JPH0377888A - フォトクロミック化合物 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、新規なフォトクロミック化合物に関するもの
で、さらに詳細には発色状態での安定性に優れたスピロ
オキサジン系フォトクロミック化合物に関するものであ
る。
で、さらに詳細には発色状態での安定性に優れたスピロ
オキサジン系フォトクロミック化合物に関するものであ
る。
スピロピラン系フォトクロミック化合物は、■着色体の
吸光度が高(、■着色体と消色体の吸収波長の差が大き
く、■着色体の吸収波長が置換基により任意に変化可能
であり、■着色、消色が繰り返し行えることから、書換
え型光記録材料あるいは表示材料としての応用が期待さ
れている。
吸光度が高(、■着色体と消色体の吸収波長の差が大き
く、■着色体の吸収波長が置換基により任意に変化可能
であり、■着色、消色が繰り返し行えることから、書換
え型光記録材料あるいは表示材料としての応用が期待さ
れている。
シカし、スピロピラン系フォトクロミック化合物には、
発消色の繰り返し耐久性に問題があった。
発消色の繰り返し耐久性に問題があった。
近年、ピラン環のC1C二重結合なC,N二重結合に変
えた下記のように表わされる基本骨格を有するスピロナ
フトオキサジンが繰り返し耐久性に非常に優れる化合物
として注目されている。
えた下記のように表わされる基本骨格を有するスピロナ
フトオキサジンが繰り返し耐久性に非常に優れる化合物
として注目されている。
しかし、スピロナフトオキサジンで代表されるスピロオ
キサジン系フォトクロミック化合物は繰り返し耐久性に
は優れるものの、着色時の見かけの吸光度が小さ(、着
色体の安定性が悪いという課題を有している。従って、
記録材料として応用した場合、記録の保存安定性に問題
がありた。この原因は、光で開環した着色体が熱反応に
より元の無色体に戻りてしま、うためであり、その熱反
応がスピロオキサジン系フォトクロミック化合物の場合
非常に速い。着色体は極性構造を有しているため、極性
雰囲気下では比較的安定である。極性雰囲気を達成する
には極性マトリックス中に分散するかあるいは極性基を
有する他成分との混合が考えられるが、この方法では非
常に特定の使用に限られてしまう。
キサジン系フォトクロミック化合物は繰り返し耐久性に
は優れるものの、着色時の見かけの吸光度が小さ(、着
色体の安定性が悪いという課題を有している。従って、
記録材料として応用した場合、記録の保存安定性に問題
がありた。この原因は、光で開環した着色体が熱反応に
より元の無色体に戻りてしま、うためであり、その熱反
応がスピロオキサジン系フォトクロミック化合物の場合
非常に速い。着色体は極性構造を有しているため、極性
雰囲気下では比較的安定である。極性雰囲気を達成する
には極性マトリックス中に分散するかあるいは極性基を
有する他成分との混合が考えられるが、この方法では非
常に特定の使用に限られてしまう。
そこで、本発明は着色体の安定性に優れたフォトクロミ
ック化合物の提供を目的とするものである。
ック化合物の提供を目的とするものである。
すなわち、本発明のフォトクロミック化合物は下記一般
式で示されるように、−分子中に二つのスピロオキサジ
ン骨格を持ち、このスピロオキサジン骨格がお互いにイ
ンドリン部で共有結合していることを特徴とするもので
ある。
式で示されるように、−分子中に二つのスピロオキサジ
ン骨格を持ち、このスピロオキサジン骨格がお互いにイ
ンドリン部で共有結合していることを特徴とするもので
ある。
(式中、R1、R2、R3は炭素数1〜20のアルキル
基、炭素数1〜20のアルコキシ基、アラルキル基、ア
リール基、R4、R5、R6、R7、R8、R9,’R
IOは水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数
1〜20のアルコキシ基、アラルキル基、アリール基、
)10ゲン原子、ニトロ基、ジアルキルアミノ基、スル
ホン基、水酸基を示し、Aは炭素数1〜10のアルキレ
ン基、炭素数8〜16のアリールアルキレン基、酸素原
子、エーテル結合を有する炭素数2〜10のアルキレン
基を示す。) 本発明のフォトクロミック化合物はビス型インドリン化
合物と、置換もしくは未置換のo−二)ロソフェノール
を縮合させることにより得られる。
基、炭素数1〜20のアルコキシ基、アラルキル基、ア
リール基、R4、R5、R6、R7、R8、R9,’R
