KR910001911A - 막형성장치 및 방법 - Google Patents

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Abstract

내용 없음

Description

막형성장치 및 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 실시예인 스퍼터 장치의 개략을 나타낸 도면.
제2도는 제1도에 나타낸 스퍼터 장치의 스퍼터 타게트를 고정하는 지그 그 주변부의 개략확대도.

Claims (22)

  1. 막형성실내에 배치된 막형성 기판과 막형성원이 있으며 그 막형성 기판상에 박막을 형성하는 막형성 장치로서, 막형성 실내부에 배치된 막형성원의 구성성분이 피착되는 장치 수성부품을 가지며 장치 구성부품은 적어도 그 표면부가 형성하는 박막의 열팽창율과 동등 또는 근사한 열팽창율을 가진 소재로 실질적으로 이루어진 것을 특징으로 하는 막형성장치.
  2. 제1항에 있어서, 막형성장치가 스퍼터장치, 진공중착장치 또는 CVD 장치인 것을 특징으로 하는 막형성장치.
  3. 제1항에 있어서, 장치 구성부품의 적어도 표면부가 실질적으로 막형성원을 구성하는 성분으로 된 것을 특징으로 하는 막형성장치.
  4. 제1항에 있어서, 장치 구성부품의 적어도 표면부를 구성하는 소재가 형성하는 박막의 열팽창율과 ±7.5×10-6의 범위의 차이인 열팽창율을 가진 것을 특징으로 하는 막형성장치.
  5. 제1항에 있어서, 장치 구성부품의 적어도 표면부를 구성하는 소재가 형성하는 박막의 열창율과 ±4×10-6의 범위의 차이인 열팽창율을 가진 것을 특징으로 하는 막형성 장치.
  6. 진공조내에 대향하여 배치된 막형성 기판과 타게트를 가지며 타게트를 스퍼터링 하므로서 막형성 기판상에 박막을 형성하는 스퍼터 장치로서, 진공조 내부에 배치된 타게트의 구성성분이 피착되는 장치 구성부품을 가지며 장치 구성부품은 적어도 그 표면부가 실질적으로 형성하는 박막의 열팽차율과 동등 또는 근사한 열팽창율을 가진 것을 특징으로 하는 막형성 장치.
  7. 진공조내에 대향하여 배치된 막형성 기판과 타게트를 가지며, 타게트를 스퍼터링 하므로서 막형성기판상에 박막을 형성하는 스퍼터 장치로서, 진공조내부에 배치된 타게트의 구성성분이 피착된 장치 구성성분을 가지며 실질적으로 장치구성 부품을 적어도 그 표면부가 타게트의 구성성분으로 된 것을 특징으로 하는 막형성장치.
  8. 제6항 또는 제7항중에서 장치구성 부품의 적어도 표면부를 구성하는 소재가 형성하는 박막의 열팽차율과, ±7.5×10-6의 범위의 차이인 열팽창율을 가진 것을 특징으로 하는 막형성장치.
  9. 제6항 또는 제7항중에서, 장치 구성부품의 적어도 표면부를 구성하는 소재가 형성하는 박막의 열팽창율과 ±4×10-6의 범위의 차이인 열팽창율을 가진 것을 특징으로 하는 막형성장치.
  10. 스퍼터링 장치로서, 진공조와 진공조내에 배치된 기판 홀더상에 지지된 막형성기판과, 진공조내의 막형성기판과 대향하여 배치도되고, 보강 플레이트상에 설치된 타게트와, 진공조의 내벽에 타게트의 구성성분이 피착되는 것을 방지하도록 설치된 방착판으로서, 적어도 그 표면부가 막 형성 기판상에 형성하는 박막의 열팽창율과 동등 또는 실질적으로 근사한 열팽창율을 가진 소재로된 방착판을 구비한 것을 특징으로 하는 막형성장치.
  11. 제10항에 있어서, 방착판의 적어도 표면부가 실질적으로 타게트의 구성성분으로 된 것을 특징으로 하는 막형성장치.
  12. 제10항 또는 제11항중에서, 방착판의 적어도 표면부를 구성하는 소재가 막형성 기판상에 형성하는 박막의 열팽창율과 ±7.5×10-6의 범위의 차이인 열팽창율을 가진 것을 특징으로 하는 막형성장치.
  13. 제10항 또는 제11항중에서, 방차판의 적어도 표면부를 구성하는 소재는 막형성 기판상에 형성하는 박막의 열팽창율과 ±4×10-6의 범위인 차이인 열팽창율을 가진 것을 특징으로 하는 막형성장치.
  14. 제10항에서, 재차 타게트를 보강 플레이트상에 고정하는 주변부 고정지그와 센터 플랜지를 가지며 주변부 고정지그 및 센터 플레지가 적어도 그 표면부가 막형성 기판상에 형성하는 박막의 열팽창율과 동등 또는 실질적으로 근사한 열팽창율을 가진 소재로 이루어진 것을 특징으로 하는 막형성 장치.
  15. 제14항에 있어서, 구변부 고정지그 및 센터 플랜지의 적어도 표면부가 실질적으로 타게트의 구성성분으로 이루어진 것을 특징으로 하는 막형성장치.
  16. 제14항에 있어서, 주변부 고정지그 및 센터 플랜지의 적어도 표면부를 구성하는 소재가 막형성 기판상에 형성하는 박막의 열팽창율과 ±7.5×10-6범위의 차이인 열팽창율을 가진 것을 특징으로 하는 막형성장치.
  17. 제14항에 있어서, 주변부 고정지그 및 센터 플랜지의 적어도 표면부를 구성하는 소재가 막형성 기판상에 형성하는 박막의 열팽창율과 ±4×10-6의 범위의 차이인 열팽창율을 가진 것을 특징으로 하는 막형성장치.
  18. 제10항에 있어서, 재차 막형성 기판을 기판 홀더에 고정하는 기판 고정지그를 가지며 기판 고정지그는 적어도 그 표면부가 막형성 기판상에 형성하는 실질적으로 박막의 열팽창율과 동등 또는 근사한 열팽창율을 가진 소재로 이루어진 것을 특징으로 하는 막형성장치.
  19. 제18항에 있어서, 기판 고정지그의 적어도 표면부가 실질적으로 타게트의 구성성분으로 이루어진 것을 특징으로 하는 막형성장치.
  20. 제18항에 있어서, 기판 고정지그의 적어도 표면부를 구성하는 소재가 막형성 기판상에 형성하는 박막의 열팽창율과 ±7.5×10-6의 범위의 차이인 열팽창율을 가진 것을 특징으로 하는 막형성장치.
  21. 제18항에 있어서, 기판 고정지그의 적어도 표면부를 구성하는 소재가 막형성 기판상에 형성하는 박막의 열팽창율과 ±4×10-6의 범위의 차이인 열팽차율을 가진 것을 특징으로 하는 막형성장치.
  22. 막형성 실내에 배치된 막형성 기판상에 막형성원의 구성성분에 의한 박막을 형성하는 막형 성방법으로서, 막형성 실내부의 막형성원의 구성성분이 피착되는 부분의 적어도 표면부에 형성하는 박막의 열팽차율과 동등 또는 유사한 열팽창율을 가진 소재를 배치하고 이 상태에서 막형성 기판상에 스퍼터법, 진공증착법 또는 CVD 법으로 박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 막형성 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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