JPH10319208A - 複合式連続薄膜形成装置 - Google Patents
複合式連続薄膜形成装置Info
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- JPH10319208A JPH10319208A JP9143224A JP14322497A JPH10319208A JP H10319208 A JPH10319208 A JP H10319208A JP 9143224 A JP9143224 A JP 9143224A JP 14322497 A JP14322497 A JP 14322497A JP H10319208 A JPH10319208 A JP H10319208A
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- Japan
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- chamber
- water
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- antireflection
- hard coat
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 処理室を大気に曝することなく、眼鏡レンズ
に対してハードコート層、反射防止膜および撥水コート
層を一連の装置で形成し、作業性および生産性を著しく
改善する。 【解決手段】 真空雰囲気下に眼鏡レンズ１３の表面に
ハードコート層を形成するハードコート室４５，４７、
真空雰囲気下に眼鏡レンズの表面に反射防止膜を形成す
る反射防止コート室４９および真空雰囲気下に眼鏡レン
ズの表面に撥水コート層を形成する撥水コート室５３が
順次連設されてなり、眼鏡レンズを搭載した基板ホルダ
ーが、上記各室を大気に曝すことなく、上記各室内を搬
送されてハードコート層、反射防止膜および撥水コート
層が順次眼鏡レンズの表面に形成する複合式連続薄膜形
成装置。
に対してハードコート層、反射防止膜および撥水コート
層を一連の装置で形成し、作業性および生産性を著しく
改善する。 【解決手段】 真空雰囲気下に眼鏡レンズ１３の表面に
ハードコート層を形成するハードコート室４５，４７、
真空雰囲気下に眼鏡レンズの表面に反射防止膜を形成す
る反射防止コート室４９および真空雰囲気下に眼鏡レン
ズの表面に撥水コート層を形成する撥水コート室５３が
順次連設されてなり、眼鏡レンズを搭載した基板ホルダ
ーが、上記各室を大気に曝すことなく、上記各室内を搬
送されてハードコート層、反射防止膜および撥水コート
層が順次眼鏡レンズの表面に形成する複合式連続薄膜形
成装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、眼鏡レンズに対し
てハードコート層、反射防止膜および撥水コート層を形
成する複合式連続薄膜形成装置に関する。
てハードコート層、反射防止膜および撥水コート層を形
成する複合式連続薄膜形成装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】プラスチック製の眼鏡レンズにおいて
は、その表面硬度を増して傷付きにくくするためにハー
ドコート層を表面に形成し、そして反射防止膜を形成
し、さらに撥水性、防汚性を改善するために撥水コート
層を形成することが従来から行なわれている。従来は、
主としてハードコート層の形成はディッピングとその後
の樹脂硬化（湿式法）により、また、反射防止膜の形成
は真空蒸着法等の真空処理により、さらに撥水コート層
の形成はディッピングとその後の乾燥、あるいはＣＶＤ
等の真空処理により行なわれてきた。しかしながら、こ
の従来法ではハードコート層、反射防止膜および撥水コ
ート層の形成がそれぞれ別々の装置で行なわれてきたた
め、作業性および生産性の点で問題があった。
は、その表面硬度を増して傷付きにくくするためにハー
ドコート層を表面に形成し、そして反射防止膜を形成
し、さらに撥水性、防汚性を改善するために撥水コート
層を形成することが従来から行なわれている。従来は、
主としてハードコート層の形成はディッピングとその後
の樹脂硬化（湿式法）により、また、反射防止膜の形成
は真空蒸着法等の真空処理により、さらに撥水コート層
の形成はディッピングとその後の乾燥、あるいはＣＶＤ
等の真空処理により行なわれてきた。しかしながら、こ
の従来法ではハードコート層、反射防止膜および撥水コ
