JPH0375520B2 - - Google Patents

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JPH0375520B2
JPH0375520B2 JP13085487A JP13085487A JPH0375520B2 JP H0375520 B2 JPH0375520 B2 JP H0375520B2 JP 13085487 A JP13085487 A JP 13085487A JP 13085487 A JP13085487 A JP 13085487A JP H0375520 B2 JPH0375520 B2 JP H0375520B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
single crystal
lithium tantalate
axis
tantalate single
cutting
Prior art date
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Expired
Application number
JP13085487A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS63295500A (ja
Inventor
Kunihiro Ito
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP13085487A priority Critical patent/JPS63295500A/ja
Publication of JPS63295500A publication Critical patent/JPS63295500A/ja
Publication of JPH0375520B2 publication Critical patent/JPH0375520B2/ja
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  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はタンタル酸リチウム単結晶ウエーハの
製造方法、特には36゜±10゜Y軸方向、Y′軸方向ま
たはZ軸方向の面方位をもつ、テレビ受信機の
IFフイルター、自動車電話用などの通信機用表
面弾性波フイルター、センサーとして有用とされ
るタンタル酸リチウム単結晶ウエーハの製造方法
に関するものである。
(従来の技術) タンタル酸リチウム単結晶の製造方法について
本出願人はさきにZ軸方向に向かつてY軸より
36゜±10゜の傾きの結晶工学的方位を有する種結晶
を用いて36゜±10゜Y軸にタンタル酸リチウム単結
晶を成長させる工程、得られた単結晶を単一分域
化する工程、およびこの単結晶から36゜±10゜Y軸
の面方位を持つ丸形ウエーハを引上げ軸にほぼ垂
直に切り出す工程からなる方法を提案し(特公昭
60−46077号公報参照)、これによれば丸形ウエー
ハを容易に得ることができ、ウエーハ切り出し時
の歩留まりを向上させること、さらにはデバイス
製造工程を効率化させることができることを確認
したけれども、この場合には第2図に示したよう
に単結晶11からのウエーハの初り出しがX軸に
垂直な方向で行なわれ、単結晶を切断するための
ワイヤー13の往復運動がX軸と方行とされるの
であるが、タンタル酸リチウム単結晶(012)が
最もへき開し易いもので、X軸に平行にワイヤー
の往復運動が行なわれるとワイヤーがこのへき開
面に沿つて進もうとする傾向があるためにワイヤ
が本来の切断方向からそれ易く、したがつて得ら
れるウエーハが反り易くなり、例えば3″φのウ
エーハはその反りが平均70μmにまでなることが
判り、その対策が問題とされている。
(発明の構成) 本発明はこのような不利を解決するタンタル酸
リチウム単結晶ウエーハの製造方法に関するもの
であつて、これは切断する面にX軸を有するタン
タル酸リチウム単結晶を、X軸に平行な方向±
15゜の範囲の方向で切断することを特徴とするも
のである。
すなわち、本発明者は上記した公知の方法にお
ける不利を解決する方法について種々検討した結
果、第1図に示したように上記した公知の方法に
おけるタンタル酸リチウム単結晶1の切断をX軸
に平行な方向で行なうようにすると単結晶を切断
するためのワイヤー3の運動方向がX軸に垂直な
ものとなるのでこれがタンタル酸リチウム単結晶
のへき開し易い面(012)に沿つて進すことがな
くなり、それ故に得られるウエーハの反りは小さ
いものとなることを見出し、これによれば例えば
3″φのウエーハにおける反りを20μm以下とす
ることができることを確認して本発明を完成させ
た。本発明の方法はワイヤーソーによるスライス
の場合に最も顕著な効果が認められるが、バンド
ソー、マルチブレードソー、内周刃スライスなど
他の切断方法においても同様の硬化がある。
本発明の方法を実施するために使用されるタン
タル酸リチウム単結晶は切断する面にX軸を有す
るもので、例えばZ軸方向に向つてY軸より36゜
±10゜の傾き、Y軸およびZ軸などの結晶工学方
位を有するものが例示されるが、このものは従来
法で製作したタンタル酸リチウム単結晶から切り
出した切片を種結晶とし、これを用いてタンタル
酸リチウムの溶融液から結晶を引き上げることに
よつて得ることができる。
