JPH0399033A - 2―クロロ―4―フルオロフェノールの製造方法 - Google Patents
2―クロロ―4―フルオロフェノールの製造方法Info
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- JPH0399033A JPH0399033A JP1234774A JP23477489A JPH0399033A JP H0399033 A JPH0399033 A JP H0399033A JP 1234774 A JP1234774 A JP 1234774A JP 23477489 A JP23477489 A JP 23477489A JP H0399033 A JPH0399033 A JP H0399033A
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07C37/62—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring by introduction of halogen; by substitution of halogen atoms by other halogen atoms
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、反応を水の存在下に行うことを特徴とする4
−フルオロフェノールの塩素化による2一クロロ−4−
フルオロフェノールの製造方法に関するものである.′
!−クロロ−4−フルオロフェノールは医農薬製造のた
めの重要な中間原料として有用な化合物であり、例えば
このものから誘導されるオキサゾリジン誘導体は優れた
除草活性を有するものである(特開昭62−17406
5. 167713号公報). [従来の技術] 2−クロロ−4−フルオロフェノールの従来の製造法と
しては、《l》4−フルオロアニソールを原料として、
ニトロ化、ニトロ基の還元次いでサンドマイヤー反応に
より2−クロロ−4−フルオロアニソールへと誘導した
後、エーテル結合を切断して合戚する方法(J.As+
.Chem.Soc.+ 81、94 (1959)
)、{2}4−フルオロフェノールを原料として種々の
塩素化剤を用いて直接塩素原子を導入する方法等がある
. 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかしながら、fl)の方法は選択的に2位に塩素原子
を導入することができるが、反応の工程が長く工業的な
製法としては不利である.また(2)の方法では、用い
られる塩素化剤によりいくつかの塩素化方法が知られて
おり、例えば、1)4−フルオロフェノールあるいはそ
のアルカリ金属塩を次亜塩素酸アルカリ金属塩を用いて
塩素化する方法iUssR−154250号公報、Zh
.Obshch.Khim.,37.2486(196
7)l 、ii)塩化スルフリルを用いて塩基の存在下
に塩素化する方法(特開昭59−25344号公報)、
ii i)酸性条件下に塩酸と過酸化水素を用いて塩素
化する方法(特開昭62−223140、62−238
226号公報) 、iv)塩素ガスを用いて直接塩素化
する方法(特公昭63−62497号公報)等がある.
しかし、i)の方法では、高濃度の次亜塩素酸アルカリ
金属塩水溶液の入手が困難であり、低濃度の水溶液中で
の反応を余儀なくされ容積効率が低くかつ80%前後の
低収率であり、工業的に生産するには反応効率が悪い.
目)の方法は、位置選択性は高いものの、反応で副生ず
る亜硫酸ガス及び塩酸ガスの廃ガス処理の問題がある*
iii)の方法では、取り扱いにくい過酸化水素を用
い更に使用する硫酸の廃液処理の問題がある。lν)の
方法は効率の良い製造方法ではあるが、反応を実施する
際には、選択性を向上させるために反応で生した塩化水
素ガス(沸点−85℃)を効率の良い還流冷却管を用い
て塩素ガス(沸点−34.1℃)と分離しなければなら
ない.このような低沸点ガスの分離には塩素ガスの沸点
以下の低温の冷却管を装着する必要があり、このような
低温冷却管の装備は多大のエネルギーの消費を余儀なく
するものである.またii)の方法と同様塩化水素ガス
の廃ガス処理の問題がある.更にこの反応は微量不純物
、特に金属イオンの存在下に反応を実施するとその選択
性が著しく低下し、反応容器もこのような微量不純物が
溶出しない材質のものを用いる必要があり、工業的製法
としては決して有効な方法とは言い難いものである. [問題点を解決するための手段] 本発明者らは、安価な試剤を用い、特殊な装置を必要と
せず、かつ温和な条件下に収率及び選択性よく目的とす
