JP2610352B2

JP2610352B2 - 光ビーム走査装置

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Publication number: JP2610352B2
Application number: JP2049916A
Authority: JP
Inventors: 元順川端
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1990-02-28
Filing date: 1990-02-28
Publication date: 1997-05-14
Anticipated expiration: 2012-05-14
Also published as: JPH03249722A; US5148304A; EP0444603A2; EP0444603A3

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）この発明は、光源からの光ビームを回転多面鏡で反射
し、走査レンズを介して、被走査面を光走査する光ビー
ム走査装置、特に面倒れ補正機能を有し、かつ像面湾曲
なく光ビームを被走査面上に結像することができる光ビ
ーム走査装置に関する。

（従来の技術とその課題）この種の光ビーム走査装置では、第17図（ｂ）に示す
ように、光源（図示省略）からの光ビームＬが矢印方向
Ａに回転する回転多面鏡１の鏡面1aにより反射され、さ
らにその反射光ビームL₂が走査レンズ（例えば、ｆ・θ
レンズ）２を介して被走査面３に結像される。こうし
て、被走査面３に結像された光スポットSPは回転多面鏡
１の回転速度に応じた所定の速度で走査方向ｙに沿って
移動する。

ところで、この種の光ビーム走査装置では、回転多面
鏡１の鏡面1aの面倒れを考慮する必要がある。すなわ
ち、回転多面鏡１の鏡面1aは、本来、その回転軸と完全
に平行となるように製造される必要があるが、製作精度
には一定の限界があり、同図（ａ）に示すように、各鏡
面1aがそれぞれ回転多面鏡１の回転軸に対してわずかな
がら傾斜し、その傾斜角度にばらつきがある。。そのた
め、光スポットSPは走査面（yz平面）に対して垂直な方
向ｘに沿って鏡面1aに傾き角度φに相当する量Δだけず
れる。したがって、光スポットSPを走査方向ｙに走査し
ながら被走査面３を方向ｘに送って所望の画像を記録す
る光ビーム走査装置において、上記面倒れがあると、方
向ｘにピッチむらが生じて、画像品質が低下する。

そこで、この問題を解決するために、従来より回転多
面鏡１の鏡面1aと被走査面３とが、走査面に対して垂直
な方向において光学的に共役となるように、光学系が設
計されている。具体的には、第18図（ａ），（ｂ）に示
すように、走査レンズ２と被走査面３との間に方向ｘに
のみ屈折力を有するシリンドリカルレンズ４が配設され
る。また、光源（図示省略）と回転多面鏡１との間に第
１結像光学系５が配設される。この第１結像光学系５
は、同図（ｂ），（ｃ）に示すように、第１結像光学系
５から出射される光ビームL₁がyz平面で平行光になり、
xz平面で回転多面鏡１の鏡面1aに集光する集束光となる
ように構成されている（注：光軸の方向が光学系の途中
で変化しても、光軸を常にＺ方向とみなしている。）こ
のように光学系を構成することによって、方向ｘについ
て、回転多面鏡１の鏡面1aが被走査面３と光学的に共役
となり、面倒れが補正される。

このように光ビーム走査装置の光学系を構成した場合
には、面倒れの問題は解決されるが、以下の問題が生じ
る。すなわち、像面が湾曲して、結像位置が被走査面３
から光軸方向ｚにずれ、特にそのずれ量が焦点深度ｄの
範囲から外れると、光スポットSPの大きさが変化する。

そこで、この問題を解決するために、従来より２種類
の方法が提案されている。

（１）そのうちのひとつとして、特開昭58-200214号公
報や特開昭58-179813号公報に記載されたものがある。
これらに開示された技術によれば、第19図（ｂ）に示す
ように、シリンドリカルレンズ６を、その光軸OAから両
端部に進むにしたがい被走査面３に近づくように湾曲成
形することによって、像面湾曲を補正せんとするもので
ある。

しかしながら、シリンドリカルレンズ６を同図に示す
ように成形した場合には、このシリンドリカルレンズ６
全体を被走査面３から遠ざけるにしたがってシリンドリ
カルレンズ６の湾曲のみによって像面湾曲の補正を行う
ことが困難となり、結像性能の悪化を招くおそれがあ
る。そのため、このシリンドリカルレンズ６は被走査面
３近傍に配置する必要がある。その結果、シリンドリカ
ルレンズ６の長さは、有効走査幅と同程度の寸法に仕上
げなければならず、有効走査幅の大きい光ビーム走査装
置では、シリンドリカルレンズ６自体が長尺となり、そ
の製作が困難になってくる。また、シリンドリカルレン
ズ６を被走査面３近傍に配置した場合には、このシリン
ドリカルレンズ６を通過する光ビームL₃のビーム径が小
さくなり、ゴミ付着等により結像性能が悪化するといっ
た問題も生じやすくなる。

