JPH04106542A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は、超硬調な画像が得られるハロゲン化銀写真感
光材料に関するものである。
光材料に関するものである。
一般に、写真製版工程では文字や網分解された写真像の
形成に、又、超精密写真製版工程では微細線画像の形成
にコントラストの高い写真画像が用いられている。 このコントラストの高い写真画像の形成に、ある種のハ
ロゲン化銀写真感光材料が用いられることが知られてい
る。 例えば、平均粒子径が0.2μmで、粒子分布が狭く、
粒子の形も揃っていて、かつ、塩化銀の含有率の高い(
少なくとも50モル%以上)塩臭化銀乳剤よりなる感光
材料を、亜硫酸イオン濃度が低いアルカリ性ハイドロキ
ノン現像液で処理することにより、高いコントラスト、
高鮮鋭度、高解像力の画像、例えば、網点画像あるいは
微細線画像を得易方法が知られている。 この種のハロゲン化銀感光材料はリス型感光材料として
知られている。 写真製版過程には連続階調の原稿を網点画像に変換する
工程、すなわち原稿の連続階調の濃度変化を、該濃度に
比例する面積を有する網点の集合に変換する過程が含ま
れている。 この為に上記リス型感光材料を使用して、交線スクリー
ン又はコンタクトスクリーンを介して原稿の撮影を行い
、ついで現像処理を行うことによって、網点像を形成さ
せるのである。 そして、微粒子で、かつ、粒子サイズ及び粒子の形の揃
ったハロゲン化銀乳剤のハロゲン化銀写真感光材料が用
いられるが、この種のハロゲン化銀感光材料を用いた場
合でも、一般に白黒現像液で処理した場合には、網点像
形成等においてリス型現像液で現像した場合より劣る。 その為に、亜硫酸イオン濃度が極めて低く、現像主薬と
してハイドロキノン草薬であるリス型現像液と呼ばれる
現像液で処理される。 しかしながら、リス型現像液は自動酸化を受けやすいこ
とから保恒性が極めて悪く、連続使用の際においても、
現像品質を一定に保つ制御方法が極力求められており、
この現像液の保恒性を改良する為の多大な努力がなされ
て来ている。 その改良方法として、上記リス型現像液の保恒性を維持
する為、現像処理による活性度の劣化分を補償する補充
液(処理疲労補充)と経時による酸化劣化分を補償する
補充液(経時疲労補充)とを別々の補充液を使用して補
充する、いわゆる2液分離補充方式が、写真製版用自動
現像機等で広く採用されている。 しかしながら、上記方法は2液の補充バランスのコント
ロールを制御する必要があり、装置の点及び操作の点で
複雑化するという欠点を有している。 又、リス型現像は現像によって画像が現れる迄の時間(
誘導M)が長い為、迅速に画像を得ることが出来ない。 一方、上記のリス型現像液を使わずに迅速に、かつ、高
いコントラストの画像を得る方法が知られている0例え
ば米国特許第2419975号、特開昭51−1662
3号、特開昭51−20921号、特開昭56−106
244号等に見られる如く、ハロゲン化銀感光材料中に
ヒドラジン誘導体を含有せしめるものである。 これらの方法によれば、現像液中に亜硫酸イオン濃度を
高(保つことができ、保恒性を高めた状態で処理するこ
とが出来る。 しかしながら、これらの方法では、ヒドラジン誘導体の
硬調性を充分発揮させる為pH11以上のpHを有する
現像液で処理しなければならなかった。ところで、PH
11以上の高いPHを有する現像液は、空気にふれると
現像主薬が酸化しやすく(リス現像液よりは安定である
が)、現像主薬の酸化によって、しばしば超硬調な画像
が得られないことがある。 この欠点を補う為に特開昭63−29751号及びヨー
ロッパ特許333435号には、比較的低pHの現像液
でも硬調化する硬調化剤を含むハロゲン化銀写真感光材
料が開示されている。 しかし、これらの硬調化剤を含むハロゲン化銀写真感光
材料をpH11未満の現像液で処理した場合、硬調化が
不十分であり、満足な網点性能が得られないのが現状で
ある。 又、硬調な画像を得る為にヒドラジン誘導体を用いた場
合の黒ボツ問題の改善手段として、酸性物質を添加して
膜面pHを低下させることが提案されているが、この場
合、塗布膜のゼラチンの硬膜進行が遅れたり、塗布膜の
機械的強度が低下したり、経時安定性が劣化する等の問
題がある。
形成に、又、超精密写真製版工程では微細線画像の形成
にコントラストの高い写真画像が用いられている。 このコントラストの高い写真画像の形成に、ある種のハ
ロゲン化銀写真感光材料が用いられることが知られてい
る。 例えば、平均粒子径が0.2μmで、粒子分布が狭く、
粒子の形も揃っていて、かつ、塩化銀の含有率の高い(
少なくとも50モル%以上)塩臭化銀乳剤よりなる感光
材料を、亜硫酸イオン濃度が低いアルカリ性ハイドロキ
ノン現像液で処理することにより、高いコントラスト、
高鮮鋭度、高解像力の画像、例えば、網点画像あるいは
微細線画像を得易方法が知られている。 この種のハロゲン化銀感光材料はリス型感光材料として
知られている。 写真製版過程には連続階調の原稿を網点画像に変換する
工程、すなわち原稿の連続階調の濃度変化を、該濃度に
比例する面積を有する網点の集合に変換する過程が含ま
れている。 この為に上記リス型感光材料を使用して、交線スクリー
ン又はコンタクトスクリーンを介して原稿の撮影を行い
、ついで現像処理を行うことによって、網点像を形成さ
せるのである。 そして、微粒子で、かつ、粒子サイズ及び粒子の形の揃
ったハロゲン化銀乳剤のハロゲン化銀写真感光材料が用
いられるが、この種のハロゲン化銀感光材料を用いた場
合でも、一般に白黒現像液で処理した場合には、網点像
形成等においてリス型現像液で現像した場合より劣る。 その為に、亜硫酸イオン濃度が極めて低く、現像主薬と
してハイドロキノン草薬であるリス型現像液と呼ばれる
現像液で処理される。 しかしながら、リス型現像液は自動酸化を受けやすいこ
とから保恒性が極めて悪く、連続使用の際においても、
現像品質を一定に保つ制御方法が極力求められており、
この現像液の保恒性を改良する為の多大な努力がなされ
て来ている。 その改良方法として、上記リス型現像液の保恒性を維持
する為、現像処理による活性度の劣化分を補償する補充
液(処理疲労補充)と経時による酸化劣化分を補償する
補充液(経時疲労補充)とを別々の補充液を使用して補
充する、いわゆる2液分離補充方式が、写真製版用自動
現像機等で広く採用されている。 しかしながら、上記方法は2液の補充バランスのコント
ロールを制御する必要があり、装置の点及び操作の点で
複雑化するという欠点を有している。 又、リス型現像は現像によって画像が現れる迄の時間(
誘導M)が長い為、迅速に画像を得ることが出来ない。 一方、上記のリス型現像液を使わずに迅速に、かつ、高
いコントラストの画像を得る方法が知られている0例え
ば米国特許第2419975号、特開昭51−1662
3号、特開昭51−20921号、特開昭56−106
244号等に見られる如く、ハロゲン化銀感光材料中に
ヒドラジン誘導体を含有せしめるものである。 これらの方法によれば、現像液中に亜硫酸イオン濃度を
高(保つことができ、保恒性を高めた状態で処理するこ
とが出来る。 しかしながら、これらの方法では、ヒドラジン誘導体の
硬調性を充分発揮させる為pH11以上のpHを有する
現像液で処理しなければならなかった。ところで、PH
11以上の高いPHを有する現像液は、空気にふれると
現像主薬が酸化しやすく(リス現像液よりは安定である
が)、現像主薬の酸化によって、しばしば超硬調な画像
が得られないことがある。 この欠点を補う為に特開昭63−29751号及びヨー
ロッパ特許333435号には、比較的低pHの現像液
でも硬調化する硬調化剤を含むハロゲン化銀写真感光材
料が開示されている。 しかし、これらの硬調化剤を含むハロゲン化銀写真感光
材料をpH11未満の現像液で処理した場合、硬調化が
不十分であり、満足な網点性能が得られないのが現状で
ある。 又、硬調な画像を得る為にヒドラジン誘導体を用いた場
合の黒ボツ問題の改善手段として、酸性物質を添加して
膜面pHを低下させることが提案されているが、この場
合、塗布膜のゼラチンの硬膜進行が遅れたり、塗布膜の
機械的強度が低下したり、経時安定性が劣化する等の問
題がある。
本発明の第1の目的は、超硬調な画像が得られるハロゲ
ン化銀写真感光材料を提供することである。 本発明の第2の目的は、黒ボッが少ないハロゲン化銀写
真感光材料を提供することである。 本発明の第3の目的は、塗布膜強度の強いハロゲン化銀
写真感光材料を提供することである。 本発明の第4の目的は、経時安定性に優れたハロゲン化
銀写真感光材料を提供することである。 本発明の第5の目的は、黒化濃度の高いハロゲン化銀写
真感光材料を提供することである。 上記本発明の目的は、支持体上に少なくとも一層のハロ
ゲン化銀乳剤層が設けられたハロゲン化銀写真感光材料
であって、該ハロゲン化銀乳剤層及び/又はその隣接層
中に下記一般式[1)及び(I[)の群の中から選ばれ
る少なくとも一種のヒドラジン誘導体を含み、かつ、少
なくとも一種の酸性ポリマーを含むことを特徴とするハ
ロゲン化銀写真感光材料によって達成される。 〔一般式I] I A2 R11SO2NHAr N N CR+z(式
中、Rllはアルキル基、アリール基又はヘテロ環基を
、R1□は水素原子又はブロック基を表す、Arはアリ
ーレン基又はヘテロ環基を、A。 及びA2は一方が水素原子を、他方が水素原子、アシル