る2−フルオロ−4−クロロフェノールを製造できる工
業的な製法の確立を目指し鋭意検討を重ねた結果、塩素
ガスあるいは塩化スルフリル等の安価な塩素化剤を用い
、水の存在下に4−フルオロフェノールを直接塩素化す
ることにより、選択的に高収率で2−フルオロー4−ク
ロロフェノールが得られることを見出し本発明を完威し
た。
−フルオロフェノールの塩素化による2一クロロ−4−
フルオロフェノールの製造方法に関するものである.′
!−クロロ−4−フルオロフェノールは医農薬製造のた
めの重要な中間原料として有用な化合物であり、例えば
このものから誘導されるオキサゾリジン誘導体は優れた
除草活性を有するものである(特開昭62−17406
5. 167713号公報). [従来の技術] 2−クロロ−4−フルオロフェノールの従来の製造法と
しては、《l》4−フルオロアニソールを原料として、
ニトロ化、ニトロ基の還元次いでサンドマイヤー反応に
より2−クロロ−4−フルオロアニソールへと誘導した
後、エーテル結合を切断して合戚する方法(J.As+
.Chem.Soc.+ 81、94 (1959)
)、{2}4−フルオロフェノールを原料として種々の
塩素化剤を用いて直接塩素原子を導入する方法等がある
. 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかしながら、fl)の方法は選択的に2位に塩素原子
を導入することができるが、反応の工程が長く工業的な
製法としては不利である.また(2)の方法では、用い
られる塩素化剤によりいくつかの塩素化方法が知られて
おり、例えば、1)4−フルオロフェノールあるいはそ
のアルカリ金属塩を次亜塩素酸アルカリ金属塩を用いて
塩素化する方法iUssR−154250号公報、Zh
.Obshch.Khim.,37.2486(196
7)l 、ii)塩化スルフリルを用いて塩基の存在下
に塩素化する方法(特開昭59−25344号公報)、
ii i)酸性条件下に塩酸と過酸化水素を用いて塩素
化する方法(特開昭62−223140、62−238
226号公報) 、iv)塩素ガスを用いて直接塩素化
する方法(特公昭63−62497号公報)等がある.
しかし、i)の方法では、高濃度の次亜塩素酸アルカリ
金属塩水溶液の入手が困難であり、低濃度の水溶液中で
の反応を余儀なくされ容積効率が低くかつ80%前後の
低収率であり、工業的に生産するには反応効率が悪い.
目)の方法は、位置選択性は高いものの、反応で副生ず
る亜硫酸ガス及び塩酸ガスの廃ガス処理の問題がある*
iii)の方法では、取り扱いにくい過酸化水素を用
い更に使用する硫酸の廃液処理の問題がある。lν)の
方法は効率の良い製造方法ではあるが、反応を実施する
際には、選択性を向上させるために反応で生した塩化水
素ガス(沸点−85℃)を効率の良い還流冷却管を用い
て塩素ガス(沸点−34.1℃)と分離しなければなら
ない.このような低沸点ガスの分離には塩素ガスの沸点
以下の低温の冷却管を装着する必要があり、このような
低温冷却管の装備は多大のエネルギーの消費を余儀なく
するものである.またii)の方法と同様塩化水素ガス
の廃ガス処理の問題がある.更にこの反応は微量不純物
、特に金属イオンの存在下に反応を実施するとその選択
性が著しく低下し、反応容器もこのような微量不純物が
溶出しない材質のものを用いる必要があり、工業的製法
としては決して有効な方法とは言い難いものである. [問題点を解決するための手段] 本発明者らは、安価な試剤を用い、特殊な装置を必要と
せず、かつ温和な条件下に収率及び選択性よく目的とす
る2−フルオロ−4−クロロフェノールを製造できる工
業的な製法の確立を目指し鋭意検討を重ねた結果、塩素
ガスあるいは塩化スルフリル等の安価な塩素化剤を用い
、水の存在下に4−フルオロフェノールを直接塩素化す
ることにより、選択的に高収率で2−フルオロー4−ク
ロロフェノールが得られることを見出し本発明を完威し
た。
本発明は水の存在下に反応を実施することを特徴とする
ものである.反応に使用する水には、例えば塩化ナトリ
ウムや塩化マグネシウム等の無機塩、酢酸や塩酸等の酸
などの化合物を含有する水の場合も含む。また四塩化炭
素、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等
の反応に直接関与しない溶媒を併用することも可能であ
る。本発明の方法は、反応を水の存在下に行うことによ
り反応系を二層系とし、有機層で塩素化を行い、発生し
た塩化水素を完全に水層へと移行させることによって塩
素化の位置選択性の低下を抑制せんとするものであり、
