JPS60194060A - 表面処理後の耐酸化耐候性被膜の形成装置 - Google Patents
表面処理後の耐酸化耐候性被膜の形成装置Info
- Publication number
- JPS60194060A JPS60194060A JP17034184A JP17034184A JPS60194060A JP S60194060 A JPS60194060 A JP S60194060A JP 17034184 A JP17034184 A JP 17034184A JP 17034184 A JP17034184 A JP 17034184A JP S60194060 A JPS60194060 A JP S60194060A
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- JP
- Japan
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- chamber
- weather
- oxidation
- rails
- film
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- Granted
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、金属被膜を物理的蒸気析出法によって被加
工物表面に形成した後、これを周囲の空気に触れさせる
前にその表面にさらに不活性の導膜層を形成する不動態
化処理を行って耐・酸化耐候性を与えようとする装置に
関するものである。
工物表面に形成した後、これを周囲の空気に触れさせる
前にその表面にさらに不活性の導膜層を形成する不動態
化処理を行って耐・酸化耐候性を与えようとする装置に
関するものである。
例えば、眼鏡、その他の合成樹脂製品、あるいは自動車
部品のような金属製品において、表面にアルミニウム、
クローム、亜鉛、錫などの薄膜を真空蒸着、イオンシレ
ーティング、スパッタリングなどの物理的蒸気析出法に
よって付着させることは従来より公知である。これらの
装置では成膜金属が極めて活性化された状態での処理で
あるので、処理後大気中に取り出すと直ちに表向が酸化
し勝ちである。この時基材の部分的温度勾配とか、直接
露出されている面と直接露出されていない内部の面とか
の局部的東件によって、酸化度にムシを生じ、製品の品
質、例えば電気的、光学的特性、装飾的価値などに劣化
を生する。
部品のような金属製品において、表面にアルミニウム、
クローム、亜鉛、錫などの薄膜を真空蒸着、イオンシレ
ーティング、スパッタリングなどの物理的蒸気析出法に
よって付着させることは従来より公知である。これらの
装置では成膜金属が極めて活性化された状態での処理で
あるので、処理後大気中に取り出すと直ちに表向が酸化
し勝ちである。この時基材の部分的温度勾配とか、直接
露出されている面と直接露出されていない内部の面とか
の局部的東件によって、酸化度にムシを生じ、製品の品
質、例えば電気的、光学的特性、装飾的価値などに劣化
を生する。
この発明は上記の欠点をなくすために、原材料に被覆さ
れた金属薄膜の表面にそれが大気に触れる前に耐酸化耐
候性の一様な被膜を形成する装置を提供するものである
。
れた金属薄膜の表面にそれが大気に触れる前に耐酸化耐
候性の一様な被膜を形成する装置を提供するものである
。
この発明の装置は、真空室内で物理的蒸気析出法により
被加工物表面に金属被膜ｒ析出させた後、隣接した処理
室内に真空を保持した状態で該被膜１ １物を導入させ、ついで同処理室内の対向電極間の低圧
プラズマ放電中を通過させることを特徴とする。
被加工物表面に金属被膜ｒ析出させた後、隣接した処理
室内に真空を保持した状態で該被膜１ １物を導入させ、ついで同処理室内の対向電極間の低圧
プラズマ放電中を通過させることを特徴とする。
又一般的に物理的蒸気析出法によって金属被覆を行った
後、局部的酸化などして困る被加工利に実施するこの発
明の装置は、積込室、物理的蒸気析出室、低圧プラズマ
放電室及び積出室を順次ゲートバルブを介して設け、各
室にはそれぞれ真空ポンプによる排気装置と各室内を連
続的に被加工物を移動させる移送装置とを設け、さらに
物理的蒸気析出室には移送装置の下方に物理的蒸気析出
装置を、低圧プラズマ放電室には不活性ガス導入口と移
送装置を挾んだ低圧プラズマ放電電極板を設けたことを
特徴とする。
後、局部的酸化などして困る被加工利に実施するこの発
明の装置は、積込室、物理的蒸気析出室、低圧プラズマ
放電室及び積出室を順次ゲートバルブを介して設け、各
室にはそれぞれ真空ポンプによる排気装置と各室内を連
続的に被加工物を移動させる移送装置とを設け、さらに
物理的蒸気析出室には移送装置の下方に物理的蒸気析出
