JPH03296508A - 高屈折率光学用樹脂 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は光学用樹脂に関し、更に詳しくは、透明性に優
れ、且つ高屈折率を有する、メガネ用プラスチックレン
ズなどに有用な高屈折率光学用樹脂に関する。

〈従来の技術〉 近年、軽量性、成形容易性、耐衝撃性および染色性など
に優れた合成樹脂材料が、無機硝子に代わってプラスチ
ックレンズ等の光学材料として使用されている。前記合
成樹脂材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリジエチレングリコールビスアリルカーボネート
、ポリスチレン、ポリカーボネートが知られている。前
記ポリメチルメタクリレート、ポリジエチレングリコー
ルビスアリルカーボネートは、軽量であり、耐衝撃性に
も優れているものの、屈折率が１．４９程度と低いため
レンズとして用いる際、無機硝子に比べて厚いレンズが
要求され、従って高倍率化、軽量化には適さないという
欠点がある。また前記ポリスチレン、ポリカーボネート
においては屈折率は、１．５８〜１．５９程度と高いも
のの、これらは熱可塑性樹脂であるため、射呂成形時に
複屈折による光学歪を生じやすいという問題があり、こ
のほかにも耐溶剤性、耐擦傷性に劣るなどの欠点がある
。

そこで最近では、これら従来の欠点を改善するために種
々の技術提案がなされている。例えば、特開昭５３−７
７８７号公報には、ジエチレングリコールビスカーボネ
ートとジアリルイソフタレートとの共重合体、特開昭５
９−８１３１８号公報には、ジアリルフタレートと不飽
和脂肪酸アルコール安息香酸エステルとの共重合体及び
特開昭５９−１９１７’０８号公報には、ビスフェノー
ルＡを有するジ（メタ）アクリレート、ジアリルイソフ
タレートとジエチレングリコールビスアリルカーボネー
トなどとの共重合体が開示されている。

しかしながら、前記提案による樹脂はいずれも屈折率が
１．５２〜１．５６と低い上、未反応のアリルモノマー
が残存しやすいという問題がある。

また、特開昭５７−２８１１５号公報には、スチレン系
ビニル単量体と不飽和カルボン酸重金属塩との共重合物
が、特開昭６０−５５００．７号公報には、ハロゲン置
換ジアリルフタレートとハロゲン置換安息香酸アリルと
の共重合体が挙げられているが、これらは屈折率の点で
は１．５８〜１．６０程度と高いものの重合物の比重が
大きく、軽量化できないという欠点がある。

さらに、特開昭５５−１３７４７号公報では、ハロゲン
置換スチレン、ビスフェノールＡを有するジ（メタ）ア
クリレート、ベンジルメタクリレート系モノマー、フェ
ノールメタクリレート系モノマーの共重合体が、特開昭
５９−１３３２１１号公報では、芳香族環を有するヒド
ロキシン（メタ）アクリレート、ジイソシアネート系化
合物とスチレン系モノマーとの共重合物が提案されてい
るが、これら樹脂の場合、屈折率の点では１．６０前後
と高いものの、重合反応の制御が難しく、重合物の比重
が大きく、しかも耐候性に問題があるという欠点を有し
ている。

〈発明が解決しようとする課題〉 本発明の目的は、プラスチックレンズ用あるいはその他
の光学用樹脂として望ましい光学的透明性を有し、しか
も耐候性、耐溶剤性、耐衝撃性にも優れ、更には比重が
小さい高屈折率光学用樹脂を提供することにある。

〈課題を解決するための手段〉 本発明によれば、下記一般式（１） （式中Ｘはハロゲン原子を示し、Ｒｏはアルキレン基を
示し、Ｒ２はカルボニル基又はアルキレン基を示し、Ｒ
３は水素原子又はメチル基を示す。

またｎ、ｍ及びＱはＯ〜３の整数を示す。但し、１≦ｍ
＋Ｑ≦３である）で表わされる有機硫黄化合物を含む原
料モノマーを重合して得られる高屈折率光学用樹脂が提
供される。