（２）もうひとつの方法として、特開昭62-265615号公
報，特開昭61-275814号公報や特開昭60-133416号公報に
記載されたものがある。これらに開示された技術は、シ
リンドリカルレンズの走査面（yz平面）に対して垂直な
方向（上記方向ｘに相当する）の屈折力を、光軸からレ
ンズ両端に進むにしたがって小さくすることにより、像
面湾曲を補正する方法である。例えば、第20図に示すよ
うに、シリンドリカルレンズ７の方向ｘ（ｘ−ｚ平面に
平行な面内）の曲率半径が光軸OAからレンズ両端に進む
にしたがって大きくなるように仕上げて、方向ｘの実効
屈折力を上記のように変化させるものがある。

このようなレンズ設計は理論的には可能であるが、そ
の設計によって求められるレンズの形状を示す式は複雑
なものとなり、その式にしたがってレンズ加工すること
が困難な場合がある。

（発明の目的）この発明は、上記課題を解消するためになされたもの
で、面倒れ補正機能を有し、また像面湾曲なく光ビーム
を被走査面上に結像することができ、しかも被走査面に
最も近いレンズを小型化することができる光ビーム走査
装置を提供することを目的とする。

（目的を達成するための手段）この発明は、光源からの光ビームを回転多面鏡の回転
軸方向にのみ集光させてその反射面上で結像させ、その
回転多面鏡によって反射偏向された光ビームにより、走
査レンズおよびアナモルフィックレンズを介して被走査
面を走査する光ビーム走査装置であって、上記目的を達
成するために、前記アナモルフィックレンズの一方面
は、次式ただし、X,Y,Zは原点を前記アナモルフィックレンズの
一方面と光軸とが交差する点とした３次元直交座標系を
構成し、Ｚ軸は光軸を示し、Ｙ軸は光軸方向と走査方向
とを含む走査面内における光軸に垂直な軸を示し、Ｘ軸
は前記走査面に垂直な軸を示し、また cy…光軸方向と走査方向とを含む走査面内における前記
一方面の光軸上での曲率半径ryの逆数、 cx…光軸を含み前記走査面に対し垂直な面内における前
記一方面の光軸上での曲率半径rxの逆数で表され、しかも曲率半径の符号を、光ビームの進行方
向に対して凸となる場合を正、凹となる場合を負とした
時、前記曲率半径ryと前記曲率半径rxとが相互に異符号
である一方、前記アナモルフィックレンズの他方面が前
記走査面内で曲成されたシリンドリカル面に仕上げられ
ている。

（作用）この発明によれば、光源からの光ビームが回転多面鏡
の回転軸方向にのみ集光されてその反射面上で結像され
る一方、その回転多面鏡によって反射偏向された光ビー
ムが、走査レンズおよびアナモルフィックレンズを介し
て被走査面を走査する。したがって、回転多面鏡の反射
面と被走査面とが走査面に垂直な方向（回転多面鏡の回
転軸方向）に対して光学的に共役となり、面倒れが補正
される。

また、アナモルフィックレンズの一方面は、次式で表され、しかも曲率半径ryと曲率半径rxとが相互に異
符号である一方、アナモルフィックレンズの他方面が走
査面内で曲成されたシリンドリカル面に仕上げられてい
る。つまり、アナモルフィックレンズの一方面について
は、その曲率半径ryと曲率半径rxとが相互に異符号であ
ることを前提とし、かつ、この一方面が上記式で表現さ
れるので、この一方面では、光軸方向と走査方向に対し
て垂直なＸ軸方向に関し、走査方向（Ｙ軸方向）の各位
置での曲率半径が、光軸からレンズ両端（走査方向）に
進むにしたがって大きくなる。言い換えれば、アナモル
フィックレンズの一方面におけるＸ軸方向の屈折力が、
光軸からレンズ両端（主走査方向）に進むにしたがって
小さくなる結果、像面湾曲が補正される。

さらに、アナモルフィックレンズは上記のように仕上
げられており、アナモルフィックレンズを被走査面から
比較的離れた位置に配置することができ、像面湾曲が小
さい状態でアナモルフィックレンズを小型化できる。

（実施例） A.光ビーム走査装置の構成第１図はこの発明にかかる光ビーム走査装置の１実施
例を示す図である。同図に示すように、この光ビーム走
査装置では、図示を省略した光源からの光ビームが第１
結像光学系５を介して矢印方向Ａに回転する回転多面鏡
１に入射される。

