JPH0397850A - レーザーｐｖｄ装置用ターゲット - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野ゴ この発明は、レーザーＰＶＤ装置用ターゲ，，ト、特に
、長時間の使用に耐えられるレーザーＰＶ？装置用ター
ゲットに関するものである。

〔従来の技術〕

例えば、Ｓ１の基板の表面に、ＡＩ２ｏｚの薄膜を形戒
するための装置として、レーザーを利用した物理的蒸着
法（ｐｈｙｓｉｃａｌ　ｖａｐｏｕｒ　ｄｅｐｏｓｉｔ
ｉｏｎ）による装置、即ち、ＰＶＤ装置がある。

従来の、レーザーを利用したＰＶＤ装置（以下レーザー
ＰＶＤ装置という）は、第１図に示すように、レーザー
ビーム用透過窓２を有する真空容器ｌと、真空容器１の
外部に設けられたレーザー光源３とからなっている。真
空容器１内は、１０−’　Ｔ　Ｏｒｒ程度の真空度に維
持され、真空容器ｌの内部には、Ａ１■Ｏ，等のターゲ
ット４およびＳ＋等の基板５が設けられている。基板５
は、ヒーター７が内蔵された基台６に取り付けられてい
る。

レーザー光源３からのレーザービーム３Ａは、透過窓２
を通ってターゲット４に当たる。これによって、ターゲ
ット４が蒸発し、この蒸発物４Ａは、基板５の表面に付
着する。このようにして、基板５の表面にＡ　＋１０　
，等の薄膜が形成される。

〔発明が解決しようとする課題〕

しか１，なから、上述したレーザーＰＶＤ装蓋によー）
で、基板５に薄膜を形成する場合、問題になるのは、タ
ーゲット４の使用寿命である。

夕−ゲソト４の気孔率が小さいと、即ち、緻密であると
レーザービーム３＾による熱衝撃によって、ターゲント
４が瞬時に割れ、一方、ターゲソト４の気孔率が大きい
と、即ち、ボーラスであると１７ーザービーム３ＡＪ｛
短時間でターゲント４を貫通して、所望の厚みの薄膜を
形成することができない。

従って、長時間の使用に耐えられるターゲットの開発が
望まれているが、かかるターゲットはまだ開発されてい
ない。

そこで、本発明者等は、長時間の使用に耐えられるター
ゲノトを得べく、鋭意研究を重ねた結果、ターゲットの
気孔率を特定の範囲内に限定すれば、長時間の使用に耐
えられるターゲットを得ることできるといった知見を得
た。

この発明は、上述した知見に基づいてなされたものであ
る。

「課題を解決するための手段〕 この発明は、レーザー光源から真空客２ｇ内のターゲッ
トにレーザービームを当てて、前記ターゲットを蒸発さ
せ、これによって、前記真空容器内に設けられた基板の
表面に、前記ターゲットの蒸発物からなる薄膜を形或す
るレーザーＰＶＤ装ＩＷの前記ターゲットであって、前
記ターゲットは、その気孔率が１０から５０％の範囲内
であることに特徴を有するものである。

この発明において、ターゲットの気孔率を１０から５０
％の範囲内に限定［７た理由について、以下に説明する
。

ターゲットの気孔率が１０９イ未満では、レーザービー
ムによる熱衝撃によって、ターゲットが瞬時に割れ、一
方、ターゲットの気孔率が５０％を超えると、レーザー
ビームが短時間でターゲットを貫通して、所望の厚みの
薄膜を形成することができない。

従って、この発明においては、ターゲットの気孔率を１
０から５０％の範囲内に限定した。

このような気孔率を有するターゲットを製造するには、
石ｎ型にＡ　Ｉ　ｔ　Ｏ　ｚ等のターゲント材料をキャ
スティングし、このときのターゲット材料の冷却速度を
調整することによって行入る。

次に、この発明の実施例について説明する。

第３図に示ずＰＶＤ装置によって、Ｓｔの基板に、厚さ
１０μ唯のＡ　ｈｏ　，の薄膜を、異なる気孔率のター
ゲントを使用して形成した。そして、成膜時間と、ター
ゲットの気孔率との関係について調べた。このときのＭ
ｔ１条件は、次の通りである。

夕−ゲット材料＋ＡＩ，Ｏ，、 レー・ザー出力　：１．５Ｋｗ、 真空度　　　　：　１０″′Ｔｏｒｒ　，この結果を第
２図に示す。第２図から明らかなように、ターゲソトの
気孔率が１０から５０％の範囲内であると、成膜時間が
大幅に延びることが分かる。

次に、ターゲットの材質を３ｉＬに変えた以外？、上記
第２図の場合と同一条件にしたがって、Ｓ１の基板に、
厚さ１０μｍのＳｉＯ■の薄膜を、異なる気孔率のター
ゲットを使用して形成した．，この結果を第３図に示す
。第３図から明らかｉ：ように、ターゲットの気孔率が
１０から５　０　ｒｉの範囲内であると、成膜時間が大
幅に延びることが分かる。

〔発明の効果〕

以上説明したように、この発明によれば、夕一ゲソトの
気孔率を１０から５０％の範囲内に限定することによっ
て、ターゲットの使用寿命が大幅Ｉこ延びるといった有
用な効果がもたらされる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、ＰＶＤ装置の概略断面図、第２図および第３
図は、或膜時間とターゲットの気孔率との関係を示すグ
ラフである。図面において、ｌ　真空容器、　　　２　
透過窓、 ３−レーザー光源、４−ターゲット、 ５　基板、　　　　　６　基台、 ７ ヒーター

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １　レーザー光源から真空容器内のターゲットにレーザ
   ービームを当てて、前記ターゲットを蒸発させ、これに
   よって、前記真空容器内に設けられた基板の表面に、前
   記ターゲットの蒸発物からなる薄膜を形成するレーザー
   ＰＶＤ装置の前記ターゲットであって、前記ターゲット
   は、その気孔率が１０から５０％の範囲内であることを
   特徴とするレーザーＰＶＤ装置用ターゲット。