JPH04113300A - バルブ付きｘ線取り出し窓 - Google Patents
バルブ付きｘ線取り出し窓Info
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- JPH04113300A JPH04113300A JP2230657A JP23065790A JPH04113300A JP H04113300 A JPH04113300 A JP H04113300A JP 2230657 A JP2230657 A JP 2230657A JP 23065790 A JP23065790 A JP 23065790A JP H04113300 A JPH04113300 A JP H04113300A
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- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 82
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 40
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 32
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 32
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 description 5
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
Classifications
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、高密度集積回路の製造、材料等の分析にシン
クロトロン放射光を利用する際に、Ｘ線取り出し系ビー
ムラインに挿入するＸ線取り出し窓に関するものである
。
クロトロン放射光を利用する際に、Ｘ線取り出し系ビー
ムラインに挿入するＸ線取り出し窓に関するものである
。
最近、高出力のＸ線が得られるｘ＃Ｊ！発生装置として
放射光が注目され、集積回路の製造、材料等の分析に幅
広く利用されようとしている。放射光を利用する場合、
Ｘ線を取り出すＸ線取り出し窓が必要である。
放射光が注目され、集積回路の製造、材料等の分析に幅
広く利用されようとしている。放射光を利用する場合、
Ｘ線を取り出すＸ線取り出し窓が必要である。
第４図は、Ｘ線露光に使用される従来のＸ線取り出し系
の一例である。ｌは真空を遮断するゲートバルブ、２は
第１のＸ線取り出し窓、６はヘリウム室、３はヘリウム
室６を排気するための真空保持用ゲートバルブ、５はゲ
ートバルブｌと第１のＸ線取り出し窓２との間の真空室
、４は真空室５を排気するための予備排気用ゲートバル
ブ、７はヘリウムを投入するヘリウム導入口、８はヘリ
ウムの排気口、９は最初に真空室５とヘリウム室６を排
気するための真空排気口、１０は非常に薄い膜でできた
第２のＸ線取り出し窓、１１は真空室５の排気ボートで
ある。
の一例である。ｌは真空を遮断するゲートバルブ、２は
第１のＸ線取り出し窓、６はヘリウム室、３はヘリウム
室６を排気するための真空保持用ゲートバルブ、５はゲ
ートバルブｌと第１のＸ線取り出し窓２との間の真空室
、４は真空室５を排気するための予備排気用ゲートバル
ブ、７はヘリウムを投入するヘリウム導入口、８はヘリ
ウムの排気口、９は最初に真空室５とヘリウム室６を排
気するための真空排気口、１０は非常に薄い膜でできた
第２のＸ線取り出し窓、１１は真空室５の排気ボートで
ある。
ゲートバルブ１の上流は、図示しないＸ線反射ミラー、
光アブソーバ−を通ってシンクロトロン放射光の蓄積リ