IOは水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数
1〜20のアルコキシ基、アラルキル基、アリール基、
)10ゲン原子、ニトロ基、ジアルキルアミノ基、スル
ホン基、水酸基を示し、Aは炭素数1〜10のアルキレ
ン基、炭素数8〜16のアリールアルキレン基、酸素原
子、エーテル結合を有する炭素数2〜10のアルキレン
基を示す。) 本発明のフォトクロミック化合物はビス型インドリン化
合物と、置換もしくは未置換のo−二)ロソフェノール
を縮合させることにより得られる。
前記一般式の化合物は次の反応式に従って合成できる。
(式中、R1、R2、R3は炭素数1〜20のアルキル
基、炭素数1〜20のアルコキシ基、アラルキル基、ア
リール基、R4、R5、R6、R7、R8、R9、RI
Oは水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1
〜20のアルコキシ基、アラルキル基、アリール基、)
10ゲン原子、ニトロ基、ジアルキルアミノ基、スルホ
ン基、水酸基を示し、Aは炭素数1〜10のアルキレン
基、炭素数8〜16のアリールアルキレン基、酸素原子
、エーテル結合を有する炭素数2〜lOのアルキレン基
を示す。) 前記反応式のうちビス型インドリン化合物は対応するビ
ス型アニリンを出発物質として以下の反応式にしたがっ
て合成される。
基、炭素数1〜20のアルコキシ基、アラルキル基、ア
リール基、R4、R5、R6、R7、R8、R9、RI
Oは水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1
〜20のアルコキシ基、アラルキル基、アリール基、)
10ゲン原子、ニトロ基、ジアルキルアミノ基、スルホ
ン基、水酸基を示し、Aは炭素数1〜10のアルキレン
基、炭素数8〜16のアリールアルキレン基、酸素原子
、エーテル結合を有する炭素数2〜lOのアルキレン基
を示す。) 前記反応式のうちビス型インドリン化合物は対応するビ
ス型アニリンを出発物質として以下の反応式にしたがっ
て合成される。
(式中、R1,R2、R3は炭素数1〜20のアルキル
基、炭素数1〜20のアルコキシ基、アラルキル基、ア
リール基、R4、R5、R6は水素原子、炭素数1〜2
0のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、アラ
ルキル基、アリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、ジア
ルキルアミノ基、スルホン基、水酸基を示し、Aは炭素
数1〜10のフルキレン基、炭素数8〜16の了り−ル
アルキレン基、酸素原子、エーテル結合を有する炭素数
2〜10のアルキレン基を示す。) すなわち、ビス型アニリンを塩酸に溶解させた後、亜硝
酸ナトリウムでジアゾ化し、得られたジアゾニウム塩を
還元することによりビス型ヒドラジンを得る。ビス型ヒ
ドラジンに対し2倍モルの一位に置換基を有する2−プ
ロパノンとビス型ヒドラジンとを酸触、媒下、加熱還流
することによりビス型インドレニンが得られる。インド
レニンのN位に導入したい置換基を有するハロゲン化物
をビス型インドレニンに対し2倍モル作用させ、その後
、水酸化ナトリウムで脱塩を行うことにより、目的のビ
ス型インドリン化合物が得られる。
基、炭素数1〜20のアルコキシ基、アラルキル基、ア
リール基、R4、R5、R6は水素原子、炭素数1〜2
0のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、アラ
ルキル基、アリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、ジア
ルキルアミノ基、スルホン基、水酸基を示し、Aは炭素
数1〜10のフルキレン基、炭素数8〜16の了り−ル
アルキレン基、酸素原子、エーテル結合を有する炭素数
2〜10のアルキレン基を示す。) すなわち、ビス型アニリンを塩酸に溶解させた後、亜硝
酸ナトリウムでジアゾ化し、得られたジアゾニウム塩を
還元することによりビス型ヒドラジンを得る。ビス型ヒ
ドラジンに対し2倍モルの一位に置換基を有する2−プ
ロパノンとビス型ヒドラジンとを酸触、媒下、加熱還流
することによりビス型インドレニンが得られる。インド
レニンのN位に導入したい置換基を有するハロゲン化物
をビス型インドレニンに対し2倍モル作用させ、その後