ート層の形成がそれぞれ別々の装置で行なわれてきたた
め、作業性および生産性の点で問題があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、眼鏡レンズ
に対するハードコート層、反射防止膜および撥水コート
層の形成を、機械的に接続された一連の連続装置により
行ない、作業性および生産性を改善することを目的とす
る。
に対するハードコート層、反射防止膜および撥水コート
層の形成を、機械的に接続された一連の連続装置により
行ない、作業性および生産性を改善することを目的とす
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の複合式連続薄膜
形成装置は、真空雰囲気下に眼鏡レンズの表面にハード
コート層を形成するハードコート室、真空雰囲気下に眼
鏡レンズの表面に反射防止膜を形成する反射防止コート
室および真空雰囲気下に眼鏡レンズの表面に撥水コート
層を形成する撥水コート室が順次連設されてなり、眼鏡
レンズを搭載した基板ホルダーが、上記各室を大気に曝
すことなく、上記各室内を搬送されてハードコート層、
反射防止膜および撥水コート層が眼鏡レンズの表面に形
成されることを特徴とする。
形成装置は、真空雰囲気下に眼鏡レンズの表面にハード
コート層を形成するハードコート室、真空雰囲気下に眼
鏡レンズの表面に反射防止膜を形成する反射防止コート
室および真空雰囲気下に眼鏡レンズの表面に撥水コート
層を形成する撥水コート室が順次連設されてなり、眼鏡
レンズを搭載した基板ホルダーが、上記各室を大気に曝
すことなく、上記各室内を搬送されてハードコート層、
反射防止膜および撥水コート層が眼鏡レンズの表面に形
成されることを特徴とする。
【０００５】
【実施例】図１は、本発明の複合式連続薄膜形成装置の
実施例を示す説明図である。プラスチック製の眼鏡レン
ズ（基板）１３を多数搭載した基板ホルダー１１がロー
ラ、チェーンなどを利用した搬送手段により、各室４
１，４３，４５または４７，４３，４９，５１，５３，
５５を順次通過して処理されることにより、眼鏡レンズ
に表面処理が施される。上記各室はゲートバルブ２１，
２３，２５，２７，２９，３１，３３，３５，３７によ
り真空シールされて機械的に接続され、またこれら各ゲ
ートバルブを開閉することにより、各室間の移動と、各
室における処理雰囲気を個別に調整することが可能とな
る。なお図１において、Ｐは、搬入室４１、中間室５
１、出口室５５の真空排気系を示す。また、入口室４３
も真空排気系を有するが、これは図示を省略してある。
実施例を示す説明図である。プラスチック製の眼鏡レン
ズ（基板）１３を多数搭載した基板ホルダー１１がロー
ラ、チェーンなどを利用した搬送手段により、各室４
１，４３，４５または４７，４３，４９，５１，５３，
５５を順次通過して処理されることにより、眼鏡レンズ
に表面処理が施される。上記各室はゲートバルブ２１，
２３，２５，２７，２９，３１，３３，３５，３７によ
り真空シールされて機械的に接続され、またこれら各ゲ
ートバルブを開閉することにより、各室間の移動と、各
室における処理雰囲気を個別に調整することが可能とな
る。なお図１において、Ｐは、搬入室４１、中間室５
１、出口室５５の真空排気系を示す。また、入口室４３
も真空排気系を有するが、これは図示を省略してある。
【０００６】眼鏡レンズ１３を多数搭載した基板ホルダ
ー１１は、大気下から搬入室４１に搬入され搬入室４１
が真空排気され、また必要に応じて加熱等の前処理が搬
入室４１内で為される。ついで、基板ホルダー１１は入
口室４３を経てハードコート室４５または４７に搬送さ
れるが、この時入口室４３が真空排気されているので、
ハードコート室４５，４７は大気に曝されることがな
い。
ー１１は、大気下から搬入室４１に搬入され搬入室４１
が真空排気され、また必要に応じて加熱等の前処理が搬
入室４１内で為される。ついで、基板ホルダー１１は入
口室４３を経てハードコート室４５または４７に搬送さ
れるが、この時入口室４３が真空排気されているので、
ハードコート室４５，４７は大気に曝されることがな
い。
【０００７】ハードコート室４５，４７では、眼鏡レン
ズの表面を保護するためのハードコート層が真空下に形
成される。ハードコート層の構成物質、形成方法として
は種々のものが選択できるが、その一例を挙げればＣＶ
Ｄ法（化学気相成長法）による酸化珪素膜の形成が挙げ
られる。この場合、モノマーガスとしてのテトラエトキ
シシラン等と、反応ガスとしての酸素ガスプラズマとを