ングに接続されており、１０−。
光アブソーバ−を通ってシンクロトロン放射光の蓄積リ
ングに接続されており、１０−。
Ｔ ｏｒｒ以上の超高真空となっている。また、第１の
Ｘ線取り出し窓２の下流はヘリウム室６、第２のＸ線取
り出し窓１０から構成され、これらのＸ線取り出し系を
通ってシンクロトロン放射光を大気中に取り出している
。真空室５にはゲートバルブ１と第１のＸ線取り出し窓
２、排気ボート１１等が取り付けられ、比較的大きくな
っている。さらに、真空室５の真空排気時に第１のＸ線
取り出し窓２に瞬間的な力が働くため、バイパス（第４
図の予備排気用ゲートバルブ４が設けであるバイパス）
を設けてヘリウム室６と同時に真空排気し、真空排気後
にヘリウムを微量ずつヘリウム室６に導入する方法がと
られており、構造が複雑となっている。
Ｘ線取り出し窓２の下流はヘリウム室６、第２のＸ線取
り出し窓１０から構成され、これらのＸ線取り出し系を
通ってシンクロトロン放射光を大気中に取り出している
。真空室５にはゲートバルブ１と第１のＸ線取り出し窓
２、排気ボート１１等が取り付けられ、比較的大きくな
っている。さらに、真空室５の真空排気時に第１のＸ線
取り出し窓２に瞬間的な力が働くため、バイパス（第４
図の予備排気用ゲートバルブ４が設けであるバイパス）
を設けてヘリウム室６と同時に真空排気し、真空排気後
にヘリウムを微量ずつヘリウム室６に導入する方法がと
られており、構造が複雑となっている。
これらのＸ線取り出し系を立ち上げるためには、まず、
真空を遮断するゲートバルブ１を閉じ、予備排気用ゲー
トバルブ４を開いて、真空室５とヘリウム室６を排気口
９から真空排気する。このとき、薄い第２のＸ線取り出
し窓１０を保護するため、真空保持用ゲートバルブ３は
閉じておく。このようにして、第１のＸ線取り出し窓２
に急激な排気による力がかからないようにして、真空室
５とヘリウム室６を排気する。真空室５の真空度は蓄積
リング等の真空度を劣化させないため、１０−”Ｔ ｏ
ｒｒに近い真空度まで排気する必要がある。真空室５を
１０−’ Ｔｏｒｒ代の真空とするため、真空室５を１
００℃から２００℃でベーキングする。このベーキング
には数日を要する。高真空となったところで予備排気用
ゲートバルブ４を閉じ、第１のＸ線取り出し窓２より下
流にＸ線透過率の高いヘリウムをヘリウム導入ロアより
投入する。１気圧となったところで真空保持用ゲートバ
ルブ３を開いて、ヘリウムを第２のＸ線取り出し窓１０
まで導入する。第２のＸ線取り出し窓１０の近傍にはヘ
リウムの排気口８があり、第２のＸ線取り出し窓近傍の
空気をヘリウムに置換する。
真空を遮断するゲートバルブ１を閉じ、予備排気用ゲー
トバルブ４を開いて、真空室５とヘリウム室６を排気口
９から真空排気する。このとき、薄い第２のＸ線取り出
し窓１０を保護するため、真空保持用ゲートバルブ３は
閉じておく。このようにして、第１のＸ線取り出し窓２
に急激な排気による力がかからないようにして、真空室
５とヘリウム室６を排気する。真空室５の真空度は蓄積
リング等の真空度を劣化させないため、１０−”Ｔ ｏ
ｒｒに近い真空度まで排気する必要がある。真空室５を
１０−’ Ｔｏｒｒ代の真空とするため、真空室５を１
００℃から２００℃でベーキングする。このベーキング
には数日を要する。高真空となったところで予備排気用
ゲートバルブ４を閉じ、第１のＸ線取り出し窓２より下
流にＸ線透過率の高いヘリウムをヘリウム導入ロアより
投入する。１気圧となったところで真空保持用ゲートバ
ルブ３を開いて、ヘリウムを第２のＸ線取り出し窓１０
まで導入する。第２のＸ線取り出し窓１０の近傍にはヘ
リウムの排気口８があり、第２のＸ線取り出し窓近傍の
空気をヘリウムに置換する。
このように、従来のＸ線取り出し系では、ゲートバルブ
１と第１のＸ線取り出し窓２との間に真空室５があり、