、水酸化ナトリウムで脱塩を行うことにより、目的のビ
ス型インドリン化合物が得られる。
この様な合成方法により得られる前記一般式で表わされ
る本発明のフォトクロミック化合物の具体例の一部を以
下に例示する。
る本発明のフォトクロミック化合物の具体例の一部を以
下に例示する。
本発明は上記具体例に限定されるものではない。
たとえば、R1〜RIOで示されている炭素数1〜20
のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロ
ピル基、1so−プロピル基、n−ブチル基、1sO−
ブチル基、5ec−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、イコシ
ル基等が挙げられ、炭素数1〜20のアルコキシ基とし
ては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキ
シ基、ペントキシ基、ヘキシルオキシ基、イコシルオキ
シ基等が挙げられ、アラルキル基としては、ベンジル基
、ジフェニルメチル基、トリチル基、フェネチル基、フ
ェニルプロピル基等が挙げられ、アリール基としては、
フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、ナフ
チル基、アントリル基、ツェナ/トリル基、ピレニル基
等が挙げられる。R4〜RIOで示されているノーロゲ
ン原子には、塩素原子、臭素原子、フッソ原子、ヨウ素
原子が挙げられ、ジアルキルアミノ基としては、ジメチ
ルアミノ基、ジエチルアミノ基、メチルエチルアミノ基
等が挙げられる。
のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロ
ピル基、1so−プロピル基、n−ブチル基、1sO−
ブチル基、5ec−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、イコシ
ル基等が挙げられ、炭素数1〜20のアルコキシ基とし
ては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキ
シ基、ペントキシ基、ヘキシルオキシ基、イコシルオキ
シ基等が挙げられ、アラルキル基としては、ベンジル基
、ジフェニルメチル基、トリチル基、フェネチル基、フ
ェニルプロピル基等が挙げられ、アリール基としては、
フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、ナフ
チル基、アントリル基、ツェナ/トリル基、ピレニル基
等が挙げられる。R4〜RIOで示されているノーロゲ
ン原子には、塩素原子、臭素原子、フッソ原子、ヨウ素
原子が挙げられ、ジアルキルアミノ基としては、ジメチ
ルアミノ基、ジエチルアミノ基、メチルエチルアミノ基
等が挙げられる。
本発明のフォトクロミック化合物は、各種の記録、記憶
材料、印刷用感光体、ホログラフィ−用感光体等に利用
できる。また、光学フィルタ、デイスプレー材料、マス
キング材料、光量計、装飾などの材料としても利用でき
る。
材料、印刷用感光体、ホログラフィ−用感光体等に利用
できる。また、光学フィルタ、デイスプレー材料、マス
キング材料、光量計、装飾などの材料としても利用でき
る。
本発明のフォトクロミック化合物は、メタノール、エタ
ノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、
アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサ、ノンな
とのケトン類、エチルエーテル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフランなどのエーテル類、酢酸エチル、酢酸n−ブ
チルなどのエステル類、ベンゼン、トルエン、キシレン
ナトの芳香族系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタンな
どのハロゲン系溶媒、更にn−ヘキサン、シクロヘキサ
ン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシドなどの各種溶媒およびこれらの混合溶媒に
溶解する。
ノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、
アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサ、ノンな