供給することにより、両ガスが反応して酸化珪素被膜が
眼鏡レンズの表面に形成される。図１中、６１は基板ホ
ルダー１１の上面側に酸素ガスプラズマを供給する上側
プラズマ源を、また、６３は基板ホルダー１１の下面側
に酸素ガスプラズマを供給する下側プラズマ源を示す。
ズの表面を保護するためのハードコート層が真空下に形
成される。ハードコート層の構成物質、形成方法として
は種々のものが選択できるが、その一例を挙げればＣＶ
Ｄ法（化学気相成長法）による酸化珪素膜の形成が挙げ
られる。この場合、モノマーガスとしてのテトラエトキ
シシラン等と、反応ガスとしての酸素ガスプラズマとを
供給することにより、両ガスが反応して酸化珪素被膜が
眼鏡レンズの表面に形成される。図１中、６１は基板ホ
ルダー１１の上面側に酸素ガスプラズマを供給する上側
プラズマ源を、また、６３は基板ホルダー１１の下面側
に酸素ガスプラズマを供給する下側プラズマ源を示す。
【０００８】このように本発明では、基板ホルダー１１
に搭載された眼鏡レンズ１３の両面に同時にハードコー
ド層を形成することができる。また、テトラエトキシシ
ラン等の珪素化合物の他にタンタル化合物、ジルコニウ
ム化合物、チタン化合物などの他の有機金属化合物をモ
ノマーガスとして用いることもできる。さらに、反応ガ
スとしては、酸素の他に水素、窒素などを用いることも
できる。なお、ＴＭＰはターボモリキュラーポンプ（真
空排気系）を示す。
に搭載された眼鏡レンズ１３の両面に同時にハードコー
ド層を形成することができる。また、テトラエトキシシ
ラン等の珪素化合物の他にタンタル化合物、ジルコニウ
ム化合物、チタン化合物などの他の有機金属化合物をモ
ノマーガスとして用いることもできる。さらに、反応ガ
スとしては、酸素の他に水素、窒素などを用いることも
できる。なお、ＴＭＰはターボモリキュラーポンプ（真
空排気系）を示す。
【０００９】ハードコート層が形成された眼鏡レンズ１
３を搭載した基板ホルダー１１は、ゲートバルブ２５ま
たは２７を経て入口室４３に搬入され、さらにゲートバ
ルブ２９を経て反射防止コート室４９に搬送される。Ｃ
ＶＤ法によるハードコート層の形成速度は、反射防止コ
ート層の形成速度よりも遅いので、図１に示した実施例
では、ハードコート室を２個（４５，４７）設け、入口
室４３を経て交互に反射防止コート室に送るシステムと
している。したがって、入口室４３は、ハードコート室
４５，４７と反射防止コート室４９とを真空雰囲気的に
仕切る役割りと、２個の或いはそれ以上のハードコート
室から搬入されてくる基板ホルダーの、反射防止コート
室４９の搬送の制御の役割とを有する。
３を搭載した基板ホルダー１１は、ゲートバルブ２５ま
たは２７を経て入口室４３に搬入され、さらにゲートバ
ルブ２９を経て反射防止コート室４９に搬送される。Ｃ
ＶＤ法によるハードコート層の形成速度は、反射防止コ
ート層の形成速度よりも遅いので、図１に示した実施例
では、ハードコート室を２個（４５，４７）設け、入口
室４３を経て交互に反射防止コート室に送るシステムと
している。したがって、入口室４３は、ハードコート室
４５，４７と反射防止コート室４９とを真空雰囲気的に
仕切る役割りと、２個の或いはそれ以上のハードコート
室から搬入されてくる基板ホルダーの、反射防止コート
室４９の搬送の制御の役割とを有する。
【００１０】反射防止コート室４９における反射防止膜
の形成は常法により行なうことができ、例えば真空蒸着
法、スパッタリング法などを用いて、フッ化マグネシウ
ム等の単層膜、フッ化マグネシウム、酸化珪素等の低屈
折率膜と酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル
等の高屈折率膜の交互積層膜が形成される。例えば、ス
パッタ法により形成する場合は、基板ホルダー１１の上
面および下面にスパッタ電極を設け、単一または複数の
ターゲットをスパッタすることにより単層あるいは多層
の反射防止膜を形成できる。また、スパッタによる金属
超薄膜の形成と、この金属超薄膜の酸化反応等を繰り返
して行なう事により、最終的に必要な厚さの薄膜を形成
することができる。この具体例を挙げればＳｉをスパッ
タし、ＳｉＯ2 の超薄膜に変換し、所望の膜厚とまるま
でこの操作を繰り返す方法が挙げられる。この詳細な技
術内容については、特公平８−１９５１８号公報、特開
平８−１７６８２１号公報に記載されている。
の形成は常法により行なうことができ、例えば真空蒸着
法、スパッタリング法などを用いて、フッ化マグネシウ
ム等の単層膜、フッ化マグネシウム、酸化珪素等の低屈