Ｘ線取り出し系の長さが長くなると共に、第１のＸ線取
り出し窓２のベリリウムを交換する場合、真空室５を規
定の真空度まで到達させるため数日を要する等の問題が
ある。
１と第１のＸ線取り出し窓２との間に真空室５があり、
Ｘ線取り出し系の長さが長くなると共に、第１のＸ線取
り出し窓２のベリリウムを交換する場合、真空室５を規
定の真空度まで到達させるため数日を要する等の問題が
ある。
本発明は、これらの課題を解決するためになされたもの
で、その目的は、Ｘ線取り出し系の長さを短くし、構造
を簡略化するとともに、Ｘ線取り出し窓交換時の交換時
間を短縮化させることにある。
で、その目的は、Ｘ線取り出し系の長さを短くし、構造
を簡略化するとともに、Ｘ線取り出し窓交換時の交換時
間を短縮化させることにある。
上記の目的を達成するために、本発明は、Ｘ線取り出し
系において、真空を遮断する第１の隔壁とＸ線取り出し
窓を持つ第２の隔壁を有し、上記第１の隔壁と上記第２
の隔壁とが非常に狭い間隙を隔てて接近して配置され、
かつ、上記第１の隔壁と上記第２の隔壁とは各々独立し
た駆動部を有し、各駆動部により各々開閉可能になって
いることを特徴とする。
系において、真空を遮断する第１の隔壁とＸ線取り出し
窓を持つ第２の隔壁を有し、上記第１の隔壁と上記第２
の隔壁とが非常に狭い間隙を隔てて接近して配置され、
かつ、上記第１の隔壁と上記第２の隔壁とは各々独立し
た駆動部を有し、各駆動部により各々開閉可能になって
いることを特徴とする。
本発明では、それぞれ開閉可能で、非常に狭い間隙を隔
てて配置した第１の隔壁とＸ線取り出し窓を持つ第２の
隔壁とによりバルブ付きＸ線取り出し窓を構成したので
、従来の装置と比較してＸ線取り出し系の長さを短くす
ることができ、予備排気バルブとバイパス排気系が不要
となり、Ｘ線取り出し系が簡素化されるとともに、真空
室の排気に要する時間を非常に短くすることができる。
てて配置した第１の隔壁とＸ線取り出し窓を持つ第２の
隔壁とによりバルブ付きＸ線取り出し窓を構成したので
、従来の装置と比較してＸ線取り出し系の長さを短くす
ることができ、予備排気バルブとバイパス排気系が不要
となり、Ｘ線取り出し系が簡素化されるとともに、真空
室の排気に要する時間を非常に短くすることができる。
第１図（ａ）は、本発明の一実施例のＸ線取り出し窓部
の側面図、第１図（ｂ）は、その正面図、第２図は、Ｘ
線取り出し系に第１図のＸ線取り出し窓を設置した場合
の構成図である。第４図と同様の部材には同一の符号を
付し、説明を省略する。
の側面図、第１図（ｂ）は、その正面図、第２図は、Ｘ
線取り出し系に第１図のＸ線取り出し窓を設置した場合
の構成図である。第４図と同様の部材には同一の符号を
付し、説明を省略する。
第２図において、１３は真空を遮断する第１の隔壁、１
６はＸ線取り出し窓、１４はＸ線取り出し窓１６を持つ
第２の隔壁、１５はＸ線取り畠し態保持部、１１は非常
に狭い間隙を隔てて接近して配置された第１の隔壁１３
と第２の隔壁１４とから構成されるバルブ付きＸ線取り
出し窓、】８は第１の隔壁１３と第２の隔壁１４との間
のミニ真空室、２０はヘリウム室６の圧力を測定する圧
力計、２１はシーケンサ、１９は第１隔壁１３の開閉用
圧空（圧縮空気）駆動部、１２は第２の隔壁１４の開閉
用駆動用ハンドル、第１図（ａ）において１７はＸ線取
り出し窓取り替え部である。
６はＸ線取り出し窓、１４はＸ線取り出し窓１６を持つ
第２の隔壁、１５はＸ線取り畠し態保持部、１１は非常
に狭い間隙を隔てて接近して配置された第１の隔壁１３
と第２の隔壁１４とから構成されるバルブ付きＸ線取り
出し窓、】８は第１の隔壁１３と第２の隔壁１４との間
のミニ真空室、２０はヘリウム室６の圧力を測定する圧
力計、２１はシーケンサ、１９は第１隔壁１３の開閉用
圧空（圧縮空気）駆動部、１２は第２の隔壁１４の開閉
