JPH0368911A - 画素位置を修正する方法 - Google Patents

画素位置を修正する方法

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JPH0368911A JP2174342A JP17434290A JPH0368911A JP H0368911 A JPH0368911 A JP H0368911A JP 2174342 A JP2174342 A JP 2174342A JP 17434290 A JP17434290 A JP 17434290A JP H0368911 A JPH0368911 A JP H0368911A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は複数ビームレーザ走査装置に関し、特に機械的
位置合わせ誤りおよび波長（色）変動に起。
帰因する画素位置エラーを電子的に補正することに関す
る。
［従来の技術］ 複数ビームレーザ装置は広範囲の用途に使用できるが、
その−用途は感光面にわたって光ビームを走査するため
に回転ポリゴンミラーが用いられているプリント装置で
ある。複数レーザビームをプリント装置において用いる
ことにより一時に１行以上の情報を発生させることがで
き、回転ポリゴンミラーの実用速度を保ちながら、例え
ばインチ当り４８０以上の画素である高画素分解能を可
能とする。複数ビーム装置はさらに他の能力も提供する
。即ち、複数ビームはスポット群内でスポ・ントを変調
することにより有効書込みスポットの形を変えるために
使用でき、あるいは各画素位置において提供される光量
を変調するために使用できる。
複数ビームレーザ装置を用いると単一ビームレーザ装置
に比して顕著な利点を有する反面、個別のレーザ光源あ
るいはレーザアレイチップを採用した複数ビーム装置で
は、プリント位置（画素位置）が行から行に対して正し
く位置されていること、即ち一方のレーザにより書き込
まれる画素が別のレーザにより書き込まれる画素と適正
に整合していることを保証する精密な機械的位置合わせ
を必要とする。レーザアレイを採用している複数ビーム
装置では、画素を正確に位置決めするために緊密な公差
でレーザダイオードをチヅプ上に位置決めすることを要
するが、それでもチップ内で半導体のレーザダイオード
の若干の物理的な位置合わせ誤りの可能性があり、レー
ザスポットが若干変動するレーザアレイでも使用できる
装置を提供することが望まれる。さらに、レーザアレイ
チップは非走査方向で正確なビーム位置合わせを提供す
るため通常傾けて設置される。しかしながら、傾けられ
ることにより走査方向においてビーム間でのオフセット
を発生させることになり画素の位置決めの問題を発生さ
せる。本明細書で使用する機械的位置合わせ誤りという
用語はｌ）レーザアレイチップ上でのレーザスポットの
位置の物理的変動、２）レーザアレイチップ、あるいは
本機械内での個別のレーザ光源の機械的位置合わせ誤り
、および３）レーザアレイを傾けることにより発生する
オフセットとを含む。
複数ビームレーザ装置に係わるさらに別の問題はレーザ
ビーム間の波長変動である。レーザアレイにおいて、波
長の変動は数ナノメートル内であることが多いが、画素
位置決め上の問題を発生させるに十分顕著である。さら
に、低コストの装置を提供するためにより広範囲の波長
変動でレーザアレイを使用することが望ましい。そのよ
うな考え方はまた、個別のレーザ光源を用いた複数ビー
ム装置についてもいえる。いずれにしても、レーザ光源
を慎重に適合させたとしても、温度や経年変化により波
長が動的に変動し、これが本装置の精度を低下させる可
能性がある。レーザビーム位置はプリントヘッドの光学
装置により通常増幅されるので、レーザチップにおける
小さい位置合わせ誤りや、あるいは小さい波長変動であ
っても焦点面においてはるかに大きいエラーをもたらし
うることか注目される。
従来技術の電子的修正方法はレーザアレイの必要な傾き
による位置合わせ誤りに対して多数の画素の修正を行う
よう構成されていた。さらに、これらの電子的方法のあ
るものはサブ画素単位の精度を提供する。それらの装置
は、高分解能、即ち１インチ当り４８０画素以上の装置
を計画する場合、ナノ秒単位の能力を必要とする。２ナ
ノ秒までの分解能に対して５００Ｘ１０６１１ｚのクロ
ック周波数が必要とされる。前述のような分解能を用い
るクロックや高速ロジックは高価である。
［発明が解決しようとする課題］ 本発明の目的は機械的位置合わせ誤りによる工ラーを修
正するために複数ビーム走査レーザ装置と共に用いる電
子的修正方法を提供することである。
本発明の目的は色エラーを修正するために複数ビーム走
査レーザ装置と共に用いる電子的修正方法を提供するこ
とである。
本発′明の別の目的は２種類のエラーを個別に補正でき
るように色エラーと位置合わせ誤りのエラーを個別に定
量化することである。
本発明の目的は、著しく異なる波長のレーザ光源を用い
ながら、適正な色操作が達成されるように複数ビームプ
リントヘッドを提供することである。