基、スルホニル基又はオキザリル基を表す。〕一般式(
If) 〔式中、Rllは水素原子、アルキル基、シクロアルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、又は
ヘテロ環基を、Rttはアルキレン基又はアルケニレン
基を、Roは水素原子又はアルキル基を、Rは水素原子
又はブロック基を、Arはアリーレン基又はヘテロ環基
を、A、及びA2は一方が水素原子を、他方が水素原子
、アシル基、スルホニル基又はオキザリル基を表す。〕
以下、本発明を更に詳しく説明する。 上記一般式CI)において、R11はアルキル基(例え
ばオクチル、む−オクチル、デシル、ドデシル、テトラ
デシル等の基)、アリール基(例えばフェニル、p−プ
ロピルフェニル、ナフチル等の基)、ヘテロ環基(例え
ばピリジル、テトラゾリン、オキサシリル、ペンゾロオ
キサシリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル等
の基)の各基を表す。 R11のアルキル基として好ましいものは炭素数が6〜
20の基である。 R11のアリール基として好ましいものはテトラデカン
アミド等の基)、ウレイド基(例えばヘキシルウレイド
、δ−(2,4−ジ−t−アシルフェノキシ)ブチルウ
レイド等の基)、ヒドラジノカルボニルアミノ基(例え
ば2.2−ジブチルヒドラジノカルボニルアミノ、2−
フェニル−2−メチルヒドラジノカルボニルアミノ等の
基)、スルホンアミド基(例えばヘキサデカンスルホン
アミド、4−ブトキシベンゼンスルホンアミド、モルホ
リノスルホンアミド等の基)、アミノスルホンアミド基
(例えばN、N−ジブチルスルファモイルアミノ、N、
N−ジメチルスルファモイルアミノ等の基)、オキシル
カルボニルアミノ基(例えばオクチルオキシカルボニル
アミノ、ベンジルオキシカルボニルアミノ等の基)、−
3−カルボニルアミノ基(例えばCs!1+tSCON
H−C&H85CONI(−等の基) 尚、Xは置換又は未置換のアルキル基(例えばメチル、
エチル、メトキシ、i−プロピル等の基)、アシルアミ
ノ基(例えばオクタンアミド、R1及びR8はそれぞれ
水素原子、アルキル基(例えばメチル、エチル、プロピ
ル、ブチル、シクロヘキシル等の基)、アリール基(例
えばフェニル、ナフチル等の基)、複素環(例えばピリ
ジル、チエニル、ピペリジノ、モルホリノ等の基)の各
基を表すが、R1とR2で窒素原子と共に環(例工ばピ
ペリジノ、ピペラジノ、モルホリノ等の環)を形成して
も良く、 の基を形成しても良い。 R1及びR1はそれぞれ水素原子又は置換可能な基(例
えばアルキル、アリール、複素環等の基)であり、環(
例えばシクロヘキサン、チアゾール、オキサゾール、ベ
ンゾチアゾール等の環)を形成してもよい。 R3は水素原子、アリール基(例えばフェニル、ナフチ
ル等の基)、複素環(例えばピペリジノ、モルホリノ、
テトラヒドロピラニル、ピリジル、チエニル等の基)の
各基を表す。 Zlは置換可能な基(例えばアルキル、アリール、複素
環、ヒドロキシ、アルコキシ基アミノ、アシルアミノ、
ウレイド、ヒドラジノカルボニルアミノ、スルホンアミ
ド、アミノスルホンアミド、オキシカルボニルアミノ、
−3−カルボニルアミファモイル、ハロゲン等の基)を
表す。 A1及びA2はともに水素原子、又は一方が水素原子で
、他方はアシル(例えばアセチル、トリフルオロアセチ
ル等の基)、スルホニル(例えばメタスルホニル、トル
エンスルホニル等の基)、オキザリル(例えばエトキザ
リル等の基)の各基を表すが、A、及びA、は共に水素
原子であることが最も好ましい。 Rlgとしては水素原子、及びブロック基としてのアル
キル基(例えばメチル、エチル、ベンジル、メトキシメ
チル、トリフルオロメチル、フェノキシメチル、ヒドロ
キシメチル、メチルチオメチル、フェニルチオメチル等
の基)、了り−ル基(例えばフェニル、クロルフェニル
等の基)、複素環〔例えばピリジル、チエニル、フリル
等の基)、の基が好ましい。 R6及びR1はそれぞれ水素原子、アルキル基(例えば
メチル、エチル、ベンジル等の基)、アルケニル基(例
えばアリル、ブテニル等の基)、アルキニル基(例えば
プロパルギル、ブチニル等の基)、アリール基(例えば
フェニル、ナフチル等の基)、複素環(例えば2.2,
6.6−チトラメチルピペリジニル、N−エチル−N゛
−エチルピラゾリジニル、ピリジニル等の基)、ヒドロ
キシ基、アルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ等の
基)、アミノ基(例えばアミノ、メチルアミノ等の基)
の各基を表し、R6とR?で窒素原子と共に環(例えば
ピペリジノ、モルホリノ等の環)を形成してもよい。 R1は水素原子、アルキル基(例えばメチル、エチル、
ヒドロキシエチル等の基)、アルケニル基(例えばアリ
ル、ブテニル等の基)、アルキニル基(例えばプロパル
ギル、ブチニル等の基)、アリール基(例えばフェニル
、ナフチル等の基)、複素環(例えば2,2,6.6−
チトラメチルピベリジニル、N−メチルピペリジニル、
ピリジル等の基)の各基を表す。 以下に、一般式(1)で表されるヒドラジン誘導体の具
体的化合物例を挙げる。 (以下、余白) 具体的化合物例 (I (■ (■ CI!IIzsSOzNH 四 (I (I CJ+1SOzNH ■ (I (I しll3 (I (I −30) (I (I CHl CM。 (l (I (I (I (I (I C1,OH 四 (I C1H (■ (I (I (I CON)I C,H,3So□NO しxns (I (I (I −62) (I (■ (I (I (I−64) (■ (I i−CJフ (I (I (I Jt H (I −74) C3H’1 CHzGHzOH Hz (以下、余白) i−C3H。 −C3H7 〔I 76〕 次に、一般式(II)で表されるヒドラジン誘導体につ
いて更に詳しく説明する。 R2+は水素原子、アルキル基(例えばメチル、エチル
、i−プロピル、ブチル、t−ブチル、ヘキシル、オク
チル、t−オクチル、デシル、ドデシル、テトラデシル
、シクロヘキシルメチル、ベンジル等の基)、シクロア
ルキル基(例えばシクロヘキシル、4−クロルシクロヘ
キシル等の基)、アルケニル基(例エバアリル、l−プ
ロペニル、1. 3−ブタジェニル、2−ブテニル、2
−ペンテニル、シンナミル等の基)、アルキニル基(例
えばプロパルギル、2−ブチニル等の基)、了り−ル基
(例えばフェニル、p−t−ブチルフェニル、ナフチル
等の基)、ヘテロ環基(例えばピリジル、テトラゾリル
、オキサシリル、ヘンジオキサゾリル、ヘンジチアゾリ
ル、ベンゾイミダゾリル等の基)の各基を表すが、ヘテ
ロ環基としてはメルカプト基を含まないものが好ましい
。 R2tは、アルキレン基(例えばメチレン、エチメン、
トリメチレン、メチルメチレン、エチルメチレン、ブチ
ルメチレン、ヘキシルメチレン、デシルメチレン等の基
)又はアルケニレン基(例えばプロペニレン、ブテニレ
ン等の基)を表す。 Roは、水素原子又はアルキル基(例えばメチル、エチ
ル、ベンジル等の基)を表す。 Arはアリーレン基(例えばフェニレン、ナフチレン等
の基)又はヘテロ環基(例えばピリジン、チオフェン、
フラン等の2価基)を表す。 Arで表されるアリーレン基又はヘテロ環基はアルキル
、アルコキシ、ヒドロキシル、ハロゲン、アミノ、アシ
ルアミノ、スルホンアミド、ウレイド等の置換基を有す
るものを含む。 Rとしては水素原子及びブロック基としてのアルキル基
(例えばメチル、エチル、ヘンシル、メトキシメチル、
トリフルオロメチル、フェノキシメチル、ヒドロキシメ
チル、メチルチオメチル、フェニルチオメチル等の基)
、アリール基(例えばフェニル、クロルフェニル等の基
)、ヘテロ環基(例えばピリジル、チエニル、フリル等
の基)、Rza及びRzsは水素原子、アルキル基(例
えばメチル、エチル、ベンジル等の基)、アルケニル基
(例えばアリル、ブテニル等の基)、アルキニル基(例
えばプロパルギル、ブチニル等の基)、アリール基(例
えばフェニル、ナフチル等の基)、ヘテロ環基〔例えば
2,2,6.6−チトラメチルピベリジニル、N−エチ
ル−N’−エチルピラゾリジニル、ピリジル等の基)、
ヒドロキシル基、アルコキシ基(例えばメトキシ、エト
キシ等の基)、アミノ基(例えばアミノ、メチルアミノ
等の基)を表し、R24とRlSで窒素原子と共に環(
例えばピペリジノ、モルホリノ等の環〉を形成してもよ
R26は水素原子、アルキル基(例えばメチル、エチル
、メトキシメチル、ヒドロキシエチル等の基)、アルケ
ニル基(例えばアリル、ブテニル等の基)、アルキニル
基(例えばプロパルギル、フチニル等の基)、アリール
基(例えばフェニル、ナフチル等の基)、ヘテロ環基(
例えば2.266−チトラメチルピペリジニル、N−メ
チルピペリジニル、ピリジル等の基)を表す。 A1及びA2は一方が水素原子を、他方が水素原子、ア
シル基(例えばアセチル、トリフルオロアセチル等の基
)、スルホニル基(例えばメタンスルホニル、トルエン
スルホニル等の基)、オキザリル基(例えばエトキザリ
ル等の基)の各基を表すが、A1及びA2は共に水素原
子であることが最も好ましい。 以下に、一般式(n)で表されるヒドラジン誘導体の具