装置を、低圧プラズマ放電室には不活性ガス導入口と移
送装置を挾んだ低圧プラズマ放電電極板を設けたことを
特徴とする。
以下に図面をか照してこの発明の実施例を詳細に説明す
る。
る。
図面は例えば自動部品のような個体に耐酸化耐候性被膜
を形成するための装置のｌ実施例を示している。
を形成するための装置のｌ実施例を示している。
Ａ室は積込室、Ｂ室は真空蒸着、イオンブレーティング
、スパッタリングなどの物理的蒸気析出によシ個体に連
続的に成膜処理をする真空表面処理室で、Ｃ室は低圧プ
ラズマ放電処理室、Ｄは積出室であって、各室はゲート
バルブ／、、２．Ｊによって接続され、かつ両端にはゲ
ートバルブ≠。
、スパッタリングなどの物理的蒸気析出によシ個体に連
続的に成膜処理をする真空表面処理室で、Ｃ室は低圧プ
ラズマ放電処理室、Ｄは積出室であって、各室はゲート
バルブ／、、２．Ｊによって接続され、かつ両端にはゲ
ートバルブ≠。
！が設けられ、又各室は真空ポンプ≠、７．ざ。
りによって排気され所定圧に維持される。
被加工物を載置する例えば台車１０は内部軌道ｌｌ上を
移動することができ、Ｂ室の軌道の上方にはスパッタ用
蒸発源（ターゲラ））／−２が設けられ、Ｃ室では軌道
を挾んで上下にｔａ板Ｐ、、Ｐ２が設けられ、又Ｏ室に
祉ガス導入口１３が設けられている。台車には被加工物
を自公転させて一様な被膜をつけるようにする治具（図
示なし）が設けられている。Ａ室は大気圧と／ ０−’
Ｔｏｒｒ、 Ｂ室は／ ０’″’ Ｔｏｒｒ、 Ｏ室
は／ ０−”ｆｏｒｒ、 Ｄ室は１０−１’Ｉ’ｏｒｒ
と大気圧になるように各ポンプ、ガス導入バルブを作
動させるようにして、それぞれの処理を行なう。
移動することができ、Ｂ室の軌道の上方にはスパッタ用
蒸発源（ターゲラ））／−２が設けられ、Ｃ室では軌道
を挾んで上下にｔａ板Ｐ、、Ｐ２が設けられ、又Ｏ室に
祉ガス導入口１３が設けられている。台車には被加工物
を自公転させて一様な被膜をつけるようにする治具（図
示なし）が設けられている。Ａ室は大気圧と／ ０−’
Ｔｏｒｒ、 Ｂ室は／ ０’″’ Ｔｏｒｒ、 Ｏ室
は／ ０−”ｆｏｒｒ、 Ｄ室は１０−１’Ｉ’ｏｒｒ
と大気圧になるように各ポンプ、ガス導入バルブを作
動させるようにして、それぞれの処理を行なう。
このＣ室の圧力は、上述のように例えば／ ０”’Ｔｏ
ｒｒ 程度に真空ポンプざによって維持され、酸素、窒
素又はとの混合ガスが導入口ｌ！により注入されて０室
は不活性ガスの雰囲気とされる。
ｒｒ 程度に真空ポンプざによって維持され、酸素、窒
素又はとの混合ガスが導入口ｌ！により注入されて０室
は不活性ガスの雰囲気とされる。
電極板１１１２２間には直流又は交流のたとえは約１０
００Ｖの電圧をかけ電極間に上記のガスの低圧プラズマ
放電（グロー放電）を発生させる。
００Ｖの電圧をかけ電極間に上記のガスの低圧プラズマ
放電（グロー放電）を発生させる。
すなわち、酸素又は窒素あるいは混合ガスのグロー中で
はこれらはイオンあるいは活性化されたラヂカルなガス
となっているので、Ｂ室で成膜された物理的蒸気析出膜
の活性化された表面と極めて容易に結合し、一様で緻密
な酸化あるいは窒化膜が金属表面を覆うようになる。
はこれらはイオンあるいは活性化されたラヂカルなガス
となっているので、Ｂ室で成膜された物理的蒸気析出膜
の活性化された表面と極めて容易に結合し、一様で緻密
な酸化あるいは窒化膜が金属表面を覆うようになる。
さらにグロー中を通過する間に膜表面温度が上シ膜内の
格子欠陥、内部応力を減少させ％電気抵抗などの経時変
化分をその時点で加速させて以後の変化分を減少させる
などの効果を生ずる。
格子欠陥、内部応力を減少させ％電気抵抗などの経時変
化分をその時点で加速させて以後の変化分を減少させる
などの効果を生ずる。
図面は個体に表向処理後に耐酸化耐候性被膜を形成する
装置の説明図である。
装置の説明図である。
Claims (1)
- 積込案分、物理的蒸気析出室か、低圧プラズマ放電屋号
及び積出家具を順次ゲートバルブかｔマ六十を介して設
け、各室にはそれぞれ真空ポンプ÷÷〜４４による排気
装置と各室内を連続的に被加工物を移動させる移送装置
÷≠とを設け、さらに物理的蒸気析出法合には移送装置
の上方に物理的蒸気析出装置ト÷を、低圧プラズマ放電
屋号には不活性ガス導入口と移送装置を挾んだ低圧ゾ２
ズマ放電電極板本θ〜を設妙たことを特徴とする被加工