本発明のさらに別の目的は、比較的低クロック周波数を
利用するが、１あるいは２ナノ秒内の修正分解能を提供
する電子的修正方法を提供することである。
本発明のさらに別の目的は全体の走査にわたってクロッ
クを調整する色修正方法を提供することである。
本発明のさらに別の目的は、温度や経年変化により発生
する可能性のある波長の動的変動に適合する電子的修正
方法を提供することである。
［課題を解決するための手段］ 本発明は、色収差を位置合わせ誤り問題と分離し、かつ
各タイプのエラーに対して個別の修正技術を提供するこ
とにより複数ビームレーザプリントヘッド内で色収差や
機械的位置合わせ誤り問題を電子的に修正することに関
する。機械的位置合わせ誤りを修正するために所定の走
査ラインにおいて各画素位装置に対して常に調整が行わ
れ、一方位収差を修正するために間隔をおいて走査ライ
ンへ遅れが挿入される。タップ付き遅延線を用いること
により機械的位置合わせ並びに色収差の双方に対してサ
ブ画素単位の修正が達成される。
本発明はレーザビームの１本を基準ビームとして選択し
、かつ他のビームにより発生する画素を基準ビームによ
り発生する画素に整合させることにより有利に実施され
る。このために、機械的位置合わせ誤りを修正する必要
があり、基準ビーム走査開始（ＳＯＳ）パルスが後続す
る基準ビームにより開始基準パルスが発生される。同様
に、終了基準パルスおよび走査開始（ＳＯＳ）パルスを
発生させるために基準ビームが使用される。開始基準パ
ルスとＳＯＳパルスとの間で時間Ｔ。ｏｌ、Ｉｌが測定
され、終了基準パルスとＥＯＳパルスとの間で時間Ｔ。
ｏＩＩ１２が測定される。次に、非基準レーザが付勢さ
れて第２のＳＯＳパルスと第２のＥＯＳパルスを発生さ
せる。開始基準パルスと第２のＳＯＳパルスとの間で時
間Ｔｌが測定され、終了基準パルスと第２のＥＯＳパル
スとの間で時間Ｔ２が測定される。その後、非基準ビー
ムの機械的オフセットが下式により計算される。
次いで、非基準ビームに対する走査開始が前記オフセッ
トを補正し、それによりプロセスの中心において画素を
整合させるために変更される。
プロセスの中心の画素が整合していたとしても、走査の
間に色収差が画素の位置合わせ誤りを起こす可能性があ
る。従って、次のステ゛ツブは基準ビームＳＯＳ信号と
非基準ビームＳＯＳ信号との間の変位時間を測定するこ
とである。次いで、適当な遅れを挿入して２つのＳＯＳ
信号を整合させることができ、かつ非基準走査を通して
選定した間隔で付加的な遅れを押入し、希望する公差で
画素位置を整合させることができる。
［実　施　例］ 本発明の適用については、感光面上に対象の像を形成し
、その像を現像し、次いで紙あるいはその他のプリント
受容材料に前記像を融着させることによりプリントが作
られる電子写真機械の構成内で示すことができる。殆ん
どの電子写真機械においては、電子写真プロセスは転写
タイプであって、感光材料が回転ドラムの周りに置かれ
るか、あるいはローラ系により駆動されるベルトとして
配設される。典型的な転写プロセスにおいては、感光材
料が固定したチャージ発生ステーションの下方を通され
、感光面全体にわたり通常数百ボルトの比較的均一な静
電チャージが付与される。次に感光体は像形成ステーシ
ョンまで運ばれ、そこで光線発生源から光線を受は取る
。光源が完全に起動すると感光体は放電するか、あるい
はチャージを比較的低レベルまで低下させ、−刀先源が
オフとされるか、中間レベルで起動されるか、比較的煩
時間起動されると、感光体は高電圧レベルを持ち続ける
。このようにして、感光材料は、受容材上にプリントし
たいと思うプリント、陰影等に対応するチャージパター
ンを有するようにされる。
電子写真プリンタにおける光線発生源は、特定の画素領
域において光伝導体を露出するパワーあるいは時間の長
さを制御するようビームがキャラクタ発生器により変調
されるレーザ手段から構成されることが多い。複数ビー
ムレーザ装置においては、キャラクタ発生器は一時に１
本以上のビームを変調することができ、そのため−時に
１行以上の画素の書き込みができる。
感光体上に像を形成した後、像は本機械の現像ステーシ
ョンに運ばれ、そこでトナーと称する現像材が像の上に
置かれる。この材料は通常粉末の形態であって、感光体
の選択した領域に粉末を堆積させるようチャージを有し
ている。
現像された像は現像器から転写ステーションまで運ばれ
、そこで通常紙であるコピイ受容材が現像された像と並
置され、紙の裏側にチャージが移されることにより、感
光体から紙が剥離されると、トナー材は紙の上に保持さ
れ、感光体からは除去される。
プロセスの残りのステップはトナー像をコピイ用紙に永
久的に定着させ、感光体を再使用できるようにその上の
残留トナーを清浄にすることである。
第１図は本発明を実施するために使用する典型的な電子
写真機域を示す。感光材１０は、Ａの方向に回転するよ
う、図示していない運動手段により駆動されるドラム１
１の表面に設置される。チャージ発生器１２がチャージ
ングステーション１２’　において感光体の表面にわた
って数百ボルトの均一なチャージを付与する。チャージ
