JPH0390067A - 置換されたアリールスルホニルアミノグアニジノアジン - Google Patents
置換されたアリールスルホニルアミノグアニジノアジンInfo
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D521/00—Heterocyclic compounds containing unspecified hetero rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D239/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings
- C07D239/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings
- C07D239/24—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D239/28—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, directly attached to ring carbon atoms
- C07D239/46—Two or more oxygen, sulphur or nitrogen atoms
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
- A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
- A01N51/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds having the sequences of atoms O—N—S, X—O—S, N—N—S, O—N—N or O-halogen, regardless of the number of bonds each atom has and with no atom of these sequences forming part of a heterocyclic ring
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、新しい置換されたアリールスルホニルアミノ
グアニジノアジン、その製造方法およびそれの除草剤と
しての使用に関するものである。
グアニジノアジン、その製造方法およびそれの除草剤と
しての使用に関するものである。
或種のスルホニルアミノグアニジノアジン、例えばN’
−(4,6−ジメチル−ピリミジン−2−イル)−N
’ −(4−メチル−フェニルスルホニルアミノ)−N
” −(2−クロルーフェニルスルホニル)−グアニジ
ンおよびN’ −(4,6−シメチルービリ處ジンー2
−イル) −N’ −(2−メトキシカルボニル−フェ
ニルスルホニルアa))−N′″(2−メトキシカルボ
ニル−ツユニルスルホニル)−グアニジンのようなスル
ホニルアミノグアニジノアジンが除草性を有することは
既に文献に開示されている(欧州特許出願公開公報第1
21.082号および第302,378号を参照)、シ
かしながら、これらの公知化合物の除草作用はすべての
点で満足でない。
−(4,6−ジメチル−ピリミジン−2−イル)−N
’ −(4−メチル−フェニルスルホニルアミノ)−N
” −(2−クロルーフェニルスルホニル)−グアニジ
ンおよびN’ −(4,6−シメチルービリ處ジンー2
−イル) −N’ −(2−メトキシカルボニル−フェ
ニルスルホニルアa))−N′″(2−メトキシカルボ
ニル−ツユニルスルホニル)−グアニジンのようなスル
ホニルアミノグアニジノアジンが除草性を有することは
既に文献に開示されている(欧州特許出願公開公報第1
21.082号および第302,378号を参照)、シ
かしながら、これらの公知化合物の除草作用はすべての
点で満足でない。
〔発明の構成および発明の詳細な説明〕欧州特許出願公
開公報第302.37.8号に開示されているN’ −
(4,6−シメチルービリξジンー2−イル)−N’
−(2−メトキシカルボニル−フェニルスルホニルアミ
ノ))−N” −(2−メトキシカルボニル−フェニル
スルホニル)−グアニジンを除く、下記の一般式(1)
で表される新規な置換されたアリールスルホニルアミノ
グアニジノアジンがここに発見された。
開公報第302.37.8号に開示されているN’ −
(4,6−シメチルービリξジンー2−イル)−N’
−(2−メトキシカルボニル−フェニルスルホニルアミ
ノ))−N” −(2−メトキシカルボニル−フェニル
スルホニル)−グアニジンを除く、下記の一般式(1)
で表される新規な置換されたアリールスルホニルアミノ
グアニジノアジンがここに発見された。
式中
R1は各々の場合、随意に置換されたアリール、アラル
キルまたはへテロアリールを表し、Rzはヒドロキシル
またはアミノを表すか、あるいは各々の場合、随意に置
換されたアルコキシまたはアルキルアミノを表し、 R3は水素、ハロゲン、ヒドロキシル、アルキル、ハロ
ゲノアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシ、ハロ
ゲノアルコキシ、アルキルチオ、ハロゲノアルキルチオ
、アミノ、アルキルアもノまたはジアルキルアミノを表
し、 Xは窒素または−CO基を表し、 Yは窒素または−CR’基を表し、ここでR4は水素、
ハロゲン、シアノ、アルキル、ホルミル、アルキル−カ
ルボニルまたはアルコキシ−カルボニルを表し、そして Zは窒素または−CR’基を表し、ここでR%は水素、
ハロゲン、ヒドロキシル、アルキル、アルコキシ、アル
キルチオ、アルキルアミノまたはジアルキルアミノを表
す。
キルまたはへテロアリールを表し、Rzはヒドロキシル
またはアミノを表すか、あるいは各々の場合、随意に置
換されたアルコキシまたはアルキルアミノを表し、 R3は水素、ハロゲン、ヒドロキシル、アルキル、ハロ
ゲノアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシ、ハロ
ゲノアルコキシ、アルキルチオ、ハロゲノアルキルチオ
、アミノ、アルキルアもノまたはジアルキルアミノを表
し、 Xは窒素または−CO基を表し、 Yは窒素または−CR’基を表し、ここでR4は水素、
ハロゲン、シアノ、アルキル、ホルミル、アルキル−カ
ルボニルまたはアルコキシ−カルボニルを表し、そして Zは窒素または−CR’基を表し、ここでR%は水素、
ハロゲン、ヒドロキシル、アルキル、アルコキシ、アル
キルチオ、アルキルアミノまたはジアルキルアミノを表
す。
一般式(1)は、存在し得る下記の式(IA)、(IB
)および(IC)で表される個々の互変異性体並びにこ
れらの互変異性体の混合物を表す。
)および(IC)で表される個々の互変異性体並びにこ
れらの互変異性体の混合物を表す。
(以下余白)
一般式(1)で表される新しい置換された了り−ルスル
ホニルアミノグアニジノアジンは、(a) 下記の一
般式(II)で表されるスルホニル化合物を、 (式中、R1,R3、 味を有し、そして Aは下記の離脱基、すなわち Rh−5Q、−N−OR’ または −Q−R”X1
YおよびZは前述の意 のいずれか一方を表し、 ここで R6はR1の場合について示した上記の意味を有するが
、各々の個々の場合においてR1と同一である必要はな
く、R?はアルキル、アルケニルまたはアラルキルを表
し R1はアルキル、アラルキルまたはアリールを表し
、そしてQは酸素または硫黄を表す) 適当ならば希釈剤の存在下において、下記の一般式CI
[I)で表されるスルホン酸ヒドラジドと反応させると
き、 あるいは (ロ)下記の一般式(IV)で表されるアミノグアニジ
ノアジンを、 (式中、R’ 、R3、XSYおよびZは前述の意味を
有する) 適当ならば希釈剤の存在下および適当ならば酸受容体の
存在下において、下記の一般式(V)で表されるハロゲ
ン化スルホニルと反応させるか、(式中、R8は前述の
意味を有し、そしてXlはハロゲンを表す) または下記の式(VI)で表される無水スルホ安息香酸
と反応させるとき、 あるいは (C) −軟式(1)の中でR2が随意に置換された
アルコキシを表し、そしてR’ 、 R” 、X、、Y
およびZが前述の意味を有する、−i式(I)の置換さ
れたアリールスルホニルアミノグアニジノアジンを、適
当ならば希釈剤の存在下において、アルカリ金属水酸化
物水溶液またはアンモニアまたは随意に置換されたアル
キルアミンと反応させるときに得られる。
ホニルアミノグアニジノアジンは、(a) 下記の一
般式(II)で表されるスルホニル化合物を、 (式中、R1,R3、 味を有し、そして Aは下記の離脱基、すなわち Rh−5Q、−N−OR’ または −Q−R”X1
YおよびZは前述の意 のいずれか一方を表し、 ここで R6はR1の場合について示した上記の意味を有するが
、各々の個々の場合においてR1と同一である必要はな
く、R?はアルキル、アルケニルまたはアラルキルを表
し R1はアルキル、アラルキルまたはアリールを表し
、そしてQは酸素または硫黄を表す) 適当ならば希釈剤の存在下において、下記の一般式CI
[I)で表されるスルホン酸ヒドラジドと反応させると
き、 あるいは (ロ)下記の一般式(IV)で表されるアミノグアニジ
ノアジンを、 (式中、R’ 、R3、XSYおよびZは前述の意味を
有する) 適当ならば希釈剤の存在下および適当ならば酸受容体の
存在下において、下記の一般式(V)で表されるハロゲ
ン化スルホニルと反応させるか、(式中、R8は前述の
意味を有し、そしてXlはハロゲンを表す) または下記の式(VI)で表される無水スルホ安息香酸
と反応させるとき、 あるいは (C) −軟式(1)の中でR2が随意に置換された
アルコキシを表し、そしてR’ 、 R” 、X、、Y
およびZが前述の意味を有する、−i式(I)の置換さ
れたアリールスルホニルアミノグアニジノアジンを、適
当ならば希釈剤の存在下において、アルカリ金属水酸化
物水溶液またはアンモニアまたは随意に置換されたアル
キルアミンと反応させるときに得られる。
一般式(I)で表される新しい置換されたアリールスル
ホニルア果ノグアニジノアジンは強力な除草活性を特徴
としている。
ホニルア果ノグアニジノアジンは強力な除草活性を特徴
としている。
驚くべきことに、−軟式(I)の新規化合物は、構造お
よび作用プロフィールに関する限り、この新規化合物と
比較するのに適した物質である、以前から知られている
前記スルホニルアミノグアニジノアジンよりも、かなり
優れた作用、特に作物植物について著しく優れた許容度
を示す。
よび作用プロフィールに関する限り、この新規化合物と
比較するのに適した物質である、以前から知られている
前記スルホニルアミノグアニジノアジンよりも、かなり
優れた作用、特に作物植物について著しく優れた許容度
を示す。
本発明は、N’ −(4,6−ジメチル−ピリミジン−
2−イル)−N’ −(2−メトキシカルボニル−フェ
ニルスルホニルア逅))−N” −、(2−メトキシカ
ルボニル−フェニルスルホニル)−グアニジンを除く、
好ましくは式(I)の中の多基が以下の基を表す化合物
に関するものである。
2−イル)−N’ −(2−メトキシカルボニル−フェ
ニルスルホニルア逅))−N” −、(2−メトキシカ
ルボニル−フェニルスルホニル)−グアニジンを除く、
好ましくは式(I)の中の多基が以下の基を表す化合物
に関するものである。
1
R9およびRIOは、互に同じかまたは異っていて、水
素、弗素、塩素、沃素、シアノ、ニトロ、C1〜C4−
アルキル(これは随意に弗素、塩素、臭素、シアノ、カ
ルボキシル、CI ”’ C4−アルコキシカルボニル
、CI〜C4−アルキルア果ノーカルボニル、ジー(C
+〜C4−アルキル)−アミノカルボニル、ヒドロキシ
ル、01〜C4−アルコキシ、ホルミルオキシ、CI
”” C4−アルキル−カルボニルオキシ、C1〜C4
−アルコキシ−カルボニルオキシ、CI〜Cオーアルキ
ルアξノーカルボニルオキシ、CI ”’ C4−アル
キルチオ、01〜C4−アルキルスルフィニル、ClN
C4−アルキルスルホニル、ジー(C,−C,−アルキ
ル)−アミノスルホニル、C3〜C1−シクロアルキル
またはフェニルによって置換されている)を表すか、あ
るいはC−〜ChCブーケニル(これは随意に弗素、塩
素、臭素、シアノ、C8〜C4−アルコキシ−カルボニ
ル、カルボキシルまたはフェニルによって置換されてい
る)を表すか、あるいはC8〜C4−アルキニル(これ
は随意に弗素、塩素、臭素、シアノ、CI”’ Ca−
アルコキシ−カルボニル、カルボキシルまたはフェニル
によって置換されている)を表すか、あるいはC,−C
,−アルコキシ(これは随意に弗素、塩素、臭素、シア
ノ、カルボキシル、Cr −C(−アルコキシ−カルボ
ニル、CI ””’ C4−アルコキシ、ClNC4−
アルキルチオ、C1〜Ca−アルキルスルフィニルまた
はCI”” Ca−アルキルスルホニルによって置換さ
れている)を表すか、あるいはC3〜C4−アルキルチ
オ(これは随意に弗素、塩素、臭素、シアノ、カルボキ
シル、C1〜C4−アルコキシ−カルボニル、ClNC
4アルキルチオ、ClNC4−アルキルスルフィニルま
たはCI−Ca−アルキルスルホニルによって置換され
ている)を表すか、あるいはC8〜C。
素、弗素、塩素、沃素、シアノ、ニトロ、C1〜C4−
アルキル(これは随意に弗素、塩素、臭素、シアノ、カ
ルボキシル、CI ”’ C4−アルコキシカルボニル
、CI〜C4−アルキルア果ノーカルボニル、ジー(C
+〜C4−アルキル)−アミノカルボニル、ヒドロキシ
ル、01〜C4−アルコキシ、ホルミルオキシ、CI
”” C4−アルキル−カルボニルオキシ、C1〜C4
−アルコキシ−カルボニルオキシ、CI〜Cオーアルキ
ルアξノーカルボニルオキシ、CI ”’ C4−アル
キルチオ、01〜C4−アルキルスルフィニル、ClN
C4−アルキルスルホニル、ジー(C,−C,−アルキ
ル)−アミノスルホニル、C3〜C1−シクロアルキル
またはフェニルによって置換されている)を表すか、あ
るいはC−〜ChCブーケニル(これは随意に弗素、塩
素、臭素、シアノ、C8〜C4−アルコキシ−カルボニ
ル、カルボキシルまたはフェニルによって置換されてい
る)を表すか、あるいはC8〜C4−アルキニル(これ
は随意に弗素、塩素、臭素、シアノ、CI”’ Ca−
アルコキシ−カルボニル、カルボキシルまたはフェニル
によって置換されている)を表すか、あるいはC,−C
,−アルコキシ(これは随意に弗素、塩素、臭素、シア
ノ、カルボキシル、Cr −C(−アルコキシ−カルボ
ニル、CI ””’ C4−アルコキシ、ClNC4−
アルキルチオ、C1〜Ca−アルキルスルフィニルまた
はCI”” Ca−アルキルスルホニルによって置換さ
れている)を表すか、あるいはC3〜C4−アルキルチ
オ(これは随意に弗素、塩素、臭素、シアノ、カルボキ
シル、C1〜C4−アルコキシ−カルボニル、ClNC
