JP3705633B2

JP3705633B2 - ラスタ出力スキャナにおける画素位置調節装置及び方法

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Inventors: フィスリティボア
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Publication date: 2005-10-12
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Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、一般的にラスタ出力スキャナでの光線の画素の位置の補正に関し、特に接線方向にオフセットした２本の光線の発射率を調節し、受像部材表面での画素位置を補正する方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
フライングスポットスキャナ（ラスタ出力スキャナ（ＲＯＳ）とも呼ばれる）は、従来から中心軸周りに回転する多角面多角形反射ミラーを有し、その回転により複数の輝度変調された光線を感光記録媒体上で高速走査方向に繰り返し走査させる一方、記録媒体を低速方向（又は処理方向）に進行させる。このビームは、ラスタ走査パターンに基づき記録媒体を走査する。デジタル印刷は、個々の光線を２進サンプル列に応じて連続的に輝度変調し、サンプルによって表される画像を走査中に記録媒体に露光することによって実行する。同時に複数のビームを走査するプリンタは、マルチビームプリンタと呼ばれ、ＲＯＳおよびマルチビームプリンタ技術に関しては、Kitamuraの１９９４年１０月２日出願、米国特許第4,474,422 号に開示されている。
【０００３】
高速処理カラーやマルチハイライトカラーのゼログラフィー（静電電子写真）画像出力端末器は、独自にアドレスできる複数のラスタ線を個別の露光ステーションで同時に印刷する。これはマルチステーション印刷と呼ばれている。従来のマルチステーション処理カラープリンタは、個別のＲＯＳを複数台（通常は独立したＲＯＳを４台（システムカラー１色につき１台））使用している。この例として、Murayama et al. の米国特許第4,847,642 号および第4,903,067 号に開示されるものがある。
【０００４】
また、Tibor Fisli の米国特許第5,243,359 号は、マルチステーションプリンタ内で、複数のレーザビームを偏向できるＲＯＳ装置を開示している。回転多角形ミラーは、互いに平行する最大発散角（largest divergent angles）を持つ異なった波長の密集したレーザビームを複数同時に偏向する。レーザビームは、続いて複数の光学フィルタによって分光され、それぞれの受光体に導かれる。各ビームに対し同じ長さの光パスを確立することによって各受光体上に同じ大きさのスポットを得ることができる。この米国特許第5,243,359 号のレーザは、低速走査方向（即ちサジタル方向にオフセット）に配置されている。低速走査方向に配置されるダイオードを、多角形ミラーの回転軸と平行な方向に密集させることによって、スポットの大きさ、エネルギーの均一性、湾曲、直線性等のビーム特性におけるばらつきを最小限にする。即ちレーザダイオードを（多角形ミラーの回転軸に平行な方向に）できるだけ密集させて配置することにより、光線ができるだけ多角形ミラーの同一部分に当たるように図られている。
【０００５】
James Appel et al.の米国特許第5,341,158 号（特願平５−１５３５３０号）は、高速走査線方向に接線オフセットされた（即ち水平方向に分光された）レーザビームを用いるＲＯＳシステムを開示している。これは、上記Fisli の米国特許第5,243,359 号開示のダイオードの間隔制限を補う。
【０００６】
図１は、米国特許第5,341,158 号（特願平５−１５３５３０号）に開示のプリンタと同様のマルチステーション・プリンタ１０を示す。それぞれ異なった波長を持つレーザビームが回転多角形ミラー１２で反射される。回転多角形ミラー１２は回転軸１３を中心に回転しながら、同時にオプティクス（レンズ系）２０を通るようにビームを偏向する。レンズ系２０はビームを集束させ、多角形の角度誤差やぐらつきを補正する。ビームは光学フィルタ１４、１６、１８によって分光され、ミラー２６で反射され、受光体３０、３２、３４、３６へそれぞれ導かれる。このマルチステーションプリンタ１０は、フルカラーゼログラフィー印刷又は複写に使用されることが好ましい。周知のように、各レーザビームはそれぞれの受光体３０、３２、３４、３６上に潜像を形成する。この潜像は、システムカラーに対応し、普通紙、中間ベルト等の記録媒体（図示せず）に転写される。受光体３０、３２、３４、３６は、ベルトやドラム形状のものでもよい。