用駆動用ハンドル、第１図（ａ）において１７はＸ線取
り出し窓取り替え部である。
第１の隔壁１３の上流は、図示しないＸ線反射ミラー、
光アブソーバ等を通ってシンクロトロン放射光の蓄積リ
ングに接続されており、１０−”Ｔ ｏｒｒの超高真空
となっている。また、Ｘ線取り出し窓１６の下流にはヘ
リウム室６、第２のＸ線取り出し窓１０があり、これら
を介して大気中にＸ線を取り出している。
光アブソーバ等を通ってシンクロトロン放射光の蓄積リ
ングに接続されており、１０−”Ｔ ｏｒｒの超高真空
となっている。また、Ｘ線取り出し窓１６の下流にはヘ
リウム室６、第２のＸ線取り出し窓１０があり、これら
を介して大気中にＸ線を取り出している。
バルブ付きＸ線取り出し窓１１を動作させるためには、
第２図において、まず、圧空駆動部１９を動作させて第
１の隔壁１３を閉じ、さらに真空保持用ゲートバルブ３
を閉じる。次に、駆動用ハンドル１２を回転し、第２の
隔壁１４を開いてミニ真空室１８とヘリウム室６を排気
口９から真空排気する。このとき、真空保持用ゲートバ
ルブ３は閉じているため、簿い第２のＸ線取り出し窓１
０は保護される。真空度がｉｏ＝ Ｔｏｒｒ代となった
ところで、第２の隔壁１４を閉じて、第１の隔壁１３を
開く。このとき、ミニ真空室１８内は１０−’ Ｔｏｒ
ｒ代の比較的低い真空度であるが、ミニ真空室１８の体
積は２ないし３ｃｃ程度と非常に小さく、さらに、上流
のＸ線反射ミラーを収納するミラーチャンバの体積が桁
違いに大きいため、真空度の劣化はほとんどなく、蓄積
リングに影響を及ぼすことはない。次に、第２の隔壁１
４より下流にＸ線透過率の高いヘリウムを、ヘリウム導
入ロアから投入する。１気圧となったところで真空保持
用ゲートバルブ３を開いて、ヘリウムを第２のＸ線取り
出し窓１ｏまで導入する。第２のＸ線取り出し窓１０の
近傍にはヘリウムの排気口８があり、第２のＸ線取り出
し窓１０の近傍の空気をヘリウムに置換する。このよう
に、バルブ付きＸ線取り出し窓１１では、面間隔ａがた
がだが１００ｍ程度であり、ゲートバルブを合わせ持っ
ているため、第４図に示した従来の装置のようにゲート
バルブをＸ線取り出し窓の上流に設置する必要がなく、
Ｘ線取り出し系の長さを短くできるとともに、真空排気
に要する時間が数十分程度と短縮できる。 また、第１
図（ａ）に示すように、Ｘ線取り出し窓取り替え部１７
では、を構成するベリリウム（Ｘ線取り出し窓には一般
にＸ線透過率の高いベリリウムが使用されている。）が
Ｘ線照射により劣化し、Ｘ線取り出し窓１６を交換する
場合に使用する。まず、第１の隔壁１３と真空保持用ゲ
ートバルブ３（第２図）を閉じておき、駆動用ハンドル
１２を回転して第２の隔壁１４を矢印す方向に開く。す
ると、Ｘ線取り出し窓１６は窓取り替え部１７の位置に
来るため、この窓取り替え部１７を開いてＸ線取り出し
窓１６を交換する。
第２図において、まず、圧空駆動部１９を動作させて第
１の隔壁１３を閉じ、さらに真空保持用ゲートバルブ３
を閉じる。次に、駆動用ハンドル１２を回転し、第２の
隔壁１４を開いてミニ真空室１８とヘリウム室６を排気
口９から真空排気する。このとき、真空保持用ゲートバ
ルブ３は閉じているため、簿い第２のＸ線取り出し窓１
０は保護される。真空度がｉｏ＝ Ｔｏｒｒ代となった
ところで、第２の隔壁１４を閉じて、第１の隔壁１３を
開く。このとき、ミニ真空室１８内は１０−’ Ｔｏｒ
ｒ代の比較的低い真空度であるが、ミニ真空室１８の体
積は２ないし３ｃｃ程度と非常に小さく、さらに、上流
のＸ線反射ミラーを収納するミラーチャンバの体積が桁
違いに大きいため、真空度の劣化はほとんどなく、蓄積
リングに影響を及ぼすことはない。次に、第２の隔壁１
４より下流にＸ線透過率の高いヘリウムを、ヘリウム導
入ロアから投入する。１気圧となったところで真空保持
