JPH04108795A - 新規シロキサン誘導体、その製造方法及びこれを含有する化粧料 - Google Patents

新規シロキサン誘導体、その製造方法及びこれを含有する化粧料

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JPH04108795A
JPH04108795A JP2228958A JP22895890A JPH04108795A JP H04108795 A JPH04108795 A JP H04108795A JP 2228958 A JP2228958 A JP 2228958A JP 22895890 A JP22895890 A JP 22895890A JP H04108795 A JPH04108795 A JP H04108795A
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竹内 賢
Koji Yoshino
浩二 吉野
Yuji Suzuki
裕二 鈴木
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章 川俣
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、乳化剤として有用な、界面活性作用を有する
新規シロキサン誘導体、その製造方法及びこれを含有す
る化粧料に関する。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕界面活
性作用を有するシリコーン化合物は、その変性親水基の
種類から、アニオン系親木基を有する化合物、カチオン
系親水基を有する化合物、ベタイン系親水基を有する化
合物及びノニオン系親木基を有する化合物の4種に大別
される。
上記のうちノニオン系親水基を有する化合物としては、
ポリオキシアルキレン基を親木基として有するポリオキ
シアルキレン変性シリコーン系界面活性剤が公知である
が、このものは乳化安定性に劣るため、化粧料等の乳化
剤として用いた場合、満足な乳化安定性を得るためには
シリカ、粘度鉱物等の増粘剤を更に添加する必要があっ
た。
一方、ポリオキシアルキレン以外のノニオン系の親水基
としては多価アルコール性水酸基が考えられるが、多価
アルコール性水酸基を親木基として有するシリコーン系
界面活性剤は現在のところほとんど知られておらず、わ
ずかに特公昭62−34039号公報に記載されている
(ポリ)グリセリン変性シリコーン及び特開昭57−2
09295号公報に記載されているソルビタン変性シリ
コーンが界面活性作用を有することが知られているのみ
である。
また、多価アルコール性水酸基であるグリセリル基によ
り変性されたシリコーン化合物は公知であり、特開昭6
2−195389号公報、特開昭64−16793号公
報及び特開昭63−101388号公報に記載されてい
るが、これら化合物はヒドロキシル基の反応性を利用し
た合成樹脂の表面改質剤であり、その界面活性作用につ
いては不明である。
このように、満足な性能を有するノニオン系のシリコー
ン系界面活性剤は現在のところ皆無に等しいものである
〔課Uを解決するための手段〕
かかる実情において、本発明者らは鋭意研究を重ねた結
果、後述のグリセリル基を有する新規シロキサン誘導体
が、化粧料等の乳化剤として好適なノニオン系界面活性
剤であることを見いだし、本発明を完成した。
すなわち本発明は、次の一般式(1) 〔式中、Rl、 Rl 2のうち、少なくとも1つは次
式(IF) (式中、口は炭素数3〜20の二価炭化水素基を示し、
RI3及び1t14はそれぞれ水素原子又は炭素数1〜
5の炭化水素基を示し、そのうち少なくとも一方は水素
原子である。) で表わされる基であり、残りが炭素数1〜30の直鎮、
分岐鎖もしくは環状の炭化水素基又は次式(Illr) −X−R1S(III) (式中、Xはエーテル結合及び/又はエステル結合を含
む二価炭化水素基を、Rlsは炭素数1〜30の直鎮、
分岐鎖又は環状の炭化水素基を示す。)で表わされる基
゛であり、1.tn及びnは0以上2000以下の数を
示す。ただし li I〜l112のうち1つが、Qが
トリメチレンでR13及びRI4が共に水素原子である
基(If)であり、かつ残り全てがメチル基である場合
を除く。〕 で表わされるシロキサン誘導体、その製造方法及びこれ
を含有する化粧料を提供するものである。
上記−数式(1)において、Qで示される炭素数3〜2
0の二価炭化水素基としては、トリメチレン、テトラメ
チレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、ヘプタメチ
レン、オクタメチレン、ノナメチレン、デカメチレン、
ウンデカメチレン、ドデカメチレン、テトラデカメチレ
ン、ヘキサデカメチレン、オクタデカメチレン等の直鎮
アルキレン基;プロピレン、2−メチルトリメチレン、
2−メチルテトラメチレン、2−メチルペンタメチレン
、3−メチルペンタメチレン等の分岐mアルキレン基等
が挙げられる。R′3又は1114で示される炭素数1
〜5の炭化水素基としては、メチル、エチル、プロピル
、ブチル、ペンチル、イソプロピル、5ec−ブチル、
tert−ブチル、ネオペンチル、シクロペンチル等の
直鎮、分岐鎖又は環状のアルキル基等が挙げられる。ま
たXで示されるエーテル結合及び/又はエステル結合を
含む二価炭化水素基とり、 でバー(CH2+7(OC
,H,10C3H8(0−(ここでp及びqは0以上5
0以下の数、rは3以上20以下の整数) 、−((’
)12([1−[1’Ω−1−+c’H,(coo−等
が挙げられる。更に炭素数1〜3oの直鎖、分岐鎖又は
