳香族環を有するヒド
ロキシン(メタ)アクリレート、ジイソシアネート系化
合物とスチレン糸上ツマ−との共重合物が提案されてい
るが、これらの樹脂の場合には、屈折率の点では1.6
0前後と高いものの、重合反応の制御が難しく、重合物
の比重が大きく、しかも耐候性に問題があるという欠点
を有している。
〈発明が解決しようとする課題〉
本発明の目的は、プラスチックレンズ用あるいはその他
の光学用樹脂として望ましい光学的透明性を有し、しか
も耐候性、耐溶剤性、耐衝撃性にも優れ、更には比重が
小さい高屈折率光学用樹脂を提供することにある。
の光学用樹脂として望ましい光学的透明性を有し、しか
も耐候性、耐溶剤性、耐衝撃性にも優れ、更には比重が
小さい高屈折率光学用樹脂を提供することにある。
〈課題を解決するための手段〉
本発明によれば、下記一般式(I)
特徴とし、好ましくは屈折率1.60以上の高屈折率を
示し、かつ物性面にも優れた樹脂である。
示し、かつ物性面にも優れた樹脂である。
本発明において、必須の原料モノマーとして用いる有機
硫黄化合物は、下記一般式(1)で表わすことができ、 CH2=CHC00CH2CH2−またはCH2=C(
C13)COOCH2C1(2−を示し、Yは、−R2
−5−R2−またはR2S + R3Z +T−R3S
R2(但しR2およびR1は、アルキレン基を示し
、Zは、酸素原子または硫黄原子を示す。またmはO〜
3の整数を表わす)を示す。]で表わされる有機硫黄化
合物を含む原料モノマーを重合して得られる高屈折率光
学用樹脂が提供される。
硫黄化合物は、下記一般式(1)で表わすことができ、 CH2=CHC00CH2CH2−またはCH2=C(
C13)COOCH2C1(2−を示し、Yは、−R2
−5−R2−またはR2S + R3Z +T−R3S
R2(但しR2およびR1は、アルキレン基を示し
、Zは、酸素原子または硫黄原子を示す。またmはO〜
3の整数を表わす)を示す。]で表わされる有機硫黄化
合物を含む原料モノマーを重合して得られる高屈折率光
学用樹脂が提供される。
以下本発明を更に詳細に説明する。
本発明の高屈折率光学用樹脂は、特定の有機硫黄化合物
を必須の原料モノマーとして含むことをCH2=CHC
00CH2CH,−またはCH2=C(CH,)COO
CH2C)l、 −を示し、Yは、−R2−8−R2−
または−R2−8+R,Z−)−r−R,−8−R2−
(但しR2およびR3は、アルキレン基を示し、2は、
酸素原子または硫黄原子を示す。またmはO〜3の整数
を表わす)を示す。また前記mが3を超える場合には製
造が困難である。前記一般式(I)で表わされる有機硫
黄化合物としては、例えば、等が挙げられ、使用に際し
ては単独または混合物として用いることができる。
を必須の原料モノマーとして含むことをCH2=CHC
00CH2CH,−またはCH2=C(CH,)COO
CH2C)l、 −を示し、Yは、−R2−8−R2−
または−R2−8+R,Z−)−r−R,−8−R2−
(但しR2およびR3は、アルキレン基を示し、2は、
酸素原子または硫黄原子を示す。またmはO〜3の整数
を表わす)を示す。また前記mが3を超える場合には製
造が困難である。前記一般式(I)で表わされる有機硫
黄化合物としては、例えば、等が挙げられ、使用に際し
ては単独または混合物として用いることができる。
前記有機硫黄化合物を調製するには、例えば、相当する
ジチオール化合物1モルとモノクロロ酢酸2モルとを反
応させ生成した化合物1モルと、クロロメチルスチレン
あるいは2−クロロエチルアクリレートあるいは2−ク
ロロエチルメタクリレート2モルとを適当な溶媒中でカ
ップリングさせることにより容易に得ることができる。
ジチオール化合物1モルとモノクロロ酢酸2モルとを反
応させ生成した化合物1モルと、クロロメチルスチレン
あるいは2−クロロエチルアクリレートあるいは2−ク
ロロエチルメタクリレート2モルとを適当な溶媒中でカ
ップリングさせることにより容易に得ることができる。
また、原料モノマーに対する前記有機硫黄化合物の配合
割合は、特に限定されるものではないが、好ましくは原
料モノマー全体に対して1〜100重量%、特に好まし
くは50〜100重量%の範囲である。さらに前記有機
硫黄化合物を1〜30重量%の範囲で配合する場合には
、高屈折率を有する高性能な架橋剤として使用すること
もできる。
割合は、特に限定されるものではないが、好ましくは原
料モノマー全体に対して1〜100重量%、特に好まし
くは50〜100重量%の範囲である。さらに前記有機
硫黄化合物を1〜30重量%の範囲で配合する場合には
、高屈折率を有する高性能な架橋剤として使用すること
