JPH037277A - ビフェニル誘導体、その製法及びその合成中間体 - Google Patents
ビフェニル誘導体、その製法及びその合成中間体Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、肝障害の治療・予防剤として有用な新規ビフ
ェニル化合物、その製法及びその合成中間体に関する。
ェニル化合物、その製法及びその合成中間体に関する。
(従来の技術)
肝臓は解毒、各種の代謝、栄養素の貯蔵など、種々の機
能を有する重要な臓器であるが、ウィルス、薬物、アル
コール等の様々な原因により障害を受け〈急性肝炎、慢
性肝炎、脂肪肝等の肝疾患を生じ、最終的には、肝硬変
に至ることがある。
能を有する重要な臓器であるが、ウィルス、薬物、アル
コール等の様々な原因により障害を受け〈急性肝炎、慢
性肝炎、脂肪肝等の肝疾患を生じ、最終的には、肝硬変
に至ることがある。
特に、細胞の浸潤及び肝線維化等を伴う慢性肝炎及び肝
硬変は、難治原性の疾患として知られている。
硬変は、難治原性の疾患として知られている。
従来、このような肝障害の治療剤としては、例えば、ジ
メチル4,4°−ジメトキシ−5,6,5° 6°
−ビス(メチレンジオキシ)−2,2’−ビフェニルジ
カルボキシレート (DDB)等の対称型オクク置換ビ
フェニル化合物が知られている〔特開昭60−2095
82号〕。
メチル4,4°−ジメトキシ−5,6,5° 6°
−ビス(メチレンジオキシ)−2,2’−ビフェニルジ
カルボキシレート (DDB)等の対称型オクク置換ビ
フェニル化合物が知られている〔特開昭60−2095
82号〕。
(発明の構成及び効果)
本発明者らは、鋭意研究の結果、DDBの如き従来公知
の対称型オクタ置換ビフェニル化合物と異なり、次式の
非対称型へキサ置換ビフェニル誘導体が、肝障害に対し
優れた治療・予防効果を奏することを見出した。
の対称型オクタ置換ビフェニル化合物と異なり、次式の
非対称型へキサ置換ビフェニル誘導体が、肝障害に対し
優れた治療・予防効果を奏することを見出した。
s
(但し、R1は置換もしくは非置換アミノ基又は置換も
しくは非置換含窒素複素単環式基、R2は低級アルキル
基、R3−R11は、2個が水素原子であり他のものが
低級アルコキシ基であるか又は隣接する2つの基が互い
に結合して低級アルキレンジオキシ基を形成することを
表す。)本発明のビフェニル化合物の具体例としては、
一般式(1)において、R′が低級アルキル基、ヒドロ
キシ低級アルキル基及びフェニル基から選ばれる基で置
換されたアミノ基;低級アルキル基もしくはヒドロキシ
低級アルキル基で置換されたピペラジル基又はモルホリ
ノ基である化合物があげられる。
しくは非置換含窒素複素単環式基、R2は低級アルキル
基、R3−R11は、2個が水素原子であり他のものが
低級アルコキシ基であるか又は隣接する2つの基が互い
に結合して低級アルキレンジオキシ基を形成することを
表す。)本発明のビフェニル化合物の具体例としては、
一般式(1)において、R′が低級アルキル基、ヒドロ
キシ低級アルキル基及びフェニル基から選ばれる基で置
換されたアミノ基;低級アルキル基もしくはヒドロキシ
低級アルキル基で置換されたピペラジル基又はモルホリ
ノ基である化合物があげられる。
また好ましい化合物は、R1−R5の内、Rz又はRS
の一方が水素原子であり他の2つが低級アルコキシ基で
あるか又は互いに結合して低級アルキレンジオキシ基を
形成し、さらにR6−R1の内、R6又はR1の一方が
水素原子であり他の2つが低級アルコキシ基であるか又
は互いに結合して低級アルキレンジオキシ基を形成する
化合物である。
の一方が水素原子であり他の2つが低級アルコキシ基で
あるか又は互いに結合して低級アルキレンジオキシ基を
形成し、さらにR6−R1の内、R6又はR1の一方が
水素原子であり他の2つが低級アルコキシ基であるか又
は互いに結合して低級アルキレンジオキシ基を形成する
化合物である。
また、更に好ましい化合物は、R3及びR4が低級アル
コキシ基、RS及びR1が水素原子であるか又はR3及
びR・が水素原子、R4及びRsが互いに結合して低級
アルキレンジオキシ基を形成し、かつR&及びR7が互
いに結合して低級アルキレンジオキシ基を形成する化合
物、或いはR3及びR6が水素原子、R4及びRSが互
いに結合して低級アルキレンジオキシ基を形成し、R7