環状の炭化水素基としては、メチル、エチル、プロピル
、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、ド
デシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、
エイコシル、ドエイコシル、テトラエイコシル、ヘキサ
エイコシル、オクタエイコシル、トリアコンチル等の直
鎮アルキル基;イソプロピル、5ec−ブチル、ter
t−ブチル、ネオペンチル、1−エチルプロピル、1−
ヘプチルデシル等の分岐鎖アルキル基;シクロペンチル
、シクロヘキシル、アビエチル、コレステリル等の環状
アルキル基などが挙げられる。そして、11m及びnは
、原料となるオルガノハイドロジエンポリシロキサンの
入手のしやすさ、製造時の操作性などの点から、0以上
2000以下の範囲とすることが好ましい。
本発明のシロキサン誘導体(1)は、例えば次の反応式
に従って製造することができる。
(1)基(III)を有さないシロキサン誘導体(I 
a)の製法 (IV) (■′ ) (Ia) 〔式中、Rea〜1R21は少なくとも1つが水素原子
であり、残りが炭素数1〜30の直鎮、分岐鎖又は環状
の炭化水素基であり、!、rn及びnは0以上2000
以下の数を示す。
Q′は少なくとも1個の二重結合を有する炭素数3〜2
0の炭化水素基を示し、R13及びR14は前記と同じ
意味を有する。
Rl’、 Rl 2’のうち、少なくとも1つは基(I
f)であり、残りが炭素数1〜30の直鎖、分岐鎖又は
環状の炭化水素基である。ただし、R+’、 R127
のうち1つが、QがFリメチレンでR1ff及びR14
が共に水素原子である基(n)であり、かつ残り全てが
メチル基である場合を除く。] すなわち、少なくとも1個のケイ素−水素結合を有する
オルガノハイドロジエンポリシロキサン(IV)に、ア
ルケニルグリセリルエーテル(■′)を反応させること
により、基(I[[)を有さないシロキサン誘導体(I
 a)が得られる。
(2)基(III)を有するシロキサン誘導体(I b
)の製法 (■′ ) (■′ ) (I b) 〔式中、Ras’〜R21’は少なくとも2つが水素原
子であり、残りが炭素数1〜30の直鎖、分岐鎖又は環
状の炭化水素基であり、1.m及びnは前記と同じ意味
を示す。
Q′、R13及びR14は前記と同じ意味を示す。
X′は少なくとも1個に二重結合を有し、かつエーテル
結合及び/又はエステル結合を含む炭化水素基を、11
%は前記と同じ意味を示す。
R1″〜R1jJ“のうち、少なくとも1つは基(If
)であり、残りのうち少なくとも1つは基(I[[)で
あり、残りが炭素数1〜30の直鎮、分岐鎖又は環状の
炭化水素基である。] すなわち、少なくとも2個のケイ素−水素結合を有する
オルガノハイドロジエンポリシロキサン(rV’ )に
、アルケニルグリセリルエーテル(■′)及び化合物(
■′)を反応させることにより、基(I[[)を有する
シロキサン誘導体(I b)が得られる。ここで、化合
物(■′)と化合物(■′)は、どちらを先に化合物(
■′)に反応させても、また同時に化合物(■′)に反
応させてもよい。
原料であるオルガノハイドロジエンポリシロキサン(r
V)又は(■′)は、分子中に少なくとも1個[(rV
) )又は少なくとも2個[(IV’ ) 〕のケイ素
−水素結合を有することが必須とされるほかは、粘度、
分子構造等に特に制限はなく、公知の種々のものを使用
することができるが、原料の入手のしやすさ、製造時の
操作性などの点から11m及びnが0以上2000以下
・のものが好ましい。
化合物(■′)としては、−数式(■′)においてQ′
がω−アルケニル基であるものが好ましい。
また、化合物(m’ )としては、−数式%式% CH,=C’HCH,イOC,)!、炉−(OC3H6
層叶 (9及びqは前記と同じ’) 、CH2=C)I
イCH2す叶叶等であるものが好ましい。
前記(1)及び(2)の反応は、触媒の存在下に行われ
、触媒としては一般にヒドロシリル化に用いられるもの
、例えば遊離ラジカル關始剤;光開始剤;ルテニウム、
ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金
等の金属の錯体化合物;これらをシリカゲル又はアルミ
ナに担持させたものなどが挙げられる。これらのうち、
特に塩化白金酸、spe ier試薬(塩化白金酸のイ
ソプロピルアルコール溶液)等が好ましい。触媒の使用
量はオルガノハイドロジエンポリシロキサン(TV)又
は(■′)とアルケニルグリセルエーテル(n’ )及
び/又は化合物(■′)との反応を促進するのに充分な
量であればよく、特に限定されないが、使用されるオレ
フィン1 mon!に対して10−6〜10−1mof
の範囲が好ましい。
本反応においては反応溶媒の使用は必須ではないが、必
要に応じて適当な溶媒中で反応を行ってもよい。反応溶
媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定さ
れず、例えばペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の
炭化水素系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン等のベ
ンゼン系溶媒;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエー
テル等のエーテル系溶媒;メタノール、エタノール、イ
ソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール系溶
媒などが挙げられる。アルコール系溶媒を使用する場合