もできる。
本発明において、原料モノマー成分として用いることが
できる前記有機硫黄化合物以外の七ツマ−としては、例
えば、スチレン、p−メチルスチレン、p−クロルスチ
レン、0−クロルスチレン、p−ブロムスチレン、0−
ブロムスチレン、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、メ
チルメタクリレート、ブチルメタクリレート、メチルア
クリレート、エチルアクリレート、フェニルメタクリレ
ート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、
ベンジルメタクリレート、ブロムフェニルメタクリレー
ト、アクリロニトリル、メタクリレートリル、2,2−
ビス(4−メタクリロイルオキシエトキシフェニル)プ
ロパン、2,2−ビス(4−アクリロイルオキシエトキ
シフェニル)プロパン、ジエチレングリコールビスアリ
ルカーボネート、テトラクロルフタル酸ジアリル、ジア
リルフタレート、p−ジビニルベンゼン、m−ジビニル
ベンゼン、ジビニルビフェニル、エチレングリコールビ
スメタクリレート、ジエチレングリコールビスメタクリ
レート、エチレングリコールビスアクリレート、ジエチ
レンビスアクリレート、ジプロピレングリコールビスメ
タクリレート、トリエチレングリコールビスアクリレー
ト、テトラエチレングリコールビスアクリレート、ビス
フェノールAビスメタクリレート、テトラクロルフタル
酸ジアリル、ジアリルイソフタレート、アリルメタクリ
レート、プロピレングリコールビスアクリレート、ヘキ
サエチレングリコールビスアクリレート、オクタエチレ
ングリコールビスアクリレート、デカンエチレングリコ
ールビスアクリレート等を好ましく挙げることができる
。
できる前記有機硫黄化合物以外の七ツマ−としては、例
えば、スチレン、p−メチルスチレン、p−クロルスチ
レン、0−クロルスチレン、p−ブロムスチレン、0−
ブロムスチレン、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、メ
チルメタクリレート、ブチルメタクリレート、メチルア
クリレート、エチルアクリレート、フェニルメタクリレ
ート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、
ベンジルメタクリレート、ブロムフェニルメタクリレー
ト、アクリロニトリル、メタクリレートリル、2,2−
ビス(4−メタクリロイルオキシエトキシフェニル)プ
ロパン、2,2−ビス(4−アクリロイルオキシエトキ
シフェニル)プロパン、ジエチレングリコールビスアリ
ルカーボネート、テトラクロルフタル酸ジアリル、ジア
リルフタレート、p−ジビニルベンゼン、m−ジビニル
ベンゼン、ジビニルビフェニル、エチレングリコールビ
スメタクリレート、ジエチレングリコールビスメタクリ
レート、エチレングリコールビスアクリレート、ジエチ
レンビスアクリレート、ジプロピレングリコールビスメ
タクリレート、トリエチレングリコールビスアクリレー
ト、テトラエチレングリコールビスアクリレート、ビス
フェノールAビスメタクリレート、テトラクロルフタル
酸ジアリル、ジアリルイソフタレート、アリルメタクリ
レート、プロピレングリコールビスアクリレート、ヘキ
サエチレングリコールビスアクリレート、オクタエチレ
ングリコールビスアクリレート、デカンエチレングリコ
ールビスアクリレート等を好ましく挙げることができる
。
本発明の高屈折率光学用樹脂を調製するには、例えば前
記各原料モノマーをラジカル重合開始剤の存在下、加熱
重合又は共重合させることにより得ることができる。前
記ラジカル重合開始剤は、10時間半減期温度が160
℃以下の有機過酸化物またはアゾ化合物等を用いること
ができ、具体的には例えば、過酸化ベンゾイル、ジイソ
プロピルパーオキシジカーボネート、ターシャリブチル
ペルオキシ−2−エチルヘキサノエート、ターシャリブ
チルペルオキシピバレート、ターシ、ヤリブチルペルオ
キシジイソブチレート、過酸化ラウロイル、t−ブチル
ペルオキシアセテート、ターシャリペルオキシオクトエ
イト、ターシャリブチルペルオキシベンゾエイト、アゾ
ビスイソブチロニトリル等が挙げられ、使用に際しては
単独または混合物として用いることができる。前記ラジ
カル重合開始剤の使用量は、原料モノマー100重量部
に対し10重量部以下が好ましく、特に好ましくは5重
量部以下である。
記各原料モノマーをラジカル重合開始剤の存在下、加熱
重合又は共重合させることにより得ることができる。前
記ラジカル重合開始剤は、10時間半減期温度が160