体的化合物例を挙げる。 (以下、余白) 具体的化合物例 (U−5) (■−2 (■ (II−3) (II−7) tH5 (II−4) (■ (■ (■ (II−20) (n−21) (I[−22) (■ (■ (■ (II−17) (It−23) (■ (n−26) (II−27) しH3 (■ (■ (II−30) (n−31) (n−36) (n−37) (II −38) (n −40) H3 し113 (■ (■ (n−34) (ll−35) (■ (It−42) (n−43) (II −44) (■ (■ (II −47) (II−48) (■ (■ (II−55) (II−56) (II−57) (■ H (It−50) CH,0H (II−51) (I[−52) (II−58) (II−60) (II−61) (II−62) CH,01( CH!0H CH!OH し4119 (■ ■ (■ (n−65) (II−67) (II−74) (II−75) (ll−76) (II−77) (II−78) (■ (■ (II−71) (■ (If−73) (■ (■ (■ (If −82) (II−83) 次に、 上記ヒドラジン誘導体の合成法について述べる0例えば
、化合物(If−1) はヨーロッパ 特許330109号に記載の中間体より次の合成法に従
って合成できる。 565号明細書記載の中間体より次の合成法に従って合
成できる。 又、化合物(■−32)は特願昭62 尚、その他の化合物も同様の合成方法で合成することが
できる。 高コントラストな画像を得ることができるハロゲン化銀
写真感光材料中には、上記一般式(1)及び(I[)で
表される群の中から選ばれる少なくとも一種の化合物が
硬調化荊として機能する物質として含有されるが、特に
、該写真感光材料に含まれる一般式(1)及び〔■〕で
表される化合物の量は写真感光材料中に含有されるハロ
ゲン化銀1モル当たり5X10−’モル−5X 10−
’モル、より望ましくは5X10−’モル−lXl0−
zの範囲とすることが好ましい。 一般式[■]及び(II)で表されるヒドラジン誘導体
はハロゲン化銀乳剤層及び/又はその隣接層中に含有さ
れるものであるが、特にハロゲン化銀乳剤層中に含有さ
れることが好ましい。 ハロゲン化銀乳剤に添加するには、該ハロゲン化銀乳剤
液中に添加溶解せしめるか、有機溶媒に溶解したものを
添加すれば良い。 次に、ハロゲン化銀乳剤層及び/又はその隣接層中に含
有される本発明に用いられる酸性ポリマーについて説明
する。 この酸性ポリマーは、pKa値が9以下の酸性基を含み
、好ましくはカルボキシル基、スルホキシル基、又は燐
酸基を有するモノマー成分を有するポリマーであり、特
に水性ポリマーラテックスの形で用いるのがゼラチンと
相互作用して凝集や沈澱を作りにくいので好ましい。 この本発明において好ましい酸性ボリマーラテンクス及
びその製造法について述べる,その前に、まず、モノマ
ーについて述べる。少なくとも一つの酸基を含有してい
る共重合可能なエチレン性不飽和モノマーとしては、例
えば一般式(I[l)で表されるようなカルボン酸モノ
マーが挙げられる。 一般式(I[[) %式%) 式中、Rは水素原子もしくは置換又は無置換のアルキル
基を表し、Lは2価、3価又は4価の連結基を表す.n
は0又は1であり、mは1、2又は3である。 Rには水素原子又はメチル基、エチル基、n −プロピ
ル基などの無置換アルキル基、カルボキシメチル基など
の置換アルキル基が挙げられる.これらのうち水素原子
、メチル基又はカルボキシメチル基が好ましい。 Lは2価、3価又は4価の連結基であり、2価の連結基
の場合には−Q 3価の連結基の場合 CH。 CH2 CH。 CH。 詰碁であり、その例はアルキレン基(例えばメチレン基
、エチレン基、トリメチレン基)、アリーレン基(例え
ばフェニレン&)、−COOX−(但し、Xは炭素原子
数1〜6個のアルキレン基又はアリレーン基を表す、以
下同じ)(例えばC−0CHz CHz )、 C NH−X−NH−C− (例えば −C−NH−CHI CH,NHC−) 、(例えば
−0−C−CHICH,−) −0−CO−X−COO−(例えば (以下、余白) ができる。 一般式(■)で表される共重合可能なエチレン性不飽和
モノマーの好ましい例としては次のものが挙げられるが
、必ずしもこれらに限定されるものではない。 (以下、余白) M〜2 CH。 =CH OOH CHz CH,−C 0OH CH,C0OH 少なくとも一つの酸基を有するエチレン性不飽和モノマ
ーの例としては、さらにカルボン酸無水物、ラクトン環
など現像液と接してカルボン酸基を生成するモノマー、
フェノール性水酸基を有するモノマー、特開昭54−1
28335号公報などに開示されているリン酸基を持っ
たモノマー又はスルホン酸基を有するモノマーなどが挙
げられる。 本発明に好ましく用いられる酸性ポリマーラテックスを
構成するモノマーとしては、前記の酸基を有するモノマ
ーの他に、少なくとも2個以上の共重合可能なエチレン
性不飽和基を含有している架橋性モノマーを用いること
が好ましい、架橋性モノマーの例としては、ジビニルベ
ンゼン、エチレングリコールジアクリレート、エチレン
グリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジ
アクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート
、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレ
ングリコールジメタクリレート、トリビニルシクロヘキ
サン、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリ
メチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリス
リトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ
メタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート等が
あり、中でもエチレングリコールジメタクリレート、ジ
ビニルヘンゼン、ペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレートが好
ましい。 本発明の酸性ポリマーの共重合比は、酸基を有するモノ
マー(A)が20〜90モル%、特に50〜90モル%
、架橋性モノマー(B)が1〜50モル%、特に10〜
30モル%であることが好ましい。 本発明の酸性ポリマーは複合機能を発揮させる為に、第
3の共重合可能なエチレン性不飽和モノマー単位を共重
合したモノマー単位を含んでいてもよい、このような共
重合可能なエチレン性不飽和モノマーの例としては、エ
チレン、プロピレン、1−ブテン、イソブチン、スチレ
ン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、脂肪酸のエ
チレン性不飽和エステル(例えば酢酸ビニル、酢酸アリ
ル)、エチレン性不飽和カルボン酸のエステル(例えば
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n−ブ
チルメタクリレート、n−へキシルアクリレート、シク
ロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、
n−ブチルアクリレート、n−へキシルアクリレート、
2−エチルへキシルアクリレート)、モノエチレン性不
飽和化合物(例えばアクリロニトリル、メタクリレート
リル)、又はジエン1!(例えばブタジェン、イソプレ
ン)等を挙げることができる。これらの第3のモノマー
単位の共重合比は50モル%以下、好ましくは20モル
%以下である。 重合開始剤としては高分子合成に関する放置、例えば大
津除行、木下雅悦著「高分子合成の実験法」 (化学同
人)に知られているような重合開始剤を用いることがで
きるが、水溶性の重合開始剤を用いることが好ましい、
水溶性の重合開始剤としては過硫酸塩類やアゾ系のもの
が知られているが、過硫酸カリウムなどのような過硫酸
塩類が特に好ましい0重合開始剤の使用量はモノマーに
対して0.05〜SfE量パーセント、好ましくは0゜
1〜1.0重量パーセントである。 製造される酸性ポリマーは荷電を持っており、水中で比
較的安定に分散して存在する為、水中に界面活性剤を加
える必要のないことが多いが、補助的に下記のような界
面活性剤を加えてポリマーの水中における分散状態を安
定化することもできる。 (以下、余白) Ca、I(*5O3O3Na CIJ!30COCHx CaJs30COCH3O3Na C!)IS Ca[IqCHCHxOCOCHt CaHwCHC[(tOcOcIsOJaJs 本発明に好ましく用いられる酸性ポリマーラテックスは
、加熱した水中にモノマー及び重合開始剤を同時に添加
することにより得られる。 本発明の酸性ポリマーラテックスは、 109831号公報に開示されているような、逆相乳化
重合法や、 重合反応の後で酸やアルカリ で加水分解することにより酸基を作る方法によっで製造
することもできる。 以下に、 本発明の酸性ポリマーの具体例を示す。 (■ CI(。 +CH。 C)l÷−rイCHz CH−)y+CH2 Cすr x : y : z = 64 : 9 : 27 (