には、5i−8と−DHとの間における脱水素反応を防
止ないし抑制するために、酢酸カリウム等のpH調整剤
(特開昭57−149290号公報)を用いるのが好ま
しい。
本反応に使用されるオルガノハイドロジエンポリシロキ
サン(TV)又は(■′)に対するアルケニルグリセリ
ルエーテル(■′)及び/又は化合物(■′)の割合は
、得られるシロキサン誘導体(I)が分子中に少なくと
も1個以上のケイ素結合グリセリル基(ff)を有する
に充分な量のアルケニルグリセリルエーテル(■′)が
あれば、その他の割合は任意でよいが、得られる化合物
(1)を用いて炭素系の油剤を乳化する場合は、基(I
I)と基<m>の合計ユニット数が、残存するジメチル
シロキサンユニット数と同じ割合か又はそれ以上の範囲
とし、シリコン系の油剤を乳化する場合は、基(ff)
と基(m)の合計ユニット数が、残存するジメチルシロ
キサンユニット数の115以下の範囲とするのが好まし
い。
ヒドロシリル化は、0℃〜200℃で進行するが、反応
速度や生成物の着色などを考え、0〜100℃で行うの
が好ましい。また、反応時間は0.5〜24時間程度と
するのが好ましい。
このようにして得られた本発明シロ牛サン誘導体(1)
は、化粧料用成分、特に乳化剤として好適に用いること
ができる。適用し得る化粧料の剤型、種類等は特に限定
されず、例えば乳液、ローション、ファンデーション等
のスキンケア(lJt料;シャンプー リンス、トリー
トメント等のヘアケア化粧料などが挙げられる。化粧料
中への本発明シロキサン誘導体(1)の配合量も特に限
定されないが、通常、0.001〜90重量%、特に1
〜50重量%の範囲が好ましい。
以下余白 〔実施例〕 以下、実施例を挙げて更に詳細に説明するが、本発明は
これらに限定されるものではない。
実施例1 (1)冷却管及び磁気撹拌子を備えた100mf! 2
0フラスコに、Ll、3.3−テトラメチルジシロキサ
”/9’1g (0,72mof! )及び1−ヘキセ
ン30g (OJ6mo1)を仕込み、これに塩化白金
酸の5%イソプロピルアルコール溶液0.72g (7
,2mmoj?)を加え、氷水浴下16時間撹拌した。
蒸留により無色透明液体52.8 g (bp55−6
1℃/4Torr) (収率67%)を得た。
得られた生成物はIl’l及びNMRスペクトルにより
、1−へキシル−1,1,3,3−テトラメチルジシロ
キサンであることを確認した。
(2)冷却管及び磁気撹拌子を備えた100mff12
0フラスコに、(1)で合成した1−へキシル−1,1
,3゜3−テトラメチルジシロキサン15g (69m
mol )、アリルグリセリルエーテル12g (91
mmoj! ) 、酢酸カリウムの10%エタノール溶
液1.8g (1,8mmoj! )及びイソプロピル
アルコール24gを仕込み、これに塩化白金酸の5%イ
ソプロピルアルコール溶液0、18 g  (0,01
7mmo 1 >を加え、40℃で17時間撹拌した。
溶媒留去後、反応生成物をシリカゲルカラムにかけて精
製し、無色透明液体22g(収率93%)を得た。得ら
れた生成物はIR及びNMRスペクトルにより、3−(
3−へキシル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキ
サンル)プロピルグリセリルエーテル(A)であること
が確認された。
IR(KM、 clll−’)    3400106
4、 842. 796 ’)I−NMR(δpptn、 CDCl s中、(7
,28ppI11> ) 0.04.0.06  (s、12H)   5t−C
HsO,08−1,02(t、 3H)  −C)l。
(−DH) (C−)1) (Si−Me) (Si−0−3i) CHCIl、基準 1、14−1.46   (br、 8H)0.40−
0.66   (m、  4N>1.48−1.72 
  (m、2)1)3.32−3.59   (m、 
 4H)3.79−3.98   (m、  1N)3
.59−3.79   (m、  2)1)2.83−
2.93   (d、  1)1)2.46−2.59
   (dcl、ill)13C−NMR[:δppm
+ CDCi s中、(77、2ppm) ) 0.46. 0.53 14.3. 14.4 Si−C)I− −CH,、CH,−CH2CH,0 18,5 64,4 70,7 72,5 74,6 ”Si−NMRCδppm、 COCl5中、CH2〜 5l−CH2− CH2−CL−O CH2−O CI(−01( CH2−011 CH−OH CII2−OH CHCl、基準 5i−CH2− CH2−OH CH−0)I CH,CL−O CH−CH2−O TMSM l (Oppm) E ?、22. 7.89 実施例2 (1)実施例1の(1)と同様の方法により、■−デシ
ルー1.1.3.3−テトラメチルジシロキサンを合成
した(収率70%)。
(2)実施例1の(2)と同様の方法により3−(3テ
シル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンル)
プロピルグリセリルエーテル(B)を合成した(収率9
3%)。
Me   Me IR(液膜、Cロー’)    3424  (−Of
()2928  (C−H) 1254  (Si−Me) 1066、 840. 796  (Si−0−3i)
’)I−NMR[δppm、 CDC15中、C)IC
13基準(7,28ppm> ) 0.04.0.06   (s、12)1)   5i
−CH30,8(1−0,95(t、  3H)1.1
5−1.42   (br、16H)1.48−1.6
8   (m、2H)3J8−3.53   (m、4
H) OJ8−0.57   (m、4)1)3.77−3.