及びR11が低級アルコキシ基である化合物である。
コキシ基、RS及びR1が水素原子であるか又はR3及
びR・が水素原子、R4及びRsが互いに結合して低級
アルキレンジオキシ基を形成し、かつR&及びR7が互
いに結合して低級アルキレンジオキシ基を形成する化合
物、或いはR3及びR6が水素原子、R4及びRSが互
いに結合して低級アルキレンジオキシ基を形成し、R7
及びR11が低級アルコキシ基である化合物である。
ここに、低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級ア
ルキレン基としては、炭素数1〜6のアルキル基、アル
コキシ基及びアルキレン基をあげることができ、炭素数
1〜4のものがとりわけ好ましい。
ルキレン基としては、炭素数1〜6のアルキル基、アル
コキシ基及びアルキレン基をあげることができ、炭素数
1〜4のものがとりわけ好ましい。
本発明によれば、一般式(I)で示されるビフェニル誘
導体は、一般式 (但し、Yは低級アルキリデン基を表し、他の記号は前
記と同一意味を有する。) で示される環状ジエステル化合物を還元し、得られる一
般式 R3 (但し、記号は前記と同一意味を有する。)で示される
ビフェニルカルボン酸化合物、そのカルボキシル基にお
ける反応性誘導体又はその塩と一般式 %式%() (但し、R1は前記と同一意味を有する。)で示される
化合物又はその塩とを縮合反応させて製造することがで
きる。
導体は、一般式 (但し、Yは低級アルキリデン基を表し、他の記号は前
記と同一意味を有する。) で示される環状ジエステル化合物を還元し、得られる一
般式 R3 (但し、記号は前記と同一意味を有する。)で示される
ビフェニルカルボン酸化合物、そのカルボキシル基にお
ける反応性誘導体又はその塩と一般式 %式%() (但し、R1は前記と同一意味を有する。)で示される
化合物又はその塩とを縮合反応させて製造することがで
きる。
化合物(n)の還元反応は、常法に従い、実施すること
ができる。例えば、当該還元反応は、ラネーニフケル、
白金、ロジウム又はパラジウム系触媒の存在下、接触還
元によって実施できる。溶媒としては、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、低級アルカノール等慣用の溶媒を用
いることができ、反応は常圧〜加圧下、室温〜加温下、
例えば10〜50℃で好適に進行する。
ができる。例えば、当該還元反応は、ラネーニフケル、
白金、ロジウム又はパラジウム系触媒の存在下、接触還
元によって実施できる。溶媒としては、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、低級アルカノール等慣用の溶媒を用
いることができ、反応は常圧〜加圧下、室温〜加温下、
例えば10〜50℃で好適に進行する。
ビフェニルカルボン酸化合物(II[)のカルボキシル
基における反応性誘導体と化合物(TV)との縮合反応
は、例えば、脱酸剤の存在又は非存在下に実施すること
ができる。当該反応性誘導体としては、例えば、対応す
る酸ハライド、混合酸無水物、活性エステル等を、また
脱酸剤としては、例えば、水酸化アルカリ金属、炭酸ア
ルカリ金属、炭酸水素アルカリ金属、N、 N−ジアル
キルアミノピリジン、ピリジン、トリアルキルアミン、
NN−ジアルキルアニリン及びN−アルキルモルホリン
等をいずれも好適に用いることができる。
基における反応性誘導体と化合物(TV)との縮合反応
は、例えば、脱酸剤の存在又は非存在下に実施すること
ができる。当該反応性誘導体としては、例えば、対応す
る酸ハライド、混合酸無水物、活性エステル等を、また
脱酸剤としては、例えば、水酸化アルカリ金属、炭酸ア
ルカリ金属、炭酸水素アルカリ金属、N、 N−ジアル
キルアミノピリジン、ピリジン、トリアルキルアミン、
NN−ジアルキルアニリン及びN−アルキルモルホリン
等をいずれも好適に用いることができる。
一方、遊離のカルボン酸化合物(III)と化合物(■
)との縮合反応は、例えば、縮合剤の存在又は非存在下
で実施することができる。縮合剤としては、例えば、N
、N’ −ジシクロヘキシルカルボジイミド、N−シ
クロへキシル−N゛ −モルホリノカルボジイミド、N
−エチル−N’ −(3−ジメチルアミノプロピル)
カルボジイミド等慣用の縮合剤をいずれも好適に用いる