本発明の方法はこのようにして作られた切断す
る面にX軸を有するタンタル酸リチウム単結晶を
切断するのであるが、これは第1図に示したよう
にこのようにして得られたタンタル酸リチウム単
結晶1をX軸に平行な方向±15゜の範囲の方向で
切断するように行なえばよく、これによればこの
切断ワイヤー3の運動方向がX軸と垂直な方向と
なるので、タンタル酸リチウム単結晶1のへき開
し易い面(012)に沿うものとはならず、したが
つて得られるウエーハは反りの少ないものにな
り、ウエーハ製造工程が効率化されるという有利
性が与えられる。
つぎに本発明の実施例および比較例をあげる。
実施例 直径50mm、高さ150mmのイリジウムるつぼに純
度99.99%のタンタル酸リチウム粉末焼成原料
8420gを入れて高周波誘導加熱装置を用いて溶融
し、これに36゜Y軸方向の方位をもつタンタル酸
リチウム種結晶を浸し、径約78mm、長さ約140mm
のタンタル酸リチウム単結晶を引き上げ、成長終
了後種が保温筒の中に入つた位置で酸素を30容量
%含有する窒素ガス中で冷却した後、装置から取
り出した。
つぎにこのようにして得たタンタル酸リチウム
単結晶を切断してから単一分極化して径76.2mm、
長さ140mmの円柱状体とし、つぎにワイヤーソー
を用いてワイヤーの運動方向がX軸と垂直な方向
で、切断方向がX軸に方行な方向に厚さ0.5mmに
切断したところ、径76.2mm、厚さ0.5mmの丸型ウ
エーハ200枚が得られたが、このウエーハの反り
は20μm以下であつた。
比較例 上記実施例において得られた円柱状のタンタル
酸リチウム単結晶をワイヤーソーを用いてワイヤ
ーの運動方向がX軸と平行な方向で、切断方向が
X軸に垂直な方向に厚さ0.5mmに切断したところ、
径76.2mm、厚さ0.5mmの丸型ウエーハ200枚が得ら
れたが、このウエーハの反りは平均70μmと大き
いものであつた。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の方法によるタンタル酸リチウ
ム単結晶ウエーハの切断方法の斜視図、第2図は
従来法によるタンタル酸リチウム単結晶の切断方
法の斜視図を示したものである。 1,11…タンタル酸リチウム単結晶棒、2,
12…切り出し線、3,13…切り出しワイヤ
ー。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 切断する面にX軸を有するタンタル酸リチウ
    ム単結晶をX軸に平行な方向±15゜の範囲の方向
    で切断することを特徴とするタンタル酸リチウム
    単結晶ウエーハの製造方法。 2 該タンタル酸リチウム単結晶がZ軸方向に向
    つてY軸より36゜±10゜の傾きの結晶工学方位を有
    するものである特許請求の範囲第1項記載のタン
    タル酸リチウム単結晶ウエーハの製造方法。 3 該タンタル酸リチウム単結晶がY軸結晶工学
    方位を有するものである特許請求の範囲第1項記
    載のタンタル酸リチウム単結晶ウエーハの製造方
    法。 4 該タンタル酸リチウム単結晶がZ軸結晶工学
    方位を有するものである特許請求の範囲第1項記
    載のタンタル酸リチウム単結晶ウエーハの製造方
    法。
JP13085487A 1987-05-27 1987-05-27 タンタル酸リチウム単結晶ウエ−ハの製造方法 Granted JPS63295500A (ja)

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JP13085487A JPS63295500A (ja) 1987-05-27 1987-05-27 タンタル酸リチウム単結晶ウエ−ハの製造方法

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JPS63295500A JPS63295500A (ja) 1988-12-01
JPH0375520B2 true JPH0375520B2 (ja) 1991-12-02

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JPH04128010A (ja) * 1990-09-19 1992-04-28 Kyoto Handotai Kk シリコン単結晶の切断方法
JPH09167936A (ja) 1995-10-13 1997-06-24 Fujitsu Ltd 弾性表面波装置
AUPR174800A0 (en) * 2000-11-29 2000-12-21 Australian National University, The Semiconductor processing
EP2421050A1 (en) * 2009-04-15 2012-02-22 Sunovel (Suzhou) Technologies Limited Thin film of solar battery structure, thin film of solar battery array and manufacturing method thereof

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JPS63295500A (ja) 1988-12-01

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