94   (m、  1N)3.53−3.77   
(m、2tl)3.25−3.32   (d、  1
ll)2.98−3.08   (t、  18)CH
CL− CH,−CIl、−O CH,−O 1−CL C)I−OH CH,−0H C)l−叶 CHCH2−0 )113C−N [δppm、 COCl、中、[:H
Cl1’、基準(77、2ppm) ) 0.42. 0.50         Sl(’L1
4.2. 14.3        −CH,、CH2
−CH2C)12018.5 23.5 72.4 1−CL C)12CL−O CR,C)1.−0 ?4.6             CH−CH2−0
?0.9           CH−OH64、3C
H2−OH ”Si−NMRCδppm、 CDIJ s中、TMS
基準(Oppm) ]7.22. 7.89 実施例3 (1)実施例1の(1)と同様の方法により、1−ヘキ
サデシル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン
を合成した(収率70%)。
(2)実施例1の(2)と同様の方法により3−(3−
ヘキサデシル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキ
サンル)プロピルグリセリルエーテル(C)を合成した
(収率93%)。
1064、 840. 796 ’H−NMR[δppm、 CDCji s中、(7,
28ppm) ] 0.04,0.06   (s、12H)0.81−0
.96   (t、  3H)1.16−1.41  
 (br、28H)0.41−0.59   (m、4
H)1.53−1.70   (m、  2H)3J6
−3.59   ([11,4H)3.59−3.80
   (m、2fl)2.83−2.93   (d、
  18)2.46−2.59   (dd、LH>1
3C−NMR(δppm、 CDC15中、(77、2
ppm) ) 0.47. 0.54 14.3. 14.4 1−CH5 −C)Is、CL−CLCHJ (Si−0−3i) CHCj!、基準 S 1−CH5 −CH。
CH2− 5i−CH=− CH,−CH2−0 C)1.−O CH,−011 CH−0)I CH2−OH CI(Cj! !基準 IRC液膜、 cm−’) 3404  (−DH) 2956  (C−1() 1254  (Si−Me) 18.6 S+−CL 23、6              C)1.[”)
l、−064,4・   ClI2−011 ?0.7              CH−0)17
2、6             CF+2−C)+2
−[+74、6              CH−C
H2−0”Si−NMR[δpprn、 CDCi s
中、7MS基準(Oppm) ”+7.22. 7.9
3 実施例4 冷却管及び磁気撹拌子を備えた100mf 20フラス
コにノナデカメチルノナシロキサン20g (30mm
ojり 、10−ウンデセニルグリセリルエーテル9.
5 g (39mmof) 、酢酸カリウムの10%エ
タノール溶液0.77 g (0,78thmol”)
及びイソプロピルアルコール18.5gを仕込み、塩化
白金酸の2%イソプロピルアルコール溶液0.20g 
(7,7Xl0−’aImojりを加え、加熱し昇温し
た。内容物の温度を40℃に保ち3.5時間撹拌した。
溶媒留去後、得られた反応生成物をヘキサンに溶解し、
ろ過を行い溶媒を留去したのち、得られた反応生成物を
シリカゲルカラムにかけて精製し、無色透明オイル21
.7g (収率80%)を得た。得られた生成物は、I
FI及びNMRスペクトルにより、ノナデカメチルノナ
シロキサニルウンデシルグリセリルエーテル(D)であ
ることをm認した。
’H−NMR[δppm、 CDCj! s中、(7,
28ppm) ] 0.00−0.18   (m、57)1)0、48−
0.64   (m、 2H)1.20−1.42  
 (br、16tl)1.50−1.68   (m、
21()3.40−3.58   (01,41()3
.78−3.96   ((It、IH)3.58−3
.78   (Ill、2H)2.67−2.72  
 ((]、  I1()2.21−2.35  (dd
、1!()CHCj!3基準 5i−CH。
1−CL −CH,− C1(、−CH,−O CH,−0 [:H−DH C)1.−DH 口H−OH C)+2−OH ”C−NMRCa ppm、 CDCj! ! 中、C
HCL基準(77、2ppm) ) 18.5 1−CH2 実施例4と同様の方法により、ペンタメチルジシロキサ
ニルウンデシルグリセリルエーテル(E)を合成した(
収率56%)。
64、5           CH2−0H70、7
C)l−DH ?2. I           CH,−CH,−0
?2.7                    C
H−CHI−〇”Si−NMRCδppm、 Cf1C
l s中、7MS基準(Oppm))7.28.7.6
0       a、i実施例5 IR(液M1 cm −’ ) 2926゜ 3394  (−叶) 2860  (C−)1) 1254  (Si−Me) 843  (Si−0−3i) 中、CHCj!s基準 1062゜ ’H−NMRCδppm、 CDCl1 s(7,28
ppm) ) 0.05. 0.07   (s、15H)0.43−
0.62  (m、2H) 1.14−1.40  (br、16H)1.50−1
.68  (m、  2)1)3.38−’1.58 
 (m、4)1)3.80−3.95  (m、1)1
)1−CHs 1−CL 〜CH2− CH2−CH2−0 CH2−O C)I−DH CH2−0il CH−叶 CL−叶 CHCl、基準 3.58−3.80  (m、  2H)2.72−2
.81  (c!、  1)1)2、31−2.47 
  (br、 IH)13C−NMR(δppm、 C
DCj! 3中、(77、2ppm) ] 0、51.2.14      5l−CH31B、 
6          5i−CLドロデカメチルペン
タシロキサンが含まれていたため、同時に1.5−ビス
C11−(2,3−ジヒドロキシプロポキシ)ウンデシ
ル〕デカメチルペンタシロキサン(G)が得られた。得
られた1、5−ビス[1l−(2,3−ジヒドロキシプ
ロポキシ)ウンデシル〕デカメチルペンタシロキサン(
G)は、シリカゲルカラムにより単離精製した。その構
造はIR及びMMRスペクトルにより確認された。
64、4          ClI2−0H70,7
C)I−DH 72、OC1(−C)1.−〇 72、6          CH2−CH2−0”S
i−NMR[δppm、 CDCf s中、7MS基準
(Oppm) E6.97. 7.61 実施例6 実施例4と同様の方法により、ウンデカメチルペンタシ
ロキサニルウンデシルグリセリルエ−テルウンデカメチ
ルペンタシロキサン中に1.5−ジヒIR C液膜, 
cm−’)    3406  (−OH)2962、
  2926.  2860  (C−)1)1260
  (Si−Me) 1035、  801  (Si−0−Si)’H−N
MR [δppr, CDC i s中、CHCL基準
(7. 28ppm) 〕 −0. 02  0.18   (m, 338)  
 Si−CHso、46−0.63   (m,2)1
)1、17−1.42  (br,16)1)1、48
−1.70   (01,2H)3、38−3.59 
 (m.4H) 3、77−3.97   (m,IH)3、59−3.