ことができる。上記縮合反応はいずれも、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン
、ジクロロメタン、酢酸エチル、アセトニトリル等慣用
の溶媒中、冷却下〜室温付近、例えば0〜20°Cで好
適に進行する。
)との縮合反応は、例えば、縮合剤の存在又は非存在下
で実施することができる。縮合剤としては、例えば、N
、N’ −ジシクロヘキシルカルボジイミド、N−シ
クロへキシル−N゛ −モルホリノカルボジイミド、N
−エチル−N’ −(3−ジメチルアミノプロピル)
カルボジイミド等慣用の縮合剤をいずれも好適に用いる
ことができる。上記縮合反応はいずれも、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン
、ジクロロメタン、酢酸エチル、アセトニトリル等慣用
の溶媒中、冷却下〜室温付近、例えば0〜20°Cで好
適に進行する。
上記反応において、原料化合物は、そのまま又は塩のい
ずれの形でも使用することができる。例えば、化合物(
III)及び水酸基を有する化合物(■)は、所望によ
り、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウ
ム塩等として、また化合物(TV)は、無機及び有機酸
付加塩として反応に一供することもできる。
ずれの形でも使用することができる。例えば、化合物(
III)及び水酸基を有する化合物(■)は、所望によ
り、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウ
ム塩等として、また化合物(TV)は、無機及び有機酸
付加塩として反応に一供することもできる。
かくして得られた本発明の目的物(r)は、ビフェニル
骨格上にそれぞれ異なる置換基が結合した非対称型構造
を持つ点で、DDBの如き従来公知の対称型ビフェニル
化合物とは、化学構造が異なる新規化合物であり、かつ
種々の肝障害、例えば細胞の変性・壊死、肝の線維化、
脂肪の貯留、うっ血等に対し、優れた治療、軽減あるい
は保護効果を発揮する有用な医薬化合物である。例えば
、マウスに検体を経口投与後、四塩化炭素を経口投与し
て、肝障害の指標となる血漿グルタミック・ビルビック
・トランスアミナーゼ(GPT)活性の上昇を調べたと
ころ、本発明の目的物である2−(4−(2−ヒドロキ
シエチル)ピペラジニルカルボニル)−5,6−メチレ
ンジオキシ−2゛(2−メチルフェニルオキシカルボニ
ル)−4゛5゛ −ジメトキシビフェニルは、100m
g/kg投与で、血51 GPT活性の上昇を90%以
上抑制した。本発明の目的物(1)は、かかる薬効に基
づき、慢性肝炎、急性肝炎、脂肪肝、うっ血肝及び肝硬
変等の治療・予防剤として用いることができる。
骨格上にそれぞれ異なる置換基が結合した非対称型構造
を持つ点で、DDBの如き従来公知の対称型ビフェニル
化合物とは、化学構造が異なる新規化合物であり、かつ
種々の肝障害、例えば細胞の変性・壊死、肝の線維化、
脂肪の貯留、うっ血等に対し、優れた治療、軽減あるい
は保護効果を発揮する有用な医薬化合物である。例えば
、マウスに検体を経口投与後、四塩化炭素を経口投与し
て、肝障害の指標となる血漿グルタミック・ビルビック
・トランスアミナーゼ(GPT)活性の上昇を調べたと
ころ、本発明の目的物である2−(4−(2−ヒドロキ
シエチル)ピペラジニルカルボニル)−5,6−メチレ
ンジオキシ−2゛(2−メチルフェニルオキシカルボニ
ル)−4゛5゛ −ジメトキシビフェニルは、100m
g/kg投与で、血51 GPT活性の上昇を90%以
上抑制した。本発明の目的物(1)は、かかる薬効に基
づき、慢性肝炎、急性肝炎、脂肪肝、うっ血肝及び肝硬
変等の治療・予防剤として用いることができる。
本発明の目的物(1)は遊離の形でも、またその薬理的
に許容し得る塩の形でも医薬用途に用いることができる
。薬理的に許容し得る塩としては、無機又は有機塩基と
の塩、例えばアルカリ金属塩(例えば、ナトリウム塩、
カリウム塩等)、アルカリ土類金属塩(例えば、カルシ
ウム塩等)、アンモニウム塩(例えば、テトラメチルア
ンモニラム塩、テトラエチルアンモニウム塩等)があげ
られる。
に許容し得る塩の形でも医薬用途に用いることができる
。薬理的に許容し得る塩としては、無機又は有機塩基と
の塩、例えばアルカリ金属塩(例えば、ナトリウム塩、
カリウム塩等)、アルカリ土類金属塩(例えば、カルシ