4アルキルチオ、ClNC4−アルキルスルフィニルま
たはCI−Ca−アルキルスルホニルによって置換され
ている)を表すか、あるいはC8〜C。
−アルケニルオキシ(これは随意に弗素、塩素、臭素、
シアノまたはC1〜C4−アルコキシ−カルボニルによ
って置換されている)を表すか、あるいはC2〜C6−
アルケニルチオ(これは随意に弗素、塩素、臭素、シア
ノ、ニトロ、CI”” Cs−アルキルチオまたはCl
−Cs−アルコキシカルボニルによって置換されている
)、C3〜C1−アルキニルオキシまたはC8〜C4−
アルキニルチオを表すか、あるいは基−3(0)、−R
”を表し、ここで Pは1または2の数を表し、モして R11はC1〜C
4−アルキル(これは随意に弗素、塩素、臭素、シアノ
またはC1〜C4−アルコキシ−カルボニルによって置
換されている)、C1〜Cb−アルケニル、C3〜C6
−アルキニル、ClNC4−アルコキシ、ClNC4−
アルコキシ−01〜C4−アルキルアミノ、C1〜C4
−アルキルアミノまたはジー(ClNC4−アルキル)
−アミノを表すか、あるいは基−NHOR”を表し、こ
こでR目はCI”’CI!−アルキル(これは随意に弗
素、塩素、シアノ、ClNC4−アルコキシ、ClNC
4−アルキルチオ、C1〜C4−アルキルスルフィニル
、ClNC4−アルキルスルホニル、C1〜C4−アル
キル−カルボニル、C1〜C4−アルコキシ−カルボニ
ル、CI A−04−アルキルアミノ−カルボニルまた
はジー(C1〜C4−アルキル)−アミノ−カルボニル
によって置換されている)を表すか、あるいはC1〜C
1−アルケニル(これは随意に弗素、塩素または臭素に
よって置換されている)、03〜C&−アルキニル、C
2〜C1−シクロアルキル、CI3〜Ch−シクロアル
キル−C1〜C2−アルキル、フェニル−〇。
シアノまたはC1〜C4−アルコキシ−カルボニルによ
って置換されている)を表すか、あるいはC2〜C6−
アルケニルチオ(これは随意に弗素、塩素、臭素、シア
ノ、ニトロ、CI”” Cs−アルキルチオまたはCl
−Cs−アルコキシカルボニルによって置換されている
)、C3〜C1−アルキニルオキシまたはC8〜C4−
アルキニルチオを表すか、あるいは基−3(0)、−R
”を表し、ここで Pは1または2の数を表し、モして R11はC1〜C
4−アルキル(これは随意に弗素、塩素、臭素、シアノ
またはC1〜C4−アルコキシ−カルボニルによって置
換されている)、C1〜Cb−アルケニル、C3〜C6
−アルキニル、ClNC4−アルコキシ、ClNC4−
アルコキシ−01〜C4−アルキルアミノ、C1〜C4
−アルキルアミノまたはジー(ClNC4−アルキル)
−アミノを表すか、あるいは基−NHOR”を表し、こ
こでR目はCI”’CI!−アルキル(これは随意に弗
素、塩素、シアノ、ClNC4−アルコキシ、ClNC
4−アルキルチオ、C1〜C4−アルキルスルフィニル
、ClNC4−アルキルスルホニル、C1〜C4−アル
キル−カルボニル、C1〜C4−アルコキシ−カルボニ
ル、CI A−04−アルキルアミノ−カルボニルまた
はジー(C1〜C4−アルキル)−アミノ−カルボニル
によって置換されている)を表すか、あるいはC1〜C
1−アルケニル(これは随意に弗素、塩素または臭素に
よって置換されている)、03〜C&−アルキニル、C
2〜C1−シクロアルキル、CI3〜Ch−シクロアル
キル−C1〜C2−アルキル、フェニル−〇。
〜Ct−アルキル(これは随意に弗素、塩素、ニトロ、
シアノ、Ct ”” Ca−アルキル、01〜C4−ア
ルコキシまたはC3〜C4−アルコキシ−カルボニルに
よって置換されている)を表すか、あるいはベンジルヒ
ドリルを表すか、あるいはフェニル(これは随意に弗素
、塩素、ニトロ、シアノ、CIA−C4−アルキル、ト
リフルオルメチル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C
2−フルオルアルコキシ、C3〜C4−アルキルチオ、
トリフルオルメチルチオまたはC0〜C4−アルコキシ
−カルボニルによって置換されている)を表し、R9お
よびRl(lはさらに、フェニルまたはフェノキシを表
すか、あるいはアξ)、ClNC4−アルキルスルホニ
ルアzノ%G1〜C4−アルコキシ−カルボニルアミノ
、C3〜C4−アルキルア4ノーカルボニル−アミノま
たはジー (C1〜C6−アルキル)−アミノ−カルボ
ニルアミノを表すか、あるいは基−Co−RI3を表し
、ここでR13はCl−C6−アルキル、CI−Cb−
アルコキシ、C3〜C4−シクロアルコキシ、C3〜C
h−アルケニルオキシ、ClNC4−アルキルチオ、C
lNC4−アルキルアミノ、C3〜C4−アルコキシア
ミノ、Cl−04−アルコキシーCI−Ca−アルキル
−アミノまたはジー(Ct〜C6−アルキル)−アミノ
(これらの各々は随意に弗素および/または塩素によっ
て置換されている)を表し、R9およびR111はさら
に、C3〜C4−アルキルスルホニルオキシ、ジー(C
+〜C4−アルキル)−アミノスルホニルアくノまたは
チアゾリルオキシを表すか、あるいは基−C1,N41
4を表し、 ここで R”は随意に弗素、塩素、シアノ、カルボキシル、C9
〜C4−アルコキシ、CI〜C4−アルキルチオ、CI
”’ Ca−アルキルスルフィニルまたはCI〜C4
−アルキルスルホニルによって置換されているC1〜C
1−アルキルを表すか、あるいは随意に弗素または塩素
によって置換されているベンジルを表すか、あるいは各
々が随意に弗素または塩素によって置換されているC1
〜Ch−アルケニルまたはC1〜C6−アルキニルを表
すか、あるいは随意に弗素、塩素、臭素、01〜Ca−
アルキル、C1〜C4−アルコキシ、トリフルオルメチ
ル、トリフルオルメトキシまたはトリフルオルメチルチ
オによって置換されているフェニルを表すか、あるいは
各々が随意に弗素および/または塩素によって置換され
ている01〜C6−アルコキシ、C5〜C6−アルケノ
キシ、C3〜C4−アルキノキシまたはベンジルオキシ
を表すか、あるいはアξノ%CI〜C4−アルキルアく
ノ、ジー(C+〜C4−アルキル)−アミノ、フェニル
アミノ、CI〜C4−アルキルカルボニル−アミノ、C
I〜C4−アルコキシ−カルボニルアミノまたはCI〜
C1−アルキル−スルホニルア≧ノを表すか、あるいは
随意に弗素、塩素、臭素またはメチルによって置換され
ているフェニルスルホニルアミノを表すか、さらに R111は水素またはCI” C4−アルキルを表し、
RI6およびR1′1は互に同じか、または異っていて
、水素、弗素、塩素、臭素、ニトロ、シアノ、C1〜C
4−アルキル(これは随意に弗素および/または塩素に
よって置換されている’) 、CI ”’C4−アルコ
キシ(これは随意に弗素および/または塩素によって置
換されている)、カルボキシル、01〜C4−アルコキ
シ−カルボキシル、C1〜C4−アルキルスルホニルま
たはジー(CI〜C4−アルキル)−アミノスルホニル
を表し;さらにR111およびRlIは互に同じか、ま
たは異っていて、水素、弗素、塩素、臭素、ニトロ、シ
アノ、Ct〜C1−アルキル(これは随意に弗素および
/または塩素によって置換されている)またはC3〜C
4−アルコキシ(これは随意に弗素および/または塩素
によって置換されている)を表し;さらに RtoおよびRlIは互に同じか、または異っていて、
水素、弗素、塩素、臭素、ニトロ、シアノ、C+〜C4
−アルキル(これは随意に弗素および/または塩素によ
って置換されている) 、CI −’C4−アルコキシ
(これは随意に弗素および/または塩素によって置換さ
れている)を表わすか、あるいはC+〜C4−アルキル
チオ、CI〜C4−アルキルスルフィニルまたはC1〜
C4−アルキルスルホニル(これらの各々は随意に弗素
および/または塩素によって置換されている)を表すば
かりでなく、ジー(CI ”’C4−アルキル〉−アミ
ノカルボニルまたはCI−Ca−アルコキシ−カルボニ
ルを表し;さらに RzxおよびRt3は互に同じか、または異っていて、
水素、弗素、塩素、臭素、CI−Ca−アルキル(これ
は随意に弗素および/または臭素によって置換されてい
る)または01〜C4−アルコキシ(これは随意に弗素
および/または塩素によって置換されている)を表すか
、あるいはC1〜C4−アルキルチオ、C,#C4−ア
ルキルスルフイニルマタはC1〜C1−アルキルスルホ
ニル(これらの各々は随意に弗素および/または塩素に
よって置換されている)を表すか、あるいはジー(C1
〜C4−アルキル)−アルキスルホニルヲ表し;さらに RNAおよびR1!lは互に同じか、または異っていて
、水素、弗素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、C1〜C
4−アルキル(これは随意に弗素および/または塩素に
よって置換されている)、Cl−C4−アルコキシ(こ
れは随意に弗素および/または塩素によって置換されて
いる) 、CI ””C4−アルキルチオ、C0〜C4
−アルキルスルフィニルまたはC,−C,−アルキルス
ルホニル(これは随意に弗素および/または塩素によっ
て置換されている)、ジー(C+〜C4−アルキル)−
アミノ−スルホニルまたはCI〜C4−アルコキシカル
ボニルを表し、そしてAIは酸素、硫黄または基N−Z
lを表し、ここでZlは水素、01〜C4−アルキル(
これは随意に弗素、塩素、臭素またはシアノによって置
換されている)、Cs−C1−シクロアルキル、ベンジ
ル、フェニル(こレバ随意に弗素、塩素、臭素またはニ
トロによって置換されている)、C,〜C4−アルキル
カルボニル、C1〜C4−アルコキシ−カルボニルまた
はジー(CI−’C4−アルキル)−アミノカルボキシ
ルを表し;さらに RISは水素、C1〜Cs−アルキルまたはハロゲンを
表し、 Rz’tは水素またはC8〜C3−アルキルを表し、そ
して y+は硫黄または基N−R15を表し、ここでR”は水
素または CI”Cs−アルキルを表し;さらに lp雫 Rxvは水素、C,−04−アルキル、フェニル、ナフ
チルまたは(イソ)キノリニルを表し、R30は水素、
ハロゲン、シアノ、ニトロ、C3〜C4−アルキル(こ
れは随意に弗素および/または塩素によって置換されて
いる)、 C4〜C1−アルコキシ(これは随意に弗素
および/または塩素によって置換されている)または0
1〜C。
シアノ、Ct ”” Ca−アルキル、01〜C4−ア
ルコキシまたはC3〜C4−アルコキシ−カルボニルに
よって置換されている)を表すか、あるいはベンジルヒ
ドリルを表すか、あるいはフェニル(これは随意に弗素
、塩素、ニトロ、シアノ、CIA−C4−アルキル、ト
リフルオルメチル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C
2−フルオルアルコキシ、C3〜C4−アルキルチオ、
トリフルオルメチルチオまたはC0〜C4−アルコキシ
−カルボニルによって置換されている)を表し、R9お
よびRl(lはさらに、フェニルまたはフェノキシを表
すか、あるいはアξ)、ClNC4−アルキルスルホニ
ルアzノ%G1〜C4−アルコキシ−カルボニルアミノ
、C3〜C4−アルキルア4ノーカルボニル−アミノま
たはジー (C1〜C6−アルキル)−アミノ−カルボ
ニルアミノを表すか、あるいは基−Co−RI3を表し
、ここでR13はCl−C6−アルキル、CI−Cb−
アルコキシ、C3〜C4−シクロアルコキシ、C3〜C
h−アルケニルオキシ、ClNC4−アルキルチオ、C
lNC4−アルキルアミノ、C3〜C4−アルコキシア
ミノ、Cl−04−アルコキシーCI−Ca−アルキル
−アミノまたはジー(Ct〜C6−アルキル)−アミノ
(これらの各々は随意に弗素および/または塩素によっ
て置換されている)を表し、R9およびR111はさら
に、C3〜C4−アルキルスルホニルオキシ、ジー(C
+〜C4−アルキル)−アミノスルホニルアくノまたは
チアゾリルオキシを表すか、あるいは基−C1,N41
4を表し、 ここで R”は随意に弗素、塩素、シアノ、カルボキシル、C9
〜C4−アルコキシ、CI〜C4−アルキルチオ、CI
”’ Ca−アルキルスルフィニルまたはCI〜C4
−アルキルスルホニルによって置換されているC1〜C
1−アルキルを表すか、あるいは随意に弗素または塩素
によって置換されているベンジルを表すか、あるいは各
々が随意に弗素または塩素によって置換されているC1
〜Ch−アルケニルまたはC1〜C6−アルキニルを表
すか、あるいは随意に弗素、塩素、臭素、01〜Ca−
アルキル、C1〜C4−アルコキシ、トリフルオルメチ
ル、トリフルオルメトキシまたはトリフルオルメチルチ
オによって置換されているフェニルを表すか、あるいは
各々が随意に弗素および/または塩素によって置換され
ている01〜C6−アルコキシ、C5〜C6−アルケノ
キシ、C3〜C4−アルキノキシまたはベンジルオキシ
を表すか、あるいはアξノ%CI〜C4−アルキルアく
ノ、ジー(C+〜C4−アルキル)−アミノ、フェニル
アミノ、CI〜C4−アルキルカルボニル−アミノ、C
I〜C4−アルコキシ−カルボニルアミノまたはCI〜
C1−アルキル−スルホニルア≧ノを表すか、あるいは
随意に弗素、塩素、臭素またはメチルによって置換され
ているフェニルスルホニルアミノを表すか、さらに R111は水素またはCI” C4−アルキルを表し、
RI6およびR1′1は互に同じか、または異っていて
、水素、弗素、塩素、臭素、ニトロ、シアノ、C1〜C
4−アルキル(これは随意に弗素および/または塩素に
よって置換されている’) 、CI ”’C4−アルコ
キシ(これは随意に弗素および/または塩素によって置
換されている)、カルボキシル、01〜C4−アルコキ
シ−カルボキシル、C1〜C4−アルキルスルホニルま
たはジー(CI〜C4−アルキル)−アミノスルホニル
を表し;さらにR111およびRlIは互に同じか、ま
たは異っていて、水素、弗素、塩素、臭素、ニトロ、シ
アノ、Ct〜C1−アルキル(これは随意に弗素および
/または塩素によって置換されている)またはC3〜C
4−アルコキシ(これは随意に弗素および/または塩素
によって置換されている)を表し;さらに RtoおよびRlIは互に同じか、または異っていて、
水素、弗素、塩素、臭素、ニトロ、シアノ、C+〜C4
−アルキル(これは随意に弗素および/または塩素によ
って置換されている) 、CI −’C4−アルコキシ
(これは随意に弗素および/または塩素によって置換さ
れている)を表わすか、あるいはC+〜C4−アルキル
チオ、CI〜C4−アルキルスルフィニルまたはC1〜
C4−アルキルスルホニル(これらの各々は随意に弗素
および/または塩素によって置換されている)を表すば
かりでなく、ジー(CI ”’C4−アルキル〉−アミ
ノカルボニルまたはCI−Ca−アルコキシ−カルボニ
ルを表し;さらに RzxおよびRt3は互に同じか、または異っていて、
水素、弗素、塩素、臭素、CI−Ca−アルキル(これ
は随意に弗素および/または臭素によって置換されてい