77  (m,2)1)2、83−2.98  (br
,IH)2、46−2.64  (br,1)1)”C
−NMR [δpptn, CDC i s中、(77
、 2ppI11) ) l−CH2 一CH.− CH.−CH2−O CH2−ロ C)I−0)I C)1.−011 C)I−OH CH.−DH CHCl.基準 2″Si−NMR [δpptn. CDCI s中、
7MS基準(Oppm) )7、21!.  7.61
       a,e−21.4,  −21.7. 
 −22.2   b,c,d18、5 64、4 70、7 72、0 Sr−CH2− CI(、−OH C)I−DH CHi−CH2−D C)I−CH.−0 (G) IR (液膜, cm−’)    3404  (−
OH)2924、  2856  (C−)1)126
0  (Si−Me) 1080、  1034.  802  (Si−0−
Si)IH−NMR [δp9rn. CDC4.中、
CHCfa基準(7. 28ppm) :1 0。03.  0.05   (s.30H)   S
i−C)IsO,54     (t,4)1)   
Si−C)1.−1、28     (br、 32)
t)  −Cth−1,48−1,69(m、4H) 
  CH2−CH,−02,92(t、2)1)   
 CH2−0H3,20(d、2)1)    CH−
0)13.36−3.57   (m、8日)    
[’)1.−03.57−3.78   (m、48)
   CH=−OH3,7g−3,96(m、2H) 
  CH−0)1”C−NMR[δppcn、 CDC
j! 3中、CHCf、基準(77、2ppm) ] ’C)1.  bCH,cCH,bCH,”CH3−3
1A−0−3im−0−3i c−0−3i m−0−
3i^CL   C)1.   CH,CH,CH。
OJ5.IJ4 1.24 18.4 a、b 1−CL 64.4 70.8 −CH,−0H −CH−叶 72、0            −CH2−Cl1.
−072、5            −CH−C11
2−0”Si−NMR[δppm、 CDCj’ 3中
、7MS基準(Oppm) ]−22,3C −21,7B 7.62       ^ 実施例7 冷却管及び磁気撹拌子を備えた100+d 20フラス
コに、α、ω−ジヒドロジメチルポリシロ牛サン(平均
鎖長20) 30g (18,5mmoj7) 、10
−ウンデセニルグリセリルエーテル11.8 g (4
8,3mmo 1 )、酢酸カリウムの10%エタノー
ル溶液0.95g (0,97mmoA)及びイソプロ
ピルアルコール24gを仕込み、これに塩化白金酸の2
%イソプロピルアルコール溶液0.26g (0,01
0■m01)を加え、加熱し昇温した。内容物の温度を
50℃に保ち、2時間撹拌した。溶媒を留去したのち、
減圧蒸留により未反応10−ウンデセニルグリセリルエ
ーテルを留去することにより、褐色高粘稠物を得た。こ
の褐色高粘稠物を活性炭で処理し、無色透明の高粘稠物
35.0g (収率89.7%)を得た。
得られた生成物はIRおよびIIMRスペクトルにより
、α、ω−ビスC11−(2,3−ジヒドロキシプロポ
キシ)ウンデシルクジメチルポリシロキサン(平均鎖長
200H)であることを確認した。
147−170  (m、 4H) 2.22     (br 2tl) 2.62     (br 2H) 3JO−3,59(m、 8H) 3.59−3.80  (m、4)1)3.80−3.