従来の方法とは全く異なる製造方法である.従って本発
明の方法では低温冷却管等の特別な装置を装備する必要
は全くなく、通常の反応装置で充分反応を実施すること
ができる.更に金属イオン等の微量不純物も水層で捕獲
できるため、酸性条件下においてある程度の金属イオン
の溶出が予想される反応容器を用いても反応になんら影
響を与えるものではない.水の使用量は発生する塩化水
素を全て溶解できる容量があればなんら問題なく反応は
選択性よく進行する.また本発明の方法において、塩素
化剤としての塩素ガスは4−フルオロフェノールに対し
て等モル、また塩化スルフリルは4−フルオロフェノー
ルに対して2等量以下使用することにより、高次塩素化
物のpI生を最小限に抑えることができる点で好ましい
.なお必要盪以下の塩素化剤を用いても反応は進行し、
その使用量に概ね比例した量の目的物を得ることができ
る。反応温度は冷却管等の装置を必要としない低温でも
充分反応は進行し、特に制限があるものではないが、0
〜80℃の温度で実施することが短時間で反応が終了し
かつ収率及び選択性が良いことにより好ましい。更に本
反応は二層系の反応であることより、第4級アンモニウ
ム塩等の相関移動触媒存在下に反応を行うこともできる
.第4級アンモニウム塩としては、ベンジルトリエチル
アンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムクロ
リド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド等を例示
することができる. 以下本発明を実施例を挙げて更に詳細に説明するが、本
発明はこれら実施例のみに限定されるものではない. 実施例l 攪拌機及び滴下ロートを具備した200ccガラス製三
ツ口フラスコに、4−フルオロフェノール<1 1.2
g,0.lOmo l)及び水(20ml)を加え、反
応液を60〜70℃に保ちながら塩化スルフリル(15
ml,2 5.2g.0.19mo 1)を25分か
けて滴下した.反応終了後、飽和食塩水(200ml)
を加え、ジクロロメタン(100mlx3)で抽出した
.有41INを無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した
.乾燥剤を除去後溶媒を減圧下に留去して粗生威物(1
3.3g)を得た.このものの組成は、2−クロロ−4
−フルオロフェノール(94.8%)、2.6−ジクロ
ロ−4=フルオロフェノール(2.7%〉及び未反応原
料(2.5%)であり、他の高次塩素化生底物の生戒は
認められなかった. 実施例2 実施例3 攪拌機及び滴下ロ一トを具備した500CCガラス製三
ソロフラスコに、4−フルオロフェノール(4 4.8
g, 0.401TIL) 1)及び水(80ml)を
加え、反応液を60〜70℃に保ちながら塩化スルフリ
ル(60ml,100 g,0.74mo l)を60
分かけて滴下した.反応終了後、飽和食塩水(400m
l)を加え、ジクロロメタン(2 0 0mlx3)で
抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥
した.乾燥剤を除去後溶媒を減圧下に留去して粗生戒物
(56.4g)を得た.このものの組戒は、2−クロロ
−4−フルオロフェノール(98.3%)、2.6−ジ
クロロ−4−フルオロフェノール(1.0%)及び未反
応原料(0,7%)であり、他の高次塩素化生戒物の生
成は認められなかった. 塩素ガス導入管を具備した200ccガラス製三ソロフ
ラスコに4−フルオロフェノール(11.2g+ 0
.1OmO1)及び水(20ml)を加え、5℃で15
分かけて等モルの塩素ガスを導入した.反応終了後、水
層と有機層とを分離し、粗生底物を得た.このものの組
戒は2−クロロ−4−フルオロフェノール(93.4%
)、2,(i−ジクロロ−4−フルオロフェノール(6
.5%)及び未反応原R(0.1%}であった.他の高
次塩素化生底物の生成は認められなかった.ジクロ口メ
タン(100ml)を加え有8INを飽和食塩水(50
mlx3)で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを用い
て乾燥した.乾燥剤を除去後溶媒を減圧下に留去して2
−クロロ−4−フルオロフェノールの淡褐色固体(.1
4.4g)を得た.実施例4 ノールの淡褐色固体(13.8g)を得た.実施例5 塩素ガス導入管を具備した200ccのステンレス製容
器に4−フルオロフェノール(11.2g.0.1 0
mo I)及び水(20ml)を加え、60℃で30分
かけて等モルの塩素ガスを導入した.反応終了後、水層