用ゲートバルブ３を開いて、ヘリウムを第２のＸ線取り
出し窓１ｏまで導入する。第２のＸ線取り出し窓１０の
近傍にはヘリウムの排気口８があり、第２のＸ線取り出
し窓１０の近傍の空気をヘリウムに置換する。このよう
に、バルブ付きＸ線取り出し窓１１では、面間隔ａがた
がだが１００ｍ程度であり、ゲートバルブを合わせ持っ
ているため、第４図に示した従来の装置のようにゲート
バルブをＸ線取り出し窓の上流に設置する必要がなく、
Ｘ線取り出し系の長さを短くできるとともに、真空排気
に要する時間が数十分程度と短縮できる。 また、第１
図（ａ）に示すように、Ｘ線取り出し窓取り替え部１７
では、を構成するベリリウム（Ｘ線取り出し窓には一般
にＸ線透過率の高いベリリウムが使用されている。）が
Ｘ線照射により劣化し、Ｘ線取り出し窓１６を交換する
場合に使用する。まず、第１の隔壁１３と真空保持用ゲ
ートバルブ３（第２図）を閉じておき、駆動用ハンドル
１２を回転して第２の隔壁１４を矢印す方向に開く。す
ると、Ｘ線取り出し窓１６は窓取り替え部１７の位置に
来るため、この窓取り替え部１７を開いてＸ線取り出し
窓１６を交換する。
従って、ビームラインを外すことなくＸ線取り出し窓１
６のベリリウムを容易に交換することができる。
６のベリリウムを容易に交換することができる。
さらに、第１図において、第１の隔壁１３の駆動は圧空
を用いた駆動部１９により自動開閉ができるような構造
になっており、ヘリウム室６の圧力は圧力計２０により
常に圧力を感知され、ヘリウム室６の圧力が高くなり、
Ｘ線取り出し窓１６の破損の危険が生じたときには、圧
力計２０の圧力の感知によりシーケンサ２１と圧空式バ
ルブ駆動により、自動的に第１の隔壁１３が閉じるよう
になっている。このようにして、蓄積リングの真空劣化
の安全をも確保している。もちろん、各隔壁１３．１４
の駆動部は手動でも、自動でも本発明の効果が失われる
ものではない。また、Ｘ線取り出し窓にベリリウムを中
心に述べてきたが、Ａ１、Ｔｉ等の金属膜、ＳｉＮ、Ｓ
ｉＣ等の無機膜、ポリプロピレン、ポリエステル等の有
機膜を使用することも可能である。
を用いた駆動部１９により自動開閉ができるような構造
になっており、ヘリウム室６の圧力は圧力計２０により
常に圧力を感知され、ヘリウム室６の圧力が高くなり、
Ｘ線取り出し窓１６の破損の危険が生じたときには、圧
力計２０の圧力の感知によりシーケンサ２１と圧空式バ
ルブ駆動により、自動的に第１の隔壁１３が閉じるよう
になっている。このようにして、蓄積リングの真空劣化
の安全をも確保している。もちろん、各隔壁１３．１４
の駆動部は手動でも、自動でも本発明の効果が失われる
ものではない。また、Ｘ線取り出し窓にベリリウムを中
心に述べてきたが、Ａ１、Ｔｉ等の金属膜、ＳｉＮ、Ｓ
ｉＣ等の無機膜、ポリプロピレン、ポリエステル等の有
機膜を使用することも可能である。
第３図は、本発明の他の実施例を示す図で、２２は低真
空室である。ここで、第２のＸ線取り出し窓１０は真空
と大気圧を隔てる窓となるため、大気圧に耐えられる厚
さとなっている。
空室である。ここで、第２のＸ線取り出し窓１０は真空
と大気圧を隔てる窓となるため、大気圧に耐えられる厚
さとなっている。
これを動作させるためには、まずバルブ付きＸ線取り出
し窓１１の第１の隔壁１３を閉じ、Ｘ線取り出し窓１６
を持つ第２の隔壁１４を開いて排気口９から低真空室２
２を真空排気する。１０−“Ｔ ｏｒｒ程度になったと
ころで第２の隔壁１４を閉じ、第１の隔壁１３を開き、
低真空室２２を常時排気し続ける。このようにしてＸ線
取り出し系として使用する。この場合、第２の隔壁１４
のＸ線取り出し窓１６には圧力がほとんどかからないた
め、Ｘ線取り出し窓１６の厚さとしては非常に薄い膜を
使用できる。したがって、Ｘ線取り出し系の全Ｘ線取り
出し窓厚さとしては前記の実施例と同様の厚さとするこ