る)または01〜C4−アルコキシ(これは随意に弗素
および/または塩素によって置換されている)を表すか
、あるいはC1〜C4−アルキルチオ、C,#C4−ア
ルキルスルフイニルマタはC1〜C1−アルキルスルホ
ニル(これらの各々は随意に弗素および/または塩素に
よって置換されている)を表すか、あるいはジー(C1
〜C4−アルキル)−アルキスルホニルヲ表し;さらに RNAおよびR1!lは互に同じか、または異っていて
、水素、弗素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、C1〜C
4−アルキル(これは随意に弗素および/または塩素に
よって置換されている)、Cl−C4−アルコキシ(こ
れは随意に弗素および/または塩素によって置換されて
いる) 、CI ””C4−アルキルチオ、C0〜C4
−アルキルスルフィニルまたはC,−C,−アルキルス
ルホニル(これは随意に弗素および/または塩素によっ
て置換されている)、ジー(C+〜C4−アルキル)−
アミノ−スルホニルまたはCI〜C4−アルコキシカル
ボニルを表し、そしてAIは酸素、硫黄または基N−Z
lを表し、ここでZlは水素、01〜C4−アルキル(
これは随意に弗素、塩素、臭素またはシアノによって置
換されている)、Cs−C1−シクロアルキル、ベンジ
ル、フェニル(こレバ随意に弗素、塩素、臭素またはニ
トロによって置換されている)、C,〜C4−アルキル
カルボニル、C1〜C4−アルコキシ−カルボニルまた
はジー(CI−’C4−アルキル)−アミノカルボキシ
ルを表し;さらに RISは水素、C1〜Cs−アルキルまたはハロゲンを
表し、 Rz’tは水素またはC8〜C3−アルキルを表し、そ
して y+は硫黄または基N−R15を表し、ここでR”は水
素または CI”Cs−アルキルを表し;さらに lp雫 Rxvは水素、C,−04−アルキル、フェニル、ナフ
チルまたは(イソ)キノリニルを表し、R30は水素、
ハロゲン、シアノ、ニトロ、C3〜C4−アルキル(こ
れは随意に弗素および/または塩素によって置換されて
いる)、 C4〜C1−アルコキシ(これは随意に弗素
および/または塩素によって置換されている)または0
1〜C。
−アルコキシカルボニルを表し、そしてRISは水素、
ハロゲンまたはC,−C,−アルキルを表し;さらに RszはCI〜C1−アルキルを表し、そしてRISは
CI” Ca−アルキルを表し;さらにR2はヒドロキ
シルまたはアミノを表すか、あるいはC8〜C4−アル
コキシまたはCI〜Ca−アルキルアミノを表して、こ
れらの各々は随意に弗素、塩素、メトキシまたはエトキ
シによって置換され:さらに R3は水素、弗素、塩素、臭素、CI−Ca−アルキル
、CI ”’ C4−ハロゲノアルキル、CI〜C2−
アルコキシ−CI〜Cよ一アルキル、01〜C4−アル
コキシ、CI〜C4−ハロゲノアルコキシ、C1〜C4
−アルキルチオ、C+〜C4−ハロゲノアルキルチオ、
アミノ、01〜0m−アルキルア果ノ、ジメチルアミノ
またはジエチルアミノを表し、 Xは窒素またはCH基を表し、 Yは窒素またはCR’基を表し、ここでR4は水素、弗
素、塩素、臭素、シアノ、メチル、ホルミル、アセチル
、メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニルを表し
、そして 2は窒素または−CR’基を表し、ここでRSは水素、
弗素、塩素、臭素、C8〜C4−アルキル、01〜C4
−アルコキシ、CI NC4アルキルチオ、C8〜C4
−アルキルアミノ、ジメチルアミノまたはジエチルアミ
ノを表す。
ハロゲンまたはC,−C,−アルキルを表し;さらに RszはCI〜C1−アルキルを表し、そしてRISは
CI” Ca−アルキルを表し;さらにR2はヒドロキ
シルまたはアミノを表すか、あるいはC8〜C4−アル
コキシまたはCI〜Ca−アルキルアミノを表して、こ
れらの各々は随意に弗素、塩素、メトキシまたはエトキ
シによって置換され:さらに R3は水素、弗素、塩素、臭素、CI−Ca−アルキル
、CI ”’ C4−ハロゲノアルキル、CI〜C2−
アルコキシ−CI〜Cよ一アルキル、01〜C4−アル
コキシ、CI〜C4−ハロゲノアルコキシ、C1〜C4
−アルキルチオ、C+〜C4−ハロゲノアルキルチオ、
アミノ、01〜0m−アルキルア果ノ、ジメチルアミノ
またはジエチルアミノを表し、 Xは窒素またはCH基を表し、 Yは窒素またはCR’基を表し、ここでR4は水素、弗
素、塩素、臭素、シアノ、メチル、ホルミル、アセチル
、メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニルを表し
、そして 2は窒素または−CR’基を表し、ここでRSは水素、
弗素、塩素、臭素、C8〜C4−アルキル、01〜C4
−アルコキシ、CI NC4アルキルチオ、C8〜C4
−アルキルアミノ、ジメチルアミノまたはジエチルアミ
ノを表す。
特に本発明は、N’ = (4,6−シメチルーピリξ
ジンー2−イル)−N’ −(2−メトキシカルボニル
−フェニルスルホニルア主))−N”(2−メトキシカ
ルボニル−フェニルスルホニル)−グアニジンを除いて
、式(1)の中の多基が次の基を表す化合物に関するも
のである。
ジンー2−イル)−N’ −(2−メトキシカルボニル
−フェニルスルホニルア主))−N”(2−メトキシカ
ルボニル−フェニルスルホニル)−グアニジンを除いて
、式(1)の中の多基が次の基を表す化合物に関するも
のである。
R’
R9が弗素、塩素、臭素、メチル、トリフルオルメチル
、メトキシ、ジフルオルメトキシ、トリフルオルメトキ
シ、C9〜C8−アルキルチオ、CI〜C3−アルキル
スルフィニル、CI〜C1−アルキルスルホニル、ジメ
チルアミノスルホニル、ジエチルアミノスルホニル、N
−メトキシ−N−メチルア逅ノスルホニル、フェニル、
フェノキシまたはCl−C3−アルコキシカルボニルを
表し、そしてR11+が水素を表し;さらに RI8が水素を表し、 R16が弗素、塩素、臭素、メチル、メトキシ、エトキ
シ、ジフルオルメトキシ、トリフルオルメトキシ、メト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、メチルスルホニ
ルまたはジメチルアミノスルホニルを表し、そして R1?が水素を表し;さらに Rがメチルまたはエチルを表すか、 あるいは 1 HI Rがメチルまたはエチルを表し、そしてX!が水素また
は塩素を表し、さらに Rzがヒドロキシル、アミノ、メトキシ、エトキシ、プ
ロポキシ、イソプロポキシ、2−クロル−エトキシ、2
−メトキシ−エトキシ、2−エトキシ−エトキシ、メチ
ルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノまたはイソプ
ロピルア箋ノを表し、さらに R3が水素、弗素、塩素、臭素、メチル、トリフルオル
メチル、メトキシ、エトキシ、ジフルオルメトキシ、メ
チルチオ、エチルチオ、アミノ、メチルアもノ、エチル
ア漬ノ、ジエチルアミノまたはジエチルアミノを表し、 Xが窒素または−CI基を表し、 Yが窒素または−CR’基を°表し、ここでR4が水素
、弗素、塩素またはメチルを表し、そして 2が窒素または−CR’基を表し、ここでR%が窒素、
弗素、塩素、臭素、メチル、エチル、メトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、イソプロポキシ、メチルチオ、エチル
チオ、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノま
たはジエチルアミノを表す。
、メトキシ、ジフルオルメトキシ、トリフルオルメトキ
シ、C9〜C8−アルキルチオ、CI〜C3−アルキル
スルフィニル、CI〜C1−アルキルスルホニル、ジメ
チルアミノスルホニル、ジエチルアミノスルホニル、N
−メトキシ−N−メチルア逅ノスルホニル、フェニル、
フェノキシまたはCl−C3−アルコキシカルボニルを
表し、そしてR11+が水素を表し;さらに RI8が水素を表し、 R16が弗素、塩素、臭素、メチル、メトキシ、エトキ
シ、ジフルオルメトキシ、トリフルオルメトキシ、メト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、メチルスルホニ
ルまたはジメチルアミノスルホニルを表し、そして R1?が水素を表し;さらに Rがメチルまたはエチルを表すか、 あるいは 1 HI Rがメチルまたはエチルを表し、そしてX!が水素また
は塩素を表し、さらに Rzがヒドロキシル、アミノ、メトキシ、エトキシ、プ
ロポキシ、イソプロポキシ、2−クロル−エトキシ、2
−メトキシ−エトキシ、2−エトキシ−エトキシ、メチ
ルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノまたはイソプ
ロピルア箋ノを表し、さらに R3が水素、弗素、塩素、臭素、メチル、トリフルオル
メチル、メトキシ、エトキシ、ジフルオルメトキシ、メ
チルチオ、エチルチオ、アミノ、メチルアもノ、エチル
ア漬ノ、ジエチルアミノまたはジエチルアミノを表し、 Xが窒素または−CI基を表し、 Yが窒素または−CR’基を°表し、ここでR4が水素
、弗素、塩素またはメチルを表し、そして 2が窒素または−CR’基を表し、ここでR%が窒素、
弗素、塩素、臭素、メチル、エチル、メトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、イソプロポキシ、メチルチオ、エチル
チオ、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノま
たはジエチルアミノを表す。
式CI)の中で基−COR”がSO1基に関してオルソ
位にあり、モしてR1、R” 、R2、XSYおよび2
が特に好ましいものとして上に示した意味を有する化合
物が極めて特に好ましい。
位にあり、モしてR1、R” 、R2、XSYおよび2
が特に好ましいものとして上に示した意味を有する化合
物が極めて特に好ましい。
出発物質として、例えばN’ −(4,6−シメトキシ
ーS−)リアジン−2−イル)−N“−メトキシ−N“
、N1−ビス−(2−ブロム−フェニルスルホニル)−
グアニジンおよび2−メトキシカルボニル−ベンゼンス
ルホン酸ヒドラジドを使用する場合、本発明方法(a)
における反応過程の概要は次の式によって表すことがで
きる。
ーS−)リアジン−2−イル)−N“−メトキシ−N“
、N1−ビス−(2−ブロム−フェニルスルホニル)−
グアニジンおよび2−メトキシカルボニル−ベンゼンス
ルホン酸ヒドラジドを使用する場合、本発明方法(a)
における反応過程の概要は次の式によって表すことがで
きる。
出発物質として、例えばN’ −(4,6−ジメトキシ
−ピリミジンー2−イル)−N#−アミノ−N′″(2
−ジフルオルメトキシーフェニルスルホニル)−グアニ
ジンおよび塩化2−エトキシカルボニルベンゼンスルホ
ニルを使用する場合、本発明方法(ハ)における反応過
程の概要は次の式によって表わすことができる。
−ピリミジンー2−イル)−N#−アミノ−N′″(2
−ジフルオルメトキシーフェニルスルホニル)−グアニ
ジンおよび塩化2−エトキシカルボニルベンゼンスルホ
ニルを使用する場合、本発明方法(ハ)における反応過
程の概要は次の式によって表わすことができる。
出発物質として、例えばN’ −(4−メトキシ−6−
メチル−ビリ藁ジンー2−イル)−N#(2−メトキシ
カルボニル−フェニルスルホニルアミノ)−N” −(
2−メトキシカルボニル−フェニルスルホニル)−グア
ニジンおよびアンモニアを使用する場合、本発明方法(
C)における反応過程の概要は次の式によって表すこと
ができる。
メチル−ビリ藁ジンー2−イル)−N#(2−メトキシ
カルボニル−フェニルスルホニルアミノ)−N” −(
2−メトキシカルボニル−フェニルスルホニル)−グア
ニジンおよびアンモニアを使用する場合、本発明方法(
C)における反応過程の概要は次の式によって表すこと
ができる。
式(I)は本発明方法(a)において出発物質として使
用すべきスルホニル化合物の一般的な定義を提供する。
用すべきスルホニル化合物の一般的な定義を提供する。
−軟式(1)において、R1,R3X、YおよびZは好
ましくは、あるいは特に、RI SR’ 、X、Yおよ
びZについては好ましいもの、あるいは特に好ましいも
のとして、本発明の式(I)の化合物の説明に関連して
既に上に述べた意味を有し、そして Aは好ましくは、下記の離脱基のうちの1つを表し、 R’−SO!−N−OR’ または−〇−R” 、
ここでR6はR1の場合に好ましいものとして上に示し
た意味を有するが、それぞれの個々の場合においてR1
と同一である必要なく、 R7はC,−C,−アルキル、C1〜C4−アルケニル
またはベンジルを表し、 R@はC1〜C1−アルキル、ベンジルまたはフェニル
を表し、そして Qは酸素または硫黄を表す。
ましくは、あるいは特に、RI SR’ 、X、Yおよ
びZについては好ましいもの、あるいは特に好ましいも
のとして、本発明の式(I)の化合物の説明に関連して
既に上に述べた意味を有し、そして Aは好ましくは、下記の離脱基のうちの1つを表し、 R’−SO!−N−OR’ または−〇−R” 、
ここでR6はR1の場合に好ましいものとして上に示し
た意味を有するが、それぞれの個々の場合においてR1
と同一である必要なく、 R7はC,−C,−アルキル、C1〜C4−アルケニル
またはベンジルを表し、 R@はC1〜C1−アルキル、ベンジルまたはフェニル
を表し、そして Qは酸素または硫黄を表す。
特に、Aは基 R’−5o□−N−OR’ を表し、
ここでRhはR1の場合に特に好ましいものとして上に
示した意味を有するが、それぞれの個々の場合において
R1と同一である必要はなく、モしてR7はメチルを表
すか、あるいは Aは基 −Q−R@を表し、ここで R8はメチルまたはフェニルを表し、モしてQは酸素ま
たは硫黄を表す。
ここでRhはR1の場合に特に好ましいものとして上に
示した意味を有するが、それぞれの個々の場合において
R1と同一である必要はなく、モしてR7はメチルを表
すか、あるいは Aは基 −Q−R@を表し、ここで R8はメチルまたはフェニルを表し、モしてQは酸素ま
たは硫黄を表す。
式(II)で表される出発物質の例を下記の第表に列挙
する。
する。
第1表:式(II)で表される出発物質の例式(II)
の出発物質は公知であって、しかも/公知であるか、ま
たは、それ自体公知の方法によって製造することができ
る(欧州特許出願公開公報第121.082号、同第1
72.957号、同第173.321号、同第173.
956号、同第224.078号、同第5.986号お
よび同第24.215号を参照)。
の出発物質は公知であって、しかも/公知であるか、ま
たは、それ自体公知の方法によって製造することができ
る(欧州特許出願公開公報第121.082号、同第1
72.957号、同第173.321号、同第173.