以下本発明を更に詳細に説明する。

本発明の高屈折率光学用樹脂は、特定の有機硫黄化合物
を必須の原料モノマーとして含むことを特徴とする。

本発明において用いる有機硫黄化合物は、下記一般式（
１）で表わすことができ。

式中Ｘはハロゲン原子を示し、Ｒユはアルキレン基を示
し、Ｒ２はカルボニル基又はアルキレン基を示し、Ｒ３
は水素原子又はメチル基を示す。

またｎ、ｍ及び氾はＯ〜３の整数を示す。但し。

１≦ｍ＋ｆｆ≦３である。ｍ＋Ｑが３を超える場合には
製造が困難である。

前記一般式（１）で表わされる有機硫黄化合物としては
、例えば１’−（ｐ（ｍ）−ビニルベンジルチオ）−２
−（（メタ）アクリロイルチオ）エタン、　１−　（ｐ
　（ｍ）−ビニルベンジルチオ）−２−（（メタ）アリ
ルチオ）エタン、１−（ｐ（ｍ）−ビニルベンジルチオ
）−５−（（メタ）アクリロイルチオ）ジエチルエーテ
ル、１−（ｐ（ｍ）−ビニルベンジルチオ）−５−（（
メタ）アリルチオ）ジエチルエーテル、１−　（ｐ　（
ｍ）−ビニルベンジルチオ）−５−（（メタ）アクリロ
イルチオ）ジエチルチオエーテル、１−（ｐ（ｍ）−ビ
ニルベンジルチオ）−５−（（メタ）アリルチオ）ジエ
チルチオエーテル、１−（ｐ（ｍ）−ビニルベンジルチ
オ）−８−（（メタ）アクリロイルチオ）−３，６−シ
オキサオクタン、１−　（ｐ　（ｍ）−ビニルベンジル
チオ）−８−（（メタ）アリルチオ）−３，６−シオキ
サオクタン、１−（ｏ−ブロム−ｐ−ビニルベンジルチ
オ）　−２−（アクリロイルチオ）エタン等が挙げられ
、使用に際しては単独または混合物として用いることが
できる。

前記有機硫黄化合物を調製するには、例えば相当するジ
チオール化合物と、クロロメチルスチレンとを反応させ
た後、さらにメタクリル酸クロライド、アクリル酸クロ
ライド、メタリルクロライド、アリルクロライドを適当
な溶媒中で、カップリングさせる方法等により容易に得
ることができる。

また、原料モノマーにおける前記有機硫黄化合物の配合
割合は、特に限定されるものではないが、好ましくは原
料モノマー全体に対して、１〜１００重量％、特に好ま
しくは５０〜９５重量％の範囲である。さらに前記有機
硫黄化合物を１〜３０重量％の範囲で配合する場合には
、高屈折率を有する高性能な架橋剤として使用すること
もできる。

本発明において、原料モノマー成分として用いることが
できる前記有機硫黄化合物以外のモノマーとしては、例
えばスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−クロルスチレ
ン、０−クロルスチレン、ｐ−ブロムスチレン、０−ブ
ロムスチレン、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、メチ
ルメタクリレート、ブチルメタクリレート、メチルアク
リレート、エチルアクリレート、フェニルメタクリレー
ト、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、ベ
ンジルメタクリレート、ブロムフェニルメタクリレート
、アクリロニトリル、メタクリレートリル、２，２−ビ
ス（４−メタクリロイルオキシエトキシフェニル）プロ
パン、２，２−ビス（４−アクリロイルオキシエトキシ
フェニル）プロパン、ジエチレングリコールビスアリル
カーボネート、テトラクロルフタル酸ジアリル、ジアリ
ルフタレート、Ｐ−ジビニルベンゼン、ｍ−ジビニルベ
ンゼン、ジビニルビフェニル、エチレングリコールビス
メタクリレート、ジエチレングリコールビスメタクリレ
ート、エチレングリコールビスアクリレート、ジエチレ
ンビスアクリレート、ジプロピレングリコールビスメタ
クリレート、トリエチレングリコールビスアクリレート
、テトラエチレングリコールビスアクリレート、ビスフ
ェノールＡビスメタクリレート、テトラクロルフタル酸
ジアリル、ジアリルイソフタレート、アリルメタクリレ
ート、プロピレングリコールビスアクリレート、ヘキサ
エチレングリコールビスアクリレート、オクタエチレン
グリコールビスアクリレート、デカンエチレングリコー
ルビスアクリレート等を好ましく挙げることができる。

本発明の高屈折率光学用樹脂を調製するには、例えば原
料モノマーをラジカル重合開始剤の存在下、加熱重合さ
せることにより得ることができる。

前記ラジカル重合開始剤は、１０時間半減期温度が１６
０℃以下の有機過酸化物またはアゾ化合物等を用いるこ
とができ、具体的には例えば、ジイソプロピルパーオキ
シジカーボネート、ターシャリブチルペルオキシ−２−
エチルヘキサノエート、ターシャリブチルペルオキシピ
バレート、ターシャリブチルペルオキシジイソブチレー
ト、過酸化ラウロイル、ｔ−ブチルペルオキシアセテー
ト、ターシャリペルオキシオクトエイト、ターシャリブ
チルペルオキシベンゾエイト、アゾビスイソブチロニト
リル等が挙げられ、使用に際しては単独または混合物と
して用いることができる。前記ラジカル重合開始剤の使
用量は、原料モノマー１００重量部に対し１０重量部以
下が好ましく、特に好ましくは５重量部以下である。