【０００７】
図２は、回転多角形ミラー１２で反射される接線方向にオフセットした２本のレーザビーム４１、５１を走査するために使われる、２つの光学入力チャンネルを示している。レーザダイオード４０はビーム４１を発光し、このビームは回転多角形ミラー１２によって反射される前にコリメータ４２及びレンズ４４を通過する。同様にレーザダイオード５０はビーム５１を発光し、回転多角形ミラー１２によって反射される前にコリメータ５２及びレンズ５４を通過する。ビーム４１、５１を回転多角形ミラー１２に導くためにミラー４６、５６を更に設置してもよい。図２から明確となるように、２本の光線４１、５１は高速走査方向で接線方向にオフセットする。
【０００８】
ビーム４１、５１は、回転多角形ミラー１２で反射された後、Ｆθレンズ２２とアナモフィック構成部（アナモフィックレンズ）２４を通過し、受光体（図２に図示せず）の表面に照射される。当業者にとって周知のように、Ｆθレンズ２２は、走査の直線性を補正する。アナモフィック構成部は一般に、ビームをサジタル方向への集束させるための限られた倍率だけを有する（図における縦方向にのみ集光作用を有する）。図の簡易化のため、レンズ２２やアナモフィック構成部２４など回転多角形ミラーより後の光学系に関しては、ビームを１本にして示すが、実際はビーム４１、５１ともにこの光学系を通過する。更に、図２のレンズ２２とアナモフィック構成部２４は、図１に示したレンズ系２０に相当してもよい。本発明は、図２に示するような２本のビームが接線方向にオフセットするマルチスポットシステムに使用されることが好ましい。
【０００９】
上記に説明されたような多角形スキャナは公知のものであり、例えば"Laser Scanning For Electronic Printing," Proceeding of the IEEE, Vol. 70, No. 6, June 1982 by John C. Urbach et al.に開示される。その他の光学多角形走査器の形態も同様に公知であり、本発明の意図の範囲にあるものとする。
【００１０】
図３は、単一チップ上に形成された複数のレーザダイオード４０、５０、６０、７０を示す。図３に示すように、各レーザダイオード４０、５０、６０、７０は、高速走査方向（即ちＸ方向）に沿って接線方向にオフセットしている。接線方向にオフセット配置されたレーザダイオードは、例えばAppel et al.の米国特許第5,341,158 号（特願平５−１５３５３０号）にも開示されている。
【００１１】
Appel et al.（特願平５−１５３５３０号）にあるように、各レーザビームを接線方向にオフセットさせる場合、各レーザビームは、それぞれ違った角度で回転多角形ミラー１２に入射する。本発明は、ビーム間の入力角を大きくした構成、例えば図２に示されているレーザビーム４１と５１が回転多角形ミラー１２の走査面にぶつかる前の、１０゜の角度オフセット構成に適用するのが好ましい。
【００１２】
図４は、接線方向にオフセットされるレーザダイオード４０と５０の別の実施形態を示す。この例では、レーザダイオード４０及び５０はサジタル方向（低速走査Ｙ方向）にも、接線方向（高速走査Ｘ方向）にもオフセットされる。この構成は、マルチスポットプリンタを使用する際、受光体上の走査スポット間のピッチを離すときに使用される。本発明の実施形態は、図４に示す接線方向とサジタル方向の双方にオフセットされるビームと関連して述べられるが、これに限られるものではない。
【００１３】