956号、同第224.078号、同第5.986号お
よび同第24.215号を参照)。
式(It)は本発明方法においてさらに出発物質として
使用すべきスルホン酸ヒドラジドの一般的な定義を提供
する0式(I[[)において、R2は好ましくは、ある
いは特に、Rtについて好ましいもの、あるいは特に好
ましいものとして本発明の式(I)で表される化合物の
説明に関連して既に上に述べた意味を有する。
使用すべきスルホン酸ヒドラジドの一般的な定義を提供
する0式(I[[)において、R2は好ましくは、ある
いは特に、Rtについて好ましいもの、あるいは特に好
ましいものとして本発明の式(I)で表される化合物の
説明に関連して既に上に述べた意味を有する。
式(III)の化合物の例として2−メトキシカルボニ
ル−14−メトキシカルボニル−2−エトキシカルボニ
ル−および4−エトキシカルボニル−ベンゼンスルホン
酸ヒドラジドを挙げることができる。
ル−14−メトキシカルボニル−2−エトキシカルボニ
ル−および4−エトキシカルボニル−ベンゼンスルホン
酸ヒドラジドを挙げることができる。
式(III)の出発物質は公知であって、しかも/公知
であるか、または、それ自体公知の方法によって製造す
ることができる( Org、 5ynth、 40(
1960)、 93〜95;欧州特許出願公開公報第
302、378号;ケミカル アブストラクツ100゜
191704yに引用されているEgypt、 J、
Pharw、 5ci22 (1981)、 207〜
221を参照)。
であるか、または、それ自体公知の方法によって製造す
ることができる( Org、 5ynth、 40(
1960)、 93〜95;欧州特許出願公開公報第
302、378号;ケミカル アブストラクツ100゜
191704yに引用されているEgypt、 J、
Pharw、 5ci22 (1981)、 207〜
221を参照)。
式(1)で表される新規化合物を製造するための本発明
方法(a)は、好ましくは希釈剤を使用して遂行される
。この目的に対して使用できる好ましい希釈剤は水およ
び/または極性有機溶剤、例えばメタノール、エタノー
ル、イソプロパツール、ブタノール、イソブタノール、
第ニーブタノール第三−ブタノール、グリコールジメチ
ルエーテルジグリコールジメチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセ
トニトリル、プロピオニトリル、ジメチルホルムアミド
、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ジメ
チルスルホキシドおよびテトラメチレンスルホンである
。
方法(a)は、好ましくは希釈剤を使用して遂行される
。この目的に対して使用できる好ましい希釈剤は水およ
び/または極性有機溶剤、例えばメタノール、エタノー
ル、イソプロパツール、ブタノール、イソブタノール、
第ニーブタノール第三−ブタノール、グリコールジメチ
ルエーテルジグリコールジメチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセ
トニトリル、プロピオニトリル、ジメチルホルムアミド
、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ジメ
チルスルホキシドおよびテトラメチレンスルホンである
。
本発明方法(a)を遂行するとき、反応温度はかなりの
範囲内で変化することができる。一般に、ネ方法はO″
C〜150℃の温度、好ましくは10’C〜100°C
の温度において遂行される。
範囲内で変化することができる。一般に、ネ方法はO″
C〜150℃の温度、好ましくは10’C〜100°C
の温度において遂行される。
本発明方法(a)を遂行するためには、一般に式(II
)のスルホニル化合物1モルに付、式(I)のスルホン
酸ヒドラジドを1〜5モル、好ましくは1〜3モル使用
する。
)のスルホニル化合物1モルに付、式(I)のスルホン
酸ヒドラジドを1〜5モル、好ましくは1〜3モル使用
する。
一般に、室温で、あるいは氷で冷やしながら反応剤を混
合し、ついで、適当ならば昇温下において、反応が完結
するまで反応混合物を撹拌する。
合し、ついで、適当ならば昇温下において、反応が完結
するまで反応混合物を撹拌する。
冷却後、式(I)の生成物は一般に結晶質の形で得られ
、これは吸引が過によって単離させることができる。
、これは吸引が過によって単離させることができる。
式(IV)は式(1)の化合物を製造するための本発明
方法(ロ)において使用すべきアミノグアニジノアジン
の一般的な定義を提供する。
方法(ロ)において使用すべきアミノグアニジノアジン
の一般的な定義を提供する。
式(IV)において、RI SR3、X、YおよびZは
好ましくは、あるいは特に、RI、R3、X、Yおよび
Zについて好ましいもの、あるいは特に好ましいものと
して、本発明の式(1)で表される化合物の説明に関連
して、既に上に述べた意味を有する。
好ましくは、あるいは特に、RI、R3、X、Yおよび
Zについて好ましいもの、あるいは特に好ましいものと
して、本発明の式(1)で表される化合物の説明に関連
して、既に上に述べた意味を有する。
式(IV)
で表される出発物質の例を下記の第2
表に列挙する。
第2表:式(IV)で表される出発物質の例第
表−つづき
II3
第
表−つづき
第
2
表−つづき
第
表−つづき
第
表−つづき
第
表−つづき
第
2
表−つづき
第
表−つづき
式(IV)で表される出発物質は公知であって、しかも
/公知であるか、または、それ自体公知の方法によって
製造することができる(欧州特許出願公開公報第224
.078号、米国特許第4,725.303号、198
8年5月27日付はドイツ特許出願第P3,818,0
40.5を参照)。
/公知であるか、または、それ自体公知の方法によって
製造することができる(欧州特許出願公開公報第224
.078号、米国特許第4,725.303号、198
8年5月27日付はドイツ特許出願第P3,818,0
40.5を参照)。
式(IV)のアミノグアニジノアジンは、本発明方法(
a)と類似した方法により、適当ならば、例えば塩化メ
チレン、メタノールまたはエタノールのような希釈剤の
存在下に、そして適当ならば、例えば硫酸ナトリウムの
ような乾燥剤の存在下に、上記の一般式(II)で表さ
れるスルホニル化合物を、−20″C〜+80℃、好ま
しくは0°c〜5゜°Cの温度においてヒドラジンまた
はヒドラジン′水付加物(“ヒドラジン永和物”)と反
応させるときに、得られる。
a)と類似した方法により、適当ならば、例えば塩化メ
チレン、メタノールまたはエタノールのような希釈剤の
存在下に、そして適当ならば、例えば硫酸ナトリウムの
ような乾燥剤の存在下に、上記の一般式(II)で表さ
れるスルホニル化合物を、−20″C〜+80℃、好ま
しくは0°c〜5゜°Cの温度においてヒドラジンまた
はヒドラジン′水付加物(“ヒドラジン永和物”)と反
応させるときに、得られる。
式(V)は本発明方法(b)における出発物質としてさ
らに使用すべきハロゲン化スルホニルの一般的な定義を
提供する。
らに使用すべきハロゲン化スルホニルの一般的な定義を
提供する。
式(V)において、R2は好ましくは、あるいは特に、
Rzについて好ましいもの、あるいは特に好ましいもの
として本発明の式(1)の化合物の説明に関連して、既
に上に述べた意味を有し、モしてXtは好ましくは弗素
、塩素または臭素、特に塩素を表す。
Rzについて好ましいもの、あるいは特に好ましいもの
として本発明の式(1)の化合物の説明に関連して、既
に上に述べた意味を有し、モしてXtは好ましくは弗素
、塩素または臭素、特に塩素を表す。
式(V)で表される出発物質の例として次のもの、すな
わち2−メトキシカルボニル、2−エトキシカルボニル
−14−メトキシカルボニル−および4−エトキシカル
ボニル−ベンゼンスルホニルクロライドを挙げることが
できる。
わち2−メトキシカルボニル、2−エトキシカルボニル
−14−メトキシカルボニル−および4−エトキシカル
ボニル−ベンゼンスルホニルクロライドを挙げることが
できる。
式(V)の出発物質ばかりでなく式(Vl)の出発化合
物も公知であって、しかも/公知であるか、または、そ
れ自体公知の方法によって製造することができる(欧州
特許出願公開公報第173,320号および第173.
321号を参照)。
物も公知であって、しかも/公知であるか、または、そ
れ自体公知の方法によって製造することができる(欧州
特許出願公開公報第173,320号および第173.
321号を参照)。
式(1)で表される新規化合物を製造するための本発明
方法(b)は、好ましくは希釈剤を使用して遂行される
。この目的に適した希釈剤は実質的にすべての不活性有
機溶剤である。これらの有機溶剤は好ましくは、随意に
ハロゲン化されている脂肪族および芳香族炭化水素、例
えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、
石油エーテル、ベンジン、ソゲロイン、ベンゼン、トル
エン、キシレン、塩化メチレン、塩化エチレン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、クロルベンゼンおよびO−ジクロ
ルベンゼン、エーテル類、例えばジエチルエーテル、ジ
ブチルエーテル、グリコールジメチルエーテルおよびジ
グリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフランおよ
びジオキサン、ケトン類、例えばアセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソプロピルケトンおよびメチルイソ
ブチルケトン、エステル類、例えば酢酸メチルおよび酢
酸エチル、ニトリル類、例えばアセトニトリルおよびプ
ロピオニトリル、アミド類、例えばジメチルアニリンも
ド、ジメチルアセドアミドおよびN−メチル−ピロリド
ン、並びにジメチルスルホキシド、テトラメチレンスル
ホンおよびヘキサメチル燐酸トリアミドを包含している
。
方法(b)は、好ましくは希釈剤を使用して遂行される
。この目的に適した希釈剤は実質的にすべての不活性有
機溶剤である。これらの有機溶剤は好ましくは、随意に
ハロゲン化されている脂肪族および芳香族炭化水素、例
えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、
石油エーテル、ベンジン、ソゲロイン、ベンゼン、トル
エン、キシレン、塩化メチレン、塩化エチレン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、クロルベンゼンおよびO−ジクロ
ルベンゼン、エーテル類、例えばジエチルエーテル、ジ
ブチルエーテル、グリコールジメチルエーテルおよびジ
グリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフランおよ
びジオキサン、ケトン類、例えばアセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソプロピルケトンおよびメチルイソ
ブチルケトン、エステル類、例えば酢酸メチルおよび酢
酸エチル、ニトリル類、例えばアセトニトリルおよびプ
ロピオニトリル、アミド類、例えばジメチルアニリンも
ド、ジメチルアセドアミドおよびN−メチル−ピロリド
ン、並びにジメチルスルホキシド、テトラメチレンスル
ホンおよびヘキサメチル燐酸トリアミドを包含している
。
本発明方法(ハ)において使用できる酸受容体は、この
型の反応のために慣用できるすべての酸結合剤である。
型の反応のために慣用できるすべての酸結合剤である。
この酸受容体としては次のものが好ましくは適している
。例えば水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムのよう
なアルカリ金属水酸化物、例えば水酸化カルシウムのよ
うなアルカリ土類金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム、ナトリウム第三ブチラードおよびカリウム第
三ブチラードのようなアルカリ金属炭酸塩およびアルカ
リ金属アルコラード、さらに脂肪族、芳香族または複素
環式のアミン、例えばトリエチルアミン、トリメチルア
逅ン、ジメチルアニリン、ジメチルベンジルアミン、ピ
リジン、1.5−ジアザビシクロ−(4,3,O)−ノ
ン−5−エン(DBN)、1.8−ジアザビシクロ−(
5,4,O)−ウンデク−7−エン(DBU)および1
,4−ジアザビシクロ−(2,2,2)−オクタン(D
ABCO)本発明方法(ロ)を遂行するとき、その反応
温度はかなりの範囲内で変化することができる。一般に
、この方法は一100″C〜+100°Cの温度、好ま
しくは一70°C〜+70°Cの温度において遂行され
る。
。例えば水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムのよう
なアルカリ金属水酸化物、例えば水酸化カルシウムのよ
うなアルカリ土類金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム、ナトリウム第三ブチラードおよびカリウム第
三ブチラードのようなアルカリ金属炭酸塩およびアルカ
リ金属アルコラード、さらに脂肪族、芳香族または複素
環式のアミン、例えばトリエチルアミン、トリメチルア
逅ン、ジメチルアニリン、ジメチルベンジルアミン、ピ
リジン、1.5−ジアザビシクロ−(4,3,O)−ノ
ン−5−エン(DBN)、1.8−ジアザビシクロ−(
5,4,O)−ウンデク−7−エン(DBU)および1
,4−ジアザビシクロ−(2,2,2)−オクタン(D
ABCO)本発明方法(ロ)を遂行するとき、その反応
温度はかなりの範囲内で変化することができる。一般に
、この方法は一100″C〜+100°Cの温度、好ま
しくは一70°C〜+70°Cの温度において遂行され
る。
一般に、本発明方法(ハ)は常圧下において遂行される
が、本方法を昇圧下または減圧下で遂行することもでき
る。
が、本方法を昇圧下または減圧下で遂行することもでき
る。
本発明方法中)を遂行するためには、具体的に要求され
ている出発物質を一般にほぼ等モル量で使用する。しか
しながら、具体的に使用される2種の成分のうちの一方
をかなり過剰に使用することもできる。一般に、反応は
、適当ならば酸受容体の存在下において、適当な希釈剤
中で遂行され、そして反応混合物は具体的に要求された
温度において数時間撹拌される。
ている出発物質を一般にほぼ等モル量で使用する。しか
しながら、具体的に使用される2種の成分のうちの一方
をかなり過剰に使用することもできる。一般に、反応は
、適当ならば酸受容体の存在下において、適当な希釈剤
中で遂行され、そして反応混合物は具体的に要求された
温度において数時間撹拌される。
本発明方法(b)において、仕上処理は各々の場合常法
によって遂行される。
によって遂行される。
式(I)の中のR2が随意に置換されたアルコキシを表
すことを条件として、式(I)は本発明方法(C)にお
ける出発物質として使用すべき、置換されたアリールス
ルホニルア暑ノグアニジンの一般的な定義を提供する。
すことを条件として、式(I)は本発明方法(C)にお
ける出発物質として使用すべき、置換されたアリールス
ルホニルア暑ノグアニジンの一般的な定義を提供する。
この場合、R1、R3X、、YおよびZは好ましくは、
あるいは特に、R1、R3、XSYおよびZについて好
ましいもの、あるいは特に好ましいものとして本発明の
式(I)の化合物の説明に関連して、既に上に述べた意
味を有し、モしてR2は好ましくは弗素、塩素、メトキ
シまたはエトキシによって随意に置換されているC1〜
C4−アルコキシを表し、特にR2はメトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、イソプロポキシ、2−クロル−エトキ
シ、2−メトキシ−エトキシまたは2−エトキシ−エト
キシを表す。
あるいは特に、R1、R3、XSYおよびZについて好
ましいもの、あるいは特に好ましいものとして本発明の
式(I)の化合物の説明に関連して、既に上に述べた意
味を有し、モしてR2は好ましくは弗素、塩素、メトキ
シまたはエトキシによって随意に置換されているC1〜
C4−アルコキシを表し、特にR2はメトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、イソプロポキシ、2−クロル−エトキ
シ、2−メトキシ−エトキシまたは2−エトキシ−エト
キシを表す。
本発明方法(C)における出発物質として使用すべき式
N)の化合物は本発明による新規な化合物であり:それ
らは本発明方法(a)または(b)によって製造するこ
とができる。
N)の化合物は本発明による新規な化合物であり:それ
らは本発明方法(a)または(b)によって製造するこ
とができる。
本発明方法(C)において使用できるアルカリ金属水酸
化物水溶液は、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウ
ムまたは水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物
の水溶液である。本発明方法(C)においては水酸化ナ
トリウム水溶液を使用するのが好ましい。
化物水溶液は、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウ
ムまたは水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物
の水溶液である。本発明方法(C)においては水酸化ナ
トリウム水溶液を使用するのが好ましい。
ガスまたは溶液、好ましくは水溶液の形のアンモニアを
本発明方法(C)において使用できる。
本発明方法(C)において使用できる。
本発明方法(C)において使用できる、随意に置換され
たアルキルアミンは、好ましくは、弗素、塩素、メトキ
シまたはエトキシにより随意に置換されている、1〜4
個の炭素数を有するアルキルアミン、特にメチルアもン
、エチルアミン、プロピルア果ンおよびイソプロピルア
もンである。
たアルキルアミンは、好ましくは、弗素、塩素、メトキ
シまたはエトキシにより随意に置換されている、1〜4
個の炭素数を有するアルキルアミン、特にメチルアもン
、エチルアミン、プロピルア果ンおよびイソプロピルア
もンである。
適当ならば、本発明方法(C)は希釈剤を使用して遂行
される。この目的のために適した希釈剤は水および例え
ばメタノール、エタノールおよびイソプロパツールのよ
うなアルコールの他に、実質的にすべての不活性有機溶
剤である。これらの溶剤は好ましくは、ペンタン、ヘキ
サン、ヘプタン、シクロヘキサン、石油エーテル、ベン
ジン、リグロイン、ベンゼン、トルエン、キシレン、塩
化メチレン、塩化エチレン、クロロホルム、四塩化炭素
、クロルベンゼンおよび0−ジクロルベンゼンのような
随意に置換されている脂肪族および芳香族炭化水素、ジ
エチルエーテル、ジブチルエーテル、グリコールジメチ
ルエーテルおよびジグリコールジメチルエーテル、テト