この第１結像光学系５は、第１図（ｂ），（ｃ）に示
すように、それを通過した光ビームL₁がyz平面で平行光
になり、xz平面で回転多面鏡１の鏡面1aに集光する集束
光となるように構成されている。

また、回転多面鏡１と被走査面３との間には、走査レ
ンズ２とアナモルフィックレンズ10が回転多面鏡１側か
らこの順で配設されている。このため、回転多面鏡１の
鏡面1aにより反射された反射光ビームL₂は走査レンズ２
およびアナモルフィックレンズ10を介して被走査面３に
結像される。

B.光学系の構成次に、上記のように構成された光ビーム走査装置の光
学系の構成について説明する。なお、ここでは、以下に
詳説するように、第１結像光学系５を２群３枚構成と
し、走査レンズ２を３群４枚構成としているが、これら
に限定されるものではない。

第2A図はyz平面での光学系の構成を示す図であり、第
2B図はxz平面での光学系の構成を示す図である。なお、
以下の説明の便宜から、光軸OA中心でのyz平面内の曲率
半径を半径ryとし、xz平面内のそれを半径rxとする。ま
た、光源LS（第2A図および第2B図）から数えてｉ番目
（ｉ＝１〜15）のレンズ面（あるいは鏡面）の曲率半径
rx,ryをそれぞれrxi,ryiとする。

両図に示すように、第１結像光学系５では、光源LS側
から回転多面鏡１側へ第１ないし第３レンズ51〜53がこ
の順で配置されている。これらのレンズ51〜53のうち、
第１レンズ51は方向ｘ（x-z平面内）にのみ屈折力を有
するシリンドリカルレンズであり、第2A図からわかるよ
うに光源側に向いた面51aの曲率半径ry₁および回転多面
鏡１を向いた面51bの曲率半径ry₂はともに無限大に仕上
げられている。一方、第2B図からわかるように、第１レ
ンズ51の面51aの曲率半径rx₁および面51bの曲率半径rx₂
がそれぞれ所定値をとるように仕上げられている。ただ
し、面51bは非球面、すなわち光軸OAから方向Ｘに行く
にしたがって曲率半径が連続的に変化するように仕上げ
られている。

また、第２と第３レンズ52,53は相互に貼り合わされ
て、貼り合わせレンズ群54が形成されている。このよう
に、第１結像光学系５は２群３枚構成であり、その第１
結像光学系５を通過した光ビームL₁はyz平面で平行光に
なり、xz平面で回転多面鏡１の鏡面1aに集光する集束光
となるように整形された後、回転多面鏡１の鏡面1aに入
射される。

光ビームL₁は回転多面鏡１の鏡面1aで反射され、その
反射光ビームL₂が走査レンズ２に入射される。この走査
レンズ２は、第４ないし第７レンズ24,25,26,27による
３群４枚構成であり、第2A図および第2B図に示すよう
に、回転多面鏡１の鏡面1a側から被走査面３側へこの順
序に配列されている。

第４レンズ24,第７レンズ27はともに凸メニスカスレ
ンズであり、第４レンズ24および第７レンズ27は凹面を
鏡面1a側に向けて配置されている。

また、第５レンズ25は両凹レンズであり、第６レンズ
26は両凸レンズである。そして、これら第5,第６レンズ
25,26が貼り合わされて、貼り合わせレンズ群28が形成
されている。

次に入射するアナモルフィックレンズ10は、走査レン
ズ２に向いた面10aが次式によって表される面に仕上げ
られている。

ただし、X,Y,Zは原点を前記アナモルフィックレンズの
一方面と光軸とが交差する点とした３次元直交座標系を
構成し、Ｚ軸は光軸を示し、Ｙ軸は光軸方向と走査方向
とを含む走査面内における光軸に垂直な軸を示し、Ｘ軸
は前記走査面に垂直な軸を示し、また cy…光軸方向ｚと走査方向ｙとを含む走査面（すなわち
yz平面）内における面10aの曲率半径ry₁₄の逆数、 cx…光軸OAを含み走査面（すなわちyz平面）に対し垂直
な面（すなわちxz平面）内における面10aの曲率半径rx
₁₄の逆数である。