モル%)CH。 (IV−2) (以下、 余白) (■ −←CH。 CH−+−7+−CH。 CI−)−r−(CB。 w:x:y:z = 67 : =13 = (■ 一+CH2 Cl +−T(CI。 CI+r+CHz C →C8−CH2÷ x:y:z=60: 1 0:30(モル%)(■ 胃 →CH−cut→− x : y : z = 72 : 13 : 15
(モル%)(■ x : y : z = 68 : 12 : 20
(モル%)(■ CH。 CH3 一+−CH2−C →7−÷C)Iz すy−一一一一÷ x : y : z = 69 : 11 : 20
(モル%)(IV−8) 一←coz−CI÷r−−−−−+CH2Cl±y−一
一一一℃ x : y : z = 50 : 35 : 15
(モル%)−←CH CH2→− CI。 本発明の酸性ポリマーを一般式(1)、 (II)の
ヒドラジン誘導体を含有するハロゲン化銀写真感光材料
に使用する場合、該ポリマーをポリマーラテックスの形
で用い、さらに該ポリマーラテックスにアルカリを添加
してポリマーラテックスのpHを3.5から5.0の範
囲に調整する事が好ましい。 上記のような酸性ポリマーはハロゲン化銀乳剤層及び/
又はその隣接層に含有されるものであるが、一般式(I
)、(II)のヒドラジン誘導体と同じ層、特にハロゲ
ン化銀乳剤層中に添加されることが好ましい。 そして、酸性ポリマーの含有量は0.05〜5g/−1
、望ましくは約0.2〜2g/■2であることが好まし
い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、支持体の片面に
少なくとも一つのハロゲン化銀乳剤層を有するものであ
るが、両面に設けられていても良い。 そして、このハロゲン化銀乳剤は支持体上に直接塗設さ
れるか、他の層、例えばハロゲン化銀を含まない親水性
コロイド層を介して塗設され、又、ハロゲン化銀乳剤層
の上には保護層としての親水性コロイド層を塗設しても
良く、又、ハロゲン化銀乳剤層は、異なる感度、例えば
高感度と低感度のハロゲン化銀乳剤層に分けて塗設して
も良い。 この場合、各ハロゲン化銀乳剤層の間に中間層を設けて
も良い。又、ハロゲン化銀乳剤層と保護層との間に、中
間層、保護層、アンチハレーション層、バッキング層な
どの非感光性親水性コロイド層を設けても良い。
ン化銀写真感光材料を提供することである。 本発明の第2の目的は、黒ボッが少ないハロゲン化銀写
真感光材料を提供することである。 本発明の第3の目的は、塗布膜強度の強いハロゲン化銀
写真感光材料を提供することである。 本発明の第4の目的は、経時安定性に優れたハロゲン化
銀写真感光材料を提供することである。 本発明の第5の目的は、黒化濃度の高いハロゲン化銀写
真感光材料を提供することである。 上記本発明の目的は、支持体上に少なくとも一層のハロ
ゲン化銀乳剤層が設けられたハロゲン化銀写真感光材料
であって、該ハロゲン化銀乳剤層及び/又はその隣接層
中に下記一般式[1)及び(I[)の群の中から選ばれ
る少なくとも一種のヒドラジン誘導体を含み、かつ、少
なくとも一種の酸性ポリマーを含むことを特徴とするハ
ロゲン化銀写真感光材料によって達成される。 〔一般式I] I A2 R11SO2NHAr N N CR+z(式
中、Rllはアルキル基、アリール基又はヘテロ環基を
、R1□は水素原子又はブロック基を表す、Arはアリ
ーレン基又はヘテロ環基を、A。 及びA2は一方が水素原子を、他方が水素原子、アシル
基、スルホニル基又はオキザリル基を表す。〕一般式(
If) 〔式中、Rllは水素原子、アルキル基、シクロアルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、又は
ヘテロ環基を、Rttはアルキレン基又はアルケニレン
基を、Roは水素原子又はアルキル基を、Rは水素原子
又はブロック基を、Arはアリーレン基又はヘテロ環基
を、A、及びA2は一方が水素原子を、他方が水素原子
、アシル基、スルホニル基又はオキザリル基を表す。〕
以下、本発明を更に詳しく説明する。 上記一般式CI)において、R11はアルキル基(例え
ばオクチル、む−オクチル、デシル、ドデシル、テトラ
デシル等の基)、アリール基(例えばフェニル、p−プ
ロピルフェニル、ナフチル等の基)、ヘテロ環基(例え
ばピリジル、テトラゾリン、オキサシリル、ペンゾロオ
キサシリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル等
の基)の各基を表す。 R11のアルキル基として好ましいものは炭素数が6〜
20の基である。 R11のアリール基として好ましいものはテトラデカン
アミド等の基)、ウレイド基(例えばヘキシルウレイド
、δ−(2,4−ジ−t−アシルフェノキシ)ブチルウ
レイド等の基)、ヒドラジノカルボニルアミノ基(例え
ば2.2−ジブチルヒドラジノカルボニルアミノ、2−
フェニル−2−メチルヒドラジノカルボニルアミノ等の
基)、スルホンアミド基(例えばヘキサデカンスルホン
アミド、4−ブトキシベンゼンスルホンアミド、モルホ
リノスルホンアミド等の基)、アミノスルホンアミド基
(例えばN、N−ジブチルスルファモイルアミノ、N、
N−ジメチルスルファモイルアミノ等の基)、オキシル
カルボニルアミノ基(例えばオクチルオキシカルボニル
アミノ、ベンジルオキシカルボニルアミノ等の基)、−
3−カルボニルアミノ基(例えばCs!1+tSCON
H−C&H85CONI(−等の基) 尚、Xは置換又は未置換のアルキル基(例えばメチル、
エチル、メトキシ、i−プロピル等の基)、アシルアミ
ノ基(例えばオクタンアミド、R1及びR8はそれぞれ
水素原子、アルキル基(例えばメチル、エチル、プロピ
ル、ブチル、シクロヘキシル等の基)、アリール基(例
えばフェニル、ナフチル等の基)、複素環(例えばピリ
ジル、チエニル、ピペリジノ、モルホリノ等の基)の各
基を表すが、R1とR2で窒素原子と共に環(例工ばピ
ペリジノ、ピペラジノ、モルホリノ等の環)を形成して
も良く、 の基を形成しても良い。 R1及びR1はそれぞれ水素原子又は置換可能な基(例
えばアルキル、アリール、複素環等の基)であり、環(
例えばシクロヘキサン、チアゾール、オキサゾール、ベ
ンゾチアゾール等の環)を形成してもよい。 R3は水素原子、アリール基(例えばフェニル、ナフチ
ル等の基)、複素環(例えばピペリジノ、モルホリノ、
テトラヒドロピラニル、ピリジル、チエニル等の基)の
各基を表す。 Zlは置換可能な基(例えばアルキル、アリール、複素
環、ヒドロキシ、アルコキシ基アミノ、アシルアミノ、
ウレイド、ヒドラジノカルボニルアミノ、スルホンアミ
ド、アミノスルホンアミド、オキシカルボニルアミノ、
−3−カルボニルアミファモイル、ハロゲン等の基)を
表す。 A1及びA2はともに水素原子、又は一方が水素原子で
、他方はアシル(例えばアセチル、トリフルオロアセチ
ル等の基)、スルホニル(例えばメタスルホニル、トル
エンスルホニル等の基)、オキザリル(例えばエトキザ
リル等の基)の各基を表すが、A、及びA、は共に水素
原子であることが最も好ましい。 Rlgとしては水素原子、及びブロック基としてのアル
キル基(例えばメチル、エチル、ベンジル、メトキシメ
チル、トリフルオロメチル、フェノキシメチル、ヒドロ
キシメチル、メチルチオメチル、フェニルチオメチル等
の基)、了り−ル基(例えばフェニル、クロルフェニル
等の基)、複素環〔例えばピリジル、チエニル、フリル
等の基)、の基が好ましい。 R6及びR1はそれぞれ水素原子、アルキル基(例えば
メチル、エチル、ベンジル等の基)、アルケニル基(例
えばアリル、ブテニル等の基)、アルキニル基(例えば
プロパルギル、ブチニル等の基)、アリール基(例えば
フェニル、ナフチル等の基)、複素環(例えば2.2,
6.6−チトラメチルピペリジニル、N−エチル−N゛
−エチルピラゾリジニル、ピリジニル等の基)、ヒドロ
キシ基、アルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ等の
基)、アミノ基(例えばアミノ、メチルアミノ等の基)
の各基を表し、R6とR?で窒素原子と共に環(例えば
ピペリジノ、モルホリノ等の環)を形成してもよい。 R1は水素原子、アルキル基(例えばメチル、エチル、
ヒドロキシエチル等の基)、アルケニル基(例えばアリ
ル、ブテニル等の基)、アルキニル基(例えばプロパル
ギル、ブチニル等の基)、アリール基(例えばフェニル
、ナフチル等の基)、複素環(例えば2,2,6.6−
チトラメチルピベリジニル、N−メチルピペリジニル、
ピリジル等の基)の各基を表す。 以下に、一般式(1)で表されるヒドラジン誘導体の具
体的化合物例を挙げる。 (以下、余白) 具体的化合物例 (I (■ (■ CI!IIzsSOzNH 四 (I (I CJ+1SOzNH ■ (I (I しll3 (I (I −30) (I (I CHl CM。 (l (I (I (I (I (I C1,OH 四 (I C1H (■ (I (I (I CON)I C,H,3So□NO しxns (I (I (I −62) (I (■ (I (I (I−64) (■ (I i−CJフ (I (I (I Jt H (I −74) C3H’1 CHzGHzOH Hz (以下、余白) i−C3H。 −C3H7 〔I 76〕 次に、一般式(II)で表されるヒドラジン誘導体につ
いて更に詳しく説明する。 R2+は水素原子、アルキル基(例えばメチル、エチル
、i−プロピル、ブチル、t−ブチル、ヘキシル、オク