と有機層とを分離し、粗生底物を得た。このものの&I
1威は2−クロロ−4−フルオロフェノール(92.3
%),2.6−ジクロロ−4−フルオロフェノール(5
.8%) 及ヒ未反応原料(1.9%)であり、他の高
次塩素化生戒物の生戒は認められなかった.得られた有
機層をジクロロメタン(300ml)に溶解させ飽和食
塩水(100ml)で洗浄し、無水硫酸マグネシウムを
用いて乾燥した.乾燥剤を除去後溶媒を減圧下に留去し
て2−クロロ−4−フルオロフエ塩素ガス導入管を具備
した200ccガラス製三ツ口フラスコに、4−フルオ
ロフェノール(11.2g.O.l Omo 1) 、
ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド(0.1g)
、クロロホルム(50ml)及び水(20ml)を加
え、60℃で40分かけて等モルの塩素ガスを導入した
.反応終了後、水層と有IIA層とを分離し、有機層を
無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した.乾燥剤を除去
後溶媒を減圧下に留去して粗生戒物を得た.このものの
&[l威は、2−クロロ−4−フルオロフェノール(9
0.2%)、2.6−ジクロロ−4−フルオロフェノー
ル(6.1%)及び未反応原料(3.7%)であり、他
の高次塩素化生戒物の生成は認められなかった. 実施例7 実施例6 塩素ガス導入管を具備した200ccガラス製三ソロフ
ラスコに、4−フルオロフェノール(11.2g.0.
10mol)、ペンジルトリエチルアンモニウムクロリ
ド(0.1g)及び水(2 0m l)を加え、60〜
70℃で15分かけて等モルの塩素ガスを導入した.反
応終了後、水層と有機層とを分離し粗生威物を得た.こ
のものの組戊は2一クロロ−4−フルオロフェノール(
92.2%)、2.6−1クロロー4−フルオロフェノ
ール(5.2%)及び未反応原料(2.6%)であり、
他の高次塩素化生成物の生或は認められなかった.塩素
ガス導入管を具備した200ccガラス製三ツ口フラス
コに、4−フルオロフェノール(11.2g,0.10
mol)、ジクoロメタン(20ml)を加え、15℃
で20分かけて等モルの塩素ガスを導入した.反応終了
後、水層と有m層とを分離し、有機層を無水硫酸マグネ
シウムを用いて乾燥した。
ものである.反応に使用する水には、例えば塩化ナトリ
ウムや塩化マグネシウム等の無機塩、酢酸や塩酸等の酸
などの化合物を含有する水の場合も含む。また四塩化炭
素、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等
の反応に直接関与しない溶媒を併用することも可能であ
る。本発明の方法は、反応を水の存在下に行うことによ
り反応系を二層系とし、有機層で塩素化を行い、発生し
た塩化水素を完全に水層へと移行させることによって塩
素化の位置選択性の低下を抑制せんとするものであり、
従来の方法とは全く異なる製造方法である.従って本発
明の方法では低温冷却管等の特別な装置を装備する必要
は全くなく、通常の反応装置で充分反応を実施すること
ができる.更に金属イオン等の微量不純物も水層で捕獲
できるため、酸性条件下においてある程度の金属イオン
の溶出が予想される反応容器を用いても反応になんら影
響を与えるものではない.水の使用量は発生する塩化水
素を全て溶解できる容量があればなんら問題なく反応は
選択性よく進行する.また本発明の方法において、塩素
化剤としての塩素ガスは4−フルオロフェノールに対し
て等モル、また塩化スルフリルは4−フルオロフェノー
ルに対して2等量以下使用することにより、高次塩素化
物のpI生を最小限に抑えることができる点で好ましい
.なお必要盪以下の塩素化剤を用いても反応は進行し、
その使用量に概ね比例した量の目的物を得ることができ
る。反応温度は冷却管等の装置を必要としない低温でも
充分反応は進行し、特に制限があるものではないが、0
〜80℃の温度で実施することが短時間で反応が終了し
かつ収率及び選択性が良いことにより好ましい。更に本
反応は二層系の反応であることより、第4級アンモニウ
ム塩等の相関移動触媒存在下に反応を行うこともできる
.第4級アンモニウム塩としては、ベンジルトリエチル
アンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムクロ
リド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド等を例示
することができる. 以下本発明を実施例を挙げて更に詳細に説明するが、本