96  (m、 2M)13C−NMR[δppm、 
CDCj! s中、(77、2ppm) ] O40,1,23,1,36 18,5 CL C82−〇 −CH2−0ft −C1l−OH C)+2−O CI’1z−OH C)I−OH CHCj’+基準 1−CL Sl−CHx− IR(液膜、 cm−’)    3420  (−D
H)2964、 2928. 2860  (C−H)
1262  (Si−Me) 1100、 1026. 802  (Si−0−3i
)’I(−NMR[δppm、 c口C1,中、C)I
C1a基準(7,28ppm) ] 0.00  (br、約1328) 0.57     (t、  4)1)1、39   
  (br、 32H)S 1−CH3 Si−CHz− −CH,− 64,7 70,6 72,0 72,7 ”Si−NMR(δppm、 CDC1sCLOH CH−DH −C)12−CII2−0 −CH−CH,−0 中、7MS基準(OPP(11) 〕 e Me 実施例8 実施例7と同様の方法によりα、ω−ビス[11−(2
,3−ジヒドロキシプロポキシ)ウンデシル〕ジメチル
ポリシロキサン(平均鎖長50)(I)を合成した(収
率95.3%)。
五=50      (1) IR(液膜、 Cm−’)    3420  (−O
ff)2968、 2932  (C−H) 1264  (Si−Me) ’)l−NMRCδpptn、 CDCi s中、CH
Cj!、基準(7,28ppm) ) [1,08(br、約3128) 0.57     (t、  48) 1、30     (br、  32)1)1.48−
1.80   (m、4tl)2、20      (
br、  2H)2.63     (br、  2)
1)3.38−3.60   (m、8H)3.60−
3.81   (m、  4H)3.81−3.97 
  (m、21()13C−NMR(δppm、 Co
(J 3中、(77、2ppm> ) O40,1,22,IJ6゜ 18.5 1.965i−CH* 1−CH2 1−CL St−[H2 CHz− CH2−CH−D C)12−0)I CH−0)I CH,−〇 [”)12−0)I C)!−叶 CI(CI!基準 64.7 70.8 72.1 72.7 ”Si−NMR[δpp品、CDCl。
C)1.0)I C1l−0)I CH2C1(、−〇 COCH2−0 中、7MS基準(Oppm)] −21,9br   0−3i−0 「 Me Me 7.60       5i−C 「 Me 実施例9 (1)  冷却管及び磁気撹拌子を備えた50rni!
2日フラスコにα、ω−ジヒドロへキサデカメチルオク
タシロキサ:/32.8g (56,6mmoり及び1
−デセン4.Og (2g、5 mmoi)を仕込ろ、
これに塩化白金酸3.0■(5,llx 10−’ m
moりを加え、水浴下6時間撹拌した。蒸留により無色
透明液体11.0g(bp 160℃10.005To
rr) (収率54%)を得た。得られた生成物はIR
及びNMRスペクトルによりl−デシル−15−ヒドロ
ヘキサデカメチルオクタシロキサンであることを確認し
た。
(2)冷却管及び磁気撹拌子を備えた50−20フラス
コに、(1)で合成した1−デシル−15−ヒドロヘキ
サデカメチルオクタシロキサン10g (13,9mm
of) 、10−ウンデセニルグリセリルエーテル4.
4g (18,0mmoJ) 、酢酸カリウムの10%
エタノール溶液0.35g (0,36mmojり及び
イソプロピルアルコール10gを仕込み、これに塩化白
金酸の2%イソプロピルアルコール溶10.093g 
(3,6X 10−’ mmoj! )を加え加熱し昇
温した。内容物の温度を40℃に保ち、40℃で3時間
撹拌した。溶媒留去後、反応生成物をシリカゲルカラム
にかけて精製し、無色透明オイル11.8g (収率8
8%)を得た。得られた精製物はIR及びNMRスペク
トルにより15−デシルヘキサデカメチルオクタシロキ
サニルウンデシルグリセリルエーテル(J)であること
が確認された。
IR(液膜、、(J−’) 2964、 2928゜ (J) 2860  (C−)1) 1262  (Si−Me) +l−NMRCδppm、 CDC1a中、(7,28
ppm) ] −0,02−0゜10 (m、48H)0.50   
  (t、  4)1)0.87     (t、 3
H) 1、24    (br、 32H) 1.47−1.66  (m、2H) 2J2     (t、 1tl) 2.71     (d、 1)1) 3.36−3.57  (m、4H) 3.57−3.73  (m、2H) 3.73−3.90  (m、1)1)”C−NMR[
:δppm、 CDCj! s中、(77、2ppm)
 ) O40,1,25,IJ5 14.3 18.5 C)ICJ!、基準 Si  CL Sl−CI(2 CH3 CL− CH2−CH,−O CL−Oh CH−OH −C)12−0 −C)1.−DH CH−011 CHCL基準 1−CL CL 1−CHz 64.5 70.7 72.1 72.7 C)I20H C)10)I CH,CH,D C)lcH20 以下余白 実施例10 冷却管及び磁気攪拌子を備えた スコに式(K′) 100rd、20フラ であることが確認された。
m=40.  Fi=5 で示されるオルガノハイドロジエンシロキサン15g(
4,4市o1’) 、10−ウンデセニルグリセリルエ
ーテル8.1g (33mmo1) 、酢酸カリウムの
10%エタノール溶液0.65g (0,66mmoj
! )及びイソプロピルアルコール50gを仕込み、こ
れに塩化白金酸の2%イソプロピルアルコール溶液0.