℃以下の有機過酸化物またはアゾ化合物等を用いること
ができ、具体的には例えば、過酸化ベンゾイル、ジイソ
プロピルパーオキシジカーボネート、ターシャリブチル
ペルオキシ−2−エチルヘキサノエート、ターシャリブ
チルペルオキシピバレート、ターシ、ヤリブチルペルオ
キシジイソブチレート、過酸化ラウロイル、t−ブチル
ペルオキシアセテート、ターシャリペルオキシオクトエ
イト、ターシャリブチルペルオキシベンゾエイト、アゾ
ビスイソブチロニトリル等が挙げられ、使用に際しては
単独または混合物として用いることができる。前記ラジ
カル重合開始剤の使用量は、原料モノマー100重量部
に対し10重量部以下が好ましく、特に好ましくは5重
量部以下である。
前記加熱重合又は共重合させるには、例えば原料モノマ
ーとラジカル重合開始剤とを直接所望の型枠内に仕込み
、好ましくは0〜200℃、1〜48時間加熱すること
により重合させることができる。この際重合は、例えば
窒素、二酸化炭素、ヘリウムなどの不活性ガス範囲気下
で行なうのが望ましい。また、前記重合させる前に、原
料モノマーを例えば0〜200℃、0.5〜48時間予
備重合させたのち、所望の型枠内に仕込み、後重合させ
ることもできる。
ーとラジカル重合開始剤とを直接所望の型枠内に仕込み
、好ましくは0〜200℃、1〜48時間加熱すること
により重合させることができる。この際重合は、例えば
窒素、二酸化炭素、ヘリウムなどの不活性ガス範囲気下
で行なうのが望ましい。また、前記重合させる前に、原
料モノマーを例えば0〜200℃、0.5〜48時間予
備重合させたのち、所望の型枠内に仕込み、後重合させ
ることもできる。
また、これらの原料モノマーには、UV吸収剤、着色防
止剤等の添加物を必要に応じて添加することもでき、さ
らに硬化物の表面物性を向上させる目的で、硬化後に種
々の表面処理を施すこともできる。
止剤等の添加物を必要に応じて添加することもでき、さ
らに硬化物の表面物性を向上させる目的で、硬化後に種
々の表面処理を施すこともできる。
〈発明の効果〉
本発明の高屈折率光学用樹脂は、屈折率が1.60以上
と高屈折率を有しており、しかも光学歪が小さく、光学
的透明性、耐熱性、耐溶剤性及び耐衝撃性に優れ、更に
は比重が小さく軽量化が可能である。また、硬化重合の
際の反応制御及び成型が容易であるので、メガネ用レン
ズ、カメラレンズ、光学用素材などのプラスチックレン
ズ用あるいはその他の光学用樹脂材料として有用である
。
と高屈折率を有しており、しかも光学歪が小さく、光学
的透明性、耐熱性、耐溶剤性及び耐衝撃性に優れ、更に
は比重が小さく軽量化が可能である。また、硬化重合の
際の反応制御及び成型が容易であるので、メガネ用レン
ズ、カメラレンズ、光学用素材などのプラスチックレン
ズ用あるいはその他の光学用樹脂材料として有用である
。
〈実施例〉
以下、実施例及び比較例により本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
!!!u!u−
下記構造式で示される化合物(1)と、およびスチレン
6gからなる原料モノマーに、ターシャリブチルペルオ
キシベンゾエートを0.05g添加混合し、モノマー組
成物を調製した。ついで2枚のガラス型中に該モノマー
組成物を仕込んだ後、80℃の恒温槽中に入れ、硬化温
度80℃にて6時間加熱し、さらに3時間で100℃ま
で昇温しで、最終に100℃で3時間加熱した。最後に
100°Cで2時間アニーリング処理を行い硬化樹脂を
得た。得られた硬化樹脂を前記型枠から取り出し、屈折
率、アツベ数および透明性を下記方法に従って測定した
。その結果を表1に示す。
6gからなる原料モノマーに、ターシャリブチルペルオ
キシベンゾエートを0.05g添加混合し、モノマー組
成物を調製した。ついで2枚のガラス型中に該モノマー
組成物を仕込んだ後、80℃の恒温槽中に入れ、硬化温
度80℃にて6時間加熱し、さらに3時間で100℃ま
で昇温しで、最終に100℃で3時間加熱した。最後に
100°Cで2時間アニーリング処理を行い硬化樹脂を
得た。得られた硬化樹脂を前記型枠から取り出し、屈折
率、アツベ数および透明性を下記方法に従って測定した
。その結果を表1に示す。
・屈折率及びアツベ数・・・アツベ屈折率計(アタゴ株
式会社製)を用いて測定 ・透明性・・・肉眼でwt察し透明性を有するものを0
とし、またわずかに曇るものを△とした。
式会社製)を用いて測定 ・透明性・・・肉眼でwt察し透明性を有するものを0
とし、またわずかに曇るものを△とした。
ス】11圀:」一
実施例1で用いた原料子ツマ−の代わりに、下記構造式
で示される化合物(2)28重量部と。