ウム塩等)、アンモニウム塩(例えば、テトラメチルア
ンモニラム塩、テトラエチルアンモニウム塩等)があげ
られる。
本発明の目的物(r)は、経口的にも非経口的にも投与
することができるが、とりわけ、経口投与するのが好ま
しく、また、常法により、例えば錠剤、カプセル剤、散
剤、注射剤の如き医薬製剤として、適宜使用することが
できる。
することができるが、とりわけ、経口投与するのが好ま
しく、また、常法により、例えば錠剤、カプセル剤、散
剤、注射剤の如き医薬製剤として、適宜使用することが
できる。
本発明の目的物(1)の投与量は、患者の年齢・体重・
状態あるいは疾患の程度などにより異なるが、通常1日
当りの投与量は0.1〜500mg/kgであり、好ま
しくは1〜300 mg/kgである。
状態あるいは疾患の程度などにより異なるが、通常1日
当りの投与量は0.1〜500mg/kgであり、好ま
しくは1〜300 mg/kgである。
尚、本発明の原料化合物である環状ジカルボン酸エステ
ル化合物(II)は、新規化合物であり、一般式 (但し、Xはハロゲン原子を表し、他の記号は前記と同
一意味を有する。) で示される2−ハロゲノ安息香酸化合物又はそのカルボ
キシル基における反応性誘導体と一般式(但し、記号は
前記と同一意味を有する。)で示される化合物とを縮合
反応させて一般式(但し、記号は前記と同一意味の有す
る。)で示されるジハロゲノ化合物とし、該化合物(■
)を、例えば、銅粉、ヨウ化銅(r)等の存在下、分子
内閉環反応させて製造することができる。
ル化合物(II)は、新規化合物であり、一般式 (但し、Xはハロゲン原子を表し、他の記号は前記と同
一意味を有する。) で示される2−ハロゲノ安息香酸化合物又はそのカルボ
キシル基における反応性誘導体と一般式(但し、記号は
前記と同一意味を有する。)で示される化合物とを縮合
反応させて一般式(但し、記号は前記と同一意味の有す
る。)で示されるジハロゲノ化合物とし、該化合物(■
)を、例えば、銅粉、ヨウ化銅(r)等の存在下、分子
内閉環反応させて製造することができる。
実施例 1
(1)5.6−メチレンジオキシ−4°、5゛ −ジメ
トキシ−2’ −(2−ヒドロキシメチルフェニルオ
キシカルボニル)−2−ビフェニルカルボン酸ラクトン
31.4gをジオキサン1.22に溶解し、該溶液に1
0%パラジウム−炭素9.2gを加え、3気圧水素中で
水素添加する0反応後、触媒をろ去し、ろ液を減圧濃縮
する。残渣をエーテルで粉末化してろ取することにより
、5,6メチレンジオキシー4”、5° −ジメトキシ
−2゜−(2−メチルフェニルオキシカルボニル)−2
−ビフェニルカルボン酸25.3gを得る。
トキシ−2’ −(2−ヒドロキシメチルフェニルオ
キシカルボニル)−2−ビフェニルカルボン酸ラクトン
31.4gをジオキサン1.22に溶解し、該溶液に1
0%パラジウム−炭素9.2gを加え、3気圧水素中で
水素添加する0反応後、触媒をろ去し、ろ液を減圧濃縮
する。残渣をエーテルで粉末化してろ取することにより
、5,6メチレンジオキシー4”、5° −ジメトキシ
−2゜−(2−メチルフェニルオキシカルボニル)−2
−ビフェニルカルボン酸25.3gを得る。
M、p、193〜195℃
(2)上記(1)の生成物20gをジオキサン230
mlに溶解し、該溶液にチオニルクロリド10mff1
及びジメチルホルムアミド0,5vtlを加え、3時間
加熱還流する0反応液から溶媒を減圧留去後、残渣にト
ルエンを加え、溶媒を減圧留去する。残渣をエーテル及
び石油エーテルの混液から再結晶することにより、5,
6−メチレンジオキシ−2゛(2−メチルフェニルオキ
シカルボニル)−4゛5゛ −ジメトキシ−2−ビフェ
ニルカルボン酸クロリド2.06gを得る。
mlに溶解し、該溶液にチオニルクロリド10mff1
及びジメチルホルムアミド0,5vtlを加え、3時間
加熱還流する0反応液から溶媒を減圧留去後、残渣にト
ルエンを加え、溶媒を減圧留去する。残渣をエーテル及
び石油エーテルの混液から再結晶することにより、5,
6−メチレンジオキシ−2゛(2−メチルフェニルオキ
シカルボニル)−4゛5゛ −ジメトキシ−2−ビフェ
ニルカルボン酸クロリド2.06gを得る。
M、p、145〜147℃
(3)上記(2)の生成物6.8gをテトラヒドロフラ
ン60rn1に溶解し、該溶液を2−アミノ−2−メチ
ルプロピルアルコール24.5gのテトラヒドロフラン