発明はこれら実施例のみに限定されるものではない. 実施例l 攪拌機及び滴下ロートを具備した200ccガラス製三
ツ口フラスコに、4−フルオロフェノール<1 1.2
g,0.lOmo l)及び水(20ml)を加え、反
応液を60〜70℃に保ちながら塩化スルフリル(15
ml,2 5.2g.0.19mo 1)を25分か
けて滴下した.反応終了後、飽和食塩水(200ml)
を加え、ジクロロメタン(100mlx3)で抽出した
.有41INを無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した
.乾燥剤を除去後溶媒を減圧下に留去して粗生威物(1
3.3g)を得た.このものの組成は、2−クロロ−4
−フルオロフェノール(94.8%)、2.6−ジクロ
ロ−4=フルオロフェノール(2.7%〉及び未反応原
料(2.5%)であり、他の高次塩素化生底物の生戒は
認められなかった. 実施例2 実施例3 攪拌機及び滴下ロ一トを具備した500CCガラス製三
ソロフラスコに、4−フルオロフェノール(4 4.8
g, 0.401TIL) 1)及び水(80ml)を
加え、反応液を60〜70℃に保ちながら塩化スルフリ
ル(60ml,100 g,0.74mo l)を60
分かけて滴下した.反応終了後、飽和食塩水(400m
l)を加え、ジクロロメタン(2 0 0mlx3)で
抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥
した.乾燥剤を除去後溶媒を減圧下に留去して粗生戒物
(56.4g)を得た.このものの組戒は、2−クロロ
−4−フルオロフェノール(98.3%)、2.6−ジ
クロロ−4−フルオロフェノール(1.0%)及び未反
応原料(0,7%)であり、他の高次塩素化生戒物の生
成は認められなかった. 塩素ガス導入管を具備した200ccガラス製三ソロフ
ラスコに4−フルオロフェノール(11.2g+ 0
.1OmO1)及び水(20ml)を加え、5℃で15
分かけて等モルの塩素ガスを導入した.反応終了後、水
層と有機層とを分離し、粗生底物を得た.このものの組
戒は2−クロロ−4−フルオロフェノール(93.4%
)、2,(i−ジクロロ−4−フルオロフェノール(6
.5%)及び未反応原R(0.1%}であった.他の高
次塩素化生底物の生成は認められなかった.ジクロ口メ
タン(100ml)を加え有8INを飽和食塩水(50
mlx3)で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを用い
て乾燥した.乾燥剤を除去後溶媒を減圧下に留去して2
−クロロ−4−フルオロフェノールの淡褐色固体(.1
4.4g)を得た.実施例4 ノールの淡褐色固体(13.8g)を得た.実施例5 塩素ガス導入管を具備した200ccのステンレス製容
器に4−フルオロフェノール(11.2g.0.1 0
mo I)及び水(20ml)を加え、60℃で30分
かけて等モルの塩素ガスを導入した.反応終了後、水層
と有機層とを分離し、粗生底物を得た。このものの&I
1威は2−クロロ−4−フルオロフェノール(92.3
%),2.6−ジクロロ−4−フルオロフェノール(5
.8%) 及ヒ未反応原料(1.9%)であり、他の高
次塩素化生戒物の生戒は認められなかった.得られた有
機層をジクロロメタン(300ml)に溶解させ飽和食
塩水(100ml)で洗浄し、無水硫酸マグネシウムを
用いて乾燥した.乾燥剤を除去後溶媒を減圧下に留去し
て2−クロロ−4−フルオロフエ塩素ガス導入管を具備
した200ccガラス製三ツ口フラスコに、4−フルオ
ロフェノール(11.2g.O.l Omo 1) 、
ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド(0.1g)
、クロロホルム(50ml)及び水(20ml)を加
え、60℃で40分かけて等モルの塩素ガスを導入した
.反応終了後、水層と有IIA層とを分離し、有機層を
無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した.乾燥剤を除去
後溶媒を減圧下に留去して粗生戒物を得た.このものの
&[l威は、2−クロロ−4−フルオロフェノール(9
0.2%)、2.6−ジクロロ−4−フルオロフェノー
ル(6.1%)及び未反応原料(3.7%)であり、他
の高次塩素化生戒物の生成は認められなかった. 実施例7 実施例6 塩素ガス導入管を具備した200ccガラス製三ソロフ
ラスコに、4−フルオロフェノール(11.2g.0.
10mol)、ペンジルトリエチルアンモニウムクロリ
ド(0.1g)及び水(2 0m l)を加え、60〜