チル、t−オクチル、デシル、ドデシル、テトラデシル
、シクロヘキシルメチル、ベンジル等の基)、シクロア
ルキル基(例えばシクロヘキシル、4−クロルシクロヘ
キシル等の基)、アルケニル基(例エバアリル、l−プ
ロペニル、1. 3−ブタジェニル、2−ブテニル、2
−ペンテニル、シンナミル等の基)、アルキニル基(例
えばプロパルギル、2−ブチニル等の基)、了り−ル基
(例えばフェニル、p−t−ブチルフェニル、ナフチル
等の基)、ヘテロ環基(例えばピリジル、テトラゾリル
、オキサシリル、ヘンジオキサゾリル、ヘンジチアゾリ
ル、ベンゾイミダゾリル等の基)の各基を表すが、ヘテ
ロ環基としてはメルカプト基を含まないものが好ましい
。 R2tは、アルキレン基(例えばメチレン、エチメン、
トリメチレン、メチルメチレン、エチルメチレン、ブチ
ルメチレン、ヘキシルメチレン、デシルメチレン等の基
)又はアルケニレン基(例えばプロペニレン、ブテニレ
ン等の基)を表す。 Roは、水素原子又はアルキル基(例えばメチル、エチ
ル、ベンジル等の基)を表す。 Arはアリーレン基(例えばフェニレン、ナフチレン等
の基)又はヘテロ環基(例えばピリジン、チオフェン、
フラン等の2価基)を表す。 Arで表されるアリーレン基又はヘテロ環基はアルキル
、アルコキシ、ヒドロキシル、ハロゲン、アミノ、アシ
ルアミノ、スルホンアミド、ウレイド等の置換基を有す
るものを含む。 Rとしては水素原子及びブロック基としてのアルキル基
(例えばメチル、エチル、ヘンシル、メトキシメチル、
トリフルオロメチル、フェノキシメチル、ヒドロキシメ
チル、メチルチオメチル、フェニルチオメチル等の基)
、アリール基(例えばフェニル、クロルフェニル等の基
)、ヘテロ環基(例えばピリジル、チエニル、フリル等
の基)、Rza及びRzsは水素原子、アルキル基(例
えばメチル、エチル、ベンジル等の基)、アルケニル基
(例えばアリル、ブテニル等の基)、アルキニル基(例
えばプロパルギル、ブチニル等の基)、アリール基(例
えばフェニル、ナフチル等の基)、ヘテロ環基〔例えば
2,2,6.6−チトラメチルピベリジニル、N−エチ
ル−N’−エチルピラゾリジニル、ピリジル等の基)、
ヒドロキシル基、アルコキシ基(例えばメトキシ、エト
キシ等の基)、アミノ基(例えばアミノ、メチルアミノ
等の基)を表し、R24とRlSで窒素原子と共に環(
例えばピペリジノ、モルホリノ等の環〉を形成してもよ
R26は水素原子、アルキル基(例えばメチル、エチル
、メトキシメチル、ヒドロキシエチル等の基)、アルケ
ニル基(例えばアリル、ブテニル等の基)、アルキニル
基(例えばプロパルギル、フチニル等の基)、アリール
基(例えばフェニル、ナフチル等の基)、ヘテロ環基(
例えば2.266−チトラメチルピペリジニル、N−メ
チルピペリジニル、ピリジル等の基)を表す。 A1及びA2は一方が水素原子を、他方が水素原子、ア
シル基(例えばアセチル、トリフルオロアセチル等の基
)、スルホニル基(例えばメタンスルホニル、トルエン
スルホニル等の基)、オキザリル基(例えばエトキザリ
ル等の基)の各基を表すが、A1及びA2は共に水素原
子であることが最も好ましい。 以下に、一般式(n)で表されるヒドラジン誘導体の具
体的化合物例を挙げる。 (以下、余白) 具体的化合物例 (U−5) (■−2 (■ (II−3) (II−7) tH5 (II−4) (■ (■ (■ (II−20) (n−21) (I[−22) (■ (■ (■ (II−17) (It−23) (■ (n−26) (II−27) しH3 (■ (■ (II−30) (n−31) (n−36) (n−37) (II −38) (n −40) H3 し113 (■ (■ (n−34) (ll−35) (■ (It−42) (n−43) (II −44) (■ (■ (II −47) (II−48) (■ (■ (II−55) (II−56) (II−57) (■ H (It−50) CH,0H (II−51) (I[−52) (II−58) (II−60) (II−61) (II−62) CH,01( CH!0H CH!OH し4119 (■ ■ (■ (n−65) (II−67) (II−74) (II−75) (ll−76) (II−77) (II−78) (■ (■ (II−71) (■ (If−73) (■ (■ (■ (If −82) (II−83) 次に、 上記ヒドラジン誘導体の合成法について述べる0例えば
、化合物(If−1) はヨーロッパ 特許330109号に記載の中間体より次の合成法に従
って合成できる。 565号明細書記載の中間体より次の合成法に従って合
成できる。 又、化合物(■−32)は特願昭62 尚、その他の化合物も同様の合成方法で合成することが
できる。 高コントラストな画像を得ることができるハロゲン化銀
写真感光材料中には、上記一般式(1)及び(I[)で
表される群の中から選ばれる少なくとも一種の化合物が
硬調化荊として機能する物質として含有されるが、特に
、該写真感光材料に含まれる一般式(1)及び〔■〕で
表される化合物の量は写真感光材料中に含有されるハロ
ゲン化銀1モル当たり5X10−’モル−5X 10−
’モル、より望ましくは5X10−’モル−lXl0−
zの範囲とすることが好ましい。 一般式[■]及び(II)で表されるヒドラジン誘導体
はハロゲン化銀乳剤層及び/又はその隣接層中に含有さ
れるものであるが、特にハロゲン化銀乳剤層中に含有さ
れることが好ましい。 ハロゲン化銀乳剤に添加するには、該ハロゲン化銀乳剤
液中に添加溶解せしめるか、有機溶媒に溶解したものを
添加すれば良い。 次に、ハロゲン化銀乳剤層及び/又はその隣接層中に含
有される本発明に用いられる酸性ポリマーについて説明
する。 この酸性ポリマーは、pKa値が9以下の酸性基を含み
、好ましくはカルボキシル基、スルホキシル基、又は燐
酸基を有するモノマー成分を有するポリマーであり、特
に水性ポリマーラテックスの形で用いるのがゼラチンと
相互作用して凝集や沈澱を作りにくいので好ましい。 この本発明において好ましい酸性ボリマーラテンクス及
びその製造法について述べる,その前に、まず、モノマ
ーについて述べる。少なくとも一つの酸基を含有してい
る共重合可能なエチレン性不飽和モノマーとしては、例
えば一般式(I[l)で表されるようなカルボン酸モノ
マーが挙げられる。 一般式(I[[) %式%) 式中、Rは水素原子もしくは置換又は無置換のアルキル
基を表し、Lは2価、3価又は4価の連結基を表す.n
は0又は1であり、mは1、2又は3である。 Rには水素原子又はメチル基、エチル基、n −プロピ
ル基などの無置換アルキル基、カルボキシメチル基など
の置換アルキル基が挙げられる.これらのうち水素原子
、メチル基又はカルボキシメチル基が好ましい。 Lは2価、3価又は4価の連結基であり、2価の連結基
の場合には−Q 3価の連結基の場合 CH。 CH2 CH。 CH。 詰碁であり、その例はアルキレン基(例えばメチレン基
、エチレン基、トリメチレン基)、アリーレン基(例え
ばフェニレン&)、−COOX−(但し、Xは炭素原子
数1〜6個のアルキレン基又はアリレーン基を表す、以
下同じ)(例えばC−0CHz CHz )、 C NH−X−NH−C− (例えば −C−NH−CHI CH,NHC−) 、(例えば
−0−C−CHICH,−) −0−CO−X−COO−(例えば (以下、余白) ができる。 一般式(■)で表される共重合可能なエチレン性不飽和
モノマーの好ましい例としては次のものが挙げられるが
、必ずしもこれらに限定されるものではない。 (以下、余白) M〜2 CH。 =CH OOH CHz CH,−C 0OH CH,C0OH 少なくとも一つの酸基を有するエチレン性不飽和モノマ
ーの例としては、さらにカルボン酸無水物、ラクトン環
など現像液と接してカルボン酸基を生成するモノマー、
フェノール性水酸基を有するモノマー、特開昭54−1
28335号公報などに開示されているリン酸基を持っ
たモノマー又はスルホン酸基を有するモノマーなどが挙
げられる。 本発明に好ましく用いられる酸性ポリマーラテックスを
構成するモノマーとしては、前記の酸基を有するモノマ
ーの他に、少なくとも2個以上の共重合可能なエチレン
性不飽和基を含有している架橋性モノマーを用いること
が好ましい、架橋性モノマーの例としては、ジビニルベ
ンゼン、エチレングリコールジアクリレート、エチレン
グリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジ
アクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート
、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレ
ングリコールジメタクリレート、トリビニルシクロヘキ
サン、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリ
メチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリス
リトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ
メタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート等が
あり、中でもエチレングリコールジメタクリレート、ジ