とのケトン類、エチルエーテル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフランなどのエーテル類、酢酸エチル、酢酸n−ブ
チルなどのエステル類、ベンゼン、トルエン、キシレン
ナトの芳香族系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタンな
どのハロゲン系溶媒、更にn−ヘキサン、シクロヘキサ
ン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシドなどの各種溶媒およびこれらの混合溶媒に
溶解する。
本発明のフォトクロミック化合物を感光材料として用い
るには、上記溶媒に高分子物質とともに溶解し、支持体
上に塗布乾燥するか、高分子物質に直接混合溶解し成膜
するか、あるいは重合性の低分子物質と混合した後低分
子物質を重合し成型させるなどして用いることができる
。また、支持体上に真空蒸着法で成膜したり、LB法に
より成膜することも可能である。
るには、上記溶媒に高分子物質とともに溶解し、支持体
上に塗布乾燥するか、高分子物質に直接混合溶解し成膜
するか、あるいは重合性の低分子物質と混合した後低分
子物質を重合し成型させるなどして用いることができる
。また、支持体上に真空蒸着法で成膜したり、LB法に
より成膜することも可能である。
次に、本発明を実施例により更に詳しく説明する。
(実施例1)
5.5−メタンジイル−ビス(1−オクタデシル−3,
3−ジメチルスピロ〔インドリノ−2゜オキサジン〕) 本実施例のフォトクロミック化合物は次のようにして合
成できる。 ? 4.4−ジアミノジフェニルメタンを塩酸水溶液に加熱
溶解し、その後急激に冷却する。そこに亜硝酸ナトリウ
ムの水溶液を約30・分かけて滴下し、しばら(攪拌を
行い、ジアゾ化を行った。その反応液に塩化錫の水溶液
を加え60℃に加熱し5時間反応を行った。反応終了後
濃塩酸を加え冷却したところ白色の沈澱が現われた。こ
の沈澱を吸引ろ過し、4,4−ジヒドラジノジフェニル
メタン塩酸塩を得た。(収率86.5%)得られた、4
,4−ジヒ、ドラジノジフェニルメタン塩酸塩をエタノ
ール中硫酸触媒下でインプロピルメチルケトンと加熱還
流を行った。反応終了後、エタノールを減圧除去し、ア
ルカリ処理後エチルエーテルにより抽出を行い5,5−
メタンジイル−ビス(2,3,3−)リメチルイントレ
ニン)を得た。(収率91.8%) 得られた5、5−メタンジイル−ビス(2゜3.3−)
リメチルインドレニン)とよう化オクタデカンをn−ブ
タノール中で4時間加熱還流後、溶媒を減圧除去し、ア
ルカリ処理することにより5.5−メタンジイル−ビス
(1−オクタデシル−3,3−ジメチル−2−メチレン
インドリン)を得た。(収率30.2%) 4−二)ロー2−二)ロソフェノールノクロロホルム溶
液に、5,5−メタンジイル−ビス(1−オクタデシル
−3,3−ジメチル−2−メチレンインドリン)のクロ
ロホルム溶液を滴下し還流下3時間反応を行った。反応
溶液を濃縮後、薄層クロマトグラフィ(展開溶媒:ベン
ゼン)により分離し、目的のフォトクロミック化合物を
得た。
3−ジメチルスピロ〔インドリノ−2゜オキサジン〕) 本実施例のフォトクロミック化合物は次のようにして合
成できる。 ? 4.4−ジアミノジフェニルメタンを塩酸水溶液に加熱
溶解し、その後急激に冷却する。そこに亜硝酸ナトリウ
ムの水溶液を約30・分かけて滴下し、しばら(攪拌を
行い、ジアゾ化を行った。その反応液に塩化錫の水溶液
を加え60℃に加熱し5時間反応を行った。反応終了後
濃塩酸を加え冷却したところ白色の沈澱が現われた。こ
の沈澱を吸引ろ過し、4,4−ジヒドラジノジフェニル
メタン塩酸塩を得た。(収率86.5%)得られた、4
,4−ジヒ、ドラジノジフェニルメタン塩酸塩をエタノ
ール中硫酸触媒下でインプロピルメチルケトンと加熱還
流を行った。反応終了後、エタノールを減圧除去し、ア
ルカリ処理後エチルエーテルにより抽出を行い5,5−
メタンジイル−ビス(2,3,3−)リメチルイントレ
ニン)を得た。(収率91.8%) 得られた5、5−メタンジイル−ビス(2゜3.3−)
リメチルインドレニン)とよう化オクタデカンをn−ブ
タノール中で4時間加熱還流後、溶媒を減圧除去し、ア
ルカリ処理することにより5.5−メタンジイル−ビス
(1−オクタデシル−3,3−ジメチル−2−メチレン