折率膜と酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル
等の高屈折率膜の交互積層膜が形成される。例えば、ス
パッタ法により形成する場合は、基板ホルダー１１の上
面および下面にスパッタ電極を設け、単一または複数の
ターゲットをスパッタすることにより単層あるいは多層
の反射防止膜を形成できる。また、スパッタによる金属
超薄膜の形成と、この金属超薄膜の酸化反応等を繰り返
して行なう事により、最終的に必要な厚さの薄膜を形成
することができる。この具体例を挙げればＳｉをスパッ
タし、ＳｉＯ2 の超薄膜に変換し、所望の膜厚とまるま
でこの操作を繰り返す方法が挙げられる。この詳細な技
術内容については、特公平８−１９５１８号公報、特開
平８−１７６８２１号公報に記載されている。
【００１１】このように、反射防止コート層の形成にお
いても、眼鏡レンズ１３の両面に同時成膜が可能であ
る。ついで、ハードコート層および反射防止膜が形成さ
れた眼鏡レンズ１３は、基板ホルダー１１に搭載され、
中間室５１を経て撥水コート室５３に搬送される。撥水
コート室５３では、真空下にシリコーン系等の撥水コー
ト層が形成される。これは例えば、フルオロアルキルシ
ランなどの気化せしめて、必要により気化した水と共に
撥水コート室５３に導入する方法などにより容易に形成
できる（特開平５−２３９２４３号公報参照）。この場
合も、眼鏡レンズの両面に同時に撥水コート層を形成す
ることができる。また、ＤＰは拡散真空ポンプ（真空排
気系）を示す。
いても、眼鏡レンズ１３の両面に同時成膜が可能であ
る。ついで、ハードコート層および反射防止膜が形成さ
れた眼鏡レンズ１３は、基板ホルダー１１に搭載され、
中間室５１を経て撥水コート室５３に搬送される。撥水
コート室５３では、真空下にシリコーン系等の撥水コー
ト層が形成される。これは例えば、フルオロアルキルシ
ランなどの気化せしめて、必要により気化した水と共に
撥水コート室５３に導入する方法などにより容易に形成
できる（特開平５−２３９２４３号公報参照）。この場
合も、眼鏡レンズの両面に同時に撥水コート層を形成す
ることができる。また、ＤＰは拡散真空ポンプ（真空排
気系）を示す。
【００１２】なお、中間室５１は、その前後の室の処理
雰囲気を個別に調整するための、いわばシールド室であ
り、不要であれば省略できる。撥水コート層の形成され
た眼鏡レンズは、ついで出口室５５を介して、ゲートバ
ルブ３７から大気下に回収される。この際、ゲートバル
ブ３５は閉であり、撥水コート室５３が大気に曝される
ことはない。
雰囲気を個別に調整するための、いわばシールド室であ
り、不要であれば省略できる。撥水コート層の形成され
た眼鏡レンズは、ついで出口室５５を介して、ゲートバ
ルブ３７から大気下に回収される。この際、ゲートバル
ブ３５は閉であり、撥水コート室５３が大気に曝される
ことはない。
【００１３】
【発明の効果】本発明では、処理室を大気に曝すること
なく、眼鏡レンズに対してハードコート層、反射防止膜
および撥水コート層を一連の装置で形成することがで
き、作業性および生産性を著しく改善することができ
る。
なく、眼鏡レンズに対してハードコート層、反射防止膜
および撥水コート層を一連の装置で形成することがで
き、作業性および生産性を著しく改善することができ
る。
【図１】本発明の眼鏡レンズの複合式連続薄膜形成装置
の実施例を示す説明図である。
の実施例を示す説明図である。
１１ 基板ホルダー １３ 眼鏡レンズ ２１，２３，２５，２７，２９，３１，３３，３５，３
７ ゲードバルブ ４３ 入口室 ４５，４７ ハードコート室 ４９ 反射防止コート室 ５１ 中間室 ５３ 撥水コート室 ５５ 出口室
７ ゲードバルブ ４３ 入口室 ４５，４７ ハードコート室 ４９ 反射防止コート室 ５１ 中間室 ５３ 撥水コート室 ５５ 出口室
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ２３Ｃ 16/30 Ｃ２３Ｃ 16/30 28/00 28/00 Ａ Ｇ０２Ｃ 7/02 Ｇ０２Ｃ 7/02 // Ｃ０８Ｌ 101:00 (72)発明者 神谷 肇 東京都新宿区中落合２丁目７番５号 ホー ヤ株式会社内 (72)発明者 松本 繁治 東京都品川区南大井３丁目２番６号 株式 会社シンクロン内 (72)発明者 菊池 和夫 東京都品川区南大井３丁目２番６号 株式 会社シンクロン内
Claims (1)
- 【請求項１】 真空雰囲気下に眼鏡レンズの表面にハー
