KR20060052490A - 광학적 코팅층의 코팅방법 - Google Patents

Abstract

본 발명에 의한 코팅장치에 의해 수행되는 본 발명에 따른 코팅방법에서, 기판(10)에 코팅될 층구조(16)의 기계적 특성과 기판의 기계적 특성을 합치시키는 변이층(12)을 기판(10)의 정면(20)에 코팅한다. 이를 위하여, 진공실(18)에서 스퍼터링과정이 수행되는 동안에, 반응 생성물(14)이 변이층(12)에 도입된다. 이것은 진공실(18)의 다른 표면들과 기판(10)의 배면(34)이 반응 생성물(14) 및/또는 전구체들로 오염되는 것을 방지한다.

코팅

Description

광학적 코팅층의 코팅방법{PROCESS FOR APPLYING IN PARTICULAR OPTICAL COATINGS}

도 1은 반응생성물이 포함된 변이층을 갖는 코팅된 기판의 단면도.

도 2는 도 1의 기판의 상세도로서, 변이층과 반사방지 구조가 기판위에 형성된 것을 보여준다.

도 3은 진공실에 두개의 기판들과 타겟이 제공된 본 발명에 따른 코팅장치의 평면도.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *

10 : 기판 12 : 변이층

14 : 반응 생성물 16 : 층구조

18 : 진공실 20 : (기판의) 정면

24 : 타겟

본 발명은 청구범위 제1항과 제9항에 각각 청구된 바와같은 코팅층을 코팅하는 방법과 장치에 관한 것이다.

진공에서의 코팅 방법은, 예를들어 반사방지용 및 거울 코팅, 광필터 및 기타 기판의 표면 처리를 위하여 광학적 코팅층을 코팅하기 위하여 사용된다. 진공실에서 수행되는 진공 코팅 방법은 증착, 화학적 등착, 스퍼터링등을 포함한다.

증착에서는, 먼저 히터나 전자 비임 투사에 의해 코팅 재료가 용융되고 증기화된다. 그런 다음, 증기상의 코팅 재료는 코팅할 기판의 보다 차거운 표면에서 응축되어서 코팅층을 형성하게 된다. 그러나, 증기상의 코팅 재료가 접근할 수 있는 진공실의 다른 표면에도 증착이 이루어진다.

물리적인 증착 방법에서와 달리, 화학적 증착에서는 처음에는 기상인 고체 성분이 화학반응의 결과 기판의 표면에 부착된다. 이를 위한 예비조건은 한정된 상대 반응물을 갖는 제한된 조건하에서 고형층으로서 증착되는 화합물이 기상으로서 존재하는데 필요한 특성을 갖는 것이다. 화학적 증착의 한 예로는 고플라즈마 화학적 증착이다. 이러한 예에서, 플라즈마는 코팅할 기판 표면위에 생성된다. 도입된 증기내의 일부 성분들은 플라즈마에서 화학적으로 반응상태로 되어서 기판 표면의 빈 공간에서 화학반응을 하여 고형층이 형성되도록 한다.

스퍼터링은 이온을 투사하여 코팅 재료의 고체 상태의 타겟으로부터 미세 입 자 상태로 분리되게 하는데 이용되며, 분리된 미세 입자들은 진공실에서 스퍼터링 가스와 함께 반응한 다음 상기 타겟에 바로 대향되게 위치한 기판의 정면에서 응축되어 고형의 코팅층을 형성하게 된다. 스퍼터링은 이온 투사에 의해 초래되는 직접적인 특징을 갖는 잘 알려진 물리적 코팅방법이며, 이에 의한 코팅은 타겟에 대향된 기판의 특히 정면에만 수행된다.

상술한 코팅방법들은 흔히 세라믹 특성을 갖는 무기물 재료들의 코팅을 위하여 통상적으로 사용된다. 그러나, 무기물층은 일반적으로 취성이 매우 큰 단점이 있으며, 이것은 특히 무기물 코팅층과 상이한 탄성 계수와 팽창 계수와 같은 기계적 및/열적 특성을 갖는 플라스틱 기판들에의 이용을 제한되게 하고 있다. 이러한 탄성계수와 팽창계수의 차이는, 반사방지 코팅층과 스크래칭 방지 코팅층이 높은 광학적 품질 요구를 충족하면서 높은 기계적 및 열 응력에 노출되는, 플라스틱 안경 렌즈와 감시경에서 중요하게 작용한다. 기판과 코팅층의 기계적 및 열적 특성의 큰 차이는 접착력을 감소시키고 심지어 코팅층이 박리될 수도 있게 한다. 안경 렌즈의 코팅층의 박리는 예를들어 안경 렌즈가 마모될 때 렌즈의 시야의 손상을 초래할 수 있다.