インドリン)を得た。(収率30.2%) 4−二)ロー2−二)ロソフェノールノクロロホルム溶
液に、5,5−メタンジイル−ビス(1−オクタデシル
−3,3−ジメチル−2−メチレンインドリン)のクロ
ロホルム溶液を滴下し還流下3時間反応を行った。反応
溶液を濃縮後、薄層クロマトグラフィ(展開溶媒:ベン
ゼン)により分離し、目的のフォトクロミック化合物を
得た。
(収率7.7%)
本実施例の化合物の’H−NMRスペクトルの帰属を以
下に示す。なお、内部基準としてテトラメチルシランを
、溶媒として重水素化クロロホルムを用いた。
下に示す。なお、内部基準としてテトラメチルシランを
、溶媒として重水素化クロロホルムを用いた。
δ(ppm)
0.83〜1.126Ht アルキル鎖末端メチル水
素1.13〜1.38 76Hm アルキル鎖のメチ
レン水素2.95 3.93 および3位と3位のメチル 重水素 4Ht インドリンのNに結合して いるメチレン水素J = 8Fiz 2HS 一般式中入で表される部分 のメチレン水素 トグラフィ(展開溶媒:ベンゼン)により分離し、上記
構造式で示されるフォトクロミック化合物を得た。(収
率11.8%) (実施例3) 位の水素 (実施例2) 出発物質のアニリンに4,4−ジアミノジフェニルエー
テルを用いた他は実施例1と同様な方法でビス型インド
リンを合成した。0−ニトロンフェノールのクロロホル
ム溶液に、得られたビス型インドリンのクロロホルム溶
液を滴下し還流下3時間反応を行った。反応溶液を濃縮
後薄層クロマ出発物質のアニリンに4,4−ジアミノフ
ェニル−p−キシレンを用いた他は実施例1と同様な方
法でビス型インドリンを合成した。2−ニトロン−5−
ジエチルアミノフェノールのクロロホルム溶液に、得ら
れたビス型インドリンのクロロホルム溶液を滴下し還流
下3時間反応を行った。反応溶液を濃縮後薄層クロマト
グラフィ(展開溶媒:ベンゼン)により分離し、上記構
造式を有するフォトクロミック化合物を得た。(収率1
6.4%)こうして得られたスピロオキサジン系フォト
クロミック化合物を5重量%含むポリエステル10重量
%溶液を石英ガラス基板上にスピンナ塗布し、60℃で
12時間真空乾燥後、膜厚1μmの試料を作製した。
素1.13〜1.38 76Hm アルキル鎖のメチ
レン水素2.95 3.93 および3位と3位のメチル 重水素 4Ht インドリンのNに結合して いるメチレン水素J = 8Fiz 2HS 一般式中入で表される部分 のメチレン水素 トグラフィ(展開溶媒:ベンゼン)により分離し、上記
構造式で示されるフォトクロミック化合物を得た。(収
率11.8%) (実施例3) 位の水素 (実施例2) 出発物質のアニリンに4,4−ジアミノジフェニルエー
テルを用いた他は実施例1と同様な方法でビス型インド
リンを合成した。0−ニトロンフェノールのクロロホル
ム溶液に、得られたビス型インドリンのクロロホルム溶
液を滴下し還流下3時間反応を行った。反応溶液を濃縮
後薄層クロマ出発物質のアニリンに4,4−ジアミノフ
ェニル−p−キシレンを用いた他は実施例1と同様な方
法でビス型インドリンを合成した。2−ニトロン−5−
ジエチルアミノフェノールのクロロホルム溶液に、得ら
れたビス型インドリンのクロロホルム溶液を滴下し還流
下3時間反応を行った。反応溶液を濃縮後薄層クロマト
グラフィ(展開溶媒:ベンゼン)により分離し、上記構
造式を有するフォトクロミック化合物を得た。(収率1
6.4%)こうして得られたスピロオキサジン系フォト
クロミック化合物を5重量%含むポリエステル10重量
%溶液を石英ガラス基板上にスピンナ塗布し、60℃で
12時間真空乾燥後、膜厚1μmの試料を作製した。
また、このスピロオキサジン系フォトクロミック化合物
を真空蒸着法により、石英ガラス基板上に蒸着させた試
料を作製した。
を真空蒸着法により、石英ガラス基板上に蒸着させた試
料を作製した。
さらに、このスピロオキサジン系フォトクロミンク化合
物はN位にアルキル長鎖を有していることから、水面上
に単分子膜を形成することが可能である。LB膜作製装
置でステアリン酸との混合比1:2で石英ガラス基板上
に両面で22層のY型のLB膜試料を作製した。
物はN位にアルキル長鎖を有していることから、水面上
に単分子膜を形成することが可能である。LB膜作製装
置でステアリン酸との混合比1:2で石英ガラス基板上
に両面で22層のY型のLB膜試料を作製した。
これらの試料に500Wのキセノンランプの光を、光学