で示される化合物(2)28重量部と。
下記構造式で示される化合物(3)42重量部と、p−
クロロスチレン30重量部とから成る原料モノマー(実
施例2)を、下記構造式で示される化合物(4)50重
量部と、 p−クロロスチレン50重量部とから成る原料モノマー
(実施例3)を、下記構造式で示される化合物(5)8
0重量部と、 メチルメタクリレート20重量部とから成る原料モノマ
ー(実施例4)を、下記構造式で示される化合物(6)
80重量部と、 モノマー(実施例5)を、下記構造式で示される化合物
(7)100重量部 から成る原料モノマー(実施例6)をそれぞれ用いた以
外は実施例と同様に硬化樹脂を調製し、各測定を行った
。その結果を表1に示す。
クロロスチレン30重量部とから成る原料モノマー(実
施例2)を、下記構造式で示される化合物(4)50重
量部と、 p−クロロスチレン50重量部とから成る原料モノマー
(実施例3)を、下記構造式で示される化合物(5)8
0重量部と、 メチルメタクリレート20重量部とから成る原料モノマ
ー(実施例4)を、下記構造式で示される化合物(6)
80重量部と、 モノマー(実施例5)を、下記構造式で示される化合物
(7)100重量部 から成る原料モノマー(実施例6)をそれぞれ用いた以
外は実施例と同様に硬化樹脂を調製し、各測定を行った
。その結果を表1に示す。
炭絞桝よ二主
表2に示す原料モノマ二を用いた以外は、実施例1と同
様に硬化樹脂を調製し、各測定を行った。
様に硬化樹脂を調製し、各測定を行った。
その結果を表2に示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中R_1は、▲数式、化学式、表等があります▼、 CH_2=CHCOOCH_2CH_2−またはCH_
2=C(CH_3)COOCH_2CH_2−を示し、
Yは、−R_2−S−R_2−または▲数式、化学式、
表等があります▼(但しR_2 およびR_3は、アルキレン基を示し、Zは、酸素原子
または硫黄原子を示す。またmは0〜3の整数を表わす
)を示す。]で表わされる有機硫黄化合物を含む原料モ
ノマーを重合して得られる高屈折率光学用樹脂。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11317190A JPH0411618A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 高屈折率光学用樹脂 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11317190A JPH0411618A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 高屈折率光学用樹脂 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0411618A true JPH0411618A (ja) | 1992-01-16 |
Family
ID=14605357
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11317190A Pending JPH0411618A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 高屈折率光学用樹脂 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0411618A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5880170A (en) * | 1996-03-13 | 1999-03-09 | Tokuyama Corporation | Photopolymerizable composition and transparent cured product thereof |
-
1990
- 1990-04-27 JP JP11317190A patent/JPH0411618A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5880170A (en) * | 1996-03-13 | 1999-03-09 | Tokuyama Corporation | Photopolymerizable composition and transparent cured product thereof |
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