이러한 문제를 해결하기 위하여, 플라스틱 렌즈 표면을 경화시키도록 습식 화학 공정에 의해 경질 락커(lacquers)로 시일하는 것이 알려져 있다. 이렇게 처리된 렌즈 표면은 다시 경질 락커층 위에 광학적 코팅층이 형성된다. 그러나, 이러한 경질 락커 코팅방법은 기술적으로 매우 복잡하고, 광학적으로 완전한 경질 락커 코팅층 형성의 생산성이 낮고, 진공 코팅 방법에 의해 형성되는 산화물 또는 질화물 층의 무기물 코팅층들과 비교하여 상대적으로 낮은 내마모성 및 내구성을 갖는 문제가 있다. 더욱이, 2단계의 공정은 표면 오염의 문제와 보다 복잡한 처리기술로 인한 제조비용이 증가되는 문제가 있다.

다른 해결책은, EP 특허 제0870070호에 개시된, 별도 코팅되는 경질 락커층을 갖지 않도록 하는 것이다. 이 경우, 고플라즈마 화학증착 공정에서, 진공실에 산소와 질소의 반응가스와 함께 증기상의 유기금속 단량체들이 진공실에 도입되고, 그전에 형성된 바와같이 코팅층에 합체된다. 유기금속 단량체 헥사메틸렌디실록산(HMDSO)을 사용하여 유기적으로 개질된 산화물, 산소질화물 또는 질화물층을 형성한다. 이러한 방법의 바람직한 이용 분야는 장식적 표면 및 외부 장식을 위한 코팅, 유리창 및 거울 코팅, 필름 코팅등이 포함된다.

플라즈마-변성 화학증착에 따른 문제점은 기판의 요구되는 표면 뿐만 아니라 진공실의 다른 표면, 특히 기판의 배면들에도 제어되지 않고 코팅되거나 오염시키는 것이다. 이것은 화학증착의 조건이 기판 표면들에서 반응가스가 화학적으로 반응하게 선택되기 때문에 발생되는 것이다. 따라서, 생산과정에서 진공실에 대하여 시간이 많이 소모되고 비용이 많이 드는 세정작업이 필요하게 된다. 기판 배면에 제어되지 않은 코팅은 최종 제품의 시각적 품질에 좋지 않은 영향을 주기 때문에, 이러한 방식의 화학증착 방법은 광학적 요소들의 제조에 문제를 야기한다.

EP-A-0870070는 코팅할 표면의 바로 앞에 고밀도 플라즈마 영역을 발생시키고 코팅할 표면에 반응가스와 단량체들의 통로를 향하게 함으로써, 국소 표면만을 코팅하는 방법을 개시하고 있다. 그러나, 이러한 방법은 기술적으로 복잡하고, 진 공실의 오염과, 기판들의 배면의 제어되지 않은 코팅을 충분히 방지하지 못한다.

본 발명의 목적은 진공실의 오염을 최소화하면서 기판의 정면에 미리 설정된 기계적 특성을 갖는 코팅층을 형성하는 코팅 방법과 장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 목적은 청구범위 제 1항과 제9항 각각에서 청구된 코팅 방법 및 장치에 의해 달성된다. 특히, 바람직한 실시예들은 종속항들에 기재되어 있다.

본 발명에 의한 코팅방법과 장치는 기판의 정면에 과학적 변이층을 형성하는데 사용된다. 상기 변이층은 기판의 기계적 특성을 변이층 위에 코팅되는 층들의 기계적 특성과 맞도록 하기 위한 것이다. 이것은 기판의 재료와 그 위의 층들 사이에 탄성도와 강도 및 열특성들에 있어서 상호 적합하게 해준다. 스퍼터링은 우수한 방향 특성으로 코팅층을 신속하게 형성하는 장점이 있으며, 그 결과 진공실의 오염을 상당히 방지한다. 변이층을 형성하는데 사용되는 스퍼터링 공정중에, 변이층에서 그 기계적 특성을 변화시키는 반응 생성물의 전구체들이 진공실내로 도입된다. 증기상인 상기 전구체들의 진공실에서의 농도는, 동시적인 스퍼터링 과정외에 화학증착 공정의 일부로서 반응생성물 및/또는 전구체들의 부착은 실질적으로 발생되지 않는다. 이것은 반응생성물과 전구체들에 대하여 스퍼터링이 발생되지 않으면, 흡착과 탈착이 평형을 이루는 반면, 스퍼터링중에는 탈착이 방해되고 타겟의 맞은편에 위치한 영역, 특히 코팅할 표면에서의 흡착이 일어나는 것을 의미한다. 이런 식으로, 반응 생성물과 전구체들은 목표된 방향으로, 궁극적으로는 기판의 정면에서, 특히 타겟에 마주보게 놓인 영역에 부착된다. 따라서 진공실의 주변 표면과 기판의 배면에의 오염이 덜 된다.

