JPS5928630B2 - 連続式真空蒸着装置 - Google Patents

連続式真空蒸着装置

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Publication number
JPS5928630B2
JPS5928630B2 JP4529977A JP4529977A JPS5928630B2 JP S5928630 B2 JPS5928630 B2 JP S5928630B2 JP 4529977 A JP4529977 A JP 4529977A JP 4529977 A JP4529977 A JP 4529977A JP S5928630 B2 JPS5928630 B2 JP S5928630B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fixed mask
metal
continuous vacuum
vacuum evaporation
deposited
Prior art date
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Expired
Application number
JP4529977A
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English (en)
Other versions
JPS53129181A (en
Inventor
幹夫 成瀬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication of JPS5928630B2 publication Critical patent/JPS5928630B2/ja
Expired legal-status Critical Current

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Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は連続式真空蒸着装置に関するものである。
（以下、半連続式真空蒸着装置を含めて連続式真空蒸着
装置と記す。）連続式真空蒸着装置はプラスチックフィ
ルムや紙などの表面に金属薄膜層を迅速に形成すること
が可能な装置であり、装飾その他の用途にも用いられる
が、なかでも金属化コンデンサの製造には欠かせないも
のとなつている。金属化コンデンサ用の蒸着としては、
フィルム、あるいは紙の全面に金属薄膜層を形成するの
ではなく、金属薄膜層を形成する部分と、金属薄膜層を
形成しない部分とを設けることが一般的である。この金
属薄膜層を形成しない部分を設けるために従来実用化さ
れた装置の代表的なものとして、エンドレステープマー
ジンを用いた装置と固定マスクマージンを用いた装置と
がある。固定マスクマージンを用いた装置は、被蒸着物
近傍に固定マスクを設ける構造であり、構造は簡単であ
るが、固定マスク自体の厚さと、固定マスクと被蒸着物
との間の距離を小さくしないと、蒸着端部のボケ、蒸着
能率の低下等がおきる。ところが、固定マスクと被蒸着
物との間の距離を小さくするためには、固定マスクを十
分に冷却する必要があり、これを実現するためには、固
定マスク自体の厚さが厚くなるという相反する問題があ
つた。さらに、数千ｍ以上のフィルム等に蒸着をする際
には、固定マスクに付着する蒸着金属の潜熱、輻射等に
より、温度が上昇し固定マスクの形状が変化してしまう
という欠点があつた。また、他方エンドレステープマー
ジンを用いた装置は、被蒸着物表面に置かれたエンドレ
ステープを被蒸着物と同速度で、駆動する構造であり、
エンドレステープの厚さが薄くできるために、蒸着端部
のボケは極小であり、長尺蒸着にも安定しているが、エ
ンドレステープが、被蒸着物表面上で横に振れるために
、蒸着精度を特に要求される場合には使用できないとい
う欠点があり、また構造も複雑である。
本発明の目的は、蒸着端部のボケが小さく、長尺蒸着に
も蒸着精度の良い固定マスクマージンを用いた連続式真
空蒸着装置を供することにある。
以下に本発明の一実施例について説明する。第１図は本
発明の一実施例を示す連続式真空蒸着装置の全体構成の
断面図であり、第２図は同要部断面図である。この第１
、２図において、１は円筒状のクーリングキヤンであり
、このクーリングキヤンの外周面に紙やフィルム等の被
蒸着物２が案内されている。
３はボートであり、蒸発金属源の金属４が載置され、こ
の金属４を蒸発、拡散してクーリングキヤン１に接して
冷却されている被蒸着物２の表面に蒸着させ、金属薄膜
層５を形成する。
６は前記被蒸着物２への金属４の蒸着を選択的に行なわ
しめるための固定マスクである。
Ｔは油８が満たされた上部容器であり、油８を前記固定
マスク６の下表面に供給する。９は金属４が蒸発、拡散
された時に外部へ飛散するのを防止する防着板である。
また１０は前記固定マスク６の最下端直下に置かれた下
部容器であり、前記固定マスク６から落下する油を受け
止める。上記構成において、固定マスク６の下表面には
土部容器７から油８が供給されているので、ポート３上
の金属４が蒸発拡散されるとこの熱により固定マスク６
の下表面の油８が蒸発し、前記金属４の分子とこの油８
の分子とが固定マスク６近傍で衡突し、金属４の分子が
固定マスク６の表面に付着しない。
これにより、固定マスク６はほとんど加熱されず、冷却
を簡単に行えば充分であるとともに、固定マスク６自体
の変形がほとんどない。なお、蒸着時に下部容器１０に
貯えられる油は、温度が上昇しているとともに少量の蒸
着金属を含むので、再度上部容器７に戻して使用するた
めには冷却と簡単な精製が必要となる。また、上記実施
例において、固定マスク６としては、機械的強度と油８
の保持とに優れている金属の薄板とガラス繊維等の積層
物が好ましいが、これに限定されるものではない。
さらに油８としては通常の拡散ポンプ油を用いることが
できる。以上のように本発明によれば、固定マスクに供
給される油により、蒸発金属がこの固定マスクに付着す
ることが極めて少なく、従つて固定マスクがあまり加熱
されず、薄い固定マスクを用いることができ、しかも被
蒸着物に与える熱影響が少いので、より固定マスクと被
蒸着物とを近づけて配置でぎ、蒸着寸法精度の高い長尺
蒸着にも安定した連続式真空蒸着装置を得ることができ
る。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例を示す連続式真空蒸着装置の
全体構成の正面断面図、第２図は同要部側面断面図であ
る。 １．．．．．．クーリングキヤン、２・・・・・・被蒸
着物、３・・・・・・ボート、４・・・・・・金属、６
・・・・・・固定マスク、７・・・・・・上部容器、８
・・・・・・油。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. １ 被蒸着物に蒸着するための金属を蒸発させるポート
    と、前記被蒸着物に前記金属を選択的に蒸着せしめる固
    定マスクと、この固定マスクの表面に油を供給する油供
    給手段とを備えてなる連続式真空蒸着装置。
JP4529977A 1977-04-19 1977-04-19 連続式真空蒸着装置 Expired JPS5928630B2 (ja)

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JP4529977A JPS5928630B2 (ja) 1977-04-19 1977-04-19 連続式真空蒸着装置

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JPS53129181A JPS53129181A (en) 1978-11-10
JPS5928630B2 true JPS5928630B2 (ja) 1984-07-14

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6192724U (ja) * 1984-11-22 1986-06-16

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3224234A1 (de) * 1981-09-01 1983-03-10 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zur herstellung von metallfreien streifen bei der metallbedampfung eines isolierstoffbandes und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens
JPS60194060A (ja) * 1984-08-17 1985-10-02 Ulvac Corp 表面処理後の耐酸化耐候性被膜の形成装置

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JPS6192724U (ja) * 1984-11-22 1986-06-16

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JPS53129181A (en) 1978-11-10

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