JP5046074B2 - 光学的薄膜を形成する方法及び装置 - Google Patents
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Description
以下、詳細にかつ単に図示した図面を参照して、本発明の方法及び本発明の装置の最適な実施の形態について説明する。
・入力ガス流量:アルゴン25sccm、酸素15sccm、HMDSO5sccm、HMDSO部分圧力1.5・10-2Pa;
・1.5kw電源を備えたパルス式DCスパッタリング及びパルス周波数90kHz、パルス合計期間6msのプラズマ;
・Siターゲット24;
・遷移層12の形成時間300ms、遷移層12の厚さ430nm;
・Siターゲット24と基板10との距離105mm
次に、標準ツール手段を用いて規定の方法で薄膜に損傷を与え、薄膜を引っ掻いて、相互に1mm間隔で平行に延びる4つの楔形の溝を形成した。
次に、対象物A及び比較対象物Bに迅速エージング試験をした。この試験は、2年間の通常使用に相当する耐用試験を10日間で行なう模擬試験である。このため、対象物は、以下の1から2へと4時間間隔でテストチャンバ内に入れ換えられる。
1.温度55℃及び大気湿度95%
2.温度50℃及び大気湿度ではなく、強度0.83W/m2/nmのUVBライトの照射
12 遷移層
14 反応生成物
16 層システム(反射防止層システム、多層膜)
16a SiNY層
16b SiOX層
16c SiNY層
16d SiOX層
18 真空チャンバ
20 基板の前面
22 ターゲットの表面
24 ターゲット
26 スパッタリングガス入口
28 プリカーサ入口
30 出口
34 基板の裏面側
Claims (14)
- 真空チャンバ(18)内に配置した基板(10)の前面(20)に、CVDプロセスとスパッタリングの組合せによって光学的薄膜を形成する方法であって、
前記基板の前面側に遷移層(12)を形成するために、スパッタリング中、気相状態のプリカーサを前記真空チャンバ(18)内に導入し、
前記プリカーサの反応生成物(14)を、前記CVDプロセスによって前記遷移層(12)内に組み込ませて前記遷移層(12)の機械的特性を変え、
前記真空チャンバ(18)内に導入されたスパッタリングガスのガスイオンを、前記基板(10)の前面(20)に対向配置されるターゲット(24)に衝突させ、前記反応生成物(14)が組み込まれた前記遷移層(12)を形成する、各ステップを含み、
前記真空チャンバ(18)内において気相状態のプリカーサの濃度は、同時に起こるスパッタリング操作がなければ、反応生成物(14)及び/またはプリカーサの付着が阻止されるように、かつ、スパッタリング中には、前記反応生成物(14)及び/または前記プリカーサが、前記ターゲット(24)に対向配置される前記基板(10)の前面(20)に付着されるように、設定されることを特徴とする方法。 - 使用される前記プリカーサは、炭化水素重合体、有機金属化合物、有機シリコン化合物、有機フッ素化合物及び/またはこれらの混合体であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 使用される前記プリカーサは、前記真空チャンバ(18)内の部分圧力が、1・10−3Pa〜1・10−1Paの範囲に設定されたヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)であることを特徴とする請求項1または2に記載の方法。
- 光学素材を製造するための前記遷移層(12)は、合成樹脂製またはガラス製の光学的に透明な基板(10)に形成されることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の方法。
- さらに、層または層システム(16)が、スパッタリング及び/または他の薄膜形成プロセスにより、前記遷移層(12)に形成されることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の方法。
- スパッタリングのために、スパッタリングガスが前記真空チャンバ(18)内に導入されることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の方法。
- 使用されるスパッタリングガスは、酸素及び窒素であることを特徴とする請求項6に記載の方法。
- 前記ターゲット(24)の材料は、シリコンであることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の方法。
- 請求項1〜8のいずれかに記載の光学的薄膜を形成するプロセスを実行する装置であって、該装置は、プリカーサ入口(28)を備えた排気可能な真空チャンバ(18)を含んでおり、プリカーサ入口を介して制御装置によってプリカーサが所定濃度に設定されることを特徴とする装置。
- 前面(20)とターゲット面(22)との間の距離が、50mm〜150mmの間であることを特徴とする請求項9に記載の装置。
- 使用される前記プリカーサは、ヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)であることを特徴とする請求項2に記載の方法。
- 使用される前記プリカーサは、前記真空チャンバ(18)内の部分圧力が、1.5・10 −2 Paに設定されたヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)であることを特徴とする請求項3に記載の方法。
- 前記層または層システムは、反射防止層または反射防止層システムであることを特徴とする請求項5に記載の方法。
- 前記距離は、105mmであることを特徴とする請求項10に記載の装置。
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