ビニルヘンゼン、ペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレートが好
ましい。 本発明の酸性ポリマーの共重合比は、酸基を有するモノ
マー(A)が20〜90モル%、特に50〜90モル%
、架橋性モノマー(B)が1〜50モル%、特に10〜
30モル%であることが好ましい。 本発明の酸性ポリマーは複合機能を発揮させる為に、第
3の共重合可能なエチレン性不飽和モノマー単位を共重
合したモノマー単位を含んでいてもよい、このような共
重合可能なエチレン性不飽和モノマーの例としては、エ
チレン、プロピレン、1−ブテン、イソブチン、スチレ
ン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、脂肪酸のエ
チレン性不飽和エステル(例えば酢酸ビニル、酢酸アリ
ル)、エチレン性不飽和カルボン酸のエステル(例えば
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n−ブ
チルメタクリレート、n−へキシルアクリレート、シク
ロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、
n−ブチルアクリレート、n−へキシルアクリレート、
2−エチルへキシルアクリレート)、モノエチレン性不
飽和化合物(例えばアクリロニトリル、メタクリレート
リル)、又はジエン1!(例えばブタジェン、イソプレ
ン)等を挙げることができる。これらの第3のモノマー
単位の共重合比は50モル%以下、好ましくは20モル
%以下である。 重合開始剤としては高分子合成に関する放置、例えば大
津除行、木下雅悦著「高分子合成の実験法」 (化学同
人)に知られているような重合開始剤を用いることがで
きるが、水溶性の重合開始剤を用いることが好ましい、
水溶性の重合開始剤としては過硫酸塩類やアゾ系のもの
が知られているが、過硫酸カリウムなどのような過硫酸
塩類が特に好ましい0重合開始剤の使用量はモノマーに
対して0.05〜SfE量パーセント、好ましくは0゜
1〜1.0重量パーセントである。 製造される酸性ポリマーは荷電を持っており、水中で比
較的安定に分散して存在する為、水中に界面活性剤を加
える必要のないことが多いが、補助的に下記のような界
面活性剤を加えてポリマーの水中における分散状態を安
定化することもできる。 (以下、余白) Ca、I(*5O3O3Na CIJ!30COCHx CaJs30COCH3O3Na C!)IS Ca[IqCHCHxOCOCHt CaHwCHC[(tOcOcIsOJaJs 本発明に好ましく用いられる酸性ポリマーラテックスは
、加熱した水中にモノマー及び重合開始剤を同時に添加
することにより得られる。 本発明の酸性ポリマーラテックスは、 109831号公報に開示されているような、逆相乳化
重合法や、 重合反応の後で酸やアルカリ で加水分解することにより酸基を作る方法によっで製造
することもできる。 以下に、 本発明の酸性ポリマーの具体例を示す。 (■ CI(。 +CH。 C)l÷−rイCHz CH−)y+CH2 Cすr x : y : z = 64 : 9 : 27 (
モル%)CH。 (IV−2) (以下、 余白) (■ −←CH。 CH−+−7+−CH。 CI−)−r−(CB。 w:x:y:z = 67 : =13 = (■ 一+CH2 Cl +−T(CI。 CI+r+CHz C →C8−CH2÷ x:y:z=60: 1 0:30(モル%)(■ 胃 →CH−cut→− x : y : z = 72 : 13 : 15
(モル%)(■ x : y : z = 68 : 12 : 20
(モル%)(■ CH。 CH3 一+−CH2−C →7−÷C)Iz すy−一一一一÷ x : y : z = 69 : 11 : 20
(モル%)(IV−8) 一←coz−CI÷r−−−−−+CH2Cl±y−一
一一一℃ x : y : z = 50 : 35 : 15
(モル%)−←CH CH2→− CI。 本発明の酸性ポリマーを一般式(1)、 (II)の
ヒドラジン誘導体を含有するハロゲン化銀写真感光材料
に使用する場合、該ポリマーをポリマーラテックスの形
で用い、さらに該ポリマーラテックスにアルカリを添加
してポリマーラテックスのpHを3.5から5.0の範
囲に調整する事が好ましい。 上記のような酸性ポリマーはハロゲン化銀乳剤層及び/
又はその隣接層に含有されるものであるが、一般式(I
)、(II)のヒドラジン誘導体と同じ層、特にハロゲ
ン化銀乳剤層中に添加されることが好ましい。 そして、酸性ポリマーの含有量は0.05〜5g/−1
、望ましくは約0.2〜2g/■2であることが好まし
い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、支持体の片面に
少なくとも一つのハロゲン化銀乳剤層を有するものであ
るが、両面に設けられていても良い。 そして、このハロゲン化銀乳剤は支持体上に直接塗設さ
れるか、他の層、例えばハロゲン化銀を含まない親水性
コロイド層を介して塗設され、又、ハロゲン化銀乳剤層
の上には保護層としての親水性コロイド層を塗設しても
良く、又、ハロゲン化銀乳剤層は、異なる感度、例えば
高感度と低感度のハロゲン化銀乳剤層に分けて塗設して
も良い。 この場合、各ハロゲン化銀乳剤層の間に中間層を設けて
も良い。又、ハロゲン化銀乳剤層と保護層との間に、中
間層、保護層、アンチハレーション層、バッキング層な
どの非感光性親水性コロイド層を設けても良い。
以下、本発明の具体的実施例を述べるが、本発明はこれ
らに限定されない。 〔実施例1〕 (ハロゲン化銀乳剤Aの調製) 同時混合法を用いて沃臭化銀乳剤(銀1モル当たり沃化
銀2モル%)を調製した。この混合時にKzlrCj!
iを銀1モル当たり8X10−’モル添加した。得られ
た乳剤は平均粒径0.20μ聞の立方体粒子からなる乳
剤であった。 この乳剤に銀1モル当たりの56.6ccの1%沃化カ
リウム溶液を添加した。 その後、変成ゼラチン(特願平1−180787号の例
示化合物G−8)を加え、特願平1−180787号の
実施例と同様の方法で、水洗、脱塩した。脱塩後の40
°CのPAgは7.6であった。 さらに、再分散時に下記化合物[A)、(B)(C)の
混合物を添加した。 (A) 、(B)
(C)(ハロゲン化銀写真感光材料の調整) 両面に厚さ0.1μmの下塗層(特開昭59−1994
1号の実施例1参照)を施した厚さ100μmのポリエ
チレンテレフタレートフィルムの一方の下塗層上に、下
記処方(1)のハロゲン化銀乳剤層をゼラチン量が2.
0g/ポ、銀量が3゜3g/n(になる様に塗設し、さ
らにその上に下記処方(2)の保護層をゼラチン量が1
.0g/rrfになる様に塗設し、また反対側のもう一
方の下塗層上には下記処方(3)に従ってバンキング層
をゼラチン量が2.4gZnt番こなる様器こ塗設し、
さらにその上に下記処方(4)の保護層をゼラチン量が
l g / rr:になる様に塗設し、資料Nα1〜2
8を得た。 [処方(1)(ハロゲン化銀乳剤層組成)]ゼラチン
2.0 g /イ沃臭化銀乳
剤A 銀量 3.3 g /ポカプリ防止
剤:アデニン 25mg/rrr安定剤:4
−メチル−6−ヒドロキシ −L3,3a、7−チトラザインデン 30mg
/ポ界面活性剤:サボニン 0.1 g
/n?# :S−18111!/ボ ポリ工チレングリコール分子量4000 0.1 g
/n?酸性ラテうクスポリマー:表−1参照 ヒドラジン化合物二表1−参照 増感色素: 〔処方(3)(バッキング層組成)〕 魁 OsHa hg /ボ 硬膜剤H−1 60+mg/rrr (b) 〔処方(2)(乳剤保護層組成)〕 ゼラチン 0.9 g /イ
マット剤:平均粒径3.5μmのシリカ 31g/nf
界面活性剤:S−2 10mg/nf
CHtCOOCH*(CtHs)CaHqCHCOOC
HxCII(CJs)Cut0sNa 硬膜剤:ホルマリン 30■g/イ (c) ゼラチン 界面活性剤:サポニン 2.7 g /ポ 0、i g /ポ :S−1 6mg/ボ (処方(4)(バッキング保護層組成):ゼラチン 1g/rrf マット剤:平均粒径3.0〜5.0 pmのボJJメチ
ルメタクリレート50mg/ITr界面活性剤:S−2
10mg/イ 硬膜剤:グリオキザール 25mg /ボ〃
:H−135B/ボ 上記のようにして得られた資料をステップウェッジを密
着し、3200 Kのタングステン光で5秒間露光した
後、下記に示す組成の現像液、定着液による自動現像機
にで下記条件で迅速処理した。 互像且処方 エチレンジアミン4酢酸二ナトリウム塩 1g亜硫酸
ナトリトウム 60 gリン酸
三ナトリウム(12水塩)75gハイドロキノン
22.5 gN、lll−ジエチ
ルエタノールアミン 15 g臭化ナトリウ
ム −3g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.25
gl−フェニル−5−メルカプトテトランール 0.0
8 gメトール 0.25
g水を加えて1リツトルとし、水酸化ナトリウムにて
pHを10.8に調製する。 足l護処方 (組成A) チオ硫酸アンモニウム (72,5% −/V水?容液)
240 m亜硫酸ナトリウム
17 g酢酸ナトリウム・3水塩
6.5g硼酸
6gクエン酸ナトリウム・2水塩
2g(組成り) 純水(イオン交換水) 17 d
硫酸(50%−/V水溶液) 4.