17g(6,6x 10−3mmojりを加え、加熱し
昇温した。内容物の温度を40℃に保ち2.5時間攪拌
した。溶媒を留去し活性炭処理を行ったのち、減圧蒸留
により、未反応の10−ウンデセニルグリセリルエーテ
ルを留去し褐色粘稠物を得た。得られた生成物はrRは
NMRスペクトルにより下記の式で示される化合物(K
)ii= 40.  π:5 IR(液膜、 cm−’)    3400(−叶)2
968、2932.2860 ([ニーH)1262 
(Si−Me) 1096、1022.844(Si−0−3i)’H−
NMRCδpprn、 C[1C1s中、CHC’ i
コ基準(7,28ppm) ) 0.01    (s、約273H) 0、38=−0,58(m、 10f()1.10−1
.41 (br、80H)1、44−1.86 (m、
 10)1)3、30−3.55 (m、 2ON)S
i−CH。
5i−C)Iz− CL− CH,−CH,−0 CR,−0 3、55−3.77 (m、 l0H)       
CH,−0H3,77−3,90(ω、 5 )1) 
     CH−OH実施例11 実施例10と同様の方法により下記の式で示される化合
物(L)を合成した(収率97%)。
0、35−0.50 (m、 8 H)1、08−1.
39 (br、 64N)1、39−1.62 (br
、 8H)1、96−2.29 (br、 4H)2、
43−2.68 (br、 4H)3、38−3.50
 (m、 16H)3、50−3.70 (m、 8 
H)3、70−3.86 (m、 4 H)実施例12 実施例10と同様の方法により下記の式で示される化合
物(M)を合成した(収率99%)。
1−CH2 −CH,− CH,−CH,〜0 C)12−OH CH−0)I CH2−O CH2−OH C)I−[11( ii=60.  n= 4 IR(液膜、 ell−’)    3420(−OH
)2968、2932.2860 (C−)1)126
4(Si−Me) 1096、1026.802 (Si−0−Si)’H
−NMR[δppm、 CDC15中、C!(IJ、基
準(7,28ppa+) ) 0.00    (s、約3908)   5i−CH
i= 80.  π=4 rR(液膜、cm−93424(−[1)1)2964
、2928.2860 (C−H)1262 (Si−
Me) 1090、1034.864.798 (Si−0−3
i)’Fl−NMR[δppm、 CDC1s中、CI
(Cf、基準(7,28pP+n) ] 0.00  (s、約5108) (L 34−0.55 (m、 8 H)1.02−I
J8 (br、64H) IJ8−1.66 (br、8H) 1、98−2.40 (br、 4H)2、40−2.
78 (br、 4日)3、26−3.53 (m、 
168)3、53−3.70 (m、 8 H)3、7
0−3.88 (01,4H) 実施例13 冷却管および磁気攪拌子を備えた100m1!フラスコ
に式(N′) Sl−C)+3 1−CH2 −C)12− C)1.−CH2−ロ C)120H CH−OH CH,−O CH,−0)I CH−011 で示されるオルガノハイドロジエンシロキサン10g(
7,5n+moj! ) 、デセン8.4g (60,
2mmo ! )を仕込み、これに塩化白金酸の2%イ
ソプロピルアルコール溶液8.3 X 10−’ilを
加え、40℃に加熱した。
2時間後イソプロピルアルコール20g、アリルグリセ
リルエーテル4.6g (35mmo 1 ) 、酢酸
カリウムの10%エタノール溶液0.44gおよび塩化
白金酸の2%イソプロピルアルコール溶液0.12m1
!を加え40℃に加熱した。2時間後イソプロピルアル
コールを留去し、活性炭処理を行った後、未反応のアリ
ルグリセリルエーテルを減圧留去すると無色粘稠物22
gが得られた。得られた生成物は、IRおよび’ H−
NMRスペクトルにより、下式(N)で示される化合物
であることが確認された。
IR(液膜、 cm−’)    3400(−OH)
2965.2925.2860 (C−1()805、
850.1260 (Si−Me)1090、1030
(Si−0−3i)’H−NMR[δpptn、 CO
Cl a中、CHCl5基準(7,28ppm) ] 0.06−0.11 (bs、90tl)0、51  
   (m、 24)1)0.90      (t、
2411)1、28      (br、 1368)
1、64−1.68 (br、 8H)S+−CD5 Si−CH=−CL− −CH2CH。
”−CHl− OH 実施例14 デセン11.7g(83mmoj2 ) 、アリルグリ
セリルエーテル1.1g (8,3+nmo l )を
用いた以外は製造例13と同様な方法で反応を行い、下
式(0)で示される化合物23gを得た。
IRC液膜 (1+1−’)    3425(−OH
)2970、2930.2885 (0−H)805、
845.1260(Si−Me)1095、1025(
Si−0−5i)’)l−NMRCδppm、 CDC
ji’ s中、CHCl3基準(7,28ppa+) 
〕 0、06−0.12 (bs、 90H)0、50  
   (m、 24)I)0.90     (t、3
3.2)1)1−CD5 Si−C)l、−CH2− −CH口CHs 1、28      (br、 179. IH)  
 −CL−1、62−1,67(br、 1.88) 
     −OH3、453,88(m、 6.5H)
      −CH2−〇−−CI(−0− C)12− 試験例1 実施例1〜14で製造された本発明化合物(A)〜(0
)について、シリコーン/水系における乳化安定性を調
べた。
評価方法 シリコーン/水= 1/1に化合物(A)〜(0)を2
重量%添加し、室温においてよく振盪して乳化させた後
1日静置し、乳化安定性を調べた。シリコーンは借越化
学社製KF−96(5cs)及びKP−96(50cs
)を使用した。表1にその結果を示す。
以下余白 表1 表1に示したように、本発明品はシリコーン/水系にお
いて良好な乳化性能を示した。