された感光体は、図示していない、暗箱内に装着され、
例えば複数ビームレーザ発生器のような光線発生源から
構成されるプリントヘッド１３まで回転する。この光源
は像形成ステーション１３’　において、チャージされ
た感光体を選択的に露出し、現像したい領域において感
光体を放電するか（放電された領域を現像する方法、即
ちＤＡＤ法）あるいはトナーの無い状態のままの領域を
放電する（チャージされた領域を現像する方法、即ちＣ
ＡＤ法）。
ＤＡＤ法に対しては、感光体の放電された領域はトナー
を付与することによって感光体がデータの可視像を有す
るようにさせる現像装置１４により現像ステーション１
４′で現像される。ＣＡＤ法においては、チャージされ
た領域が現像される。いずれの場合も、現像された像は
転写ステーション１５′　まで回転し、そこでＢの方向
に運動しているプリント用紙が感光体の表面と並置され
ている。
トナー上のチャージに対して極性が逆のチャージが転写
チャージ発生機１５によりプリント用紙の裏側に位置さ
れ、そのため紙が感光体の表面から剥離されると、トナ
ーは紙に誘引され、感光体１０の表面から離れる。残留
トナーは清浄装置１６により清浄ステーション１６′に
おいて感光体から掃除される。
像形成ステーション１３′　において感光体１０に光線
を選択的に付与することは、プリントヘッド変調手段１
７を介して達成される。半導体レーザダイオードに対し
て、プリントヘッド変調器は、パターンデータに従って
感光体の放電程度を変えるべく長時間あるいは短時間光
源を発光させるか、パターンデータに従って照射強度を
強弱させるため光線発生源を発光させる電源を含む。い
ずれにしても、変調はメモリ１９に記憶されたデータに
従って生ずる。前記データはラスタバッファ１８に送ら
れ、さらにプリントヘッド変調器へ送られる。
第２囚と第３囚とは第１図に示す機械において使用可能
の光学走査装置を示す。これらの装置のいずれもプリン
トヘッド１３において利用できる。
ｍ２図に示す複数ビーム装置においては、概ね共軸線関
係の４本のレーザビーム２０〜２３が複数ビームレーザ
アレイモジュール２４から構成される装置として示され
ている。第３図は、そのレーザビーム２０〜２３がビー
ム組合せ光学装置９を通過している４個の個別レーザチ
ップ５〜８を有するレーザビームモジュール２４′を示
す。いずれの装置においても、４本のレーザビーム２０
〜２３は円柱レンズ２５を通り、各々回転ポリゴンミラ
ーの表面２６に集光される。ビームは、回転ミラーから
１１の球面レンズｎ２７、アナモルフィックレンズ群２
８および正の球面レンズ群２９を通して感光体１０の表
面上に反射される。第２図と第３図とは折助げミラー３
０゜出口ウィントル３１、感光体１０を横切る走査長さ
３２）およびビーム拡大あるいは平行光学装置３３とを
示す。走査開始（ＳＯＳ）信号を発生させるために各レ
ーザビームからの光線を光検出器３５に反射させるため
に反射面３４が設けられている。走査開始（ＳＯＳ）信
号を発生させるために類似の装置を用いるか、あるいは
反射面が走査光線ビームの終りを検出器３５に導くこと
によって、同じ検出器をＳＯＳおよびＥＯＳ信号の双方
を発生させるために用いることができる。
第４図は、プロセス方向ｐにおいて画素を正しく位置さ
せるためにレーザアレイモジュール２４を傾ける必要の
あることを示す。インチ当り４８０画素の分解能におい
ては画素はインチ間隔（第４図のｂの寸法）の４８０分
の１毎に位置させる必要がある。アレイ２４上のレーザ
スポットは、プロセス方向の軸線ｐに対して平行にレー
ザアレイ２４を位置させるためには同様の近接した間隔
である必要がある。しかしながら、レーザアレイをその
ような詰めた公差に製作することは実用的でない。
従って、第４図に示すようにアレイ２４は、ｂより大き
い距離だけレーザスポットを離しても、依然として画素
をｂだけ正しく隔置させる角度に傾けられる。そのよう
にすることにより、レーザスポットは走査方向Ｓにおい
ては距離Ｃだけオフセットされる。従って、画素位置を
適正に合わせるためにレーザビーム間で走査方向におけ
るプリントの開始をレーザアレイ装置において電子的に
オフセットする必要がある。
個別のレーザ光源はレーザアレイに関して前述した傾き
によりもたらされる問題は無いが、機械的な位置合わせ
誤りが無いような精度で第３図に示す４個の個別レーザ
光源５〜８を位置決めすることは難しい。従って、前記
プリントヘッドにおいて、高価なレーザチップ位置づけ
装置および／または動的に調整可能のチップ位置づけ装
置を排除するため個別のレーザ光源プリントヘッドにお
いて機械的位置合わせ誤りのエラーを電子的に修正する
ことが望ましい。
第５図は走査ラインを作る上での機械的位置合わせ誤り
および色収差の影響を示す。もし走査ライン４０（第４
図に示すレーザビーム２０により作ることができる）が
基準走査ラインとして選択されるとすれば、走査ライン
４１　（レーザビーム２１により作ることができる）は
走査ライン４０に対して長さが短いが、走査ライン４０
の中心４４の周りで対称形である。走査ライン４２（レ
ーザビーム２２により作ることができる）は走査ライン