前記加熱重合をさせるには、例えば原料モノマーとラジ
カル重合開始剤とを直接所望の型枠内に仕込み、好まし
くは０〜２００℃、１〜４８時間加熱することにより重
合させることができる。この際重合は、例えば窒素、二
酸化炭素、ヘリウムなどの不活性ガス範囲気下で行なう
のが望ましい。

また、前記重合させる前に、原料子ツマ−を例えば０〜
２００℃、０．５〜４８時間予備重合させたのち、所望
の型枠内に仕込み、後重合させることもできる。

〈発明の効果〉 本発明の高屈折率光学用樹脂は、屈折率が１．６０以上
と高屈折率を有しており、しかも光学歪が小さく、光学
的透明性、耐熱性、耐溶剤性及び耐衝撃性に優れ、更に
は比重が小さく軽量化が可能である。また、硬化重合の
際の反応制御及び成型が容易であるので、メガネ用レン
ズ、カメラレンズ、光学用素材などのプラスチックレン
ズ用あるいはその他の光学用樹脂材料として有用である
。

〈実施例〉 以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。

去１１引Ｙ １−（Ｐ−ビニルベンジルチオ）−２ リロイルチオ）エタン（構造式； （ ％式％（ ロイルチオ）エタン（構造式； ３．６ｇおよびスチレン６ｇからなる原料上ツマ−に、
ターシャリブチルペルオキシベンゾエートを０．０５ｇ
添加混合し、モノマー組成物を得た。

ついで、２枚のガラス型中に該モノマー組成物を仕込ん
だ後、８０℃の恒温槽中に入れ、硬化温度８０℃にて６
時間加熱し、さらに３時間で１００℃まで昇温しで、最
終に１００℃で２時間アニリング処理を行い硬化樹脂を
得た。得られた硬化樹脂を前記型枠から取り出し、屈折
率、アツベ数および透明性を下記方法に従って測定した
。その結果を表１に示す。

屈折率及びアツベ数・・・アツベ屈折率計（アタゴ株式
会社製）を用いて測定。

透明性・・・肉眼でｉ察し透明性を有するものをＯとし
、またわずかに曇るものを△とした。

矢】Ｉ誹んご」一 実施例１の原料モノマーの代わりに、 １−（ｐ−ビニルベンジルチオ）　−５−（アクリロイ
ルチオ）ジエチルエーテル（構造式；２８重量部と１−
（ｍ−ビニルベンジルチオ）５−（アクリロイルチオ）
ジエチルエーテル（構造式； ジエチルチオエーテル（構造式； ＣＨ２＝ｃＨ＋ＨｚＳ−ｃｚｔ（４ｓｃｚｌＬｓ−ＣＩ
（、−ｃｃｌ１３＝ｃｔｔｚ　＞４０重量部と１−（ｍ
−ビニルベンジルチオ）５−（メタリルチオ）ジエチル
チオエーテル（構造式； ６０重量部とから成る原料モノマー（実施例３）を、１
−（Ｐ−ビニルベンジルチオ）−５−（アリルチオ）ジ
エチルチオエーテル（構造式；４０重量部と１−（ｍ−
ビニルベンジルチオ）−５−（アリルチオ）ジエチルチ
オエーテル（構造式； ４２重量部とｐ−クロロスチレン１３０重量部とから成
る原料モノマー（実施例２）を、１−（ｐ−ビニルベン
ジルチオ）−５−（メタリルチオ）６０重量部とから成
る原料モノマー（実施例４）を、また１−（ｐ−ビニル
ベンジルチオ）−８−（アクリロイルチオ）−３，６−
シオキサオクタン（構造式； ２８重量部と１−（ｍ−ビニルベンジルチオ）−８−（
アクリロイルチオ）−３，６−シオキサオクタン（構造
式； ルＩｊｕヨー圀 表２に示すビニル系モノマーを用いた以外は、実施例１
と同様に硬化樹脂を調製し、各測定を行った。その結果
を表２に示す。

（以下余白） ４２重量部と、メチルメタクリレート３０重量部とから
成る原料モノマー（実施例５）を、１−（０−ブロム−
Ｐ−ビニルベンジルチオ）−２−（アクリロイルチオ）
エタン（構造式；５０重量部と、スチレン５０重量部と
から成る原料モノマー（実施例６）をそれぞれ用いた以
外は。

実施例１と同様に硬化樹脂を調製し、各測定を行った。

その結果を表１に示す。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 下記一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼…（ I ） （式中Ｘはハロゲン原子を示し、Ｒ＿１はアルキレン基
   を示し、Ｒ＿２はカルボニル基又はアルキレン基を示し
   、Ｒ＿３は水素原子又はメチル基を示す。 またｎ、ｍ及びｌは０〜３の整数を示す。但し、１≦ｍ
   ＋ｌ≦３である）で表わされる有機硫黄化合物を含む原
   料モノマーを重合して得られる高屈折率光学用樹脂。