実施例15 下記表2に示す配合組成の液状ファンデーションを製造
し、その乳化安定性を調べた。この結果を表3に示す。
なお製法は次の通りである。
(製法) 粉体と油脂を混合し、攪拌により粉体を均一に分散した
ものを40℃に加熱し、これに攪拌下で40℃に調整し
た水相を添加し、乳化を行った。その後ガラス容器に充
填し、室温中放冷した。
以下余白 *化粧料粉体は以下の組成のものを原料粉体として使用
し、該粉体に対し、2%のメチルハイドロジエンポリシ
ロキサン(信越化学工業部KF99)添加後加熱処理し
たものを用いた。
以下余白 表3から明らかな如く、本発明の乳化化粧料は良好な安
定性を示した。又、使用感もべとつかず、のびのよい良
好なものであった。
〔発明の効果〕
以上のように、本発明の新規シロキサン誘導体(I)は
、乳化剤として好適なノニオン系界面活性剤であり、こ
れを含有する本発明化粧料は乳化安定性に優れるもので
ある。
以上

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)次の一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1〜R^1^2のうち、少なくとも1つは
    次式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、Qは炭素数3〜20の二価炭化水素基を示し、
    R^1^3及びR^1^4はそれぞれ水素原子又は炭素
    数1〜5の炭化水素基を示し、そのうち少なくとも一方
    は水素原子である。) で表される基であり、残りが炭素数1〜30の直鎖、分
    岐鎖もしくは環状の炭化水素基又は次式(III) −X−R^1^5(III) (式中、Xはエーテル結合及び/又はエステル結合を含
    む二価炭化水素基を、R^1^5は炭素数1〜30の直
    鎖、分岐鎖又は環状の炭化水素基を示す。)で表わされ
    る基であり、l、m及びnは0以上2000以下の数を
    示す。ただし、R^1〜R^1^2のうち1つが、Qが
    トリメチレンでR^1^3及びR^1^4が共に水素原
    子である基(II)であり、かつ残り全てがメチル基であ
    る場合を除く。〕 で表わされるシロキサン誘導体。
  2. (2)次の一般式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中、R^1^5〜R^2^7は少なくとも1つが水
    素原子であり、残りが炭素数1〜30の直鎖、分岐鎖又
    は環状の炭化水素基であり、l、m及びnは0以上20
    00以下の数を示す。) に、次の一般式(II′) ▲数式、化学式、表等があります▼(II′) (式中、Q′は少なくとも1個の二重結合を有する炭素
    数3〜20の炭化水素基を示し、R^1^3及びR^1
    ^4はそれぞれ水素原子又は炭素数1〜5の炭化水素基
    を示し、そのうち少なくとも一方は水素原子である。) で表わされる化合物を反応させることを特徴とする次の
    一般式( I a) ▲数式、化学式、表等があります▼( I a) 〔式中、R^1′〜R^1^2′のうち、少なくとも1
    つは次式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Qは炭素数3〜20の二価炭化水素基を示し、
    R^1^3及びR^1^4は前記と同じ意味を示す。)
    で表わされる基であり、残りが炭素数1〜30の直鎖、
    分岐鎖又は環状の炭化水素基であり、l、m及びnは前
    記と同じ意味を示す。ただし、R^1′〜R^1^2′
    のうち1つが、QがトリメチレンでR^1^3及びR^
    1^4が共に水素原子である基(II)であり、かつ残り
    全てがメチル基である場合を除く。〕 で表わされるシロキサン誘導体の製造方法。
  3. (3)次の一般式(IV′) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV′) (式中、R^1^6〜R^2^7′は少なくとも2つが
    水素原子であり、残りが炭素数1〜30の直鎖、分岐鎖
    又は環状の炭化水素基であり、l、m及びnは0以上2
    000以下の数を示す。) に次の一般式(II′) ▲数式、化学式、表等があります▼(II′) (式中、Q′は少なくとも1個の二重結合を有する炭素
    数3〜20の炭化水素基を示し、R^1^3及びR^1
    ^4はそれぞれ水素原子又は炭素数1〜5の炭化水素基
    を示し、そのうち少なくとも一方は水素原子である。) で表わされる化合物及び次の一般式(III′)X′−R
    ^1^5(III′) (式中、X′はエーテル結合及び/又はエステル結合を
    含む炭化水素基を、R^1^5は炭素数1〜30の直鎖
    、分岐鎖又は環状の炭化水素基を示す。)で表わされる
    化合物を反応させることを特徴とする次の一般式( I
    b) ▲数式、化学式、表等があります▼( I b) 〔式中、R^1″〜R^1^2″のうち、少なくとも1
    つは次式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、Qは炭素数3〜20の二価炭化水素基を示し、
    R^1^3及びR^1^4は前記と同じ意味を示す。)
    で表わされる基であり、残りのうち少なくとも1つは次
    式(III) −X−R^1^5(III) (式中、Xはエーテル結合及び/又はエステル結合を含
    む二価炭化水素基を、R^1^5は前記と同じ意味を有
    する。) で表わされる基であり、残りが炭素数1〜30の直鎖、
    分岐鎖又は環状の炭化水素基であり、l、m及びnは前
    記と同じ意味を示す。〕 で表わされるシロキサン誘導体の製造方法。
  4. (4)請求項1記載のシロキサン誘導体( I )を含有
    する化粧料。
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