物の表面処理後の耐酸化耐候性被膜の形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17034184A JPS60194060A (ja) | 1984-08-17 | 1984-08-17 | 表面処理後の耐酸化耐候性被膜の形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17034184A JPS60194060A (ja) | 1984-08-17 | 1984-08-17 | 表面処理後の耐酸化耐候性被膜の形成装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6639780A Division JPS56163262A (en) | 1980-05-21 | 1980-05-21 | Method and apparatus for forming oxidation and weather resistant film after surface treatment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60194060A true JPS60194060A (ja) | 1985-10-02 |
| JPH0310706B2 JPH0310706B2 (ja) | 1991-02-14 |
Family
ID=15903129
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17034184A Granted JPS60194060A (ja) | 1984-08-17 | 1984-08-17 | 表面処理後の耐酸化耐候性被膜の形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60194060A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02133644A (ja) * | 1988-11-11 | 1990-05-22 | Unitika Ltd | 複合不織シート及びその製造方法 |
| US5976259A (en) * | 1985-02-14 | 1999-11-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device, manufacturing method, and system |
| KR100317730B1 (ko) * | 1999-11-29 | 2001-12-24 | 김덕중 | 산화피막 형성방법 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53129181A (en) * | 1977-04-19 | 1978-11-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Continuous vacuum evaporation apparatus |
| JPS54163739A (en) * | 1978-06-16 | 1979-12-26 | Ricoh Kk | Fabrication of oxidized film |
-
1984
- 1984-08-17 JP JP17034184A patent/JPS60194060A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53129181A (en) * | 1977-04-19 | 1978-11-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Continuous vacuum evaporation apparatus |
| JPS54163739A (en) * | 1978-06-16 | 1979-12-26 | Ricoh Kk | Fabrication of oxidized film |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5976259A (en) * | 1985-02-14 | 1999-11-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device, manufacturing method, and system |
| JPH02133644A (ja) * | 1988-11-11 | 1990-05-22 | Unitika Ltd | 複合不織シート及びその製造方法 |
| KR100317730B1 (ko) * | 1999-11-29 | 2001-12-24 | 김덕중 | 산화피막 형성방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0310706B2 (ja) | 1991-02-14 |
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