JPH0310706B2 - - Google Patents
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- JPH0310706B2 JPH0310706B2 JP59170341A JP17034184A JPH0310706B2 JP H0310706 B2 JPH0310706 B2 JP H0310706B2 JP 59170341 A JP59170341 A JP 59170341A JP 17034184 A JP17034184 A JP 17034184A JP H0310706 B2 JPH0310706 B2 JP H0310706B2
- Authority
- JP
- Japan
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- chamber
- physical vapor
- vapor deposition
- pressure plasma
- plasma discharge
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- Expired - Lifetime
Links
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 claims description 12
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 5
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 239000010408 film Substances 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、金属被膜を物理的蒸気析出法によ
つて被加工物表面に形成した後、これを周囲の空
気に触れさせる前にその表面にさらに不活性の導
膜層を形成する不動態化処理を行つて耐酸化耐候
性を与えようとする装置に関するものである。
つて被加工物表面に形成した後、これを周囲の空
気に触れさせる前にその表面にさらに不活性の導
膜層を形成する不動態化処理を行つて耐酸化耐候
性を与えようとする装置に関するものである。
例えば、眼鏡、その他の合成樹脂製品、あるい
は自動車部品のような金属製品において、表面に
アルミニウム、クローム、亜鉛、錫などの薄膜を
真空蒸着、イオンプレーテイング、スパツタリン
グなどの物理的蒸気析出法によつて付着させるこ
とは従来より公知である。これらの装置では成膜
金属が極めて活性化された状態での処理であるの
で、処理後大気中に取り出すと直ちに表面が酸化
し勝ちである。この時基材の部分的温度勾配と
か、直接露出されている面と直接露出されていな
い内部の面とかの局部的条件によつて、酸化度に
ムラを生じ、製品の品質、例えば電気的、光学的
特性、装飾的価値などに劣化を生ずる。
は自動車部品のような金属製品において、表面に
アルミニウム、クローム、亜鉛、錫などの薄膜を
真空蒸着、イオンプレーテイング、スパツタリン
グなどの物理的蒸気析出法によつて付着させるこ
とは従来より公知である。これらの装置では成膜
金属が極めて活性化された状態での処理であるの
で、処理後大気中に取り出すと直ちに表面が酸化
し勝ちである。この時基材の部分的温度勾配と
か、直接露出されている面と直接露出されていな
い内部の面とかの局部的条件によつて、酸化度に
ムラを生じ、製品の品質、例えば電気的、光学的
特性、装飾的価値などに劣化を生ずる。
この発明は上記の欠点をなくすために、原材料
に被覆された金属薄膜の表面にそれが大気に触れ
る前に耐酸化耐候性の一様な被膜を形成する装置
を提供するものである。
に被覆された金属薄膜の表面にそれが大気に触れ
る前に耐酸化耐候性の一様な被膜を形成する装置
を提供するものである。
この発明の装置は、真空室内で物理的蒸気析出
法により被加工物表面に金属被膜を析出させた
後、隣接した処理室内に真空を保持した状態で該
被加工物を導入させ、ついで同処理室内の対向電
極間の低圧プラズマ放電中を通過させることを特
徴とする。
法により被加工物表面に金属被膜を析出させた
後、隣接した処理室内に真空を保持した状態で該
被加工物を導入させ、ついで同処理室内の対向電
極間の低圧プラズマ放電中を通過させることを特
徴とする。
又一般的に物理的蒸気析出法によつて金属被覆
を行つた後、局部的酸化などして困る被加工材に
実施するこの発明の装置は、積込室、物理的蒸気
析出室、低圧プラズマ放電室及び積出室を順次ゲ
ートバルブを介して設け、各室にはそれぞれ真空
ポンプによる排気装置と各室内を連続的に被加工
物を移動させる移送装置とを設け、さらに物理的
蒸気析出室には移送装置の下方に物理的蒸気析出
装置を、低圧プラズマ放電室には不活性ガス導入