70℃で15分かけて等モルの塩素ガスを導入した.反
応終了後、水層と有機層とを分離し粗生威物を得た.こ
のものの組戊は2一クロロ−4−フルオロフェノール(
92.2%)、2.6−1クロロー4−フルオロフェノ
ール(5.2%)及び未反応原料(2.6%)であり、
他の高次塩素化生成物の生或は認められなかった.塩素
ガス導入管を具備した200ccガラス製三ツ口フラス
コに、4−フルオロフェノール(11.2g,0.10
mol)、ジクoロメタン(20ml)を加え、15℃
で20分かけて等モルの塩素ガスを導入した.反応終了
後、水層と有m層とを分離し、有機層を無水硫酸マグネ
シウムを用いて乾燥した。
乾燥剤を除去後溶媒を減圧下に留去して粗生底物(14
.0g)を得た.このものの組成は、2−クロロ−4−
フルオロフェノール(98.3%〉、2.6−ジクロロ
−4−フルオロフェノール(l.4%)及び未反応原料
(0.3%)であり、他の高次塩素化生成物の生成は認
められなかった。
.0g)を得た.このものの組成は、2−クロロ−4−
フルオロフェノール(98.3%〉、2.6−ジクロロ
−4−フルオロフェノール(l.4%)及び未反応原料
(0.3%)であり、他の高次塩素化生成物の生成は認
められなかった。
実施例8
手続補正書
(自発)
塩素ガス導入管を具備した200ccガラス製三ツ口フ
ラスコに、4−フルオロフェノール(11.2g+
o.1 0mo 1)及び3.5%食塩水(20m l
)を加え、25〜35℃で15分かけて等モルの塩素
ガスを導入した。反応終了後、水層と有機層とを分離し
て粗生戒物を得た.このものの組戒は、2−クロロ−4
−フルオロフェノール(93.0%)、2.6−ジクロ
ロ−4−フルオロフェノール(6.4%)及び未反応原
料(0.6%)であり、他の高次塩素化生戒物の生戒は
認められなかった.平戒2年8月2日
ラスコに、4−フルオロフェノール(11.2g+
o.1 0mo 1)及び3.5%食塩水(20m l
)を加え、25〜35℃で15分かけて等モルの塩素
ガスを導入した。反応終了後、水層と有機層とを分離し
て粗生戒物を得た.このものの組戒は、2−クロロ−4
−フルオロフェノール(93.0%)、2.6−ジクロ
ロ−4−フルオロフェノール(6.4%)及び未反応原
料(0.6%)であり、他の高次塩素化生戒物の生戒は
認められなかった.平戒2年8月2日
Claims (1)
- 4−フルオロフェノールを塩素ガスあるいは塩化スルフ
リルにより塩素化して2−クロロ−4−フルオロフェノ
ールを製造する方法において水を存在させることを特徴
とする2−クロロ−4−フルオロフェノールの製造方法
。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1234774A JP2897833B2 (ja) | 1989-09-12 | 1989-09-12 | 2―クロロ―4―フルオロフェノールの製造方法 |
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DE69021155A DE69021155D1 (de) | 1989-09-12 | 1990-09-11 | Verfahren zur Herstellung von 2-Chlor-4-Fluorphenol. |
DE69021155T DE69021155T4 (de) | 1989-09-12 | 1990-09-11 | Verfahren zur Herstellung von 2-Chlor-4-Fluorphenol. |
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EP90117460A EP0417720B1 (en) | 1989-09-12 | 1990-09-11 | Process for preparing 2-chloro-4-fluorophenol |
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---|---|---|---|
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CN106748830B (zh) * | 2017-02-28 | 2018-11-30 | 金凯(辽宁)化工有限公司 | 一种3-氨基-4-氟苯酚的制备方法 |
Citations (5)
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---|---|---|---|---|
