JPH041033A - バックグラウンドマスクおよびこれを製造するための多層材料 - Google Patents

バックグラウンドマスクおよびこれを製造するための多層材料

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JPH041033A
JPH041033A JP2255447A JP25544790A JPH041033A JP H041033 A JPH041033 A JP H041033A JP 2255447 A JP2255447 A JP 2255447A JP 25544790 A JP25544790 A JP 25544790A JP H041033 A JPH041033 A JP H041033A
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JP
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multilayer material
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film
actinic radiation
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JP2255447A
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English (en)
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Ubaldo Contini
ウバルド コンチーニ
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REPROCHIM Srl
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REPROCHIM Srl
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0002Apparatus or processes for manufacturing printed circuits for manufacturing artworks for printed circuits

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、グラフィック工業用およびプリント回路の製
造用の十分に平坦なバックグラウンドマスクを機械的に
製造するのに適する材料に関するものである。
(従来の技術) 通常グラフィック工業および電子工業用プリント回路の
製造において、一般にマスクと称せられる材料が使用さ
れていることは知られている。
特に、上記マスクは、化学線を透過しない層により、所
望の像がポジまたはネガで生成または再生されている、
化学線を透過するフィルム支持体から成る。上記マスク
は次に感光性層を備えた既知材料に重ね合せ、全体を2
00〜400nmの波長を有する化学線のビームに露出
して、使用される既知方法および使用される感光性材料
により決まるオフセット プリント法用のポジ板または
オーツクロマチック写真フィルム上の複製を得る。次い
で、上記オーツクロマチック写真フィルムを直接使用す
るか、またはその写真カウンタータイプをつくった後、
間接的にスクリーン プリント フレーム、オフセント
板および/またはプリント回路用マスターをつくる。
また上記マスクを製造する多くの技術および材料が存在
することは知られている。然し、既知方法では化学線を
透過しない層は、(i)重合体および着色剤を有機溶媒
中に含む溶液または軟質ペーストを塗布し、(ii)次
いで上記有機溶媒を蒸発させることにより形成されるが
、この場合上記有機溶媒の使用は費用がかかる汚染防止
処置が必要とされる。
例えばフランス国特許第2206866号明細書には、
次の順序で配置された5層:(i)少なくとも表面が粗
いかまたは酸化されている殆んど透明なプラスチック支
持体フィルム、(11)第1接着剤層、(iii)着色
樹脂層、(iv)前記着色樹脂層と同様な着色剤が随意
に添加された第2接着剤層および(v)分離しうる層か
ら成る多層材料が開示されている。上記多層材料におい
て、着色樹脂から成る第3層は有機溶媒の混合物に樹脂
を溶解した着色溶液を塗布し次いでを機溶媒を蒸発させ
ることによりその場で形成される。
欧州特許出願公開EP−A−0第188.292号には
、(1)プラスチック支持体フィルム、 (iりこの上
に形成された感圧接着剤層および(ji)ニトリルゴム
、ニトロセルロース、粘着性改良剤および先安全着色剤
を有機溶媒に溶解した溶液で上記接着剤層上に形成され
た先安全可剥性層から成る光安全マスク フィルムが開
示されている。
(発明が解決しようとする課B) 本発明の目的は、像を得るための工程が危険なまたは汚
染する化学的処理を含まず、高品位および高鮮明度を有
する像を支持する、ライン マスクとして知られている
、十分に平坦なバックグラウンド マスクを製造するた
めの材料を提供することにある。
本発明の主たる目的は、上記材料が容易な経済的方法で
、更に化学的処理および/または有機溶媒をできるだけ
少ししか、使用しないで大規模で製造することができる
ような構造上の特徴を有することである。
(課題を解決するための手段) この目的は、(a) −50〜+60℃の温度で寸法的
に安定で、200〜400nmの波長を有する化学線を
殆んど透過し且つ極めて平滑な表面を有するフィルムか
ら成る第1支持体層、(b) −50〜+60℃の温度
で寸法的に安定で、200〜400nmの波長を有する
化学線を殆んど透過しない可撓性押出フィルムから成る
第2層および(c)第薄層と第2層の間に塗布したプラ
スチック接着剤化合物の第3薄層から成ることを特徴と
する多層材料により達成される。
支持体層を形成する第1フイルムは50〜250ミクロ
ンの厚さを有するのが好ましく、任意の既知熱可塑性重
合体から成り上記特性を有するフィルムを与える。適当
な熱可塑性重合体を例示すると、ポリエステル、ポリカ
ーボネート、ポリテトラフルオロエチレン、ポリアミド
、ポリフェニレン、ポリアセタール、セルロース脂肪族
エステル、ポリスチレン、ポリアクリルアミド、ポリウ
レタン、高密度および低密度ポリオレフィン等がある。