기판을 이동시키지 않고 진공실에서 스퍼터링에 의해 다른 코팅을 수행할 수도 있다. 예를들어, 변이 영역을 코팅한 다음, 동일한 타겟 예를들어 실리콘 타겟을 사용하여 단일의 공정에서 감시면이나 안경 렌즈에 반사방지 코팅을 위하여 실리콘산화물/실리콘 질화물층을 코팅할 수도 있다. 보호 및 반사방지층을 코팅하기 위한 이러한 공정은 예를들어 EP-A-1275751호에 개시되어 있다.

본 발명에 따른 장치와 방법은 특히 광학적 부품에서도 고품질의 코팅을 제공하고, 작업 시간을 저감시키고 및 제조비용을 절감한다. 종래 기술과 달리, 본 발명의 기술은 순수한 화학적 공정이 아니라, 현저한 방향적 특성을 갖는 물리적 스퍼터링과 변이층에서의 반응 생성물의 화학 반응을 결합한 것이다.

이하에서는 첨부한 도면을 참고하여 본 발명의 특히 바람직한 실시예의 방법과 장치를 보다 상세히 설명하기로 한다.

도 1에 도시된 기판(10)은 본 발명에 따른 장치와 방법을 사용하여 형성된 코팅을 갖는다. 변이층(12)에는 전구체들로부터 형성된 반응 생성물(14)을 포함하고 기판(10) 위에 직접 형성되어 있다. 상기 반응 생성물(14)은 기판(10)의 기계적 및 열적 특성들을 기판 위의 반사방지 층구조(16)의 기계적 및 열적 특성들과 합치시키기 위하여 사용된다. 이로써 기판(10)과 층구조(16)가 기계적으로 양립될 수 있게 된다. 변이층(12)의 증가된 탄성도와 개선된 일체성은 부서지는 것을 방지하고, 무기물의 층구조(16)가 분리되는 것을 방지한다. 그러므로 변이층은 기판(10) 과 층구조(16) 사이의 연결 기능을 수행한다.

도 1에 도시된 변이층(12)은 플라스틱으로 만들어진 기판(10)에 주로 샌드위치식으로 둘러싸이며, 실리콘 산화물을 포함하고, 500nm의 두께를 갖는다. 상기 변이층(12) 위의 반사방지 층구조(16)는 도 2에 도시된 바와같이, 214nm의 두께를 가지며, 33nm 두께의 실리콘질화물(SiNy)층(16a), 22nm 두께의 실리콘산화물(SiO2)층(16b), 여기에 66nm 두께의 실리콘질화물(SiNy)층(16c)과, 94nm 두께의 실리콘산화물(SiO2)층(16d)을 더 포함하여 구성된다. 동일한 실리콘 타겟 재료와, 산소와 질소의 스퍼터링 가스를 변이층(12)의 생성에 사용하기 때문에, 층(12, 16a, 16b, 16c, 16d)들이 기판을 이동시킬 필요없이 단일 공정으로 연속해서 코팅된다. 반사방지 코팅을 하기 위하여 사용되는 방법은 전술한 EP-A-1275751에 기술되어 있다. 플라스틱 기판(10)에 더하여, 다른 기판 재료, 예를들어 유리, 금속 또는 세라믹 재료들을 동일한 방법으로 코팅할 수 있다. 더욱이, 기판(10)과 층구조(16) 사이의 양립성을 최적화하기 위하여, 전구체 농도를 변화시킴으로써 코팅 공정중에 제한된 농도 구배의 반응 생성물(14)이 변이층(12)에 형성될 수 있다.

도 3은 본 발명에 따른 장치의 평면도를 개략적으로 보여준다. 벽들로 형성되는 진공실(18)의 내부에, 두개의 기판(10)들이 배치되며, 기판의 정면(20)들은 진공실(18)의 내부를 향하고 궁극적으로는 타겟(24)의 표면(22)과 마주보게 평행하게 배치된다.