図５及び６は、レーザビーム４１及び５１を高速走査方向に沿って走査する際、どのようにＲＯＳによって変調されるかを説明する図である。周知のように、ＲＯＳは、レーザビーム４１、５１が高速走査領域に入る際の走査開始を制御する走査開始（ＳＯＳ：Start of Scan ）検出器９０（スリットディテクタ等）を含んでもよい。このＳＯＳ検出器９０は、スポットがここを通過すると信号を発する。この信号は電子サブシステム（ＥＳＳ）へ送られる。ＥＳＳは、情報のフォーマット及びＲＯＳの光変調器へのフロー（データの流れ）を操作し、レーザダイオードを使用する場合は、レーザ・ドライバー・エレクトロニクスへの電流の入力を制御する。ＳＯＳ信号の受信とともに、ＥＳＳはラスタデータのラインを記録する。図５では、レーザビーム４１及び５１はまだ走査開始検出器９０にとどいていない。従って、この時点ではレーザビーム４１、５１はそれぞれの受光体面上に変調されていない。図６では、走査開始検出器９０がビーム５１は検出するが、ビーム４１は検出していない。これはビーム４１と５１とは接線方向に分光されているためである。ビーム４１と５１の分光距離は、レーザダイオード４０及び５０の距離によって決定される。図５及び６ではビーム４１と５１のサジタル方向にオフセット量をＡで示し、接線方向にオフセット量をＢで示す。
【００１４】
ビーム５１が走査開始（ＳＯＳ）検出器９０にとどくと、そのビームのラスタデータの全てをＥＳＳが記録する。このラスタデータは一般にマージンとビーム５１によって印刷される各プリントデータを含む。マージンはビーム５１が実際に受光体上へと変調されるまでのレーザダイオード５０の遅延を表している。図６に示すように、ビーム４１はまだＳＯＳ検出器９０にとどいていない。ビーム４１と５１との間の遅延は、レーザダイオード４０と５０との距離情報又は実験によって決定される。ビーム５１が一旦ＳＯＳ検出器９０を通過すると、ビーム４１の必要な遅延が計算される。これは、ビーム５１よりビーム４１の遅延を大きくして、双方のビームが受光体上の類似の画素位置へと高速走査方向に変調させることによって行われる。従ってビーム４１のマージンの方がビーム５１のマージンより大きい。
【００１５】
図７は処理方向に伸びる一組の縦線１１０及び１１２を示す。これら縦線１１０及び１１２を生成するためには各ビーム４１、５１の画素を高速走査方向に正確に位置させて受光体上に適切に変調しなければならない。ビーム５１は走査ライン５３に沿って走査され、ＲＯＳによって適切に変調される。ビーム４１も走査ライン４３上に走査され、ＲＯＳによって適切に別に変調される。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】
縦線を印刷する場合、各ビーム４１及び５１の画素位置を正確に制御しなければならない。例えば、光線の一方がその画素が所望の位置からライン走査方向にずれるように変調された場合、縦線はギザギザになってしまう。従って、双方のビームを同じような走査直線特性で走査させる場合、従来方法では、各ビーム４１と５１の間の必要な遅延を計算し、ビームを正しく受光体上に変調して、線１１０、１１２にギザギザが生じないようにする。縦線１１０、１１２を正確に１インチ離して印刷したい場合、各ビーム４１、５１のスポット速度は正確で、完全に線形でなければならない。
【００１７】
しかしながら、ビームが図２のように接線方向にオフセットしている場合、各ビーム４１、５１が、走査線４３及び５３に沿って走査される間にそれぞれの直線性に相違がでてくる。この走査直線性のずれは、ビームが多角形ミラーに反射された後、後段のオプティクスの異なった部分を通過することによって起因する。これは、図２のような光線の接線方向への大きな分光によって起こる。
【００１８】
このためＲＯＳは、ビーム４１及び５１が正しく所望の位置に変調されて第１及び第２縦線１１０、１１２を形成するように各マージンを計算する。しかし、上記説明のように、各ビームで走査の直線性が異なるため、縦線１１０、１１２でのビーム４１、５１の正確な変調が達成できず、肉眼でも分かるような好ましくない画質の画像が印刷されてしまう。換言すれば、遅延実行時には、全ての走査線はそれぞれ決められた位置より開始されるが、それから先はスポットがビームの入射角の違いにより異なった速度を持つため、画素位置にずれが生じる。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記のような接線方向にオフセットするレーザダイオードによる問題を解消するための装置及びその方法を提供する。
【００２０】
本発明の第１態様では、第１に第１ビームのスポット速度を測り、第２に第２ビームのスポット速度を測り、そして第３に第１ビームの画素位置に関する第２ビームの画素位置を適切に調節するために第２ビームの発射率を調節する、ラスタ走査システム内の画素位置を補正する方法を提供する。
【００２１】