ラヒドロフランおよびジオキサンのようなエーテル類、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケ
トンおよびメチルイソブチルケトンのようなケトン類、
酢酸メチルおよび酢酸エチルのようなエステル類、例え
ばアセトニトリルおよびプロピオニトリルのようなニト
リル類、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミドおよびN−メチルピロリドンのようなアミド類、
並びにジメチルスルホキシド、テトラメチレンスルホン
およびヘキサメチル燐酸トリア逅ドを包含している。
される。この目的のために適した希釈剤は水および例え
ばメタノール、エタノールおよびイソプロパツールのよ
うなアルコールの他に、実質的にすべての不活性有機溶
剤である。これらの溶剤は好ましくは、ペンタン、ヘキ
サン、ヘプタン、シクロヘキサン、石油エーテル、ベン
ジン、リグロイン、ベンゼン、トルエン、キシレン、塩
化メチレン、塩化エチレン、クロロホルム、四塩化炭素
、クロルベンゼンおよび0−ジクロルベンゼンのような
随意に置換されている脂肪族および芳香族炭化水素、ジ
エチルエーテル、ジブチルエーテル、グリコールジメチ
ルエーテルおよびジグリコールジメチルエーテル、テト
ラヒドロフランおよびジオキサンのようなエーテル類、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケ
トンおよびメチルイソブチルケトンのようなケトン類、
酢酸メチルおよび酢酸エチルのようなエステル類、例え
ばアセトニトリルおよびプロピオニトリルのようなニト
リル類、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミドおよびN−メチルピロリドンのようなアミド類、
並びにジメチルスルホキシド、テトラメチレンスルホン
およびヘキサメチル燐酸トリア逅ドを包含している。
本発明方法(C)を遂行するとき、その反応温度はかな
りの範囲内で変わることができる。一般にこの方法は0
0〜120°Cの温度、好ましくは20℃〜100℃の
温度において遂行される。
りの範囲内で変わることができる。一般にこの方法は0
0〜120°Cの温度、好ましくは20℃〜100℃の
温度において遂行される。
一般に、本発明方法(C)は常圧下において遂行される
が、本方法を昇圧下または減圧下で遂行することもでき
る。
が、本方法を昇圧下または減圧下で遂行することもでき
る。
本発明方法(C)を遂行するためには、式(1)で表さ
れる出発化合物1モルに付き、一般に1〜10モル、好
ましくは1〜5モルのアルカリ金属水酸化物、アンモニ
アまたはアミンが使用される。
れる出発化合物1モルに付き、一般に1〜10モル、好
ましくは1〜5モルのアルカリ金属水酸化物、アンモニ
アまたはアミンが使用される。
一般に、式(1)で表される出発化合物を、適当ならば
希釈剤で希釈した形で、まず最初に室温で反応容器中に
導入し、ついで適当ならば昇温下に、アルカリ水酸化物
水溶液、アンモニアまたはアミンを計量しながら導入す
る。反応混合物は反応が終了するまで撹拌し、そして仕
上処理は常法にしたがって遂行される(製造側参照)。
希釈剤で希釈した形で、まず最初に室温で反応容器中に
導入し、ついで適当ならば昇温下に、アルカリ水酸化物
水溶液、アンモニアまたはアミンを計量しながら導入す
る。反応混合物は反応が終了するまで撹拌し、そして仕
上処理は常法にしたがって遂行される(製造側参照)。
本発明の活性化合物は落葉剤、乾燥剤、広葉植物を枯ら
す薬剤および、特に、除草剤として使用することができ
る。雑草とは、最も広い意味で言えば、それらが望まれ
ていない場所で生育するすべての植物と解される。本発
明の物質が全体的または選択的除草剤として作用するか
どうかは、本質的にその使用量によって決まる。
す薬剤および、特に、除草剤として使用することができ
る。雑草とは、最も広い意味で言えば、それらが望まれ
ていない場所で生育するすべての植物と解される。本発
明の物質が全体的または選択的除草剤として作用するか
どうかは、本質的にその使用量によって決まる。
本発明の活性化合物は、例えば下記の植物に関して使用
することができる。
することができる。
双 (7>:シナビス(5inapis )、レピ
ジウム(Lepidium )、ガリウム(Galiu
m )、ステラリア(5tellaria )、マトリ
カリア(Matricaria )、アンセミス(An
themis )、ガリンソガ(Galinsoga
)、ケノボジウム(Chenopodtu+++ )、
ウルチカ(Urtica )、セネシオ(5eneci
o )、アマランサス(A+aranthus )、ボ
ルツラカ(Fortulaca) 、クサンシウム(X
anthium)、コンポルブルス(Convolvu
lus ) 、イボモニア(Ipomoea ) 、ボ
リゴヌム(Polygonum ) 、セスバニア(5
esbania )、アンプロシア(Ambrosia
)、シルシウム(Cirsium )、カルズウス(
Carduus )、ソンクス(5onchus )
、ソラナム(Solanum )、ロリッパ(Rori
ppa ) 、ロタラ(Rotala )、リンデルニ
ア(Lindernia ) 、う旦つム(Lam1u
i )、ベロニカ(Veronica )、アプチロン
(^butilon )、エメツクス(Emex )、
ダツラ(Datura )、ビオラ(Viola )
、ガレオプシス(Ga1eopsis ) 、パパベル
(Papaver ) 、センタウレア(Centau
rea )、トリホリウム(↑rifolium )
、ラヌンクルス(Ranunculus )およびタラ
クサクム(Taraxacum )。
ジウム(Lepidium )、ガリウム(Galiu
m )、ステラリア(5tellaria )、マトリ
カリア(Matricaria )、アンセミス(An
themis )、ガリンソガ(Galinsoga
)、ケノボジウム(Chenopodtu+++ )、
ウルチカ(Urtica )、セネシオ(5eneci
o )、アマランサス(A+aranthus )、ボ
ルツラカ(Fortulaca) 、クサンシウム(X
anthium)、コンポルブルス(Convolvu
lus ) 、イボモニア(Ipomoea ) 、ボ
リゴヌム(Polygonum ) 、セスバニア(5
esbania )、アンプロシア(Ambrosia
)、シルシウム(Cirsium )、カルズウス(
Carduus )、ソンクス(5onchus )
、ソラナム(Solanum )、ロリッパ(Rori
ppa ) 、ロタラ(Rotala )、リンデルニ
ア(Lindernia ) 、う旦つム(Lam1u
i )、ベロニカ(Veronica )、アプチロン
(^butilon )、エメツクス(Emex )、
ダツラ(Datura )、ビオラ(Viola )
、ガレオプシス(Ga1eopsis ) 、パパベル
(Papaver ) 、センタウレア(Centau
rea )、トリホリウム(↑rifolium )
、ラヌンクルス(Ranunculus )およびタラ
クサクム(Taraxacum )。
笹 の゛士立 :ゴシビウム(Gossypium
)、グリシン(Giycine ) 、ベータ(Bet
a )、ダウカス(Daucus )、フェセオラス(
Phaseolus ) 、ピスム(Pisum )
、ソラナム(5olanu+e ) 、リヌム(Lin
um ) 、イボモニア(Ipomoea > 、ビシ
ア(Vicia ) 、ニコチアナ(N1cotian
a ) 、リコペルシコン(Lycopersicon
)、アラキス(Arachis )、ブラッシカ(B
rassica )、ラクチェカ(Lactuca )
、ククミス(Cucumis)およびククルビタ(Cu
curbita)。
)、グリシン(Giycine ) 、ベータ(Bet
a )、ダウカス(Daucus )、フェセオラス(
Phaseolus ) 、ピスム(Pisum )
、ソラナム(5olanu+e ) 、リヌム(Lin
um ) 、イボモニア(Ipomoea > 、ビシ
ア(Vicia ) 、ニコチアナ(N1cotian
a ) 、リコペルシコン(Lycopersicon
)、アラキス(Arachis )、ブラッシカ(B
rassica )、ラクチェカ(Lactuca )
、ククミス(Cucumis)およびククルビタ(Cu
curbita)。
星王粟徨夏鑑華:エキノクロア(Echinochlo
a)、セタリア(5etaria )、パニカム(Pa
nicum )、ジギタリア(Digitaria )
、フレラム(Ph1eus+ )、ボア(Poa )、
フェスチェカ(Fe5tuca ) 、エレウシン(E
leusine )、ブラキアリア(Brachiar
ia)、ロリウム(Loliua+ )、ブロムス(B
romus )、アベナ(Avena ) 、シペルス
(Cyperus ) 、ソルグフム(Sorghum
)、アグロビロン(Agropyron )、ジノト
ン(Cynodon )、モノコリア(Monocho
ria )、フィムブリスチリス(Fi(llbris
tylis )、サギクリア(Sagittaria
)、エレオカリス(Bleocharis )、シルブ
ス(5cirpus ) 、バスバルム(Pa5pal
un+ )、イシアエムム(Ischaemu++ )
−、スフニックレア(Sphenoc tea)、ダク
チロクテニウム(Dactylocteniuffl)
アグロスチス(Agrostis)、アロベクルス(A
lopecurus)およびアペラ(Apera )。
a)、セタリア(5etaria )、パニカム(Pa
nicum )、ジギタリア(Digitaria )
、フレラム(Ph1eus+ )、ボア(Poa )、
フェスチェカ(Fe5tuca ) 、エレウシン(E
leusine )、ブラキアリア(Brachiar
ia)、ロリウム(Loliua+ )、ブロムス(B
romus )、アベナ(Avena ) 、シペルス
(Cyperus ) 、ソルグフム(Sorghum
)、アグロビロン(Agropyron )、ジノト
ン(Cynodon )、モノコリア(Monocho
ria )、フィムブリスチリス(Fi(llbris
tylis )、サギクリア(Sagittaria
)、エレオカリス(Bleocharis )、シルブ
ス(5cirpus ) 、バスバルム(Pa5pal
un+ )、イシアエムム(Ischaemu++ )
−、スフニックレア(Sphenoc tea)、ダク
チロクテニウム(Dactylocteniuffl)
アグロスチス(Agrostis)、アロベクルス(A
lopecurus)およびアペラ(Apera )。
のt :オリザ(0ryza ) 、ゼア(Zea)
、)リチカム(Triticum )、ホルデウム(H
ordeus+ )、アベナ(Avena )、セカレ
(5ecale )、ソルグフム(Sorghum )
、パニカム(Panicum )、サッカラム(Sa
ccharum ) 、アナナス(Ananas )、
アスパラガス(Asparagus)およびアリウム(
Allium)。
、)リチカム(Triticum )、ホルデウム(H
ordeus+ )、アベナ(Avena )、セカレ
(5ecale )、ソルグフム(Sorghum )
、パニカム(Panicum )、サッカラム(Sa
ccharum ) 、アナナス(Ananas )、
アスパラガス(Asparagus)およびアリウム(
Allium)。
しかしながら、本発明の活性化合物の使用は決してこれ
らの種類に限定されないで、同様にその他の植物にも及
んでいる。
らの種類に限定されないで、同様にその他の植物にも及
んでいる。
本化合物は、その濃度に応じて、例えば工業地帯並びに
鉄道線路、および樹木が植え込まれているか、または植
え込まれていない道または広場の雑草を全面的に駆除す
るのに適している。同様に、本化合物は多年性の栽培植
物、例えば植林、装飾的な植物の植込、果樹園、ぶどう
園、かんきつ園、ナツト園、バナナ園、コーヒー園、茶
畑、ゴム園、油やし園、ココア園、ソフトフルーツ園お
よびホップ園の中の雑草、芝地、芝生、牧草地および牧
場の中の雑草を駆除するために、および−年生栽培植物
の中の雑草を選択的に駆除するために使用できる。
鉄道線路、および樹木が植え込まれているか、または植
え込まれていない道または広場の雑草を全面的に駆除す
るのに適している。同様に、本化合物は多年性の栽培植
物、例えば植林、装飾的な植物の植込、果樹園、ぶどう
園、かんきつ園、ナツト園、バナナ園、コーヒー園、茶
畑、ゴム園、油やし園、ココア園、ソフトフルーツ園お
よびホップ園の中の雑草、芝地、芝生、牧草地および牧
場の中の雑草を駆除するために、および−年生栽培植物
の中の雑草を選択的に駆除するために使用できる。
本発明の式(1)で表される化合物は発芽後の適用方法
ばかりでなく、発芽前の適用方法を使用して、単子葉作
物および双子葉作物の中の単子葉および双子葉の雑草を
選択的に駆除するのに適している。
ばかりでなく、発芽前の適用方法を使用して、単子葉作
物および双子葉作物の中の単子葉および双子葉の雑草を
選択的に駆除するのに適している。
本活性化合物は通例の処方物、例えば溶液、乳剤、湿潤
性粉末、懸濁物、粉末、散粉剤、ペースト、可溶性粉末
、顆粒、懸濁−乳化濃厚物、活性化合物を含浸させた天
然材料並びに合成材料、および重合体物質中に入れた極
く微細なカプセルに変えることができる。
性粉末、懸濁物、粉末、散粉剤、ペースト、可溶性粉末
、顆粒、懸濁−乳化濃厚物、活性化合物を含浸させた天
然材料並びに合成材料、および重合体物質中に入れた極
く微細なカプセルに変えることができる。
これらの処方物は公知の方法により、例えば、随意に乳
化剤および/または分散剤および/または発泡剤である
表面活性剤とともに、活性化合物を、液体溶剤および/
または固体担体である増量剤と混合することによって製
造される。
化剤および/または分散剤および/または発泡剤である
表面活性剤とともに、活性化合物を、液体溶剤および/
または固体担体である増量剤と混合することによって製
造される。
増量剤として水を使用する場合には、例えば有機溶剤を
補助溶剤として使用することもできる。
補助溶剤として使用することもできる。
液体溶剤としては、主として、キシレン、トルエンまた
はアルキルナフタレンのような芳香族炭化水素、クロル
ベンゼン、クロルエチレンまたは塩化メチレンのような
塩素化芳香族炭化水素および塩素化脂肪族炭化水素、ク
ロルヘキサンまたはパラフィン、例えば石油留分、鉱油
および植物油のような脂肪族炭化水素、ブタノールまた
はグリコールのようなアルコール並びにそれらのエーテ
ルおよびエステル、アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトンまたはシクロヘキサノンのような
ケトン、ジメチルホルムアミドおよびジメチルスルホキ
シドのような強い極性溶剤並びに水が適している。
はアルキルナフタレンのような芳香族炭化水素、クロル
ベンゼン、クロルエチレンまたは塩化メチレンのような
塩素化芳香族炭化水素および塩素化脂肪族炭化水素、ク
ロルヘキサンまたはパラフィン、例えば石油留分、鉱油
および植物油のような脂肪族炭化水素、ブタノールまた
はグリコールのようなアルコール並びにそれらのエーテ
ルおよびエステル、アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトンまたはシクロヘキサノンのような
ケトン、ジメチルホルムアミドおよびジメチルスルホキ
シドのような強い極性溶剤並びに水が適している。
固体の担体としては、例えばアンモニウム塩および粉末
にした天然鉱物、例えばカオリン、粘土、タルク、チョ
ーク、石英、アクパルガイド、モンモリロナイトまたは
珪藻土、および粉末にした合成材料、例えば高度分散シ
リカ、アル果すおよびシリケートが適しており、顆粒の
ための固体担体としては、例えば粉砕して分別した天然
岩石、例えば方解石、大理石、軽石、セビオライトおよ
びドロマイト、並びに無機および有機荒挽粉の合成顆粒
、および鋸屑、ココナツの殻、トウモロコシの芯および
タバコの茎のような有機材料の顆粒が適しており:乳化
剤および/または発泡剤としては、例えば非イオン系お
よび陰イオン系乳化剤、例えばポリオキシエチレン脂肪
酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪族アルコールエー
テル、例えばアルキルアリールポリグリコールエーテル
、アルキルスルホネート、硫酸アルキル、スルホン酸ア
リール並びにアルブミンの加水分解生成物が適しており
:分散剤としては、例えばリグニン亜硫酸廃液およびメ
チルセルロースが適している。
にした天然鉱物、例えばカオリン、粘土、タルク、チョ
ーク、石英、アクパルガイド、モンモリロナイトまたは
珪藻土、および粉末にした合成材料、例えば高度分散シ
リカ、アル果すおよびシリケートが適しており、顆粒の
ための固体担体としては、例えば粉砕して分別した天然
岩石、例えば方解石、大理石、軽石、セビオライトおよ
びドロマイト、並びに無機および有機荒挽粉の合成顆粒
、および鋸屑、ココナツの殻、トウモロコシの芯および
タバコの茎のような有機材料の顆粒が適しており:乳化
剤および/または発泡剤としては、例えば非イオン系お
よび陰イオン系乳化剤、例えばポリオキシエチレン脂肪
酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪族アルコールエー
テル、例えばアルキルアリールポリグリコールエーテル
、アルキルスルホネート、硫酸アルキル、スルホン酸ア
リール並びにアルブミンの加水分解生成物が適しており
:分散剤としては、例えばリグニン亜硫酸廃液およびメ
チルセルロースが適している。
カルボキシメチルセルロースのような接着剤および粉末
、顆粒またはラテックスの形の天然並びに合成重合体、
例えばアラビアゴム、ポリビニルアルコールおよびポリ
ビニルアセテート、並びに天然の燐脂質、例えばセファ
リンおよびレシチン、および合成の燐脂質を処方物中で
使用することができる。その他の添加剤として鉱油およ
び植物油を挙げることができる。
、顆粒またはラテックスの形の天然並びに合成重合体、
例えばアラビアゴム、ポリビニルアルコールおよびポリ
ビニルアセテート、並びに天然の燐脂質、例えばセファ
リンおよびレシチン、および合成の燐脂質を処方物中で
使用することができる。その他の添加剤として鉱油およ
び植物油を挙げることができる。
無機顔料、例えば酸化鉄、酸化チタンおよびプルシアン
ブルー、および有機染料、例えばアリザリン染料、アゾ
染料および金属フタロシアニン染料のような着色料、お
よび微量の栄養素、例えば鉄、マンガン、硼素、銅、コ
バルト、モルブデンおよび亜鉛の塩を使用することがで
きる。
ブルー、および有機染料、例えばアリザリン染料、アゾ
染料および金属フタロシアニン染料のような着色料、お
よび微量の栄養素、例えば鉄、マンガン、硼素、銅、コ
バルト、モルブデンおよび亜鉛の塩を使用することがで
きる。
本処方物は一般に0.1〜95重量%、好ましくは0.