3〇−溶液に、撹拌下、−20”C以下で滴下する。反
応液を室温で1時間撹拌後、溶媒を減圧留去し、残渣に
酢酸エチル及びクエン酸水溶液の混液を加えて有機層を
分取する。有機層を洗浄、乾燥後、溶媒を減圧留去し、
残渣を酢酸エチルから再結晶することにより、N−(2
−メチル−3−ヒドロキシプロパン−2−イル)−5,
6−メチレンジオキシ−2’ −(2−メチルフェニ
ルオキシカルボニル)−4”、5′ −ジメトキシ−2
−ビフェニルカルボキサミドロ、3gを得る。
ン60rn1に溶解し、該溶液を2−アミノ−2−メチ
ルプロピルアルコール24.5gのテトラヒドロフラン
3〇−溶液に、撹拌下、−20”C以下で滴下する。反
応液を室温で1時間撹拌後、溶媒を減圧留去し、残渣に
酢酸エチル及びクエン酸水溶液の混液を加えて有機層を
分取する。有機層を洗浄、乾燥後、溶媒を減圧留去し、
残渣を酢酸エチルから再結晶することにより、N−(2
−メチル−3−ヒドロキシプロパン−2−イル)−5,
6−メチレンジオキシ−2’ −(2−メチルフェニ
ルオキシカルボニル)−4”、5′ −ジメトキシ−2
−ビフェニルカルボキサミドロ、3gを得る。
M、p、177〜181°C
実施例 2〜7
(11対応原料化合物を実施例1−(31と同様に処理
することにより、下記第1表記載の化合物を得る。
することにより、下記第1表記載の化合物を得る。
実施例 8及び9
(1)対応原料化合物を実施例1−(1)と同様に処理
することにより、下記第2表記載の化合物を得る。
することにより、下記第2表記載の化合物を得る。
第2表
(2)対応原料化合物を実施例1−(2)及び(3)と
同様に処理することにより、下記第3表記載の化合物第
3表 〔原料化合物の調製〕 参考例 1 (1−a) ヒベロヂール500g及びシクロヘキシ
ルアミンを含むベンゼン溶液を、ディーン・シュタルク
装置で脱水しながら還流する。反応液から溶媒を留去し
、残渣をイソプロピルエーテル及びヘキサンの混液から
再結晶して、N−(3,4メチレンジオキシベンジリデ
ン)−N−シクロヘキシルアミン597gを得る。
同様に処理することにより、下記第3表記載の化合物第
3表 〔原料化合物の調製〕 参考例 1 (1−a) ヒベロヂール500g及びシクロヘキシ
ルアミンを含むベンゼン溶液を、ディーン・シュタルク
装置で脱水しながら還流する。反応液から溶媒を留去し
、残渣をイソプロピルエーテル及びヘキサンの混液から
再結晶して、N−(3,4メチレンジオキシベンジリデ
ン)−N−シクロヘキシルアミン597gを得る。
上記生成物158gのテトラヒドロフラン溶液に、n−
ブチルリチウムを冷却下加える。更に、同温でヨウ素の
テトラヒドロフラン溶液を滴下後、反応液を室温に戻し
、水に注ぐ。析出界をろ取し、水洗後、ジオキサン、酢
酸及び水の混液に溶解し、室温で一夜放置する。反応液
から溶媒を留去し、水で希釈後、析出界をろ取、洗浄、
乾燥して、2−ヨード−3,4−メチレンジオキシベン
ズアルデヒド118gを得る。
ブチルリチウムを冷却下加える。更に、同温でヨウ素の
テトラヒドロフラン溶液を滴下後、反応液を室温に戻し
、水に注ぐ。析出界をろ取し、水洗後、ジオキサン、酢
酸及び水の混液に溶解し、室温で一夜放置する。反応液
から溶媒を留去し、水で希釈後、析出界をろ取、洗浄、
乾燥して、2−ヨード−3,4−メチレンジオキシベン
ズアルデヒド118gを得る。
M、 p、137〜13 B ’c
(1−b) 2−ブロモ−4,5−ジメトキシベンズ
アルデヒド・ジメチルアセタール59gのテトラヒドロ
フラン溶液に、冷却下、n−ブチルリチウムを加え放置
した後、ヨウ素のテトラヒドロフラン溶液を滴下して再
び放置する。反応液に酢酸及び水を加え、pH2とした
後、室温に戻して一夜放置する。反応液から溶媒を留去
し、残渣を洗浄、乾燥後、酢酸エチルから結晶化して、
2−ヨード−4,5−ジメトキシベンズアルデヒド43
gを得る。
アルデヒド・ジメチルアセタール59gのテトラヒドロ
フラン溶液に、冷却下、n−ブチルリチウムを加え放置
した後、ヨウ素のテトラヒドロフラン溶液を滴下して再
び放置する。反応液に酢酸及び水を加え、pH2とした
後、室温に戻して一夜放置する。反応液から溶媒を留去
し、残渣を洗浄、乾燥後、酢酸エチルから結晶化して、
2−ヨード−4,5−ジメトキシベンズアルデヒド43
gを得る。
M、p、139〜141℃
(2−a)上記(1−a)の生成物15gのジオキサン