フィルタを用いて360nm付近の紫外光と、600n
m付近の可視光に分けそれぞれの光を交互に照射した。
フィルタを用いて360nm付近の紫外光と、600n
m付近の可視光に分けそれぞれの光を交互に照射した。
紫外光を照射すると、試料は濃青色に変化し、暗所では
かなり安定に着色している。この濃青色の試料に可視光
を照射すると消色し、再び紫外光を照射すると濃青色に
発色する。このサイクルは繰り返し行5ことができた。
かなり安定に着色している。この濃青色の試料に可視光
を照射すると消色し、再び紫外光を照射すると濃青色に
発色する。このサイクルは繰り返し行5ことができた。
以上述べたように本発明のフォトクロミック化合物は、
スピロオキサジン骨格を一分子内に二つ有するため、着
色時にお互いの極性構造で着色体の安定化が達成された
。このため本発明により、保存安定性の良い記録、表示
材料を提供することが可能となる。
スピロオキサジン骨格を一分子内に二つ有するため、着
色時にお互いの極性構造で着色体の安定化が達成された
。このため本発明により、保存安定性の良い記録、表示
材料を提供することが可能となる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記一般式で示されるフォトクロミック化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R1、R2、R3は炭素数1〜20のアルキル
基、炭素数1〜20のアルコキシ基、アラルキル基、ア
リール基、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R1
0は水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1
〜20のアルコキシ基、アラルキル基、アリール基、ハ
ロゲン原子、ニトロ基、ジアルキルアミノ基、スルホン
基、水酸基を示し、Aは炭素数1〜10のアルキレン基
、炭素数8〜16のアリールアルキレン基、酸素原子、
エーテル結合を有する炭素数2〜10のアルキレン基を
示す。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1211253A JP2851316B2 (ja) | 1989-08-18 | 1989-08-18 | フォトクロミック化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1211253A JP2851316B2 (ja) | 1989-08-18 | 1989-08-18 | フォトクロミック化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0377888A true JPH0377888A (ja) | 1991-04-03 |
JP2851316B2 JP2851316B2 (ja) | 1999-01-27 |
Family
ID=16602848
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1211253A Expired - Fee Related JP2851316B2 (ja) | 1989-08-18 | 1989-08-18 | フォトクロミック化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2851316B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105017283A (zh) * | 2015-06-19 | 2015-11-04 | 深圳大学 | 一种螺噁嗪类化合物及其微波合成方法 |
-
1989
- 1989-08-18 JP JP1211253A patent/JP2851316B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105017283A (zh) * | 2015-06-19 | 2015-11-04 | 深圳大学 | 一种螺噁嗪类化合物及其微波合成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2851316B2 (ja) | 1999-01-27 |
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