４０に対して大きさが小さく、さらに基準ライン４０の
中心４４に対して対称形でない。この走査ラインの軌跡
は、走査ライン４１が何ら機械的位置合わせ誤りは無い
が、走査ライン４１と基準走査ライン４０との間の波長
の変動によりサイズが小さくなっていることを示す。
波長の差は、ガラスの屈折率が波長と共に変わるため、
各ビームが第２図および第３図に示されたレンズ系を通
過する際各ビームが屈折する量の差を発生させる。その
結果、像の平面において走査方向ではビーム４０と４１
との間に横方向の分離がある。第５図に示すように、各
ビームの中央の画素が、走査ライン４０と４１との間で
するのと同様に適正に整列するとすれば、複数のビーム
によりプリントされるラインに対して画素の開始位置と
終了位置とは異なる。波長の差が十分大きければ、深刻
なプリント品質上の欠陥が起こる。
第５図において、走査ライン４２は、例えば走査ライン
４１と同じ波長のレーザ光源により発生する。
即ち、走査ライン４２の長さは走査ライン４１の長さと
等しい。しかしながら、走査ライン４２は基準走査ライ
ン４０並びに走査ライン４１と機械的に整合していない
レーザ光源により作られているので、２本のビームは相
互に整列しない。根城的な位置合わせ誤りの結果、走査
ライン４２における画素の全ては一方向に一定量だけず
れている。
第５図は走査ライン４１の色収差の問題を補正するため
に、走査ラインを、走査の開始時Δｔの時間だけ延長し
、走査の終りにおいてΔｔだけ同様に延長する必要のあ
ることを示す。第５図は走査ライン４２を走査の開始時
「Δｔ−オフセット」分の時間延長し、かつ走査の終り
において「Δを十機械的オフセット」分だけ延長する必
要のあることを示す。
第６図は走査ライン４１に対して前記変位の時間から走
査終了時まで走査方向に対する画素位置エラーを示す。
第６図は走査全体にわたる画素位置の直線的変化を示す
理想的な図であるが、本発明の原理を説明するのに適し
ている。実際には、画素位置のエラーは走査の中心にお
けるよりも、走査の端になるに従って、画素間でより大
きくなる。さらに、プリントヘッドで使用される光学装
置によっては、画素位置のエラーは走査の中心に対して
対象形でなく、走査にわたって広く変動しうる。
どのような状況においても、製作に特徴があり、本発明
の原理を適用することができる。第６図に示すような画
素位置エラーが直線的である最も単純な場合を用いて本
発明を説明する。
第７図は、色収差から機械的位置合わせ誤りのエラーを
分離するために使用する、第２図と第３図とに示す走査
開始検出器３５により発生する信号を示す。技術的に検
出器３５は複式検出器あるいは受光領域を２つの作動領
域に分離するマスクを備えた検出器のいずれかであるこ
とを要する。また、クロックが走査開始（ＳＯＳ）信号
によりゲート制御され、即ち初期化されることを要する
。
このクロックは本実施例に示すようにシステム画素クロ
ックでよいが、希望に応じて異なる精度のクロックでも
よい。本実施例においては、１個のレーザが、例えば第
５図において走査ライン４０を作るレーザである基準レ
ーザに割り当てられている。このレーザが起動され開始
基準信号４５と走査開始（ＳＯＳ）信号４６を発生させ
る。これら２個のパルスの間で時間Ｔ。ｏｍｌが測定さ
れる。同様に、基準レーザが用いられて、基準終了信号
４７と走査開始（ＳＯＳ）信号４８を発生させる。これ
ら２個のパルスの間で時間Ｔｎｏｌ１１２が測定される
。次に、非基準レーザが使用可能とされ走査開始パルス
と走査終了パルスとを発生させる。例えば第５図に示す
レーザ４２は使用可能とされ走査開始パルス４９と走査
終了パルス５０を発生させる。基準パルス４５と非基準
走査開始パルス４６との間の時間Ｔ１が、終了基準パル
ス４７と非基準の走査終了パルス５０との間の時間Ｔ２
と共に測定される。これらの測定を用いて、以下のアル
ゴリズムにより機械的オフセットが計算される。
前記変位の時間のオフセットと走査終了時のオフセット
とを加算すると、もしこれら２つのオフセットが等しい
場合全体のオフセットは零になることが注目される。そ
のような場合、機械的オフセットは無い。
第８図と第９図とは第７図において発生した信号を用い
ることにより利用する機械的オフセットを修正する好適
技術を示す。図示した技術では信号４５と４９との間の
差と信号４７と５０との間の差をサブ画素単ｆ１″ｔの
レベルまで測定している。第８図は、ゲートされるクロ
ックが開始基準パルス４５によりゲート制御され、測定
すべきパルス４９が７番目のクロックサイクルの間のあ
る点において発生することを示している。クロックパル
ス７と８との間の差をサブ画素単位で測定するために、
高価な高周波数クロックを用いる代りに、第９囚に示す
回路が用いられ、クロックパルス７の間のパルス４９が
立上る時間を分析するためにタップ付き遅延線５４を採
用している。
第８図の回路はどのクロックのサイクルの間にイベント
が発生するかをまず決定する。この場合、パルス４９は
第７のクロックサイクルの間に発生している。このため
に、信号は各クロックサイクルにおいてシフトレジスタ