기판의 정면(20)과 타겟 표면 사이의 거리는, 기판에 따라 다르지만, 50-150mm, 바람직하게는 90-120mm이다.

예시된 실시예는 실리콘 타겟을 사용한다. 물론, 스퍼터링에 적합한 다른 재료를 사용할 수 있다. 타겟의 표면 쪽에서, 도시되지 않았지만 장치가 타겟(24)에 이온을 충돌시키도록 사용된다. 이것은 통상적인 스퍼터링 방법에서 알려진 방법으로, 예를들어 직류 전압 가스방전에 의하거나 또는 펄스 모드에서 작동되며 타겟(24)에 배치된 마그네트론에 의해 수행될 수 있다.

타겟 표면(22)의 부근에서, 스퍼터링 가스의 이온들을 포함하는 플라즈마가 스퍼터링 가스에서, 본 실시예에서는 스퍼터링 가스 유입구(26)를 통해 진공실(18)로 인입된 아르곤 가스와 산소 가스에서 생성된다. 전자기장에서, 이온들은 타겟 표면(22)을 향하여 가속된다. 이온들이 타겟의 표면(22)에 충돌할 때, 실리콘 원자들이 타겟(24)으로부터 방출된다. 운동량 보존 법칙에 따라, 방출된 아톰은 타겟 표면(22)에서 직각으로 기판(10)의 정면(20)으로 운동하게 되어 스퍼터링중의 코팅 공정에 따른 방향으로 코팅층을 형성한다. 이런 과정에서, 산소에 의해 산화되며, 본 실시예에서는 실리콘산화물로 형성되어 기판(10)의 정면(20)에 부착된다.

스퍼터링 가스의 유입을 위한 스퍼터링 가스 유입구(26)에 더하여, 진공실(18)은 또한 적어도 하나의 전구체 유입구(28)와 배출구(30)를 갖는다.

반응 생성물(14)의 전구체들은 기상으로 전구체 유입구(28)를 통해 진공실(18)로 공급된다. 도면에 도시되지 않은 제어장치에 의해 진공 펌프에 연결된 배출구(30)를 조작하여, 전구체의 농도와 그 분압이 조절된다. 본 실시예에서, 사용된 전구체는 헥사메틸렌디실록산(HMDSO)이다. 변형예로서, 다른 물질들 또는 이들의 혼합물이 증기상으로 사용될 수 있으며, 바람직한 예로는 유기금속 물질들이다. 본 실시예에서, 진공실(18)의 크기가 10 dm³일 때, 전구체 HMDSO의 유량은 5 sccm(표준 cm³/min)로 설정되며(이것은 0.3 ℓ/h에 해당됨), 이로 인한 진공실(18)내의 전구체의 분압은 1.5ㆍ10^-2 Pa이다. 전구체의 상기와 같은 낮은 분압, 또는 낮은 농도에서, 타겟의 표면(22)에 대향되게 놓인 기판(10)의 정면(20)에 반응 생성물(14)이 함께 코팅된다. 전구체의 낮은 농도는, 이온 투사가 없는 경우, 예를들어 가스 방전으로 스위치가 오프되어 플라즈마가 발생되지 않게 될 때, 마그네트론이 작동하지 않게 되고 스퍼터링 가스가 결핍되어 흡착 및 탈착 과정이 전체 진공실(18)내에서 평형을 이루게 되어 전구체나 그에 의한 반응 생성물(14)에 의한 오염적인 코팅이 일어나지 않게 된다.

변이층(12)을 형성하는 스퍼터링이 진행되는 동안에 궁극적으로 평형 상태는 타겟(24)에 마주보게 놓인 영역, 특히 기판의 정면(20)으로 이동되며, 반응 생성물(14)의 순수한 부착은 방해된 탈착 또는 증진된 흡착의 결과로서 발생되고, 그 결과 반응 생성물(14)은 변이층(12)에 합체된다. 더욱이, 흡착과 탈착 과정 사이의 평형은 타겟 표면(22) 또는 타겟(24)에 마주보게 놓이지 않은 모든 표면들에서 나타나게 되며, 이들 표면들에서는 부착물 또는 오염물이 형성되지 않거나 매우 감소되게 형성된다.