とができる。このＸ線取り出し系では第２のＸ線取り出
し窓１０かられずかな真空のリークがあっても低真空室
２２が常時排気されているため、上流側の超高真空に悪
影響を及ぼすことがない利点がある。
し窓１１の第１の隔壁１３を閉じ、Ｘ線取り出し窓１６
を持つ第２の隔壁１４を開いて排気口９から低真空室２
２を真空排気する。１０−“Ｔ ｏｒｒ程度になったと
ころで第２の隔壁１４を閉じ、第１の隔壁１３を開き、
低真空室２２を常時排気し続ける。このようにしてＸ線
取り出し系として使用する。この場合、第２の隔壁１４
のＸ線取り出し窓１６には圧力がほとんどかからないた
め、Ｘ線取り出し窓１６の厚さとしては非常に薄い膜を
使用できる。したがって、Ｘ線取り出し系の全Ｘ線取り
出し窓厚さとしては前記の実施例と同様の厚さとするこ
とができる。このＸ線取り出し系では第２のＸ線取り出
し窓１０かられずかな真空のリークがあっても低真空室
２２が常時排気されているため、上流側の超高真空に悪
影響を及ぼすことがない利点がある。
もちろん、Ｘ線取り出し窓１６の厚さを厚くし、大気圧
に耐えられるようして、バルブ付きＸ線取り出し窓下流
の低真空室２２に数十Ｔ ｏｒｒから１気圧のヘリウム
を導入して使用することも可能である。
に耐えられるようして、バルブ付きＸ線取り出し窓下流
の低真空室２２に数十Ｔ ｏｒｒから１気圧のヘリウム
を導入して使用することも可能である。
以上本発明を上記実施例に基づいて具体的に説明したが
、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、その
要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であること
は勿論である。
、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、その
要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であること
は勿論である。
以上説明したように、本発明では、Ｘ線取り出し窓をバ
ルブ付きにしたことにより、Ｘ線取り出し系の長さを短
くすることができ、予備排気バルブとバイパス排気系が
不要となり、Ｘ線取り出し系が簡素化されるとともに、
真空室の排気に要する時間を非常に短くすることができ
るため、Ｘ線取り出し窓のベリリウムの交換等に要する
時間の短縮を図ることができる。
ルブ付きにしたことにより、Ｘ線取り出し系の長さを短
くすることができ、予備排気バルブとバイパス排気系が
不要となり、Ｘ線取り出し系が簡素化されるとともに、
真空室の排気に要する時間を非常に短くすることができ
るため、Ｘ線取り出し窓のベリリウムの交換等に要する
時間の短縮を図ることができる。
第１図（ａ）、（ｂ）は本発明の一実施例のＸ線取り出
し窓の詳細図、第２図は、第１図のＸ線取り出し窓を設
置したＸ線取り出し系の構成図、第３図は、本発明の他
の実施例を示す図、第４図は従来技術を示す図である。 １・・・ゲートバルブ ２・・・第１のＸ線取り出し窓 ３・・・真空保持用ゲートバルブ ４・・・予備排気用ゲートバルブ ５・・・真空室 ６・・・ヘリウム室 ７・・・ヘリウム導入口 ８・・・ヘリウム排気口 ９冑真空排気口 ０・・・第２のＸ線取り出し窓 １・・・バルブ付きＸ線取り出し窓 ２・・・第２隔壁の駆動用ハンドル ３・・・第１の隔壁 ４・・・第２の隔壁 ５・・・Ｘ線取り出し窓保持部 ６・・・Ｘ線取り出し窓 ７・・・Ｘ線取り出し窓取り替え部 ８・・・ミニ真空室 ９・・・第１の隔壁の圧空駆動部 ０・・・圧力計 ｌ・・・シーケンサ ２・・・低真空室
し窓の詳細図、第２図は、第１図のＸ線取り出し窓を設
置したＸ線取り出し系の構成図、第３図は、本発明の他