本発明の第２態様では、第１光線のスポット速度を測る第１計測装置と、第２光線のスポット速度を測る第２計測装置と、第１ビームのスポット速度に基づいて第２ビームの発射速度を調節する調節装置を含む、ラスタ走査システム内の画素位置を補正する装置を提供する。
【００２２】
本発明のその他の目的、効果、特徴は、添付図面を参照した以下の詳細な実施形態により明らかになる。
【００２３】
【発明の実施の形態】
図８は、本発明の実施形態にかかる画素位置調節装置である。この装置では、適切な画素位置が各ビームに得られるようにビーム４１、５１の周波数を調節する。この装置は、２本のビーム間に生じる非線形性に起因する問題を解消する。回転多角形ミラー１２は回転しながら、レーザビームを反射して、レンズ２２、アナモフィック構成部２４等を含む後段のオプティクス（ポスト多角形オプティクス：Post Polygon Optics ）２０を通過させ、回折格子８０に照射する。
【００２４】
図９は回折格子８０の拡大図である。光子８０は等間隔に位置する多数の開口部（又はスリット）８２を含む。このような回折光子の一例として、ロンチ刻線（ロンチルーリング：Ronchi ruling ）があり、その他の回折格子も当業者の間では公知である。格子上の開口部の間隔は周知の方法で設定され、ビームが格子８０上を走査する際のライン走査位置に対するビームのスポット速度を計算するときにその値を用いる。これに関しては以下に述べる。格子８０は、ビームが走査される際、光線を開口部８２に通過させる。
【００２５】
光は開口部８２を通過し、次のようにして検出される。図９に示すように、積分球のような装置（以後積分球と呼ぶ）９４が格子８０の背で長手方向に伸びる。この集光装置は図１０に示され、Ｃ方向（図９参照）に伸びるガラス管９２を含む。この管は透明なプラスチック棒またはガラスでもよい。アパーチャ９６が積分球に設けられ、走査光線４１が格子開口部８２を通過した後、積分球内部に通される。従って、アパーチャ９６は、管９２と格子８０の間で積分球９４に沿って伸びる。積分球９４の外壁９８は光線が確実にガラス管９２に反射されるよう、高反射率の塗料で覆うことが好ましい。
【００２６】
管９２の各端は、図９のようにそれぞれセンサ１００及び１０２に接続されている。これらのセンサは公知の光電子倍増管（ＰＭＴ）またはアバランシェフォトダイオードのようなものがよい。各センサ１００、１０２はそれぞれ演算装置９５（図８）に接続され、光線が積分球９４内の管９２に当たる高速走査位置に関するスポット速度を検出する。
【００２７】
光線４１は、図９に示す走査線４３を形成するように格子８０に走査される。光線４１は、格子８０上の開口部８２のいずれか１つに位置した時にのみ、格子８０を通過し管９２へと導かれる。このとき光線はその格子開口部８２、アパーチャ９６を通過し、管９２へ導かれる。各センサ１００、１０２は、以下の様にしてガラス管９２に当たるビームを検出する。
【００２８】
例えばビーム４１が第１格子開口部８２を通過し、管９２へと導かれる際、各センサ１００、１０２は輝度信号を管９２より受信する。第１開口部８２はセンサ１００に近いため、センサ１００によって受信される輝度信号は、センサ１０２によって受信される輝度信号よりも大きい。ビーム４１は走査線４３に沿ってＣ方向に走査され続け、第２開口部へと進む。しかし、光が第２開口部を通過し、管９２へと導かれる際、センサ１００に受信される輝度信号は、光が第１開口部８２を通過したときのものより小さい。これは管９２に当たる光がセンサ１００より遠くなったためである。即ちセンサ１０２によって受信される輝度信号は、センサ１０２までの距離が縮まったため、第１開口部を通過したときのものより大きくなる。しかし、センサ１００から１０２までの距離が一定であるため、２つの信号の合計輝度値は上記いずれの例でも等しい。ビーム４１が、走査線４３上を走査する間、センサ１００、１０２が輝度レベルに関する信号を受信し続ける。センサ１００、１０２の輝度に基づき、高速走査方向に関するビームの位置（即ちスポット速度又は走査線形性）が判定される。
【００２９】
図８の演算装置９５は各センサ１００、１０２に接続される。ビーム４１が管９２にぶつかりセンサ１００、１０２に検出される毎に演算装置９５は、ライン走査位置におけるビーム４１のスポット速度を計算する。開口部８２のスペース間隔などのデータは予め分かっており、演算装置９５によってスポット速度を計算するときに使われる。スポット速度は演算装置９５に記憶される。このような格子８０、管９２、センサ１００、１０２及び演算装置９５は、走査線４３に沿った適切な画素位置を計算するために使用される。この走査手順は後述する。当業者にとって周知のように、演算装置９５は、開口部８２の間隔と、光がセンサ１００及び１０２に検出される頻度に基づきビーム４１の非線形性を計算する。