溶液及びレゾルシノールを酢酸緩衝液に加え、更に撹拌
上亜塩素酸ナトリウムを徐々に加で撹拌後、濃縮する。
溶液及びレゾルシノールを酢酸緩衝液に加え、更に撹拌
上亜塩素酸ナトリウムを徐々に加で撹拌後、濃縮する。
濃塩酸でpH1として、析出具をろ取し、洗浄、乾燥し
て、2−ヨード−3,4−メチレンジオキシ安息香酸1
4gを得る。
て、2−ヨード−3,4−メチレンジオキシ安息香酸1
4gを得る。
上記生成物13g、チオニルクロリド及びピリジンをジ
オキサンに加え、還流する0反応液から溶媒を留去し、
更にトルエンと共沸して、2−ヨード−3,4−メチレ
ンジオキシ安息香酸クロリド14.5gを得る。
オキサンに加え、還流する0反応液から溶媒を留去し、
更にトルエンと共沸して、2−ヨード−3,4−メチレ
ンジオキシ安息香酸クロリド14.5gを得る。
M、 p、69〜70℃
(2−b)上記(1−b)の生成物を(2−a)と同様
に処理して、2−ヨード−4,5−ジメトキシ安息香酸
クロリドを得る。
に処理して、2−ヨード−4,5−ジメトキシ安息香酸
クロリドを得る。
M、p、151〜154℃
(3)サリチルアルコールのジメチルアセトアミド溶液
に、窒素ガス気流中トリエチルアミン及び4−ジメチル
アミノピリジンを加え、更に冷却攪拌下、(2−a)の
生成物62.1gのジメチルアセトアミド懸濁液を滴下
し、攪拌後徐々に室温に戻し、更に撹拌する。反応後再
び冷却し、トリエチルアミンを加え、更に(2−b)の
生成物52.8gのジメチルアセトアミド溶液を滴下す
る。混合物を室温で一夜攪拌後、水−酢酸の混液に注ぎ
、有機層を分取する。有機層を洗浄、乾燥後溶媒を留去
し、残渣をトルエンから再結晶して、2−ヨード−3,
4−メチレンジオキシ安息香酸2−((2−ヨード−4
,5−ジメトキシフェニル)カルボニルオキシ〕ベンジ
ルエステル89.4gを得る。
に、窒素ガス気流中トリエチルアミン及び4−ジメチル
アミノピリジンを加え、更に冷却攪拌下、(2−a)の
生成物62.1gのジメチルアセトアミド懸濁液を滴下
し、攪拌後徐々に室温に戻し、更に撹拌する。反応後再
び冷却し、トリエチルアミンを加え、更に(2−b)の
生成物52.8gのジメチルアセトアミド溶液を滴下す
る。混合物を室温で一夜攪拌後、水−酢酸の混液に注ぎ
、有機層を分取する。有機層を洗浄、乾燥後溶媒を留去
し、残渣をトルエンから再結晶して、2−ヨード−3,
4−メチレンジオキシ安息香酸2−((2−ヨード−4
,5−ジメトキシフェニル)カルボニルオキシ〕ベンジ
ルエステル89.4gを得る。
M、p、128〜130°C
(4)銅粉のジメチルホルムアミド懸濁液を攪拌下、還
流した後、上記(1)の生成物89.5gのジメチルホ
ルムアミド溶液を滴下し、還流する。反応液をろ過し、
ろ液を減圧濃縮する。残渣に酢酸エチルを加え、水洗後
、ろ過する。ろ液を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、残渣を
トルエンから再結晶して、5.6−メチレンジオキシ−
4’ 、5’ −ジメトキシ−2’ −(2−ヒドロ
キシメチルフェニルオキシカルボニル)−2−ビフェニ
ルカルボン酸ラクトン53.7gを得る。
流した後、上記(1)の生成物89.5gのジメチルホ
ルムアミド溶液を滴下し、還流する。反応液をろ過し、
ろ液を減圧濃縮する。残渣に酢酸エチルを加え、水洗後
、ろ過する。ろ液を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、残渣を
トルエンから再結晶して、5.6−メチレンジオキシ−
4’ 、5’ −ジメトキシ−2’ −(2−ヒドロ
キシメチルフェニルオキシカルボニル)−2−ビフェニ
ルカルボン酸ラクトン53.7gを得る。
M、p、176〜179℃
参考例 2及び3
対応原料化合物を参考例1と同様に処理することにより
、下記第4表記載の化合物を得る。
、下記第4表記載の化合物を得る。
第4表
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、R^1は置換もしくは非置換アミノ基又は置換
もしくは非置換含窒素複素単環式基、R^2は低級アル
キル基、R^3〜R^8は、2個が水素原子であり、他
のものが低級アルコキシ基であるか又は隣接する2つの
基が互いに結合して低級アルキレンジオキシ基を形成す
ることを表す。) で示されるビフェニル誘導体又はその薬理的に許容しう