また、アナモルフィックレンズ10の被走査面３に向い
た面10bはYZ面内でのみ曲率を有するシリンドリカル面
に仕上げられている。

しかも、アナモルフィックレンズ10では、第2A図およ
び第2B図からわかるように、曲率半径の符号を、光ビー
ムが進む方向に対して凸となる場合を正、凹となる場合
を負とした時、曲率半径rx₁₄,ry₁₄が相互に異符号とな
るように仕上げられている。その理由は、像面湾曲の補
正を行うためにアナモルフィックレンズ10の方向ｘ（ｘ
−ｚ平面に平行な面内）の屈折力を光軸OAからレンズ両
端（方向ｙ）に行くにしたがって小さくなるように設計
する必要からである。

さらに、その理由を、第3A図ないし第3D図を参照しつ
つ、より詳細に説明する。第3A図は第2A図に対応するア
ナモルフィックレンズ10の外観を示す斜視図である。ま
た、第3B図は曲率半径rx₁₄,ry₁₄がともに同符号である
場合のアナモルフィックレンズ10′の構成を示す斜視図
である。さらに、参考のために、ｘ方向,y方向の曲率半
径が相互に異符号で、YZ面内で湾曲されたシリンドリカ
ルレンズを第3C図に、またそれらがともに同符号で、YZ
面内で湾曲されたシリンドリカルレンズを第3D図に示
す。

第3C図に示すように、YZ面内で湾曲されたシリンドリ
カルレンズでは、方向ｘの曲率半径はｙ方向のどの位置
においても常に一定であり、レンズのエッジ部分におけ
る厚みｔは方向ｙにおいて均一となっている。これに対
して、第3A図に示すようにアナモルフィックレンズ10で
は、中央部分のエッジ厚みtcが最も薄く、レンズ両端
（方向ｙ）に行くにしたがって徐々に厚みｔが増大する
ように仕上げられている。このため、両図の比較から容
易に理解できるように、アナモルフィックレンズ10の方
向ｘの曲率半径は光軸OAからレンズ両端（方向ｙ）に行
くにしたがって大きくなり、言い換えれば方向ｘの屈折
力が光軸OAからレンズ両端に行くにしたがって徐々に小
さくなっている。

また、第3B図と第3D図に基づいて、上記と同様にして
考えると、第3B図に示すアナモルフィックレンズ10′で
は、方向ｘの曲率半径は光軸OAからレンズ両端（方向
ｙ）に行くにしたがって小さくなり、逆に方向ｘの屈折
力は光軸OAからレンズ両端に行くにしたがって大きくな
っている。

したがって、像面湾曲を補正するためには、アナモル
フィックレンズ10は、第3A図の状態にあることが要求さ
れ、したがってその一方面が（１）式にしたがって仕上
げられるとともに、他方面がシリンドリカル面10bに仕
上げられるだけでは足りず、ｘ方向,y方向の曲率半径が
相互に異符号であることが必須要素となる。

また、走査方向の像面が走査レンズの特性を損なわな
いようにするためには、アナモルフィックレンズ10の面
10aの走査方向ｙ（ｙ−ｚ平面内）の曲率と、シリンド
リカル面10bのそれとが同心であることが好ましい。

なお、上記においては、アナモルフィックレンズ10に
おいて、走査レンズ２に向いた面10aが（１）式によっ
て表されるように仕上げられる一方、被走査面３に向い
た面10bがシリンドリカル面に仕上げられているが、第
４図に示すように、逆に仕上げられてもよい。すなわ
ち、走査レンズ２に向いた面10aをシリンドリカル面に
仕上げる一方、被走査面３に向いた面10bを（１）式に
よって表される面に仕上げるようにしてもよく、上記と
同様にして、像面湾曲を補正することができる。

なお、第１図（ａ）および第４図（ａ）に示すよう
に、上記のように光ビーム走査装置の光学系を構成した
場合には、回転多面鏡１の鏡面1aと被走査面３とが回転
多面鏡１の回転軸方向に対して光学的に共役となる。こ
のために、面倒れが補正される。

C.実施例次に、さらに詳しい第１ないし第４実施例について説
明し、その光学的特性について評価する。

C-1.第１実施例この第１実施例にかかる光ビーム走査装置は、第１図
に示すように構成されるとともに、その光学系は第１表
に示すデータにしたがって構成される。

同表において、d₀は光源LSと第１番目のレンズ面51aと
の距離であり、diは光源LS側から数えてｉ番目（ｉ＝１
〜14）のレンズ面と（ｉ＋１）番目のレンズ面との光軸
OA上のレンズ面間距離であり、d₁₅は15番目のレンズ面1
0bと被走査面３との距離である。また、n₁〜n₈はそれぞ
れ波長780nmに対する第１ないし第７レンズ51,52,53,2
4,25,26,27およびアナモルフィックレンズ10の屈折率で
ある。なお、以下に説明する第２ないし第４実施例にお
いても、同様の符号を用い、その説明については省略す
る。