−例の好ましい材料はエチレン グリコールポリテレフ
タレートである。
化学線に対し不透過性の第2層を形成するフィルムは、
10〜60ミクロンの厚さを有するのが好ましく、最も
好ましくは30〜40ミクロンの厚さを有し、熱可塑性
重合体から成る。適当な熱可塑性重合体を例示すると、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ酢酸ビニル、ポリ
ビニルカーボネートおよび他の同様の重合体〔マニュア
ル デル マテリー プラスティク、テクニック ヌー
プ ププリツシャー(Manuale delle M
aterie Plastiche。
Tecniche Nuove publisher)
、 2版、1983年、第161〜353頁〕がある。
上記フィルムは、しばしばそれ自体200〜400rv
+の範囲の波長を有する化学線に対し不透過性であるが
、この不透明度は上記熱可塑性重合体中に200〜40
0nmの波長を有する化学線を吸収する化合物または化
合物の混合物を埋め込むことにより得るのが好ましい。
この目的は、更に200〜400nmの波長を有する化
学線を吸収するため、熱可塑性重合体を着色するのに適
し、且つ一60〜+220℃の温度で光に安定であるよ
うなすべての顔料を用いて達成することができる。化学
線を部分的にのみ吸収する化合物を、第1化合物が吸収
しない200〜400rvのスペクトル領域で吸収を示
す他の化合物と一緒に用いることができることは明らか
である。
第2層に好ましい一例の材料は、シー、アイ。
エロー17およびシー、アイ、レッド38  例えば、
それぞれレマフィン(Remaf in) (R) G
GAE 30およびBBAE 30である顔料の混合物
5〜25重量%を混入した高密度ポリエチレンである。
第3層を形成する接着剤化合物に関して、「プラスチッ
ク」とは、接着が主として接着剤の粘度により得られる
ことおよび第2層が第薄層から何時でも全く容易に何ら
引き裂くことなく分離することができることを意味する
ために使用する。業界で知られている適当なプラスチッ
ク接着剤化合物を例示すると、解重合させたゴム、イソ
ブチレン低重合体、ビニルエーテル、ロジン酸のアクリ
ル共重合体、シクロペンタジェンと無水フタル酸の重縮
合体、部分的に中和したロジン酸二量体および三量体並
びにこれ等とジシクロペンタジェン重縮合体の混合物の
濃厚溶液または分散液である。
好ましいプラスチック接着剤化合物の一例はバスフ(B
ASF)のアクロナール(Acrona l) (R)
 DS 3348である。
通常、プラスチック接着剤化合物が第薄層フィルムに対
するより第2層フィルムに一層しっかりと接着するよう
な方法、例えばプラスチック接着剤化合物と接触してい
る第2層の表面を適当に処理することにより、加工する
のが好ましい。このようにして切断により限界を定めら
れた第2層の領域を除去した場合、領域に尚粘着してい
るプラスチック化合物も除去してほとんど接着剤化合物
のない第薄層の未被覆表面を残す。
本発明の材料は、従来の結合機械により容易に製造する
ことができる。
本発明の材料を用いてマスクをつくる方法は、極めて簡
単であり、事実この方法は、(a)人手によるかまたは
切断具を備えたプロッターにより第2層(化学線に対し
て不透過)を所望の通路に沿って切断し、(b)持ち上
げ上記切断により境界を定められた上記第2層の領域を
除去することに存する。支持体層上に残っている接着剤
化合物の残留物を適当な溶媒で洗浄した線ワット(wa
d)により除去することができる。
或いはまた、若干の痕跡量の接着剤プラスチック化合物
が支持体フィルム上に残るのを防止するため、本発明の
多層材料を製造する場合、支持体フィルムに、プラスチ
ック接着剤化合物により支持体フィルムを着色層と結合
する前に接着剤化合物に接着することができるシリコー
ン油を塗布するのがよい。
従って本発明の他の目的は、本発明の多層材料からつく
ったプリント回路を製造するためのまたはグラフィック
工業用の十分に平坦なハックグラウンド マスクを提供
することにある。
(実施例) 本発明を次の実施例により説明する。
尖施開よ 高密度ポリエチレン ベレットを、顔料シーアイ、エロ
ー17  とシー、アイ、レンド38の35: 65 
(iv/w)の混合物約8%と混合し、15ミクロンの
厚さで100.105.115または120cmの幅お
よび約2160mの長さのフィルムに押出し、これ等を
適当なチャックに漸次巻き取った。
このようにして得たボビンの一つをロトメック(Rot
omec) (R)結合機械にセットしこれに同じ幅お
よび長さを有し80ミクロンの厚さを有するエチレング
リコールポリテレフタレートから成る支持体フィルムの
ボビンをセットし、−力結合機械の適当なタンクにプラ
スチック接着剤化合物(アクロナール(R) DS 3
34B)を供給した。次いで結合機械を駆動した。
このようにしてプラスチック接着剤化合物を2〜10g
/m” (乾燥重量)の割合で高密度ポリエチレン フ
ィルム上に塗布し、支持体フィルムに結合する前に結合
機械のオーブンに高密度ポリエチレン フィルムを通し
てプラスチック接着剤化合物から溶媒を蒸発させた。こ
のように処理した高密度ポリエチレン フィルムおよび
上記プラスチ、。
り接着剤化合物に接着する、シリコーン油を随意に塗布
した支持体フィルムを、フィルムを一緒にプレスする2
個のローラから成る実用結合装置に供給した。このよう
にして得られた材料をチャックに巻き取り包装部門に送
る用意をしたボビンを得た。
上記のようにしてつくった材料を適当な切断具を備えた
プロッターにより所望の通路に沿って切断し、この切断
により境界が決められた領域は人手により極めて容易に
除去された。
オフセット印刷用の優れたポジティブ プレートを与え
た十分に平坦なバックグラウンド マスクおよびプリン
ト回路用の優れたマスターが得られた。
30ミクロン、45ミクロンおよび60ミクロンの厚さ
を有し、顔料シー、アイ、エロー17とシー、アイ、レ
ッド38の50 : 50および65 : 35 (w
/w)の混合物を夫々15%または23%含有する高密
度ポリエチレン フィルムをつくり、これ等をアクロナ
ール(R) DS 334Bに類似した特性および組成
を有するプラスチック接着剤化合物により150ミクロ
ンおよび230ミクロンの厚さを有する支持体フィルム
と結合させることにより同様の結果を得た。
特許出願人  レプロチム ソシエタ ア レスボンサ
ビリタリミタータ