る塩。 2、R^1が低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル
基及びフェニル基から選ばれる基で置換されたアミノ基
;低級アルキル基もしくはヒドロキシ低級アルキル基で
置換されたピペラジル基又はモルホリノ基である請求項
1記載の化合物。 3、R^3〜R^5は、R^3及びR^5の一方が水素
原子であって他の2つが低級アルコキシ基であるか又は
互いに結合して低級アルキレンジオキシ基を形成し、さ
らにR^6〜R^8は、R^6及びR^8の一方が水素
原子であって他の2つが低級アルコキシ基であるか又は
互いに結合して低級アルキレンジオキシ基を形成する請
求項2記載の化合物。4、一般式 (但し、R^2は低級アルキル基、R^3〜R^8は、
2個が水素原子であり他のものが低級アルコキシ基であ
るか又は隣接する2つの基が互いに結合して低級アルキ
レンジオキシ基を形成することを表す。) で示されるビフェニルカルボン酸化合物、そのカルボキ
シル基における反応性誘導体又はその塩と一般式 R^1−H (但し、R^1は置換もしくは非置換アミノ基又は置換
もしくは非置換含窒素複素単環式基を表す。)で示され
る化合物又はその塩とを縮合反応させ、要すれば、生成
物を薬理的に許容しうる塩とすることを特徴とする、一
般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、R^1〜R^8は前記と同一意味を有する。)
で示されるビフェニル誘導体又はその薬理的に許容し得
る塩の製法。 5、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、R^3〜R^8は、2個が水素原子であり他の
ものが低級アルコキシ基であるか又は隣接する2つの基
が互いに結合して低級アルキレンジオキシ基を形成し、
Yは低級アルキリデン基を表す。)で示される環状ジエ
ステル化合物を還元し、得られる一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、R^2は低級アルキル基、他の記号は前記と同
一意味を有する。) で示されるビフェニルカルボン酸化合物、そのカルボキ
シル基における反応性誘導体又はその塩と一般式 R^1−H (但し、R^1は置換もしくは非置換アミノ基又は置換
もしくは非置換含窒素複素単環式基を表す。)で示され
る化合物又はその塩とを縮合反応させ、要すれば、生成
物を薬理的に許容しうる塩とすることを特徴とする、一
般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、記号は前記と同一意味を有する。)で示される
ビフェニル誘導体又はその薬理的に許容し得る塩の製法
。 6、R^1が低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル
基及びフェニル基から選ばれる基で置換されたアミノ基
;低級アルキル基もしくはヒドロキシ低級アルキル基で
置換されたピペラジル基又はモルホリノ基である請求項
4又は5記載の製法。 7、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、R^2は低級アルキル基、R^3〜R^8は、
2個が水素原子であり他のものが低級アルコキシ基であ
るか又は隣接する2つの基が互いに結合して低級アルキ
レンジオキシ基を形成することを表す。) で示されるビフェニルカルボン酸化合物又はその塩。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1141987A JPH0623151B2 (ja) | 1989-06-02 | 1989-06-02 | ビフェニル誘導体、その製法及びその合成中間体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1141987A JPH0623151B2 (ja) | 1989-06-02 | 1989-06-02 | ビフェニル誘導体、その製法及びその合成中間体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH037277A true JPH037277A (ja) | 1991-01-14 |
JPH0623151B2 JPH0623151B2 (ja) | 1994-03-30 |