７０を介してシフトされる。
シフトレジスタの出力側はマルチプレクサ５１に接続さ
れている。マルチプレクサの制御ライン５２はどのサイ
クルにおいてイベントを検査するかを決定し、その結果
直列レジスタの出力の変化がクロックサイクル７の間に
発生するものとして検出される。マルチプレクサ５１の
出力５３は夕・ンプ付き遅延線５４に接続されている。
一連の夕・ソプの間の遅延間隔が赦終測定分解能を決め
る。その結果、タップ付き遅延線５４の分解能が２ナノ
秒である場合、それが最終測定の分解能である。実用的
には、遅延ライン５４における全タップ全体の遅延は１
クロック時間を越え、そのため所定のクロ・ソク間隔に
おける各一連の検査が先の間隔および後続の間隔とオー
バラップする。このようにして、ノ＜ルス４７がゲート
されたクロ・ノクの状態変化附近で発生するとすれば、
依然として遅延線のサブ画素単位の精度まで分析するこ
とができる。
サブ画素単位の分解能を得るために、選定されたイベン
ト、即ちパルス４９がクロ・ンクサイクル７の間第１０
図に示すように一連の高分解能のタイミングパルスＡ−
Ｎを生起する。これらのノクルスはそれぞれ２ナノ秒の
持続時間で、遅延線５４を介して発生する。イベント、
即ちパルス４９はあるパターンをラッチ５５〜５７にセ
ットし、該ラッチからタイミング情報が検出される。例
えば、パルス４９の立上りがタップＡとタップＢの間で
発生するとすれば、ラッチ５５はタップＢ−Ｎとは異な
るセツティングを保有する。最大相対分解能は、ラッチ
に対するセットアツプ時間が一つの測定から別の測定に
対して一定であるため、ラッチの性能によリホリ限され
ない。従って、セットアツプ時間は、２つの測定の間の
差異に興味のある場合、時間δＩＩＪ定から除外される
。従って、この技術により２ナノ秒内でパルス４５に対
するパルス４９の立上りを決定する。
・前述したことは時間間隔Ｔ１の測定である。同様に、
時間間隔Ｔ　　およびＴｎｏＩｌ１２と共に時間間ｏｍ
ｌ 隔Ｔ２が確認される。機械的オフセットを計算するに要
する全ての測定結果を用いて、図示していない制御装置
が計算を行い、かつ走査ライン４２の中心が基準ライン
４０の中心にそろうように走査ラインを移動させるよう
に、第５図に示す走査ライン４２のタンニングへ適当な
遅れを挿入することにより画素の位置を調整する。その
ようにすることにより、走査ライン４２ハ走杏ライン４
１と正に同じ位置をとる。全ての走査ラインにおいて機
械的オフセットを修正することにより、次に走査ライン
４１．４２により示される色収差を修正し、これらの走
査ラインを延長して基準走査ライン４０の長さと等しく
する必要がある。
走査ライン４１．４２に対して色収差補正を行うために
、前記走査ラインを走査ライン４０と等しくなるよう延
長する必要がある。そうするためには、走査量の機械的
位置合わせ誤りが前述のように修正され、次いで基準ビ
ームのＳＯＳ信号に対する走査開始信号の相対的変位を
測定する。この変位は波長の差から発生し、以下の式と
等しい。
前記変位の時間色収差エラー 典型的には波長の差による画素位置の変動は一画素分よ
り少ない。例えば第６図を参照して説明したような直線
画素位置エラーの場合の補正を行うには、走査にわたる
画素のプリントにおいて周期的な遅延が導入される。即
ち全体の走査ラインが７．０００画素の長さであれば、
プリントの中心までプリントの開始点から３．５００画
素あり、プリント中心において全ての中心画素は整合し
ている。
もし全エラーが基準走査ライン４０の走査開始信号と走
査ライン４１との間で１／２画素として測定されたとし
、決して１／１０画素分以上整合から外れることのない
画素を発生させることが必要なら、３．５００画素の長
さにわたり少なくとも５１！！Ｉの修正が必要とされる
。従って１／１０画素の周期的な修正が走査ライン４１
の発生中７００画素毎に挿入される。
第１１図は色収差補正を実行するための回路を示す。画
素クロックが複数タップ付き遅延線６０に与えられる。
一連の谷タップの間の遅延の量により修正の分解能を決
定する。６挿のタップＡ−Ｎがデジタルマルチプレクサ
６１の入力端に与えられる。
−ｅ。
画素クロックの各位相を選択し、そのため状態変化が発
生するタップを第８図と第９図とを参照して前述したも
のと同様に確認するために制御ライン６２が設けられて
いる。前記の選択過程においてプログラム可能カウンタ
６４と位相選択ロジック６３とを用いることができる。
前述の例において、もしタップＦがプリントの中心を示
し、タップＡがプリント開始画素を示すものとすれば、
タップＡからの出力の遅延はプリントの中心から、２ナ
ノ秒の分解能に対して０．５画素と等しい。タップＢは
プリントの中心から０．４画素の遅延を示し、７００画
素の遅れを走査へ挿入するために利用される。タップＣ
は走査の中心から０．３画素の遅延を示し、１．４００
画素を走査中に発生させるよう調時される。同様に、１
／１０画素の補正が２．１００画素および２，８００画
素において走査ラインに挿入される。プリントの中心に
対してトレイリング側において、画素クロックに対して