【００３０】
図１１は、本発明の方法の手順を表すフローチャートである。ステップ１００で第１レーザビーム５１（図２のレーザダイオード５０より発光）を上記のように格子８０上に走査する。ステップ１０２では、開口部８２の間隔と、センサ１００、１０２によって算出された管９２へのビームの衝突頻度に基づいて、第１ビームのスポット速度で計算する。以後、ビーム５１が適切な画素位置にあるという前提の下に述べている。即ち、ビーム５１の画素位置の誤差は全て許容範囲内にあるものとする。続いて第２光線４１（図２のレーザダイオード４０より発光）がステップ１０４で格子８０上に走査され、管９２に達する。ステップ１０６で、第１ビーム５１と同様の方法で高速走査位置における第２レーザビーム４１のスポット速度を計算する。
【００３１】
図７と関連して述べたように、各走査線４３、５３の走査線位置に関する線形特性は、接線方向にオフセットするレーザダイオード４０、５０の配置によって相違が生じ、縦線１００、１０２を正確に印刷する場合に問題が起きる。即ち、ビーム４１、５１の間で所定走査時間中の高速走査画素位置が異なるのは非常に好ましくない現象である。この問題を解消するために、少なくとも１本の光線の発射間隔（firing frequensy：レーザビームの発光間隔）を調節して、ビーム４１、５１双方がビームに対する等しい画素位置を生成できるように変調する。例えば、ステップ１０８で光線４１が走査線４３上を走査する際にその発射間隔を調節する。このステップを行うにあたって、レーザダイオード４０からの光線４１の発射間隔を演算装置９５が制御する。この制御については後述する。別の実施形態では、適切な画素位置を得るために回転多角形ミラー１２の回転速度を調節する。また、ビーム５１の発射間隔も画素が適切に所望位置に位置するように単独で調節される。即ち、ビーム５１の画素位置が許容範囲にあるときビーム４１の画素位置は、ビーム５１の画素位置と同様となる。そうでない場合は、全ての画素が正しい位置となるように双方のビーム４１、５１の画素位置を調節する。
【００３２】
発射間隔の調節は公知である。例えばDouglas Curry の米国特許第4,622,593 号は、走査速度の変化を補正する補正回路を開示する。この特許に開示されるように、マイクロプロセッサはサンプルクロックパルスの流れを生成し、サンプルクロックパルス速度とデータがスキャナに送られるデータ速度を低減するためにパルスをその流れから取り除く。このシステムは最高データ速度を要件とする最高速度走査を行い、データ速度を遅延せることによって他の走査でのデータ速度を補正する。マイクロプロセッサは、どれだけクロックパルスを取り除けばよいかを判定するため最高速度走査と他の走査の違いを計算する。その結果、低速走査のデータはより遅い速度で供給され、スポット速度とデータ速度の比例度を維持する。
【００３３】
本発明の演算装置９５は、米国特許第4,622,593 号記載のような発射間隔調節回路を含むことが望ましい。発射間隔を調節するその他の方法も本発明の範囲に含まれる。このように演算装置９５は、レーザダイオード４０の発射間隔（発光間隔）を調節することによってビーム４１の発射間隔を調節する。この結果受光体の画素位置が調節される。別の例では、画素が正確に受光体に位置するように各ビーム４１、５１の発射間隔（発光間隔）を調節する。
【００３４】
このように、パルスレーザの１つ（または複数）を１画素に対応させ、その画素を画素毎のデータで変調する。そして、このパルスの周波数（発射間隔）を調整することで、画素位置を調整する。
【００３５】
上記装置は４本又はそれ以上のレーザビームの画素位置を補正することが好ましい。上記と同様にして、第３ビームを格子８０上に走査し、管９２へ導き、センサ１００、１０２へと伝える。第３ビームを調節して受光体の画素位置を調節する。第４光線も同様にして格子８０、管９２へと走査され、ライン走査位置に対する第４スポット速度を計算する。第４レーザビームの発射率を適切に調節し、画素位置を調節する。これによって、４本の各ビームは適切な画素位置でそれぞれの受光体へと走査される。このようにして、異なった角で入力され、走査直線性にばらつきのある、接線方向にオフセットしたレーザビームによる問題を解決できる。上記例では、所望の画素位置に基づいて、第２、第３、第４光線の発射率を制御する。ラスタ走査システム内の全ての光線の発射率を調節することも本発明の範囲内にある。