5〜90重量%の活性化合物を含む。
5〜90重量%の活性化合物を含む。
雑草を駆除するため、単独または処方物の形の本発明活
性化合物を、可能である公知の除草剤、仕上処方物およ
びタンク混合物との混合物の形で使用することもできる
。
性化合物を、可能である公知の除草剤、仕上処方物およ
びタンク混合物との混合物の形で使用することもできる
。
これらの混合物に適した除草剤は公知の除草剤、例えば
、穀草中の雑草を駆除するための1−アミノ−6−エチ
ルチオー3−(2,2−ジメチルプロピル)−1,3,
5−トリアジン−2,4(IH,31()−ジオン(A
METHYDIONB)またはN−(2−ベンゾチアゾ
リル)−N、N’−ジメチル尿素(METABENZT
HIAZURON):テンサイ中の雑草を駆除するため
の4−アミノ−3−メチル−6−フェニル−1,2,4
−)リアジン−5(4H)−オン(METAMITRO
N)、および大豆の中の雑草を駆除するための4−アミ
ノ−6−(l、1−ジメチルエチル)−3−メチルチオ
−1,2,4−トリアジン−5(4H) −、オン(M
ETRIBUZIN) ;さらにまた2、4−ジクロル
フェノキシ酢酸(2,4−〇); 4− (2,4−ジ
クロルフェノキシ)−酪酸(2,4−DB); 2.
4−ジクロルフェノキシプロピオン酸(2,4−DP)
i 5− (2−クロル−4−トリフルオルメチル−フ
ェノキシ)−2−ニトロ−安息香酸(ACIPLUOR
FEN ) ; 2−クロル−2’ 、6’−ジエチ
ル−N−メトキシメチル−アセトアニリド(ALACF
ILOR) ; 6.6−シメチルー2.4−ジオキ
ソ−3−(1−(2−プロペニルオキシアミノ)−ブチ
リデンツーシクロヘキサンカルボン酸メチル(ALLO
XYDIM ); 2−クロル−4−エチルアミノ−6
−イツブロビルアξノー1,3.5−トリアジン< A
TRAZIN );2− ((〔(((4,6−シメト
キシビリ旦ジンー2−イル)−アミノ〕−カルボニル〕
−ア主ノ〕−スルホニル〕−メチル〕−安息香酸メチル
(BBNSULFURON ”) S 3−ホプロピ
ルー2.1.3−ベンゾチアジアジン−4−オン−2,
2−ジオキシド(BENTAZONE ) ; 5−
(2,4−ジクロルフェノキシ)−2−ニトロ安息香酸
メチル(BIFENOχ): 3.5−ジブロム−4−
ヒドロキシーヘンゾニt−+J ル(BROMOXYN
IL) ; N −(ブトキシメチル)−2−クロル−
N−(2,6−ジメチルエチル)−アセトアミド(BU
TAC■LOR);2− (((4−クロル−6−メド
キシー2−ビリ逅ジニル)−アミノスルホニル)−アミ
ノスルホニル)−安息香酸エチル(CHLORIMUR
ON ’) ; 2−クロル−N−(〔(4−メトキ
シ−6−メチル−1,3,5−)リアジン−2−イル)
−ア稟ノ〕−カルボニル)−ベンゼンスルホンア泉ド(
CHLORSULFURON) i N、N−ジメ
チル−N’ −(3−クロル−4−メチルフェニル)−
尿素(CHLORTOLURON) ;エキソ−1−メ
チル−4−(1−メチルエチル)−2−(2−メチルフ
ェニル−メトキシ)−7−オキサ−ビシクロ−(2,2
,1)−へブタン(CINMETHYLIN); 3,
6−ジクロル−2−ピリジンカルボン酸(CLOPYR
ALID) ;2−クロル−4−二チルーアもノー6−
(3−シアノプロピルアミノ) −1,3,5−トリア
ジン(CYANAZINB) ; 2− (4−(2,
4−ジクロルフェノキシ)−フェノキシ)−プロピオン
酸、そのメチルエステルまたはそのエチルエステル(D
ICLOFOP);2−((2−クロルフェニル)−メ
チル〕−4,4−ジメチルイソオキサゾリジン−3−オ
ン(DIMETHAZONB ); N、N−ジ−n−
プロピル−チオカルバくン酸S−エチル(EPTAMH
) ; 4−ア主ノー6−t−ブチルー3−エチルチオ
−1,2,4−)リアジン−5(4)1)−オン(IE
THIOZIN) i 2− (4−〔(6−クロル−
2−ベンゾオキサシリル)−オキシフ−フェノキシ)−
プロパン酸、そのメチルエステルまたはそのエチルエス
テル(FENOXAPROP); 2− (4−(5−
)リフルオルメチルー2−ピリジルオキシ)−フェノキ
シ)プロパン酸またはそのブチルエステル(FLUAZ
IFOP); N、N−ジメチル−N’ −(3−トリ
フルオロメチルフェニル)−尿素(FLUOMf!TU
RON) ; C(4−7、: / −3,5−ジクロ
ル−6−フルオル−2−ピリジニル)−オキシフ−酢酸
またはその1−メチルヘプチルエステル(FLUROX
YPYR) ; 5− (2−りt)ルー4−トリフル
オルメチル−フェノキシ)−N−メチルスルホニル−2
−二トロベンズアξド(FOMESAFEN) i
2−(4−((3−クロル−5−(トリフルオルメチル
)−2−ピリジニル)−オキシフ−フェノキシ)−プロ
パン酸またはそのエチルエステル(I(ALOXYFO
P);3−シクロヘキシル−6−シメチルアミノー1−
メチル−1,3,5−トリアジン−2,4−ジオン(t
!EXAZINONE) : 2− (4,5−ジヒド
ロ−4−メチル−4−(1−メチルエチル)−5−オキ
ソ−IH−イミダゾール−2−イル)−4(5)−メチ
ル安息香酸メチ/L/(IMAZAMI!THABEN
Z) ; 2− (5−メチル−5−(1−メチルエチ
ル)−4−オキソ−2−イミダシリン−2−イル〕−3
−キノリンカルボン酸(IMAZAQUIN) ;
2− (4,5−ジヒドロ−4−メチル−4−イソプロ
ピル−5−オキソ−(IH)−イミダシール−2−イル
〕−5−エチル−ピリジン−3−カルボン酸(IMAZ
ETHAPYR) i3.5−ショート−4−ヒドロ
キシベンゾニトリル(IOXYNIL); N、N−ジ
メチル−N’ −(4−イソプロピルフェニル)−尿素
(ISOPROTURON) ; 5− (2−クロル
−4−()リフルオルメチル)−フェノキシ]−2−二
トロ安息香酸2−エトキシ−1−メチル−2−オキソ−
エチル(LACTOPEN) ? (2−メチル−4
−クロルフェノキシ)−酢酸(MCPA) ;(4−ク
ロル−2−メチルフェノキシ)−プロピオン酸(MCP
P) i N−メチル−2−(1,3−ベンゾチアゾー
ル−2−イルオキシ)−アセトアニリド(MEFENA
CET) ; 2−クロル−N−(2,6−シメチルフ
エニル) −N−((Ill)−ピラゾール−1−イル
−メチル)−アセドアミド(MF!、TAZACHLO
R) ; 2−エチル−6−メチル−N−(1−メチル
−2−メトキシエチル)−クロルアセトアニリド(ME
TOLACI(LOR) ; 2− (((((4−
メトキシ−6−メチル−1,3,5−)リアジン−2−
イル)−アミノ)−カルボニル〕−アミノ〕−スルホニ
ル)−安息香酸またはそのメチルエステル(METSU
LFURON); N、N−へキサメチレンチオカルバ
ミン酸S−エチル(MOLINATB) ; 1− (
3−)リフルオルメチルフェニル)−4−メチルアミノ
−5−クロル−6−ピリダゾン(NORFLIJRAZ
ON) ; 4−(シーn−7”ロビルアξ)) −3
,5−ジニトロベンゼンスルホンア果ド(ORYZAL
IN) ; 2−クロル−4−トリフルオルメチルフェ
ニル 3−エトキシ−4−ニドo −7s 二/L/
:L−テアL/ (OXYFLUORFEN)iN−
(1−エチルプロピル)−3,4−ジメチル−2,6−
シニトロアニリンCPENDIMET!(ALIN)
; O−(6−クロル−3−フェニル−ピリダジン−4
−イル)S−オクチルチオ炭酸エステル(PYRIDA
TE); 2− [4−(6−クロル−キノキサリン−
2−イル−オキシ)−フェノキシフ−プロピオン酸エチ
ル(QUIZALOFOP−ETHYL) ; 2−
(1−(エトキシアミノ)−ブチリデン)−5−(2−
エチル−チオプロピル) −1,3−シクロへキサジオ
ン(SETI(OXYDIM) ; 2−クロル−4,
6−ビス−(エチルアミノ) −1,3,5−トリアジ
ン(SIMAZ丁NE) 。
、穀草中の雑草を駆除するための1−アミノ−6−エチ
ルチオー3−(2,2−ジメチルプロピル)−1,3,
5−トリアジン−2,4(IH,31()−ジオン(A
METHYDIONB)またはN−(2−ベンゾチアゾ
リル)−N、N’−ジメチル尿素(METABENZT
HIAZURON):テンサイ中の雑草を駆除するため
の4−アミノ−3−メチル−6−フェニル−1,2,4
−)リアジン−5(4H)−オン(METAMITRO
N)、および大豆の中の雑草を駆除するための4−アミ
ノ−6−(l、1−ジメチルエチル)−3−メチルチオ
−1,2,4−トリアジン−5(4H) −、オン(M
ETRIBUZIN) ;さらにまた2、4−ジクロル
フェノキシ酢酸(2,4−〇); 4− (2,4−ジ
クロルフェノキシ)−酪酸(2,4−DB); 2.
4−ジクロルフェノキシプロピオン酸(2,4−DP)
i 5− (2−クロル−4−トリフルオルメチル−フ
ェノキシ)−2−ニトロ−安息香酸(ACIPLUOR
FEN ) ; 2−クロル−2’ 、6’−ジエチ
ル−N−メトキシメチル−アセトアニリド(ALACF
ILOR) ; 6.6−シメチルー2.4−ジオキ
ソ−3−(1−(2−プロペニルオキシアミノ)−ブチ
リデンツーシクロヘキサンカルボン酸メチル(ALLO
XYDIM ); 2−クロル−4−エチルアミノ−6
−イツブロビルアξノー1,3.5−トリアジン< A
TRAZIN );2− ((〔(((4,6−シメト
キシビリ旦ジンー2−イル)−アミノ〕−カルボニル〕
−ア主ノ〕−スルホニル〕−メチル〕−安息香酸メチル
(BBNSULFURON ”) S 3−ホプロピ
ルー2.1.3−ベンゾチアジアジン−4−オン−2,
2−ジオキシド(BENTAZONE ) ; 5−
(2,4−ジクロルフェノキシ)−2−ニトロ安息香酸
メチル(BIFENOχ): 3.5−ジブロム−4−
ヒドロキシーヘンゾニt−+J ル(BROMOXYN
IL) ; N −(ブトキシメチル)−2−クロル−
N−(2,6−ジメチルエチル)−アセトアミド(BU
TAC■LOR);2− (((4−クロル−6−メド
キシー2−ビリ逅ジニル)−アミノスルホニル)−アミ
ノスルホニル)−安息香酸エチル(CHLORIMUR
ON ’) ; 2−クロル−N−(〔(4−メトキ
シ−6−メチル−1,3,5−)リアジン−2−イル)
−ア稟ノ〕−カルボニル)−ベンゼンスルホンア泉ド(
CHLORSULFURON) i N、N−ジメ
チル−N’ −(3−クロル−4−メチルフェニル)−
尿素(CHLORTOLURON) ;エキソ−1−メ
チル−4−(1−メチルエチル)−2−(2−メチルフ
ェニル−メトキシ)−7−オキサ−ビシクロ−(2,2
,1)−へブタン(CINMETHYLIN); 3,
6−ジクロル−2−ピリジンカルボン酸(CLOPYR
ALID) ;2−クロル−4−二チルーアもノー6−
(3−シアノプロピルアミノ) −1,3,5−トリア
ジン(CYANAZINB) ; 2− (4−(2,
4−ジクロルフェノキシ)−フェノキシ)−プロピオン
酸、そのメチルエステルまたはそのエチルエステル(D
ICLOFOP);2−((2−クロルフェニル)−メ
チル〕−4,4−ジメチルイソオキサゾリジン−3−オ
ン(DIMETHAZONB ); N、N−ジ−n−
プロピル−チオカルバくン酸S−エチル(EPTAMH
) ; 4−ア主ノー6−t−ブチルー3−エチルチオ
−1,2,4−)リアジン−5(4)1)−オン(IE
THIOZIN) i 2− (4−〔(6−クロル−
2−ベンゾオキサシリル)−オキシフ−フェノキシ)−
プロパン酸、そのメチルエステルまたはそのエチルエス
テル(FENOXAPROP); 2− (4−(5−
)リフルオルメチルー2−ピリジルオキシ)−フェノキ
シ)プロパン酸またはそのブチルエステル(FLUAZ
IFOP); N、N−ジメチル−N’ −(3−トリ
フルオロメチルフェニル)−尿素(FLUOMf!TU
RON) ; C(4−7、: / −3,5−ジクロ
ル−6−フルオル−2−ピリジニル)−オキシフ−酢酸
またはその1−メチルヘプチルエステル(FLUROX
YPYR) ; 5− (2−りt)ルー4−トリフル
オルメチル−フェノキシ)−N−メチルスルホニル−2
−二トロベンズアξド(FOMESAFEN) i
2−(4−((3−クロル−5−(トリフルオルメチル
)−2−ピリジニル)−オキシフ−フェノキシ)−プロ
パン酸またはそのエチルエステル(I(ALOXYFO
P);3−シクロヘキシル−6−シメチルアミノー1−
メチル−1,3,5−トリアジン−2,4−ジオン(t
!EXAZINONE) : 2− (4,5−ジヒド
ロ−4−メチル−4−(1−メチルエチル)−5−オキ
ソ−IH−イミダゾール−2−イル)−4(5)−メチ
ル安息香酸メチ/L/(IMAZAMI!THABEN
Z) ; 2− (5−メチル−5−(1−メチルエチ
ル)−4−オキソ−2−イミダシリン−2−イル〕−3
−キノリンカルボン酸(IMAZAQUIN) ;
2− (4,5−ジヒドロ−4−メチル−4−イソプロ
ピル−5−オキソ−(IH)−イミダシール−2−イル
〕−5−エチル−ピリジン−3−カルボン酸(IMAZ
ETHAPYR) i3.5−ショート−4−ヒドロ
キシベンゾニトリル(IOXYNIL); N、N−ジ
メチル−N’ −(4−イソプロピルフェニル)−尿素
(ISOPROTURON) ; 5− (2−クロル
−4−()リフルオルメチル)−フェノキシ]−2−二
トロ安息香酸2−エトキシ−1−メチル−2−オキソ−
エチル(LACTOPEN) ? (2−メチル−4
−クロルフェノキシ)−酢酸(MCPA) ;(4−ク
ロル−2−メチルフェノキシ)−プロピオン酸(MCP
P) i N−メチル−2−(1,3−ベンゾチアゾー
ル−2−イルオキシ)−アセトアニリド(MEFENA
CET) ; 2−クロル−N−(2,6−シメチルフ
エニル) −N−((Ill)−ピラゾール−1−イル
−メチル)−アセドアミド(MF!、TAZACHLO
R) ; 2−エチル−6−メチル−N−(1−メチル
−2−メトキシエチル)−クロルアセトアニリド(ME
TOLACI(LOR) ; 2− (((((4−
メトキシ−6−メチル−1,3,5−)リアジン−2−
イル)−アミノ)−カルボニル〕−アミノ〕−スルホニ
ル)−安息香酸またはそのメチルエステル(METSU
LFURON); N、N−へキサメチレンチオカルバ
ミン酸S−エチル(MOLINATB) ; 1− (
3−)リフルオルメチルフェニル)−4−メチルアミノ
−5−クロル−6−ピリダゾン(NORFLIJRAZ
ON) ; 4−(シーn−7”ロビルアξ)) −3
,5−ジニトロベンゼンスルホンア果ド(ORYZAL
IN) ; 2−クロル−4−トリフルオルメチルフェ
ニル 3−エトキシ−4−ニドo −7s 二/L/
:L−テアL/ (OXYFLUORFEN)iN−
(1−エチルプロピル)−3,4−ジメチル−2,6−
シニトロアニリンCPENDIMET!(ALIN)
; O−(6−クロル−3−フェニル−ピリダジン−4
−イル)S−オクチルチオ炭酸エステル(PYRIDA