同様の修正が行われる。
プリントの中心に対して画素の位置が対称形でない場合
、遅延を実行すべき画素のカウントを表により提供でき
る。また、走査ラインを基準に対して拡大することがで
き、走査ラインを拡大するよりもむしろ縮小する必要性
を創出する。この技術は選定されたタップに従って画素
クロックパルスが前方へ増分移動すること以外は同じで
ある。
前述のように、レーザの波長は時間と温度と共に変動し
つるので、相対的なエラーを最高に修正するタップは時
間と共に変化しうる。第７図を参照すれば、これは、開
始基準パルス４５にドリフトがあり、かつ走査ライン４
２に対する走査の開始パルスを示すパルス４９の位置に
ドリフトがありうることを意味する。その結果、必要な
修正は時間および温度と共に変わりうる。
従って、第８図と第１１図とに示す回路は一１走査開始
基準１１ｆ２びに非基準レーザの走査開始の機械の使用
を通しての周期的な検出に従って、使用されるタップを
選択するよう使用可能とされる。そのようにして、前記
修正はパルス位置のシフトに伴う変化に適合する動的な
修正である。
本発明を好適実施例に関して図示かつ説明してきたが、
本発明の精神および範囲から逸脱することなく本発明の
形態および細部において変更可能なことが理解される。
例えば、基準パルスを発生させるために一折格子装置を
用いてよく、かつ全ての走査ラインをそれに合わせて詞
整することができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は電子写真機械の概略図、 第２図は第１図に示す機械で使用するレーザアレイ光学
装置を示す図、 第３図は第１図に示す機械で使用する個別のレーザ光源
の光学袋式を示す図、 第４図はプロセス方向において画素を適正に整合させる
ために傾けているが、そのため修正されない場合走査方
向における画素の整合が不適正となるレーザアレイを示
す線図であって、修正された画素位置を示す図、 第５図は走査ライン間での根城的オフセットと色収差の
作用を示す図、 第６図は色収差を示す走査ラインに対する画素位置エラ
ーを示す囚、 第７図は根城的位置合わせ誤りのエラーを色収差から分
離するのに必要な信号を示す図、第８図と第９図とは根
城的位置合わせ誤りを修正するために使用する回路を示
す国、および第１０図と第１１図とは色収差を補正する
ために使用する回路を示す図である。 φ幅） Ｂ 第 図 “も１５ 第 図 第 図 第 図 Ｏ５ 第 ７ 図 第 図 ２３４５６７８９ 第 図 第 ０ 図 第 １ 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １）複数ビームレーザ走査装置の走査方向においてレー
    ザビーム間の機械的位置合わせ誤りを補正するよう画素
    位置を修正する方法において、基準レーザビームにより
    開始基準パルスを発生させ、 前記基準レーザビームにより走査開始（ＳＯＳ）基準パ
    ルスを発生させ、 前記基準レーザビームにより走査終了（ＥＯＳ）基準パ
    ルスを発生させ、 前記基準レーザビームにより終了基準パルスを発生させ
    、 前記開始基準パルスと前記ＳＯＳ基準パルスとの間の時
    間Ｔ＿ｎ＿ｏ＿ｍ＿１を測定し、かつ前記終了基準パル
    スと前記ＥＯＳ基準パルスとの間の時間Ｔ＿ｎ＿ｏ＿ｍ
    ＿２を測定し、 非基準レーザビームによりＳＯＳ非基準パルスを発生さ
    せ、 前記開始基準パルスと前記ＳＯＳ非基準パルスとの間の
    時間Ｔ＿１を測定し、 前記非基準レーザビームによりＥＯＳ非基準パルスを発
    生させ、 前記終了基準パルスと前記ＥＯＳ非基準パルスとの間の
    時間Ｔ＿２を測定し、 以下の関係式により前記基準レーザビームに対する前記
    非基準レーザビームの機械的オフセットを計算し、 機械的オフセット ＝［（Ｔ＿ｎ＿ｏ＿ｍ＿２−Ｔ＿２）＋（Ｔ＿ｎ＿ｏ＿
    ｍ＿１−Ｔ＿１）］／２前記非基準レーザビームに対す
    る走査開始を変え、前記基準ビームの走査開始に対する
    前記オフセットを修正するステップを含むことを特徴と
    する画素位置を修正する方法。 ２）特許請求の範囲第１項に記載の方法において、前記
    時間Ｔ＿１を測定するステップがさらに、前記開始基準
    パルスに対してゲート制御されたクロックパルスを発生
    させ、Ｔ＿１の時間の間で全クロックパルス数を決定し
    、 Ｔ＿１の時間の間の最後の全体クロックパルスに続くク
    ロックパルスの間持続時間の等しい一連の増分パルスを
    発生させ、 Ｔ＿１の時間の間の増分パルスの数を決定し、全クロッ
    クパルスの数を増分パルスの数に加算してＴ＿１の時間
    を測定する ステップを含むことを特徴とする画素位置を修正する方
    法。 ３）特許請求の範囲第２項に記載の方法において、時間
    Ｔ＿２を測定するステップが時間Ｔ＿１の測定と同じ手
    順をとることを特徴とする画素位置を修正する方法。 ４）特許請求の範囲第３項に記載の方法において、前記
    の名目的時間が時間Ｔ＿１を測定するために規定した手