스퍼터링중의 코팅 과정의 방향성에 기초하여, 본 발명에 따른 장치나 방법은 타겟 표면(22)에서 기판의 정면(20)을 향하는 뚜렷한 방향 특성을 가지며, 이것은 기판(10)의 뒷면(34)들에서 전구체들 또는 반응 생성물(14)의 불필요한 부착을 방지하게 할 수 있는 잇점이 있다. 기판 뒷면(34)에 대한 제어되지 않은 코팅은 특히 상기 뒷면의 결합강도가 만족스럽지 못하게 함으로써, 뒷면에 대한 후속적인 코팅층 또는 층구조의 형성에 결함을 초래하게 되어 전체적으로 코팅의 부적적한 품질을 초래하게 된다.

상술한 본 발명의 장치를 운전하는 본 발명에 따른 방법은 또한 기존의 진공 코팅방법에서 필요로 하는, 예를들어 진공실(18)의 세정, 기판(10)의 세정, 기판(10)과 타겟(24) 사이의 배치 방향 및 고정, 진공실(18)의 개폐와 분위기 가스의 방출등과 같은 전처리 작업을 필요로 한다. 그런데, 본 발명에 따른 코팅은 기판(10)의 정면(20)에 반응 생성물(14)을 포함하면서 변이층(12)을 형성하여 실시됨으로써, 후속적으로 코팅되는 층구조(16)의 기계적 특성이 기판(10)의 기계적 및/또는 열적 특성과 합치되도록 한다. 스퍼터링중에, 변이층(12)은 반응 생성물(14)을 포함하여 기판의 정면(20)에 형성된다. 이러한 과정중에, 진공실(18)에서의 전구체들의 분압은 1ㆍ10^-3 Pa 내지 1ㆍ10^-1 Pa, 바람직하기로는 1.5ㆍ10^-2 Pa로 설정됨으로써, 타겟 표면(22)에의 이온 충돌이 없어 진공실(18)내에서의 전구체와 반응 생성물(14)의 부착이 방지된다. 변이층(12) 형성이 완료되면, 복잡하고 비용이 많이 소요되는 기판(10)의 이동 없이 층구조(16)를 형성할 수 있다.

본 발명에 따른 방법을 사용하여 변이층(12)을 코팅하고 반사방지 층구조(16)가 코팅된 기판(10)에 대하여 다수의 하중 시험을 수행하였다. 이러한 시험을 위하여, 변이층(12)은 각각의 경우에 아래 공정 조건을 사용하여 시험대상 기판 A 에 코팅되었다.

- 유입 가스 유량 : 아르곤 25 sccm, 산소 15 sccm, HMDSO 5 sccm, 결과적인 HMDSO의 분압 1.5ㆍ10^-2 Pa;

- 1.5 kW의 전력으로 펄스화된 DC 스퍼터링과 펄스 주파스 90 kHz, 플라즈마 펄스 작용 시간 6 ms;

- 실리콘 타겟(24);

- 12-430 nm의 변이층 두께로 변이층(12)을 코팅하는 시간 300 ms;

- 실리콘 타겟(24)과 기판(10) 사이의 거리 105 mm.

그리고, 동일한 반사방지 층구조(16)를 시험대상 기판 A와, 동일한 기판(10)으로서 변이층(12)이 형성되지 않은 참조 대상 기판 B에 코팅하였다. 그 코팅층들에 표준의 공구를 사용하여 제한된 방법으로 손상을 가하였다. 즉, 1 mm의 간격으로 서로 평행하게 연장된 쐐기형 홈들의 4개 줄을 갖는 공구를 사용하여 코팅층들에 스크래칭을 형성하였다. 시험대상 기판 A와 관련 참조 대상 기판 B들에, 통상 2년에 해당되는 조건들이 10일로 압축되게 하여 모의시험을 하는 급속 노후화 시험을 하였다. 이 목적을 위하여, 시험실에서 시험대상 기판들은 4시간 간격으로 아래 조건들에서 전환되었다.

- 1. 55 ℃의 온도와, 95%의 대기 습도 조건에서

- 2. 50 ℃의 온도에서, 대기 습도가 없지만 0.83 W/m2/nm의 세기로 UVB 광 조사.

접착 테이프를 손상된 기판 영역에 붙였다 떼어내는 방식으로, 표준 접착 테이프 시험(ASTM D 3359: 테이프 시험에 의해 접착력을 측정하는 표준 시험방법)으로 시각 조사에 의해 코팅층에서 재료가 제거되는지를 판단한다. 이들 시험에서, 본 발명에 따른 변이층(12)이 제공된 시험대상 기판 A은 층의 성분들이 부가적으로 손상되거나 제거되지 않은 것으로 나타났다. 이와 대조적으로, 참조 대상 기판 B의 코팅의 약 30%가 분리되고, 나머지 코팅에서도 크랙이 형성된 것으로 나타났다. 이러한 결과는 변이층(12)을 코팅하는 것을 포함하는 본 발명에 따른 방법의 작용효과와 잇점을 보여주는 것이다.