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JPS5925344A (ja) * | 1982-07-30 | 1984-02-09 | Sumitomo Chem Co Ltd | 2−クロロ−4−フルオロフエノ−ルの製造法 |
JPS60193939A (ja) * | 1984-03-13 | 1985-10-02 | Central Glass Co Ltd | 2−クロロ−4−フルオロフエノ−ルの製造方法 |
JPS62221645A (ja) * | 1986-03-19 | 1987-09-29 | Toto Kasei Kk | テトラブロムビスフエノ−ルaの製造方法 |
JPS6447728A (en) * | 1987-07-17 | 1989-02-22 | Rhone Poulenc Chimie | Selective chlorination of phenol compounds |
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---|---|---|---|---|
DE2227439B2 (de) * | 1972-06-06 | 1977-05-05 | Deutsche Gold- Und Silber-Scheideanstalt Vormals Roessler, 6000 Frankfurt | Chlorierung oder bromierung phenolischer verbindungen |
JPS62223140A (ja) * | 1986-03-26 | 1987-10-01 | Nippon Kayaku Co Ltd | 2−クロロ−4−フルオロフエノ−ルの製法 |
-
1989
- 1989-09-12 JP JP1234774A patent/JP2897833B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-09-06 US US07/578,242 patent/US5053557A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-09-11 DE DE69021155A patent/DE69021155D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-09-11 AT AT90117460T patent/ATE125526T1/de not_active IP Right Cessation
- 1990-09-11 EP EP90117460A patent/EP0417720B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-09-11 DE DE69021155T patent/DE69021155T4/de not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5444603A (en) * | 1977-09-09 | 1979-04-09 | Asahi Glass Co Ltd | Bromination |
JPS5925344A (ja) * | 1982-07-30 | 1984-02-09 | Sumitomo Chem Co Ltd | 2−クロロ−4−フルオロフエノ−ルの製造法 |
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JPS62221645A (ja) * | 1986-03-19 | 1987-09-29 | Toto Kasei Kk | テトラブロムビスフエノ−ルaの製造方法 |
JPS6447728A (en) * | 1987-07-17 | 1989-02-22 | Rhone Poulenc Chimie | Selective chlorination of phenol compounds |
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DE69021155D1 (de) | 1995-08-31 |
EP0417720A3 (en) | 1992-02-26 |
DE69021155T4 (de) | 1996-06-27 |
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DE69021155T2 (de) | 1995-12-07 |
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