【００３６】
上記方法及び装置が単一受光体使用のマルチスポットプリンタや図１のようなマルチスポットプリンタに組み込まれ得ることは、当業者にとって自明である。図１では、各ビームはそれぞれ別々の受光体３０、３２、３４、３６に適確に画像化される。よって、それぞれの色画像がコピー用紙又は中間ベルトに画像となる場合、それぞれの走査線は図７に示すような高速走査方向に適切に記録される。更に、上記の装置は４本のビームに限られるものではなく、任意数のレーザビームと使用してもよい。
【００３７】
また、ライン走査位置に対する光線のスポット速度を計測するために、その他の検出装置を使用できることも当業者にとって明白である。
【００３８】
以上実施形態に基づき本発明を述べてきたが、これらの実施形態は説明の為の例示にすぎず、本発明の範囲を限定するものではない。当業者には、いろいろな修正や改造を考えることができるものと思われるが、それらは本発明の意図と範囲から離れるものではない。
【００３９】
【発明の効果】
本発明の方法によって、レーザダイオードから発せられる接線方向にオフセットした複数のレーザビームのスポット速度を制御し、各レーザビームの画素を所望の位置に調節して正確な直線形を生成し、より高画質の画像を印刷できる。
【００４０】
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】従来のマルチステーションプリンタの概略図である。
【００４２】
【図２】接線方向にオフセットする２本の光線の平面図である。
【００４３】
【図３】接線方向にオフセットしたレーザダイオードの配置実施形態を示す図である。
【００４４】
【図４】接線及びサジタル方向にオフセットしたレーザダイオードの配置実施形態を示す図である。
【００４５】
【図５】２本のレーザビームが走査開始検出器を通って走査される時のビーム位置を示し、２本ともまだ検出器にとどいていない状態を示す図である。
【００４６】
【図６】２本のレーザビームが走査開始検出器を通って走査される時のビーム位置を示し、一方の光線だけが検出された状態を示す図である。
【００４７】
【図７】処理方向に伸びる縦線を示す図である。
【００４８】
【図８】本発明の実施形態にかかるラスタ出力スキャナでの画素位置調節装置を示す図である。
【００４９】
【図９】本発明の実施形態に使用する回折格子の検出装置を示す図である。
【００５０】
【図１０】図９の（ＳＯＳ）検出装置の側面図である。
【００５１】
【図１１】本発明の方法によるフローチャートである。
【００５２】
【符号の説明】
１０マルチステーションプリンタ、１２回転多角形ミラー、１３回転軸、１４，１６，１８光学フィルタ、２０オプティクス、２６ミラー、３０，３２，３４，３６受光体、４０，５０レーザダイオード、４１，５１ビーム、４２，５２コリメータ、４４，５４レンズ、８０回折格子、８２開口部、９０ＳＯＳ検出器、９２管、９４積分球、９５演算装置、９６アパーチャ、１００，１０２センサ、１１０，１１２線。

Claims

少なくとも第１および第２のビームを走査するラスタ走査システムにおいて各ビームの走査における画素位置を調整する方法であって、
高速走査方向における第１のビーム走査の際の第１のビームのスポットの移動速度であるスポット速度を高速走査方向の位置に応じて測定するステップと、
高速走査方向における第２のビーム走査の際の第２のビームのスポットの移動速度であるスポット速度を高速走査方向の位置に応じて測定するステップと、
前記第１のビームのスポット速度から、高速走査方向に沿った第１のビームにおける複数の画素の位置を検出するステップと、
前記第２のビームのスポット速度から、高速走査方向に沿った第２のビームにおける複数の画素の位置を検出するステップと、
少なくとも第２のビームの発射間隔を、検出した高速走査方向に沿った第２ビームの位置に応じて調整し、高速走査方向に沿った第２のビームにおける複数の画素の配置を調整するステップと、
を有し、
前記第２のビームの発射間隔の調整によって、第２のビームにおける高速走査方向の画素位置が第１のビームにおける高速走査方向の画素位置に対し適正な位置になるように調整されることを特徴とするラスタ走査システムの画素位置調整方法。