7 g硫酸アルミニウム (/!zoi換算含量が8.1χ−/V水溶液) 2
6.5 g定着液の使用時に水500〆中に上記組成
A、組成りの順に溶かし、12に仕上げて用いた。この
定着液のPHは酢酸で4.8に調製した。 現1」す1E件 (工 程) (温 度) (時 間)現像 40
’C15秒 定着 35°C15秒 水洗 30 ’C10秒 乾燥 50°C10秒 尚、処方(1)におけるハロゲン化銀乳剤層に添加した
ヒドラジン化合物の比較化合物として、以下の化合物を
使用した。 (a) (b) 又、ラテックスポリマーの比較化合物としては、以下の
化合物を使用した。 (d) Cf−(−
CHz −CH+rIr−(−CH2−C+rrCOO
C,l(9C/! 得られた試料について、下記の方法による評価を行った
。 (網点品質) ステップウェッジに網点面積50%の返し網スクリーン
(150線/インチ)を一部付して、これに資料を密着
させてキセノン光源で5秒間露光を与え、この資料を上
記現像液、上記定着液を投入した迅速処理用自動現像機
にて上記の条件で現像処理を行い、資料の網点品質を1
00倍のルーパで観察し、網点品質の高いものを「5」
ランクとし、以下「4」、「3」、「2」、rlJまで
の5ランクとした。尚、ランク「1」及び「2」は実用
上好ましくないレベルである。 (黒ボッ) 網点中の黒ボッも網点品質と同様に評価し、網点中に全
く黒ボッの発生していないものを最高ランク「5」とし
、網点中に発生する黒ボッの発生度に応してランク「4
」〜「1」とそのランクを順次下げて評価するものとし
た。ランク「1」及び「2」では黒ボッも大きく、実用
上好ましくないレベルである。 (感度及びガンマ) 得られた資料をコニカデジタル濃度計PDA65で測定
し、資料NCLIの濃度3.0における感度を100と
して相対感度で示し、さらに濃度0゜3と3.0との正
接をもってガンマを表示した。 (耐圧性) 耐圧性の評価は、資料を現像処理前に乾燥状態で、球状
の先端をもったサファイア針に荷重をかけて札割面上を
移動させ、未露光で前述と同様の現像処理を実施し、加
圧時のカブリが認められないものをランク「5」とし、
加圧によるカブリが強いものをランク「1」とし、1〜
5の5段階評価を行った。 (経時代用性能評価方法) 得られた資料を、温度23°C1相対湿度48%の条件
下に4時間調湿し、その後ポリエチレンコートした紙袋
に封入し、55°Cの恒温器に72時間投入した。又、
別の試料として、23°Cに保存しておく。23°C保
存と55°C保存の感度差を%で表した。%値の大きい
方が経時安定性が悪い。 上記の結果を表1に示した。 これによれば、いずれの特性も本発明のものは優れてい
ることが判る。 (以下、余白) 〔実施例2] 実施例1と全く同様な試料を下記の処理側で処理した。 戻l櫃処方 エチレンジアミン四酢酸ナトリウム塩 1g亜硫
酸ナトリウム 60 g硼酸
40 gハイ
ドロキノン 35 g水酸化
ナトリウム 8g3−(ジメ
チルアミノ)−1,2−プロパンジオール30 g臭化
ナトリウム 3g5−メチ
ルベンゾトリアゾール 0.281−フェニ
ル−5−メルカプトテトラゾール o、os gl−フ
ェニル4−14−ジメチル−3−ピラゾリドン0.2g
フェニチルとコリニウムブロマイド 2.5g水を
加えて11にし、水酸化ナトリウムにてpHを10.6
に調整 そして、実施例1と同様にして評価を行ったので、その
結果を表−2に示す。 〔実施例3) 実施例1と同し様にハロゲン化銀の粒子を作り、そして
下記の様にハロゲン化銀写真用乳剤を調整した。 尚、バッキング層及びその保護膜は実施例1と全く同し
様に準備した。 (ハロゲン化銀写真感光材料の調製) 両面に厚さO,18mの下塗層(特開昭5919941
号の実施例1参照)を施した厚さ100μmのポリエチ
レンテレフタレートフィルムの一方の下塗層上に、下記
処方(1)のハロゲン化銀札割層をゼラチン量2.0g
/が、銀量3.2g/ボになるように塗設し、更にその
上に下記処方(2)の乳剤保護層をゼラチン量が1.0
g/nfになるように塗設した。 〔処方(1)(ハロゲン化銀乳剤層組成)]ゼラチン
2.0g/ボハロゲン化銀化銀
乳剤銀1 3.2g/n?(以下、余白) 増感色素 SO:I SO□〜a 安定剤=4−メチル−6−ヒドロキシ 1.3.3a、7−チトラザインデン カブリ防止剤:アデニン 界面活性剤:サポニン :S−1 30mg/r+( 10mg /ボ 0.1g/m 8mg /ボ 本発明に係るヒドラジン誘導体 29.4B/rr
f本発明に係る酸性ラテックスポリマー844mg/+
dポリエチレングリコール分子量4000 0.1mg
/m”mg /ボ 硬膜剤H−1 60mg /ボ 〔処方(2)(乳剤保護層)〕 ゼラチン 0.9 g /が 界面活性剤S 2 : CHzCOOCHz(CJs
)CaHq 10mg / n(CHCOOCRl
C)I(C,H,)C,)19S03)la マット剤:平均粒径3.5μmのシリカ3wag/rr
T硬膜剤:ホルマリン 30 mg /
ボ界面活性剤S 3 : Nap3S CHCOOC
Hz (CFz) hliC)IICOOCH!(Ch
) 6H 2Omg /ポ 得られた試料を下記の処理剤で処理した。 曳1黴処方 エチレンジアミン四酢酸ナトリウム塩 亜硫酸ナトリウム 硼酸 ハイドロキノン g 0g 0g 5g 水酸化ナトリウム 8g臭化
ナトリウム 3g5−メチ
ルヘンシトリアゾール 0.2g1−フェ
ニル−5−メルカプトテトラゾール 0.08 gl−
フェニル4−94−ジメチル−3−ピラゾリドン0.2
gフェニチルピコリニウムブロマイド 2.5g水
を加えて11にし、水酸化ナトリウムにてPHを10.
6に調整 そして、実施例1と同様にして評価を行った処、同様な
結果であった。
らに限定されない。 〔実施例1〕 (ハロゲン化銀乳剤Aの調製) 同時混合法を用いて沃臭化銀乳剤(銀1モル当たり沃化
銀2モル%)を調製した。この混合時にKzlrCj!
iを銀1モル当たり8X10−’モル添加した。得られ
た乳剤は平均粒径0.20μ聞の立方体粒子からなる乳
剤であった。 この乳剤に銀1モル当たりの56.6ccの1%沃化カ
リウム溶液を添加した。 その後、変成ゼラチン(特願平1−180787号の例
示化合物G−8)を加え、特願平1−180787号の
実施例と同様の方法で、水洗、脱塩した。脱塩後の40
°CのPAgは7.6であった。 さらに、再分散時に下記化合物[A)、(B)(C)の
混合物を添加した。 (A) 、(B)
(C)(ハロゲン化銀写真感光材料の調整) 両面に厚さ0.1μmの下塗層(特開昭59−1994
1号の実施例1参照)を施した厚さ100μmのポリエ
チレンテレフタレートフィルムの一方の下塗層上に、下
記処方(1)のハロゲン化銀乳剤層をゼラチン量が2.
0g/ポ、銀量が3゜3g/n(になる様に塗設し、さ
らにその上に下記処方(2)の保護層をゼラチン量が1
.0g/rrfになる様に塗設し、また反対側のもう一
方の下塗層上には下記処方(3)に従ってバンキング層
をゼラチン量が2.4gZnt番こなる様器こ塗設し、
さらにその上に下記処方(4)の保護層をゼラチン量が
l g / rr:になる様に塗設し、資料Nα1〜2
8を得た。 [処方(1)(ハロゲン化銀乳剤層組成)]ゼラチン
2.0 g /イ沃臭化銀乳
剤A 銀量 3.3 g /ポカプリ防止
剤:アデニン 25mg/rrr安定剤:4
−メチル−6−ヒドロキシ −L3,3a、7−チトラザインデン 30mg
/ポ界面活性剤:サボニン 0.1 g
/n?# :S−18111!/ボ ポリ工チレングリコール分子量4000 0.1 g
/n?酸性ラテうクスポリマー:表−1参照 ヒドラジン化合物二表1−参照 増感色素: 〔処方(3)(バッキング層組成)〕 魁 OsHa hg /ボ 硬膜剤H−1 60+mg/rrr (b) 〔処方(2)(乳剤保護層組成)〕 ゼラチン 0.9 g /イ
マット剤:平均粒径3.5μmのシリカ 31g/nf
界面活性剤:S−2 10mg/nf
CHtCOOCH*(CtHs)CaHqCHCOOC
HxCII(CJs)Cut0sNa 硬膜剤:ホルマリン 30■g/イ (c) ゼラチン 界面活性剤:サポニン 2.7 g /ポ 0、i g /ポ :S−1 6mg/ボ (処方(4)(バッキング保護層組成):ゼラチン 1g/rrf マット剤:平均粒径3.0〜5.0 pmのボJJメチ
ルメタクリレート50mg/ITr界面活性剤:S−2
10mg/イ 硬膜剤:グリオキザール 25mg /ボ〃
:H−135B/ボ 上記のようにして得られた資料をステップウェッジを密
着し、3200 Kのタングステン光で5秒間露光した
後、下記に示す組成の現像液、定着液による自動現像機
にで下記条件で迅速処理した。 互像且処方 エチレンジアミン4酢酸二ナトリウム塩 1g亜硫酸
ナトリトウム 60 gリン酸
三ナトリウム(12水塩)75gハイドロキノン
22.5 gN、lll−ジエチ
ルエタノールアミン 15 g臭化ナトリウ
ム −3g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.25
gl−フェニル−5−メルカプトテトランール 0.0
8 gメトール 0.25
g水を加えて1リツトルとし、水酸化ナトリウムにて
pHを10.8に調製する。 足l護処方 (組成A) チオ硫酸アンモニウム (72,5% −/V水?容液)
240 m亜硫酸ナトリウム
17 g酢酸ナトリウム・3水塩
6.5g硼酸
6gクエン酸ナトリウム・2水塩
2g(組成り) 純水(イオン交換水) 17 d
硫酸(50%−/V水溶液) 4.