口と移送装置を挾んだ低圧プラズマ放電電極板を
設けたことを特徴とする。
を行つた後、局部的酸化などして困る被加工材に
実施するこの発明の装置は、積込室、物理的蒸気
析出室、低圧プラズマ放電室及び積出室を順次ゲ
ートバルブを介して設け、各室にはそれぞれ真空
ポンプによる排気装置と各室内を連続的に被加工
物を移動させる移送装置とを設け、さらに物理的
蒸気析出室には移送装置の下方に物理的蒸気析出
装置を、低圧プラズマ放電室には不活性ガス導入
口と移送装置を挾んだ低圧プラズマ放電電極板を
設けたことを特徴とする。
以下に図面を参照してこの発明の実施例を詳細
に説明する。
に説明する。
図面は例えば自動車部品のような個体に耐酸化
耐候性被膜を形成するための装置の１実施例を示
している。
耐候性被膜を形成するための装置の１実施例を示
している。
Ａ室は積込室、Ｂ室は真空蒸着、イオンプレー
テイング、スパツタリングなどの物理的蒸気析出
により個体に連続的に成膜処理をする物理的蒸気
析出室で、Ｃ室は低圧プラズマ放電、Ｄは積出室
であつて、各室はゲートバルブ１，２，３によつ
て接続され、かつ両端にはゲートバルブ４，５が
設けられ、又各室は真空ポンプ４，７，８，９に
よつてそれぞれ排気され所定圧に維持される。
テイング、スパツタリングなどの物理的蒸気析出
により個体に連続的に成膜処理をする物理的蒸気
析出室で、Ｃ室は低圧プラズマ放電、Ｄは積出室
であつて、各室はゲートバルブ１，２，３によつ
て接続され、かつ両端にはゲートバルブ４，５が
設けられ、又各室は真空ポンプ４，７，８，９に
よつてそれぞれ排気され所定圧に維持される。
被加工物を載置する例えば台車１０は内部軌道
１１上を移動することができ、Ｂ室の軌道の上方
にはスパツタ用蒸発源（ターゲツト）１２が設け
られ、Ｃ室では軌道を挾んで上下に電極板P1，
P2が設けられ、又Ｃ室にはガス導入口１３が設
けられている。台車には被加工物を自公転させて
一様な被膜をつけるようにする治具（図示なし）
が設けられている。Ａ室は大気圧と10-3Torr，
Ｂ室は10-3Torr，Ｃ室は10-1Torr，Ｄ室は
10-1Torrと大気圧になるように各ポンプ、ガス
導入バルブを作動させるようにして、それぞれの
処理を行なう。
１１上を移動することができ、Ｂ室の軌道の上方
にはスパツタ用蒸発源（ターゲツト）１２が設け
られ、Ｃ室では軌道を挾んで上下に電極板P1，
P2が設けられ、又Ｃ室にはガス導入口１３が設
けられている。台車には被加工物を自公転させて
一様な被膜をつけるようにする治具（図示なし）
が設けられている。Ａ室は大気圧と10-3Torr，
Ｂ室は10-3Torr，Ｃ室は10-1Torr，Ｄ室は
10-1Torrと大気圧になるように各ポンプ、ガス
導入バルブを作動させるようにして、それぞれの
処理を行なう。
このＣ室の圧力は、上述のように例えば
10-1Torr程度に真空ポンプ８によつて維持され、
酸素、じ窒素又はこの混合ガスが導入口１３によ
り注入されてＣ室は不活性ガスの雰囲気とされ
る。
10-1Torr程度に真空ポンプ８によつて維持され、
酸素、じ窒素又はこの混合ガスが導入口１３によ
り注入されてＣ室は不活性ガスの雰囲気とされ
る。
電極板P1，P2間には直流又は交流のたとえば
約1000Vの電圧をかけ電極間に上記のガスの低圧
プラズマ放電（グロー放電）を発生させる。
約1000Vの電圧をかけ電極間に上記のガスの低圧
プラズマ放電（グロー放電）を発生させる。
すなわち、酸素又は窒素あるいは混合ガスのグ
ロー中ではこれらはイオンあるいは活性化された
ラヂカルなガスとなつているので、Ｂ室で成膜さ
れた物理的蒸気析出膜の活性化された表面と極め
て容易に結合し、一様で緻密な酸化あるいは窒化
膜が金属表面を覆うようになる。
ロー中ではこれらはイオンあるいは活性化された
ラヂカルなガスとなつているので、Ｂ室で成膜さ
れた物理的蒸気析出膜の活性化された表面と極め
て容易に結合し、一様で緻密な酸化あるいは窒化
膜が金属表面を覆うようになる。
さらにグロー中を通過する間に膜表面温度が上
り膜内の格子欠陥、内部応力を減少させ、電気抵
抗などの経時変化分をその時点で加速させて以後
の変化分を減少させるなどの効果を生ずる。
り膜内の格子欠陥、内部応力を減少させ、電気抵
抗などの経時変化分をその時点で加速させて以後
の変化分を減少させるなどの効果を生ずる。
図面は個体に表面処理後に耐酸化耐候性被膜を
形成する装置の説明図である。 Ａ……積込室、Ｂ……物理的蒸気処理室、Ｃ…
…低圧プラズマ放電室、Ｄ……積出室、P1，P2
……電極板、１，２，３，４，５……ゲートバル
ブ、６，７，８，９……排気ポンプ、１０……台
車、１１……軌道、１２……蒸発源、１３……ガ
ス導入口。
形成する装置の説明図である。 Ａ……積込室、Ｂ……物理的蒸気処理室、Ｃ…
…低圧プラズマ放電室、Ｄ……積出室、P1，P2
……電極板、１，２，３，４，５……ゲートバル
ブ、６，７，８，９……排気ポンプ、１０……台