    順に従って測定されることを特徴とする画素位置を修正
    する方法。 ５）複数ビームレーザ走査装置の走査方向においてレー
    ザビーム間の色収差を補正するよう画素位置を修正する
    方法において、 基準ビームの走査開始（ＳＯＳ）信号と非基準ビームの
    ＳＯＳ信号との間の変位の時間を測定し、前記の２つの
    ＳＯＳ信号を整合させるために適当な遅れを挿入し、 全体の走査ラインにわたって希望する公差内で画素位置
    精度を保つよう選定した間隔をおいて追加の遅れを入れ
    て走査ラインを作る、 ステップを含むことを特徴とする画素位置を修正する方
    法。 ６）特許請求の範囲第５項に記載の方法において、ＳＯ
    Ｓ信号間の変位の時間を測定するステップが、前記基準
    ビームの走査開始信号にゲート制御されたクロックパル
    スを発生させ、 前記変位の時間の間の全クロックパルスの数を決定し、 前記変位の時間の間の最後の全体クロックパルスに続く
    クロックパルスの間持続時間等しい一連の増分パルスを
    発生させ、 前記の変位の時間の間の増分クロックパルスの数を決定
    し、 全体のクロックパルスの数を増分パルスの数に加算して
    前記変位の時間を測定する ステップを含むことを特徴とする画素位置を修正する方
    法。 ７）特許請求の範囲第６項に記載の方法において前記変
    位の時間の間にクロックパルスの数および増分パルスの
    数を決定するステップが以下の関係式により実施される
    ことを特徴とする画素位置を修正する方法。 走査開始時の色収差 ＝｛（Ｔ＿ｎ＿ｏ＿ｍ＿２−Ｔ＿２）−（Ｔ＿ｎ＿ｏ＿
    ｍ＿１−Ｔ＿１）｝／２８）複数ビームレーザ走査装置
    の走査方向におけるレーザビーム間の機械的位置合わせ
    誤りと色収差とを補正するために画素位置を修正する方
    法において、 各ビームに対する機械的位置合わせ誤りを測定し、 前記機械的位置合わせ誤りを修正し、 各ビームに対する色収差を測定し、 前記色収差を修正する ステップを含むことを特徴とする画素位置を修正する方
    法。 ９）特許請求の範囲第８項に記載の方法において、機械
    的位置合わせ誤りを測定し、前記位置合わせ誤りを修正
    するステップが、 第１の基準レーザビームで開始基準パルスを発生させ、 前記基準レーザビームで走査開始（ＳＯＳ）基準パルス
    を発生させ、 前記基準レーザビームで走査終了（ＥＯＳ）基準パルス
    を発生させ、 前記基準レーザビームで終了基準パルスを発生させ、 前記開始基準パルスと前記ＳＯＳ基準パルスとの間の時
    間Ｔ＿ｎ＿ｏ＿ｍ＿１を測定し、前記終了基準パルスと
    前記ＥＯＳ基準パルスとの間の時間Ｔ＿ｎ＿ｏ＿ｍ＿２
    を測定し、 非基準レーザビームでＳＯＳ非基準パルスを発生させ、 前記開始基準パルスと前記ＳＯＳ非基準パルスとの間の
    時間Ｔ＿１を測定し、 前記非基準レーザビームでＥＯＳ非基準パルスを発生さ
    せ、 前記終了基準パルスとＥＯＳ非基準パルスとの間の時間
    Ｔ＿２を測定し、 前記基準レーザビームに対する前記非基準レーザビーム
    の機械的オフセットを以下の関係式により計算し、 機械的オフセット ＝｛（Ｔ＿ｎ＿ｏ＿ｍ＿２−Ｔ＿２）＋（Ｔ＿ｎ＿ｏ＿
    ｍ＿１−Ｔ＿１）｝／２前記基準ビームに対する走査開
    始に関して前記オフセットを修正するよう前記非基準レ
    ーザビームの走査開始を変える ステップを含むことを特徴とする画素位置を修正する方
    法。 １０）特許請求の範囲第９項に記載の方法において、時
    間Ｔ＿１を測定するステップがさらに、 前記開始基準パルスに対してゲート制御されたクロック
    パルスを発生させ、 Ｔ＿１の時間の間の全クロックパルスの数を決定し、 時間Ｔ＿１の間の最後の全体クロックパルスに続くクロ
    ックパルスの間持続時間の等しい一連の増分パルスを発
    生させ、 時間Ｔ＿１の間の増分パルスの数を決定し、全クロック
    パルスの数を増分パルスの数に加算して時間Ｔ＿１を測
    定する ステップを含むことを特徴とする画素位置を修正する方
    法。 １１）特許請求の範囲第１０項に記載の方法において、
    時間Ｔ＿２を測定するステップが時間Ｔ＿１を測定する
    のと同じ手順をとることを特徴とする画素位置を修正す
    る方法。 １２）特許請求の範囲第１１項に記載の方法において、
    前記名目的時間が時間Ｔ＿１を測定するために規定した
    手順に従って測定されることを特徴とする画素位置を修
    正する方法。 １３）特許請求の範囲第８項に記載の方法において、各
    ビームに対して色収差を測定し、色収差を修正する前記
    ステップが、 基準ビームの走査開始（ＳＯＳ）信号と非基準ビームの
    ＳＯＳ信号との間の変位の時間を測定し、前記２つのＳ
    ＯＳ信号を整合させるよう適当な遅れを挿入し、 走査ライン全体にわたって希望する公差で画素位置精度
    を保つために選定した間隔で追加の遅れを挿入した走査