7 g硫酸アルミニウム (/!zoi換算含量が8.1χ−/V水溶液) 2
6.5 g定着液の使用時に水500〆中に上記組成
A、組成りの順に溶かし、12に仕上げて用いた。この
定着液のPHは酢酸で4.8に調製した。 現1」す1E件 (工 程) (温 度) (時 間)現像 40
’C15秒 定着 35°C15秒 水洗 30 ’C10秒 乾燥 50°C10秒 尚、処方(1)におけるハロゲン化銀乳剤層に添加した
ヒドラジン化合物の比較化合物として、以下の化合物を
使用した。 (a) (b) 又、ラテックスポリマーの比較化合物としては、以下の
化合物を使用した。 (d) Cf−(−
CHz −CH+rIr−(−CH2−C+rrCOO
C,l(9C/! 得られた試料について、下記の方法による評価を行った
。 (網点品質) ステップウェッジに網点面積50%の返し網スクリーン
(150線/インチ)を一部付して、これに資料を密着
させてキセノン光源で5秒間露光を与え、この資料を上
記現像液、上記定着液を投入した迅速処理用自動現像機
にて上記の条件で現像処理を行い、資料の網点品質を1
00倍のルーパで観察し、網点品質の高いものを「5」
ランクとし、以下「4」、「3」、「2」、rlJまで
の5ランクとした。尚、ランク「1」及び「2」は実用
上好ましくないレベルである。 (黒ボッ) 網点中の黒ボッも網点品質と同様に評価し、網点中に全
く黒ボッの発生していないものを最高ランク「5」とし
、網点中に発生する黒ボッの発生度に応してランク「4
」〜「1」とそのランクを順次下げて評価するものとし
た。ランク「1」及び「2」では黒ボッも大きく、実用
上好ましくないレベルである。 (感度及びガンマ) 得られた資料をコニカデジタル濃度計PDA65で測定
し、資料NCLIの濃度3.0における感度を100と
して相対感度で示し、さらに濃度0゜3と3.0との正
接をもってガンマを表示した。 (耐圧性) 耐圧性の評価は、資料を現像処理前に乾燥状態で、球状
の先端をもったサファイア針に荷重をかけて札割面上を
移動させ、未露光で前述と同様の現像処理を実施し、加
圧時のカブリが認められないものをランク「5」とし、
加圧によるカブリが強いものをランク「1」とし、1〜
5の5段階評価を行った。 (経時代用性能評価方法) 得られた資料を、温度23°C1相対湿度48%の条件
下に4時間調湿し、その後ポリエチレンコートした紙袋
に封入し、55°Cの恒温器に72時間投入した。又、
別の試料として、23°Cに保存しておく。23°C保
存と55°C保存の感度差を%で表した。%値の大きい
方が経時安定性が悪い。 上記の結果を表1に示した。 これによれば、いずれの特性も本発明のものは優れてい
ることが判る。 (以下、余白) 〔実施例2] 実施例1と全く同様な試料を下記の処理側で処理した。 戻l櫃処方 エチレンジアミン四酢酸ナトリウム塩 1g亜硫
酸ナトリウム 60 g硼酸
40 gハイ
ドロキノン 35 g水酸化
ナトリウム 8g3−(ジメ
チルアミノ)−1,2−プロパンジオール30 g臭化
ナトリウム 3g5−メチ
ルベンゾトリアゾール 0.281−フェニ
ル−5−メルカプトテトラゾール o、os gl−フ
ェニル4−14−ジメチル−3−ピラゾリドン0.2g
フェニチルとコリニウムブロマイド 2.5g水を
加えて11にし、水酸化ナトリウムにてpHを10.6
に調整 そして、実施例1と同様にして評価を行ったので、その
結果を表−2に示す。 〔実施例3) 実施例1と同し様にハロゲン化銀の粒子を作り、そして
下記の様にハロゲン化銀写真用乳剤を調整した。 尚、バッキング層及びその保護膜は実施例1と全く同し
様に準備した。 (ハロゲン化銀写真感光材料の調製) 両面に厚さO,18mの下塗層(特開昭5919941
号の実施例1参照)を施した厚さ100μmのポリエチ
レンテレフタレートフィルムの一方の下塗層上に、下記
処方(1)のハロゲン化銀札割層をゼラチン量2.0g
/が、銀量3.2g/ボになるように塗設し、更にその
上に下記処方(2)の乳剤保護層をゼラチン量が1.0
g/nfになるように塗設した。 〔処方(1)(ハロゲン化銀乳剤層組成)]ゼラチン
2.0g/ボハロゲン化銀化銀
乳剤銀1 3.2g/n?(以下、余白) 増感色素 SO:I SO□〜a 安定剤=4−メチル−6−ヒドロキシ 1.3.3a、7−チトラザインデン カブリ防止剤:アデニン 界面活性剤:サポニン :S−1 30mg/r+( 10mg /ボ 0.1g/m 8mg /ボ 本発明に係るヒドラジン誘導体 29.4B/rr
f本発明に係る酸性ラテックスポリマー844mg/+
dポリエチレングリコール分子量4000 0.1mg
/m”mg /ボ 硬膜剤H−1 60mg /ボ 〔処方(2)(乳剤保護層)〕 ゼラチン 0.9 g /が 界面活性剤S 2 : CHzCOOCHz(CJs
)CaHq 10mg / n(CHCOOCRl
C)I(C,H,)C,)19S03)la マット剤:平均粒径3.5μmのシリカ3wag/rr
T硬膜剤:ホルマリン 30 mg /
ボ界面活性剤S 3 : Nap3S CHCOOC
Hz (CFz) hliC)IICOOCH!(Ch
) 6H 2Omg /ポ 得られた試料を下記の処理剤で処理した。 曳1黴処方 エチレンジアミン四酢酸ナトリウム塩 亜硫酸ナトリウム 硼酸 ハイドロキノン g 0g 0g 5g 水酸化ナトリウム 8g臭化
ナトリウム 3g5−メチ
ルヘンシトリアゾール 0.2g1−フェ
ニル−5−メルカプトテトラゾール 0.08 gl−
フェニル4−94−ジメチル−3−ピラゾリドン0.2
gフェニチルピコリニウムブロマイド 2.5g水
を加えて11にし、水酸化ナトリウムにてPHを10.
6に調整 そして、実施例1と同様にして評価を行った処、同様な
結果であった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層が設け
られたハロゲン化銀写真感光材料であって、該ハロゲン
化銀乳剤層及び/又はその隣接層中に下記一般式〔 I
〕及び〔II〕の群の中から選ばれる少なくとも一種のヒ
ドラジン誘導体を含み、かつ、少なくとも一種の酸性ポ
リマーを含むことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材
料。 一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1_1はアルキル基、アリール基又はヘテ
ロ環基を、R_1_2は水素原子又はブロック基を表す
。Arはアリーレン基又はヘテロ環基を、A_1及びA
_2は一方が水素原子を、他方が水素原子、アシル基、
スルホニル基又はオキザリル基を表わす。〕一般式〔I
I〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_2_1は水素原子、アルキル基、シクロア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、
又はヘテロ環基を、R_2_2はアルキレン基又はアル
ケニレン基を、R_2_3は水素原子又はアルキル基を
、Rは水素原子又はブロック基を、Arはアリーレン基
又はヘテロ環基を、A_1及びA_2は一方が水素原子
を、他方が水素原子、アシル基、スルホニル基又はオキ
ザリル基を表す。〕
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22263890A JPH04106542A (ja) | 1990-08-27 | 1990-08-27 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22263890A JPH04106542A (ja) | 1990-08-27 | 1990-08-27 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04106542A true JPH04106542A (ja) | 1992-04-08 |
Family
ID=16785595
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22263890A Pending JPH04106542A (ja) | 1990-08-27 | 1990-08-27 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04106542A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5476747A (en) * | 1994-01-13 | 1995-12-19 | Konica Corporation | Silver halide light-sensitive photographic material |
-
1990
- 1990-08-27 JP JP22263890A patent/JPH04106542A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5476747A (en) * | 1994-01-13 | 1995-12-19 | Konica Corporation | Silver halide light-sensitive photographic material |
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