본 발명의 방법과 장치의 전형적인 사용 분야는 안경 렌즈의 코팅, 플라스틱 또는 유리로 만들어진 감시면들이다. 그러나, 본 발명의 장치와 방법은 기존의 과학 장치들의 제조나 광학 분야에만 한정되어 사용되지 않으며, 예를들어 태양전지와 관련한, 에너지 기술이나 포장 기술과 같은 다른 분야에서도 사용될 수 있다.

본 발명의 장치와 방법에 따라, 특히 광학적 부품에서도 고품질의 코팅을 제공하고, 코팅 작업 시간을 저감시키고 및 제조비용을 절감하는 효과가 있다.

Claims (10)

1. 타겟(24)의 이온-원자화에 의해 진공실(18)에 배치된 기판(10)의 정면(20)에 특정 광학적 코팅층을 코팅하는 방법에 있어서, 기판(10)에 코팅될 층구조(16)의 기계적 특성과 기판의 기계적 특성을 합치시키는 변이층(12)을 기판(10)에 형성하도록, 변이층(12)에 포함된 상태에서 변이층의 기계적 특성을 변화시키는 반응 생성물(14)을 형성하는 전구체들을 변이층(12)의 코팅전이나 코팅중에 진공실(18)에 유입시키되, 진공실(18)에서 증기상의 전구체들의 농도를 스퍼터링 과정이 동시에 수행되지 않으면 반응생성물(14) 또는 전구체들이 부착되지 않으며, 스퍼터링중에는 반응생성물(14)이나 전구체들이 타겟(24)에 마주보게 놓인 기판(10)의 정면(20)의 영역에 부착되도록 하는 것을 특징으로 하는 광학적 코팅층을 코팅하는 방법.
2. 제 1항에 있어서, 상기 전구체들은 중합가능한 탄화수소, 유기금속 화합물, 유기실리콘 화합물, 유기플루오르 화합물, 및/또는 이들의 화합물, 바람직하게는 헥사메틸렌디실록산(HMDSO)인 것을 특징으로 하는 코팅방법.
3. 제 1항 또는 2항에 있어서, 상기 전구체는 헥사메틸렌디실록산(HMDSO)이며, 진공실(18)에서의 전구체들의 분압은 1ㆍ10^-3 Pa 내지 1ㆍ10^-1 Pa, 바람직하기로는 1.5ㆍ10^-2 Pa로 설정됨을 것을 특징으로 하는 코팅방법.
4. 제 1항 내지 3항중 어느 한 항에 있어서, 상기 변이층(12)을 광학적 부품을 형성하기 위하여 플라스틱이나 유리로 만들어진 투명한 기판(10)에 코팅하는 것을 특징으로 하는 코팅방법.
5. 제 1항 내지 4항중 어느 한 항에 있어서, 상기 반사방지층 또는 반사방지 층구조를 형성하기 위하여 층구조(16)를 스퍼터링 및/또는 다른 코팅방법으로 변이층(12)에 코팅하는 것을 특징으로 하는 코팅방법.
6. 제 1항 내지 5항중 어느 한 항에 있어서, 상기 스퍼터링 가스를 스퍼터링을 위한 진공실(18)로 유입시키는 것을 특징으로 하는 코팅방법.
7. 제 6항에 있어서, 상기 스퍼터링 가스는 산소와 질소인 것을 특징으로 하는 코팅방법.
8. 제 1항 내지 7항중 어느 한 항에 있어서, 상기 타겟(24)의 재료는 실리콘인 것을 특징으로 하는 코팅방법.
9. 제어장치에 의해 전구체를 미리 설정된 농도로 유입되게 하는 전구체 유입구(28)를 구비하는 소기가능한 진공실(18)을 포함하는, 제 1항 내지 8항중 어느 한 항에 의한 광학적 코팅층의 코팅방법을 수행하는 코팅장치.
10. 제 9항에 있어서, 상기 기판의 정면(20)과 타겟(22) 표면 사이의 거리는 50 mm 내지 150 mm이며, 특히 바람직하게는 105 mm인 것을 특징으로 하는 코팅장치.

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