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.グラフィック工業用およびプリント回路製造用の十
    分に平坦なバックグラウンドマスクを製造するための多
    層材料において、 (a)−50〜+60℃の温度において寸法的に安定で
    り、200〜400nmの波長を有する化学線をほぼ透
    過し且つ極めて平滑な表面を有するフイルムから成る第
    1支持体層、 (b)−50〜+60℃の温度で寸法的に安定であり、
    200〜400nmの波長を有する化学線を殆んど透過
    しない可撓性の押出フイルムから成る第2層および(c
    )第1層と第2層の間に塗布されたプラスチック接着剤
    化合物の第3薄層から成ることを特徴とする多層材料。
  2. 2.上記第1層が50〜250ミクロンの厚さを有する
    ことを特徴とする請求項1記載の多層材料。
  3. 3.上記第1層がポリエステル、ポリカーボネート、ポ
    リテトラフルオロエチレン、ポリアミド、ポリフェニレ
    ン、ポリアセタール、セルロース脂肪族エステル、ポリ
    スチレン、ポリアクリルアミドおよびポリウレタンから
    成る群から選ばれた熱可塑性材料から成ることを特徴と
    する請求項1または2記載の多層材料。
  4. 4.上記重合体熱可塑性材料がエチレングリコールポリ
    フタレートであることを特徴とする請求項3記載の多層
    材料。
  5. 5.上記第2層の厚さが10〜60ミクロンであること
    を特徴とする請求項1〜4のいずれか一つの項に記載の
    多層材料。
  6. 6.上記第2層が高密度ポリエチレンから成ることを特
    徴とする請求項1〜5のいずれか一つの項に記載の多層
    材料。
  7. 7.高密度ポリエチレンにおいて、顔料シー.アイ.エ
    ロー17およびシー.アイ.レッド38を混入させたこ
    とを特徴とする請求項6記載の多層材料。
  8. 8.上記第3層が解重合したゴム、イソブチレン低重合
    体、ビニルエーテル、ロジン酸のアクリル共重合体、シ
    クロペンタジエンと無水フタル酸重縮合体、部分的に中
    和したロジン酸二量体および三量体並びにそのジシクロ
    ペンタジエン重縮合体との混合物の濃厚溶液または分散
    液から形成したことを特徴とする請求項1〜7のいずれ
    か一つの項に記載の多層材料。
  9. 9.第3層がアクロナール(R)DS3348から成る
    ことを特徴とする請求項8記載の多層材料。
  10. 10.請求項1〜9のいずれか一つまたはそれ以上の項
    に記載の多層材料から製造したことを特徴とするグラフ
    ィック工業用またはプリント回路製造用の十分に平坦な
    バックグラウンドマスク。
JP2255447A 1989-09-29 1990-09-27 バックグラウンドマスクおよびこれを製造するための多層材料 Pending JPH041033A (ja)

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IT8921895A IT1231965B (it) 1989-09-29 1989-09-29 Materiale multistrato per preparare maschere a fondi pieni per l'industria grafica e per la produzione di circuiti stampati.
IT21895A/89 1989-09-29

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