TE); 2− [4−(6−クロル−キノキサリン−
2−イル−オキシ)−フェノキシフ−プロピオン酸エチ
ル(QUIZALOFOP−ETHYL) ; 2−
(1−(エトキシアミノ)−ブチリデン)−5−(2−
エチル−チオプロピル) −1,3−シクロへキサジオ
ン(SETI(OXYDIM) ; 2−クロル−4,
6−ビス−(エチルアミノ) −1,3,5−トリアジ
ン(SIMAZ丁NE) 。
2.4−ビス−〔N−エチルアミノコ−6−メチルチオ
−1,3,5−トリアジン(SrMIl!TRYNE)
; 4−エチルアミノ−2−t−ブチルアごノー6−
メチルチオ−3−)リアジン(rERaurRyo)
; 3− ((CI:(4−メトキシ−6−メチル−1
,3,5−トリアジン−2−イル)−アミノ〕−カルボ
ニル〕−アもノ〕−スルホニル〕−チオフェン−2−カ
ルボン酸メチル(THIAMETURON) ; S
−((4−クロルフェニル)−メチル) −N、N−ジ
エチルチオカルバメート(T旧0BENCARB);
N、N−ジイソプロピルチオカルバ旦ン酸S −(2,
3,3−1−リクロルアリル)(TRIALLATE)
、 2.6−シニトロー4−トリフルオルメチル−N、
N−ジプロピルアニリン(TRIFLURALIN)の
ような公知の除草剤である。驚くべきことに、或混合物
はまた相乗作用を示す。
−1,3,5−トリアジン(SrMIl!TRYNE)
; 4−エチルアミノ−2−t−ブチルアごノー6−
メチルチオ−3−)リアジン(rERaurRyo)
; 3− ((CI:(4−メトキシ−6−メチル−1
,3,5−トリアジン−2−イル)−アミノ〕−カルボ
ニル〕−アもノ〕−スルホニル〕−チオフェン−2−カ
ルボン酸メチル(THIAMETURON) ; S
−((4−クロルフェニル)−メチル) −N、N−ジ
エチルチオカルバメート(T旧0BENCARB);
N、N−ジイソプロピルチオカルバ旦ン酸S −(2,
3,3−1−リクロルアリル)(TRIALLATE)
、 2.6−シニトロー4−トリフルオルメチル−N、
N−ジプロピルアニリン(TRIFLURALIN)の
ような公知の除草剤である。驚くべきことに、或混合物
はまた相乗作用を示す。
その他の公知の活性化合物、例えば殺菌剤、殺昆虫剤、
殺ダニ剤、段線”虫剤、鳥類忌避剤、植物栄養素および
土壌改良剤との混合物も使用できる。
殺ダニ剤、段線”虫剤、鳥類忌避剤、植物栄養素および
土壌改良剤との混合物も使用できる。
活性化合物は単独で、それらの処方物の形で、またはそ
の処方物をさらに希釈することによって調製された施用
形として、例えば即用溶液、懸濁物、乳剤、粉末、ペー
ストおよび顆粒の形で使用できる。それらは常法にした
がって、例えば潅水、吹付、噴霧または飛散(ばらまき
)によって使用される。
の処方物をさらに希釈することによって調製された施用
形として、例えば即用溶液、懸濁物、乳剤、粉末、ペー
ストおよび顆粒の形で使用できる。それらは常法にした
がって、例えば潅水、吹付、噴霧または飛散(ばらまき
)によって使用される。
本発明の活性化合物は植物の発芽前または発芽後のいず
れでも適用できる。
れでも適用できる。
本活性化合物は種を播く前に土の中に導入することもで
きる。
きる。
活性化合物の使用量はかなりの範囲内で変えることがで
きる。その使用量は本来、その所望される効果の性質に
よって決まる。一般に、使用量は土の表面1ヘクタール
に付きo、oi〜10kg、好ましくは0.05〜5k
gの活性化合物が施される量である。
きる。その使用量は本来、その所望される効果の性質に
よって決まる。一般に、使用量は土の表面1ヘクタール
に付きo、oi〜10kg、好ましくは0.05〜5k
gの活性化合物が施される量である。
本発明の活性化合物の製造および使用は以下の実施例か
ら理解することができる。
ら理解することができる。
製造例
(方法(b))
N’ −(4,6−シメトキシビリミジンー2−イル)
−N“−ア果ノーN′″−(2−メトキシカルボニル−
フェニルスルホニル)−グアニジン8.2g(0,02
モル)、ジアザビシクロ−(2,2,2)−オクタン(
DABCO) 2.5 g (0,022モル)および
塩化メチレン100IIIIlの混合物を一70°Cま
で冷却し、ついでこの混合物に、塩化メチレン20al
l中に5.2g(0,02モル)の2−プロボキシカル
ポニルーベンゼンスルホニルクロライドヲ含む溶液を撹
拌しながら少しづつ加える。冷却浴を取り除いた後、反
応混合物を12時間撹拌し、100+oj2の塩化メチ
レンで希釈し、そして50m1のIN塩酸と共に振とう
する。このプロセス中に結晶質の形で得られる生成物を
吸引が過によって遊離させる。
−N“−ア果ノーN′″−(2−メトキシカルボニル−
フェニルスルホニル)−グアニジン8.2g(0,02
モル)、ジアザビシクロ−(2,2,2)−オクタン(
DABCO) 2.5 g (0,022モル)および
塩化メチレン100IIIIlの混合物を一70°Cま
で冷却し、ついでこの混合物に、塩化メチレン20al
l中に5.2g(0,02モル)の2−プロボキシカル
ポニルーベンゼンスルホニルクロライドヲ含む溶液を撹
拌しながら少しづつ加える。冷却浴を取り除いた後、反
応混合物を12時間撹拌し、100+oj2の塩化メチ
レンで希釈し、そして50m1のIN塩酸と共に振とう
する。このプロセス中に結晶質の形で得られる生成物を
吸引が過によって遊離させる。
これによって、180°Cの融点を有するN′(4,6
−シメトキシピリミジンー2−イル)−N#−(2−プ
ロポキシカルボニル−フェニルスルホニルアも))−N
#−(2−メトキシカルボニル−フェニルスルホニル)
−グアニジン7.9g(理論量の62%)が得られる。
−シメトキシピリミジンー2−イル)−N#−(2−プ
ロポキシカルボニル−フェニルスルホニルアも))−N
#−(2−メトキシカルボニル−フェニルスルホニル)
−グアニジン7.9g(理論量の62%)が得られる。
(方法(b))
N’ −(4−メトキシ−6−メチル−ピリミジン−2
−イル)−N“−アミノ−N′″(1−メチル−4−エ
トキシカルボニル−ピラゾール−5−イル−スルホニル
)−グアニジン10.3 g (0,025モル)およ
びアセトニトリル100nlの撹拌されている混合物に
4.6g(0,025モル)の無水スルホ安息香酸を加
え、ついでこの反応混合物を20°Cにおいてさらに3
時間撹拌する。その後、このプロセス中に結晶質の形で
得られる生成物を吸引が過によって遊離させる。
−イル)−N“−アミノ−N′″(1−メチル−4−エ
トキシカルボニル−ピラゾール−5−イル−スルホニル
)−グアニジン10.3 g (0,025モル)およ
びアセトニトリル100nlの撹拌されている混合物に
4.6g(0,025モル)の無水スルホ安息香酸を加
え、ついでこの反応混合物を20°Cにおいてさらに3
時間撹拌する。その後、このプロセス中に結晶質の形で
得られる生成物を吸引が過によって遊離させる。
これによって、228°Cの融点で分解するN′−(4
−メトキシ−6−メチル−ピリミジン−2−イル)−N
“−(2−カルボキシ−フェニル−スルホニルア藁))
−N“−(1−メチル−4−エトキシカルボニルピラゾ
ール−5−イル−スルホニル)−グアニジン5.0g(
理論量の34%)が得られる。
−メトキシ−6−メチル−ピリミジン−2−イル)−N
“−(2−カルボキシ−フェニル−スルホニルア藁))
−N“−(1−メチル−4−エトキシカルボニルピラゾ
ール−5−イル−スルホニル)−グアニジン5.0g(
理論量の34%)が得られる。
例1および例2と類似した方法および本発明の製造方法
の一般的な説明にしたがって、例えば下記の第3表に列
挙した式(I)の化合物も製造することができる。
の一般的な説明にしたがって、例えば下記の第3表に列
挙した式(I)の化合物も製造することができる。
第3表中に例番号19で示した化合物の製法を以下に詳
しく説明する。
しく説明する。
(方法(C))
3゜Og(5,0ξリモル)のN’ −(4,6−シメ
チルーピリ逅ジンー2−イル)−N” −(2−(2−
クロル−エトキシカルボニル)−フェニルスルホニルー
ア泉ノ)−N″′−(2−メトキシカルボニル−フェニ
ルスルホニル)−クアニジンを20m1!、の水中に懸
濁させ、ついでこの懸濁液に50%濃度の水酸化ナトリ
ウム溶液を60″Cにおいて少しづつ加えるが、このプ
ロセス中のpHが12を超えることを避ける。冷却後、
形成された澄明な溶液を5On/!づつのクロロホルム
とともに3回振とうし、ついで水性相を濾過してから濃
硫酸を加えることによって、pl’lを5に定める。沈
澱した固体を炉別し、水洗してから塩化メチレン中に溶
解させ、ついで混合物を硫酸ナトリウム上で乾燥させた
後、濾過する。ウォーターポンプ真空下の蒸留によって
炉液から溶媒を注意深く除去する。
チルーピリ逅ジンー2−イル)−N” −(2−(2−
クロル−エトキシカルボニル)−フェニルスルホニルー
ア泉ノ)−N″′−(2−メトキシカルボニル−フェニ
ルスルホニル)−クアニジンを20m1!、の水中に懸
濁させ、ついでこの懸濁液に50%濃度の水酸化ナトリ
ウム溶液を60″Cにおいて少しづつ加えるが、このプ
ロセス中のpHが12を超えることを避ける。冷却後、
形成された澄明な溶液を5On/!づつのクロロホルム
とともに3回振とうし、ついで水性相を濾過してから濃
硫酸を加えることによって、pl’lを5に定める。沈
澱した固体を炉別し、水洗してから塩化メチレン中に溶
解させ、ついで混合物を硫酸ナトリウム上で乾燥させた
後、濾過する。ウォーターポンプ真空下の蒸留によって
炉液から溶媒を注意深く除去する。
これにより、208℃の融点を有するN’ −(4,6
−シメチルピリξジンー2−イル)−N“−(2−カル
ボキシ−フェニルスルホニルーアξ))−N′″(2−
メトキシカルボニル−フェニルスルホニル)−グアニジ
ン1.0 g (Bl論1の33%)が得られる。
−シメチルピリξジンー2−イル)−N“−(2−カル
ボキシ−フェニルスルホニルーアξ))−N′″(2−
メトキシカルボニル−フェニルスルホニル)−グアニジ
ン1.0 g (Bl論1の33%)が得られる。
第3表中に例番号33で示した化合物の製法を以下に詳
しく説明する。
しく説明する。
C0NHCH<CHs)z
(方法(C))
N’ −(4,6−ジメチル−ピリミジン−2−イル)
−N“−(2−(2−クロル−エトキシカルボニル)−
フェニルスルホニルアくノ)−N”(2−メトキシカル
ボニル−フェニルスルホニル)−グアニジン3.0g(
5,01リモル)、イソプロピルアミン1.5g(25
ミリモル)およびテトラヒドロフラン2511の混合物
を60℃において24時間撹拌した後、濃縮する。残渣
をメタノールとともに粉砕することによって結晶させ、
ついでその生成物を吸引が遇によって遊離させる。
−N“−(2−(2−クロル−エトキシカルボニル)−
フェニルスルホニルアくノ)−N”(2−メトキシカル
ボニル−フェニルスルホニル)−グアニジン3.0g(
5,01リモル)、イソプロピルアミン1.5g(25
ミリモル)およびテトラヒドロフラン2511の混合物
を60℃において24時間撹拌した後、濃縮する。残渣
をメタノールとともに粉砕することによって結晶させ、
ついでその生成物を吸引が遇によって遊離させる。
これによって、220℃の融点を有するN′(4,6−
シメチルービリξジンー2−イル)−N“−(2−イソ
プロピルアミノカルボニル−フェニルスルホニルアξ)
)−N” −(2−メトキシカルボニル−フェニルスル
ホニル)−グアニジン1.5g(理論量の50%)が得
られる。
シメチルービリξジンー2−イル)−N“−(2−イソ
プロピルアミノカルボニル−フェニルスルホニルアξ)
)−N” −(2−メトキシカルボニル−フェニルスル
ホニル)−グアニジン1.5g(理論量の50%)が得
られる。
例(IV−1)
100mj!のメタノール中に15.9 g (0,0
25モル)のN’ −(4,6−シメトキシーピリ電ジ
ンー2−イル)−N#−メトキシ−N’ −(2−メト
キシカルボニル−フェニルスルホニル)−N#−(2−
メトキシカルボニル−ベンジルスルホニル)−グアニジ
ンを懸濁させて撹拌されている懸濁液に、20°Cの初
期温度において1.3 g (0,025モル)のヒド
ラジン水和物を加えると、このプロセス中に反応混合物
の温度は30°Cに上昇して澄明な溶液が形成される。
25モル)のN’ −(4,6−シメトキシーピリ電ジ
ンー2−イル)−N#−メトキシ−N’ −(2−メト
キシカルボニル−フェニルスルホニル)−N#−(2−
メトキシカルボニル−ベンジルスルホニル)−グアニジ
ンを懸濁させて撹拌されている懸濁液に、20°Cの初
期温度において1.3 g (0,025モル)のヒド
ラジン水和物を加えると、このプロセス中に反応混合物
の温度は30°Cに上昇して澄明な溶液が形成される。
混合物を20″C〜30°Cにおいて4時間撹拌し、つ
いでその後結晶質の形で分離した生成物を吸引濾過によ
って遊離させる。
いでその後結晶質の形で分離した生成物を吸引濾過によ
って遊離させる。
これによって、166°Cの融点を有するN′(4,6
−シメトキシピリミジンー2−イル)−N#−ア逅ノー
N′″(2−メトキシカルボニル−ベンジルスルホニル
)−グアニジン9.5g(理論量の89%)が得られる
。
−シメトキシピリミジンー2−イル)−N#−ア逅ノー
N′″(2−メトキシカルボニル−ベンジルスルホニル
)−グアニジン9.5g(理論量の89%)が得られる
。
使用例:
以下の使用例において、比較物質として下記の化合物を
使用する。
使用する。
N’ −(4,6−ジメチル−ピリミジン−2−イル)
−N’ −(4−メチル−フェニルスルホニルア逅))
−N″’−(2−クロル−フェニルスルホニル)−グア
ニジン(欧州特許出願公開公報第121.082号に開
示されている) N’ −(4,6−ジメチル−ピリミジン−2−イ/L
/)−N“−(2−メトキシ−カルボニルフェニルスル
ホニルアξ))−N” −(2−メトキシカルボニル−
フェニルスルホニル)−グアニジン(欧州特許出願公開
公報第302,378号に開示されている) 例A 発芽後試験 溶 剤:アセトン5重量部 乳化剤:アルキルアリールポリグリコールエーテル1重
量部 活性化合物の適当な調合物を製造するために、活性化合
物1重量部を上記量の溶剤と混合し、上記量の乳化剤を
加え、ついでその濃厚液を水で希釈して所望の濃度にす
る。
−N’ −(4−メチル−フェニルスルホニルア逅))
−N″’−(2−クロル−フェニルスルホニル)−グア
ニジン(欧州特許出願公開公報第121.082号に開
示されている) N’ −(4,6−ジメチル−ピリミジン−2−イ/L
/)−N“−(2−メトキシ−カルボニルフェニルスル
ホニルアξ))−N” −(2−メトキシカルボニル−
フェニルスルホニル)−グアニジン(欧州特許出願公開
公報第302,378号に開示されている) 例A 発芽後試験 溶 剤:アセトン5重量部 乳化剤:アルキルアリールポリグリコールエーテル1重
量部 活性化合物の適当な調合物を製造するために、活性化合