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ID=15304761
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1141987A Expired - Lifetime JPH0623151B2 (ja) | 1989-06-02 | 1989-06-02 | ビフェニル誘導体、その製法及びその合成中間体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0623151B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5188986A (en) * | 1991-05-17 | 1993-02-23 | United Microelectronics Corporation | Hydrogen peroxide in basic solution to clean polycrystalline silicon after phosphorous diffusion |
US6642252B2 (en) | 2000-11-07 | 2003-11-04 | Bristol-Myers Squibb Company | Acid derivatives useful as serine protease inhibitors |
US6713467B2 (en) | 2000-11-07 | 2004-03-30 | Bristol-Myers Squibb Company | Acid derivatives useful as serine protease inhibitors |
US6906192B2 (en) | 2000-11-07 | 2005-06-14 | Bristol Myers Squibb Company | Processes for the preparation of acid derivatives useful as serine protease inhibitors |
CN102250085A (zh) * | 2010-05-21 | 2011-11-23 | 四川大学 | 联苯双酯衍生物及其在制备自身免疫性疾病药物中的应用 |
CN103058982A (zh) * | 2011-10-19 | 2013-04-24 | 四川大学 | 含卤素取代的联苯双酯衍生物、制备方法及其用途 |
CN103059015A (zh) * | 2011-10-19 | 2013-04-24 | 四川大学 | 联苯双酯衍生物、制备方法及其在治疗自身免疫性疾病中的应用 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5100657A (en) * | 1990-05-01 | 1992-03-31 | The Procter & Gamble Company | Clean conditioning compositions for hair |
-
1989
- 1989-06-02 JP JP1141987A patent/JPH0623151B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US5188986A (en) * | 1991-05-17 | 1993-02-23 | United Microelectronics Corporation | Hydrogen peroxide in basic solution to clean polycrystalline silicon after phosphorous diffusion |
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CN103059015A (zh) * | 2011-10-19 | 2013-04-24 | 四川大学 | 联苯双酯衍生物、制备方法及其在治疗自身免疫性疾病中的应用 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0623151B2 (ja) | 1994-03-30 |
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