車、１１……軌道、１２……蒸発源、１３……ガ
ス導入口。
Claims (1)
- １ 積込室、物理的蒸気析出室、低圧プラズマ放
電室及び積出室を順次ゲートバルブを介して設
け、各室にはそれぞれ真空ポンプによる排気装置
と各室内を連続的に被加工物を移動させる移送装
置とを設け、さらに物理的蒸気析出室には移送装
置の上方に物理的蒸気析出装置を、低圧プラズマ
放電室には不活性ガス導入口と移送装置を挾んだ
低圧プラズマ放電電極板を設けたことを特徴とす
る被加工物の表面処理後の耐酸化耐候性被膜の形
成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17034184A JPS60194060A (ja) | 1984-08-17 | 1984-08-17 | 表面処理後の耐酸化耐候性被膜の形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17034184A JPS60194060A (ja) | 1984-08-17 | 1984-08-17 | 表面処理後の耐酸化耐候性被膜の形成装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6639780A Division JPS56163262A (en) | 1980-05-21 | 1980-05-21 | Method and apparatus for forming oxidation and weather resistant film after surface treatment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60194060A JPS60194060A (ja) | 1985-10-02 |
| JPH0310706B2 true JPH0310706B2 (ja) | 1991-02-14 |
Family
ID=15903129
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17034184A Granted JPS60194060A (ja) | 1984-08-17 | 1984-08-17 | 表面処理後の耐酸化耐候性被膜の形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60194060A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6113701A (en) * | 1985-02-14 | 2000-09-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device, manufacturing method, and system |
| JP2763056B2 (ja) * | 1988-11-11 | 1998-06-11 | ユニチカ株式会社 | 複合不織シートの製造方法 |
| KR100317730B1 (ko) * | 1999-11-29 | 2001-12-24 | 김덕중 | 산화피막 형성방법 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53129181A (en) * | 1977-04-19 | 1978-11-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Continuous vacuum evaporation apparatus |
| JPS54163739A (en) * | 1978-06-16 | 1979-12-26 | Ricoh Kk | Fabrication of oxidized film |
-
1984
- 1984-08-17 JP JP17034184A patent/JPS60194060A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53129181A (en) * | 1977-04-19 | 1978-11-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Continuous vacuum evaporation apparatus |
| JPS54163739A (en) * | 1978-06-16 | 1979-12-26 | Ricoh Kk | Fabrication of oxidized film |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60194060A (ja) | 1985-10-02 |
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