    ラインを作る ステップを含むことを特徴とする画素位置を修正する方
    法。 １４）特許請求の範囲第１３項に記載の方法において、
    ＳＯＳ信号の間の変位の時間を測定するステップがさら
    に、 前記基準ビームの走査開始信号にゲート制御されたクロ
    ックパルスを発生させ、 前記変位の時間の間の全クロックパルスの数を決定し、
    前記変位の時間の間の最後の全体クロックパルスに続く
    クロックパルスの間持続時間の等しい一連の増分パルス
    を発生させ、 前記変位の時間の間の増分クロックパルスの数を決定し
    、 全クロックパルスの数を増分パルスの数に加算して前記
    変位の時間を測定する ステップを含むことを特徴とする画素位置を修正する方
    法。 １５）特許請求の範囲第１４項に記載の方法において、
    前記変位の時間の間にクロックパルスと増分パルスの数
    を決定するステップが以下の関係式により行われること
    を特徴とする画素位置を修正する方法。 走査開始時の色収差 ＝｛（Ｔ＿ｎ＿ｏ＿ｍ＿２−Ｔ＿２）−（Ｔ＿ｎ＿ｏ＿
    ｍ＿１−Ｔ＿１）｝／２１６）特許請求の範囲第８項に
    記載の方法において、さらに基準レーザビームで開始基
    準パルスを発生させ、 前記基準レーザビームで走査開始（ＳＯＳ）基準パルス
    を発生させ、 前記基準レーザビームで走査終了（ＥＯＳ）基準パルス
    を発生させ、 前記基準レーザビームで終了基準パルスを発生させ、 前記開始基準パルスと前記基準ＳＯＳパルスとの間の時
    間Ｔ＿ｎ＿ｏ＿ｍ＿１を測定し、かつ前記終了基準パル
    スと前記ＥＯＳ基準パルスとの間の時間Ｔ＿ｎ＿ｏ＿ｍ
    ＿２を測定し、 非基準レーザビームでＳＯＳ非基準パルスを発生させ、 前記開始基準パルスと前記ＳＯＳ非基準パルスとの間の
    時間Ｔ＿１を測定し、 前記非基準レーザビームでＥＯＳ非基準パルスを発生さ
    せ、 前記終了基準パルスとＥＯＳ非基準パルスとの間の時間
    Ｔ＿２を測定し、 前記基準レーザビームに対する前記非基準レーザビーム
    の機械的オフセットを以下の関係式で計算し、 機械的オフセット ＝｛（Ｔ＿ｎ＿ｏ＿ｍ＿２−Ｔ＿２）＋（Ｔ＿ｎ＿ｏ＿
    ｍ＿１−Ｔ＿１）｝／２前記基準ビームの走査開始に対
    する前記オフセットを修正するよう前記非基準レーザビ
    ームの走査開始を変え、 基準ビームの走査開始（ＳＯＳ）信号と修正すべきビー
    ムのＳＯＳ信号との間の変位の時間を測定し、 前記２つのＳＯＳ信号を整合させるよう適当な遅れを挿
    入し、 全体の走査ラインにわたり希望する公差で画素位置精度
    を保つよう選定した間隔で追加の遅れを挿入して走査ラ
    インを作る、 ステップを含むことを特徴とする画素位置を修正する方
    法。 １７）特許請求の範囲第１６項に記載の方法において、
    時間Ｔ＿１を測定するステップがさらに、 前記開始基準パルスにゲート制御したクロックパルスを
    発生させ、 時間Ｔ＿１の間の全クロックパルスの数を決定し、時間
    Ｔ＿１の間の最後の全体クロックパルスに続くクロック
    パルスの間持続時間の等しい一連の増分パルスを発生さ
    せ、 時間Ｔ＿１の間の増分パルスの数を決定し、全クロック
    パルスの数を増分パルスの数に加算して時間Ｔ＿１を測
    定する ステップを含むことを特徴とする画素位置を修正する方
    法。 １８）特許請求の範囲第１７項に記載の方法において、
    時間Ｔ＿２を測定するステップが時間Ｔ＿１を測定する
    のと同じ手順をとることを特徴とする画素位置を修正す
    る方法。 １９）特許請求の範囲第１８項に記載の方法において、
    前記名目的時間が時間Ｔ＿１を測定するために規定した
    手順に従って測定されることを特徴とする画素位置を修
    正する方法。 ２０）特許請求の範囲第１９項に記載の方法において、
    ＳＯＳ信号の間の変位の時間を測定するステップがさら
    に、 前記基準ビームの走査開始信号にゲート制御されたクロ
    ックパルスを発生させ、 前記変位の時間の間の全クロックパルスの数を決定し、 前記変位の時間の間の最後の全体クロックパルスに続く
    クロックパルスの間持続時間の等しい一連の増分パルス
    を発生させ、 前記変位の時間の間の増分クロックパルスの数を決定し
    、 全クロックパルスの数を増分パルスの数に加算して前記
    変位の時間を測定する、 ステップを含むことを特徴とする画素位置を修正する方
    法。 ２１）特許請求の範囲第２０項に記載の方法において、
    前記変位の時間の間のクロックパルスと増分パルスの数
    を決定するステップが以下の関係式によりなされること
    を特徴とする画素位置を修正する方法。 走査開始時の色収差 ＝｛（Ｔ＿ｎ＿ｏ＿ｍ＿２−Ｔ＿２）−（Ｔ＿ｎ＿ｏ＿
    ｍ＿１−Ｔ＿１）｝／２
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