の実施例を示す図、第４図は従来技術を示す図である。 １・・・ゲートバルブ ２・・・第１のＸ線取り出し窓 ３・・・真空保持用ゲートバルブ ４・・・予備排気用ゲートバルブ ５・・・真空室 ６・・・ヘリウム室 ７・・・ヘリウム導入口 ８・・・ヘリウム排気口 ９冑真空排気口 ０・・・第２のＸ線取り出し窓 １・・・バルブ付きＸ線取り出し窓 ２・・・第２隔壁の駆動用ハンドル ３・・・第１の隔壁 ４・・・第２の隔壁 ５・・・Ｘ線取り出し窓保持部 ６・・・Ｘ線取り出し窓 ７・・・Ｘ線取り出し窓取り替え部 ８・・・ミニ真空室 ９・・・第１の隔壁の圧空駆動部 ０・・・圧力計 ｌ・・・シーケンサ ２・・・低真空室
Claims (1)
- １、Ｘ線取り出し窓を隔て、その一方を超高真空、他方
を低真空または大気圧にするＸ線取り出し系において、
真空を遮断する第１の隔壁とＸ線取り出し窓を持つ第２
の隔壁を有し、上記第１の隔壁と上記第２の隔壁とが非
常に狭い間隙を隔てて接近して配置され、かつ、上記第
１の隔壁と上記第２の隔壁とは各々独立した駆動部を有
し、各駆動部により各々開閉可能になっていることを特
徴とするＸ線取り出し窓。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2230657A JP2596636B2 (ja) | 1990-09-03 | 1990-09-03 | バルブ付きｘ線取り出し窓 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2230657A JP2596636B2 (ja) | 1990-09-03 | 1990-09-03 | バルブ付きｘ線取り出し窓 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04113300A true JPH04113300A (ja) | 1992-04-14 |
| JP2596636B2 JP2596636B2 (ja) | 1997-04-02 |
Family
ID=16911243
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2230657A Expired - Fee Related JP2596636B2 (ja) | 1990-09-03 | 1990-09-03 | バルブ付きｘ線取り出し窓 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2596636B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008128971A (ja) * | 2006-11-24 | 2008-06-05 | Hamamatsu Photonics Kk | 電子線照射装置 |
-
1990
- 1990-09-03 JP JP2230657A patent/JP2596636B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008128971A (ja) * | 2006-11-24 | 2008-06-05 | Hamamatsu Photonics Kk | 電子線照射装置 |
| JP4620034B2 (ja) * | 2006-11-24 | 2011-01-26 | 浜松ホトニクス株式会社 | 電子線照射装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2596636B2 (ja) | 1997-04-02 |
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Legal Events
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