物1重量部を上記量の溶剤と混合し、上記量の乳化剤を
加え、ついでその濃厚液を水で希釈して所望の濃度にす
る。
5〜15C1+1の高さを有する試験植物に、単位面積
当り所望の活性化合物の特定量が適用されるような方法
で、活性化合物の調合物を吹付ける。噴霧液の濃度は、
水1.00011ha中に所望の活性化合物の特定量が
適用されるように選定する。3週間後に、未処理の対象
植物の発育と比較した損傷百分率によって、植物に対す
る損傷度に等級を付ける。この数値は次の意味を表す。
当り所望の活性化合物の特定量が適用されるような方法
で、活性化合物の調合物を吹付ける。噴霧液の濃度は、
水1.00011ha中に所望の活性化合物の特定量が
適用されるように選定する。3週間後に、未処理の対象
植物の発育と比較した損傷百分率によって、植物に対す
る損傷度に等級を付ける。この数値は次の意味を表す。
0%=作用皆無(未処理の対象植物と同様)100%−
全体的に枯死 この試験においては、例えば製造例(1)、 (4)。
全体的に枯死 この試験においては、例えば製造例(1)、 (4)。
(5)、 (7)、 (10)、 (17)、 (18
)、 (19)、 (25)、 (26)。
)、 (19)、 (25)、 (26)。
(29)および(67)の化合物により、先行技術のも
のよりも、作物植物に対する著しく優れた選択性が示さ
れる。
のよりも、作物植物に対する著しく優れた選択性が示さ
れる。
例B
発芽前試験
溶 剤:アセトン5重量部
乳化剤:アルキルアリールポリグリコールエーテル1重
量部 活性化合物の適当な調合物を製造するために、活性化合
物1重量部を上記量の溶剤と混合し、上記量の乳化剤を
加え、ついでその濃厚液を水で希釈して所望の濃度にす
る。
量部 活性化合物の適当な調合物を製造するために、活性化合
物1重量部を上記量の溶剤と混合し、上記量の乳化剤を
加え、ついでその濃厚液を水で希釈して所望の濃度にす
る。
試験植物の種を通常の土壌に播き、ついで24時間後に
活性化合物の調合物を注ぐ。ここでは単位面積当りの水
の量を一定に保つのが好都合である。調合物中の活性化
合物の濃度は重要でなく、単位面積当りに適用される活
性化合物の量だけが決定的な要素である。3週間後に、
未処理の対象植物の発育と比較した損傷百分率によって
、植物に対する損傷度に等級を付ける。この数値は次の
意味を表す。
活性化合物の調合物を注ぐ。ここでは単位面積当りの水
の量を一定に保つのが好都合である。調合物中の活性化
合物の濃度は重要でなく、単位面積当りに適用される活
性化合物の量だけが決定的な要素である。3週間後に、
未処理の対象植物の発育と比較した損傷百分率によって
、植物に対する損傷度に等級を付ける。この数値は次の
意味を表す。
0%=作用皆無(未処理の対象植物と同様)100%=
全体的に枯死 この試験においては、例えば製造例(4)、 (5)。
全体的に枯死 この試験においては、例えば製造例(4)、 (5)。
(7)、 (10)、 (18)、 (19)、 (2
5)、 (26)および(67)の化合物により、先行
技術のものと比較して、作物植物に対する著しく優れた
選択性が示される。
5)、 (26)および(67)の化合物により、先行
技術のものと比較して、作物植物に対する著しく優れた
選択性が示される。
以上、発明の詳細な説明において詳しく説明した本発明
を具体的に要約すれば次のとうりである。
を具体的に要約すれば次のとうりである。
(1) N’ −(4,6−シメチルービリ壽ジンー
2−イル) −N’ −(,2−メトキシカルボニル−
フェニルスルホニルア果))−N′″(2−メトキシカ
ルボニル−フェニルスルホニル)−グアニジンを除く、
下記の一般式(1)で表される、置換されたアリールス
ルホニルアミノグアニジノアジン、 式中、R1は各々の場合、随意に置換されたアリール、
アラルキルまたはへテロアリールを表し、R2はヒドロ
キシルまたはアミノを表すか、あるいは各々の場合、随
意に置換されたアルコキシまたはアルキルアミノを表し
、 R3は水素、ハロゲン、ヒドロキシル、アルキル、 ハロゲノアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシ、
ハロゲノアルコキシ、アルキルチオ、ハロゲノアルキル
チオ、アミノ、アルキルアミノまたはジアルキルアミノ
を表し、 Xは窒素または一〇H基を表し、 Yは窒素または−CR’基を表し、ここでR4は水素、
ハロゲン、シアノ、アルキル、ホルミル、アルキル−カ
ルボニルまたはアルコキシ−カルボニルを表し、そして Zは窒素または−CRS基を表し、ここでR5は水素、
ハロゲン、ヒドロキシル、アルキル、アルコキシ、アル
キルチオ、アルキルアもノまたはジアルキルアミノを表
す。
2−イル) −N’ −(,2−メトキシカルボニル−
フェニルスルホニルア果))−N′″(2−メトキシカ
ルボニル−フェニルスルホニル)−グアニジンを除く、
下記の一般式(1)で表される、置換されたアリールス
ルホニルアミノグアニジノアジン、 式中、R1は各々の場合、随意に置換されたアリール、
アラルキルまたはへテロアリールを表し、R2はヒドロ
キシルまたはアミノを表すか、あるいは各々の場合、随
意に置換されたアルコキシまたはアルキルアミノを表し
、 R3は水素、ハロゲン、ヒドロキシル、アルキル、 ハロゲノアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシ、
ハロゲノアルコキシ、アルキルチオ、ハロゲノアルキル
チオ、アミノ、アルキルアミノまたはジアルキルアミノ
を表し、 Xは窒素または一〇H基を表し、 Yは窒素または−CR’基を表し、ここでR4は水素、
ハロゲン、シアノ、アルキル、ホルミル、アルキル−カ
ルボニルまたはアルコキシ−カルボニルを表し、そして Zは窒素または−CRS基を表し、ここでR5は水素、
ハロゲン、ヒドロキシル、アルキル、アルコキシ、アル
キルチオ、アルキルアもノまたはジアルキルアミノを表
す。
(2) (a)下記の一般式(II)で表されるスル
ホニル化合物を、 (式中、 1 3 X。
ホニル化合物を、 (式中、 1 3 X。
YおよびZは前記第1
項に記載された意味を有し、モしてAは下記の離脱基、
すなわち R’−3(h−N−OR’ または −Q−R”のい
ずれか一方を表し、 ここで RhはR1の場合について示した上記の意味を有するが
、各々の個々の場合において、R1と同一である必要は
なく、 R7はアルキル、アルケニルまたはアラルキルを表し、 R1′はアルキル、アラルキルまたはアリールを表し、
そしてQは酸素または硫黄を表す)適当ならば希釈剤の
存在下において、下記の一般式([[)で表されるスル
ホン酸ヒドラジドと反応させるか、 (式中、Rtは前記第1項に記載された意味を有する)
あるいは (b) 下記一般式(IV)で表されるアミノグアニ
ジノアジンを、 (式中、R’ 、R’ 、X、YおよびZは前記第1項
に記載された意味を有する) 適当ならば希釈剤の存在下および適当ならば酸受容体の
存在下において、下記の一般式(V)で表されるハロゲ
ン化スルホニルと反応させるか、(式中、R1は前記第
1項に記載された意味を有し、モしてXI はハロゲン
を表す) または下記の式(VI)で表される無水スルホ安息香酸
と反応させるか、 あるいは (C) 前記第1項に記載された一般式(1)の中で
R2が随意に置換されたアルコキシを表し、そしてR’
、R’ 、X、YおよびZが前述の意味を有する、一
般式(1)の置換されたアリールスルホニルアミノグア
ニジノアジンを、適当ならば希釈剤の存在下において、
アルカリ金属水酸化物水溶液またはアンモニアまたは随
意に置換されたアルキルアミンと反応させることを特徴
とする、前記第1項記載の式(1)で表される置換され
たアリールスルホニルアミノグアニジノアジンの製造方
法。
すなわち R’−3(h−N−OR’ または −Q−R”のい
ずれか一方を表し、 ここで RhはR1の場合について示した上記の意味を有するが
、各々の個々の場合において、R1と同一である必要は
なく、 R7はアルキル、アルケニルまたはアラルキルを表し、 R1′はアルキル、アラルキルまたはアリールを表し、
そしてQは酸素または硫黄を表す)適当ならば希釈剤の
存在下において、下記の一般式([[)で表されるスル
ホン酸ヒドラジドと反応させるか、 (式中、Rtは前記第1項に記載された意味を有する)
あるいは (b) 下記一般式(IV)で表されるアミノグアニ
ジノアジンを、 (式中、R’ 、R’ 、X、YおよびZは前記第1項
に記載された意味を有する) 適当ならば希釈剤の存在下および適当ならば酸受容体の
存在下において、下記の一般式(V)で表されるハロゲ
ン化スルホニルと反応させるか、(式中、R1は前記第
1項に記載された意味を有し、モしてXI はハロゲン
を表す) または下記の式(VI)で表される無水スルホ安息香酸
と反応させるか、 あるいは (C) 前記第1項に記載された一般式(1)の中で
R2が随意に置換されたアルコキシを表し、そしてR’
、R’ 、X、YおよびZが前述の意味を有する、一
般式(1)の置換されたアリールスルホニルアミノグア
ニジノアジンを、適当ならば希釈剤の存在下において、
アルカリ金属水酸化物水溶液またはアンモニアまたは随
意に置換されたアルキルアミンと反応させることを特徴
とする、前記第1項記載の式(1)で表される置換され
たアリールスルホニルアミノグアニジノアジンの製造方
法。
(3)前記第1項に記載された式(1)の置換されたア
リールスルホニルアミノグアニジノアジンを少なくとも
1種含有することを特徴とする除草剤。
リールスルホニルアミノグアニジノアジンを少なくとも
1種含有することを特徴とする除草剤。
(4)前記第1項に記載された式(I)の置換されたア
リールスルホニルアミノグアニジノアジンを雑草および
/またはその雑草の環境に作用させることを特徴とする
、雑草の駆除方法。
リールスルホニルアミノグアニジノアジンを雑草および
/またはその雑草の環境に作用させることを特徴とする
、雑草の駆除方法。
(5)雑草を駆除するために前記第1項記載の式(1)
で表される、置換されたアリールスルホニルアミノグア
ニジノアジンを使用する方法。
で表される、置換されたアリールスルホニルアミノグア
ニジノアジンを使用する方法。
(6)前記第1項に記載された式CI)の置換されたア
リールスルホニルアミノグアニジノアジンを増量剤およ
び/または表面活性剤と混合することを特徴とする、除
草剤の製造方法。
リールスルホニルアミノグアニジノアジンを増量剤およ
び/または表面活性剤と混合することを特徴とする、除
草剤の製造方法。
Claims (5)
- (1)N′−(4,6−ジメチル−ピリミジン−2−イ
ル)−N″−(2−メトキシカルボニル−フェニルスル
ホニルアミノ)−N′″(2−メトキシカルボニル−フ
ェニルスルホニル)−グアニジンを除く、下記の一般式
( I )で表される、置換されたアリールスルホニルア
ミノグアニジノアジン、 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中 R^1は各々の場合、随意に置換されたアリール、アラ
ルキルまたはヘテロアリールを表し、 R^2はヒドロキシルまたはアミノを表すか、あるいは
各々の場合、随意に置換されたアルコキシまたはアルキ
ルアミノを表し、 R^3は水素、ハロゲン、ヒドロキシル、アルキル、ハ
ロゲノアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシ、ハ
ロゲノアルコキシ、アルキルチオ、ハロゲノアルキルチ
オ、アミノ、アルキルアミノまたはジアルキルアミノを
表し、 Xは窒素または−CH基を表し、 Yは窒素または−CR^4基を表し、ここでR^4は水
素、ハロゲン、シアノ、アルキル、ホルミル、アルキル
−カルボニルまたはアルコキシ−カルボニルを表し、そ
して Zは窒素または−CR^5基を表し、ここでR^5は水
素、ハロゲン、ヒドロキシル、アルキル、アルコキシ、
アルキルチオ、アルキルアミノまたはジアルキルアミノ
を表す。 - (2)(a)下記の一般式(II)で表されるスルホニル
化合物を、 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R^1、R^3、X、YおよびZは請求項1に
記載された意味を有し、そして Aは下記の離脱基、すなわち ▲数式、化学式、表等があります▼または−Q−R^8 のいずれか一方を表し、 ここで R^6はR^1の場合について示した上記の意味を有す
るが、各々の個々の場合においてR^1と同一である必
要はなく、 R^7はアルキル、アルケニルまたはアラルキルを表し
、 R^8はアルキル、アラルキルまたはアリールを表し、
そしてQは酸素または硫黄を表す) 適当ならば希釈剤の存在下において、下記の一般式(I
II)で表されるスルホン酸ヒドラジドと反応させるか、 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、R^2は請求項1に記載された意味を有する) あるいは (b)下記の一般式(IV)で表されるアミノグアニジノ
アジンを、 ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中、R^1、R^3、X、YおよびZは請求項1に
記載された意味を有する)適当ならば希釈剤の存在下お
よび適当ならば酸受容体の存在下において、下記の一般
式(V)で表されるハロゲン化スルホニルと反応させる
か、 ▲数式、化学式、表等があります▼(V) (式中、R^2は請求項1に記載された意味を有し、そ
してX^1はハロゲンを表す) または下記の式(VI)で表される無水スルホ安息香酸と
反応させるか、 ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) あるいは (c)請求項1に記載された一般式( I )の中でR^
2が随意に置換されたアルコキシを表し、そしてR^1
、R^3、X、YおよびZが前述の意味を有する、一般
式( I )の置換されたアリールスルホニルアミノグア
ニジノアジンを、適当ならば希釈剤の存在下において、
アルカリ金属水酸化物水溶液またはアンモニアまたは随
意に置換されたアルキルアミンと反応させることを特徴
とする、請求項1記載の式( I )で表される置換され
たアリールスルホニルアミノグアニジノアジンの製造方
法。 - (3)請求項1に記載された式( I )の置換されたア
リールスルホニルアミノグアニジノアジンを少なくとも
1種含有することを特徴とする除草剤。 - (4)請求項1に記載された式( I )の置換されたア
リールスルホニルアミノグアニジノアジンを雑草および
/またはその雑草の周囲に作用させることを特徴とする
、雑草の駆除方法。 - (5)請求項1に記載された式( I )の置換されたア
リールスルホニルアミノグアニジノアジンを増量剤およ
び/または表面活性剤と混合することを特徴とする、除
草剤の製造方法。
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