ドコート層を形成するハードコート室、 真空雰囲気下に眼鏡レンズの表面に反射防止膜を形成す
る反射防止コート室および真空雰囲気下に眼鏡レンズの
表面に撥水コート層を形成する撥水コート室が順次連設
されてなり、 眼鏡レンズを搭載した基板ホルダーが、上記各室を大気
に曝すことなく、上記各室内を搬送されてハードコート
層、反射防止膜および撥水コート層が順次眼鏡レンズの
表面に形成されることを特徴とする複合式連続薄膜形成
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9143224A JPH10319208A (ja) | 1997-05-16 | 1997-05-16 | 複合式連続薄膜形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9143224A JPH10319208A (ja) | 1997-05-16 | 1997-05-16 | 複合式連続薄膜形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10319208A true JPH10319208A (ja) | 1998-12-04 |
Family
ID=15333789
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9143224A Pending JPH10319208A (ja) | 1997-05-16 | 1997-05-16 | 複合式連続薄膜形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10319208A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6929822B2 (en) * | 2001-04-27 | 2005-08-16 | Hoya Corporation | Method for manufacturing optical member having water-repellent thin film |
| JP2007023380A (ja) * | 2005-07-19 | 2007-02-01 | Applied Materials Inc | ハイブリッドｐｖｄ−ｃｖｄシステム |
| JP2020101666A (ja) * | 2018-12-21 | 2020-07-02 | 富士ゼロックス株式会社 | 光学物品 |
-
1997
- 1997-05-16 JP JP9143224A patent/JPH10319208A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6929822B2 (en) * | 2001-04-27 | 2005-08-16 | Hoya Corporation | Method for manufacturing optical member having water-repellent thin film |
| JP2007023380A (ja) * | 2005-07-19 | 2007-02-01 | Applied Materials Inc | ハイブリッドｐｖｄ−ｃｖｄシステム |
| JP2020101666A (ja) * | 2018-12-21 | 2020-07-02 | 富士ゼロックス株式会社 | 光学物品 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040423 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20061012 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061024 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061219 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070130 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070328 |
|
| A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20070409 |
|
| A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20070502 |