また、光源LS側から数えて２番目のレンズ面、すなわ
ち第１レンズ51の面51bが非球面であり、次式ただし、X₀,Z₀は原点を第１レンズ51bと光軸OAとが交差
する点とした２次元直交座標系を構成し、Z₀軸は光軸を
示し、X₀は光軸方向と走査方向に垂直な軸を示し、ま
た、 cx₀…光軸OAを含み走査面（すなわちyz平面）に対し垂
直な面（すなわちxz平面）内における面51bの曲率半径r
xzの逆数ｋ…コーニック係数（“−0.868"）となるように仕上げられている。

さらに、この光学系では、光源側開口数は走査方向ｙ
および方向ｘともに“0.1"であり、被走査面側開口数は
走査方向ｙおよび方向ｘともに“0.024"であり、走査幅
は350であり、しかも走査画角（＝２θ）は50°であ
る。

第5A図および第5B図はそれぞれ走査方向y,方向ｘの横
収差を示す横収差図である。また、第６図は非点収差図
であり、同図および以下に説明する第９図，第12図，第
15図において実線は方向ｘの像面を示し、破線は走査方
向ｙの像面を示している。また、第７図はｆθ特性を示
す図である。なお、ｆθ特性の評価については、次式に
基づいて行う。

C-2.第２実施例第２実施例にかかる光ビーム走査装置は、第４図に示
すように構成されるとともに、その光学系は第２表に示
すデータにしたがって構成される。

なお、光源側から数えて２番目のレンズ面は、第１実
施例と同様に、（２）式で示される非球面であり、コー
ニック係数ｋが“−0.868"となるように仕上げられてい
る。

また、光源側開口数，被走査面側開口数，走査幅およ
び走査画角についても第１実施例と同一である。

第8A図および第8B図はそれぞれ走査方向y,方向ｘの横
収差を示す横収差図であり、第９図は非点収差図であ
り、また第10図はｆθ特性を示す図である。

C-3.第３実施例第３実施例にかかる光ビーム走査装置は、第１図に示
すように構成されるとともに、その光学系は第３表に示
すデータにしたがって構成される。

なお、光源側から数えて２番目のレンズ面は（２）式
で示される非球面であり、コーニック係数ｋが“−1.51
2"となるように仕上げられている。

また、光源側開口数，被走査面側開口数，走査幅およ
び走査画角については第１実施例と同一である。

第11A図および第11B図はそれぞれ走査方向y,方向ｘの
横収差を示す横収差図であり、第12図は非点収差図であ
り、また第13図はｆθ特性を示す図である。

C-4.第４実施例第４実施例にかかる光ビーム走査装置は、第４図に示
すように構成されるとともに、その光学系は第４表に示
すデータにしたがって構成される。

なお、光源側から数えて２番目のレンズ面は（２）式
で示される非球面であり、コーニック係数ｋが“−7.50
6"となるように仕上げられている。

第14A図および第14B図はそれぞれ走査方向y,方向ｘの
横収差を示す横収差図であり、第15図は非点収差図であ
り、また第16図はｆθ特性を示す図である。

c-5.第１ないし第４実施例の効果第６図，第９図，第12図および第15図から、いずれの
実施例によっても、像面湾曲が小さいことがわかる。

また、第１表ないし第４表の各間隔d₁₅の値（＝アナ
モルフィックレンズ10と被走査面３との距離）からわか
るように、アナモルフィックレンズ10を被走査面３から
比較的離れた位置に配設したとしても、像面湾曲を低く
抑えることができる。したがって、アナモルフィックレ
ンズ10を小型化することができる。

（発明の効果）以上のように、この発明によれば、光源からの光ビー
ムが回転多面鏡の回転軸方向にのみ集光されてその反射
面上で結像される一方、その回転多面鏡によって反射偏
向された光ビームが走査レンズおよびアナモルフィック
レンズを介して被走査面を走査するように構成されてい
るので、回転多面鏡の反射面と被走査面とが回転多面鏡
の回転軸方向に対して光学的に共役となり、面倒れを補
正することができる。

また、アナモルフィックレンズの一方面は、次式で表され、しかも曲率半径ryと曲率半径rxとが相互に異
符号であるため、アナモルフィックレンズの一方面にお
ける光軸方向と走査方向とに対して垂直な方向の曲率半
径が、光軸からレンズ両端（走査方向）に進むにしたが
って大きくなる。また、アナモルフィックレンズの他方
面が走査面内でシリンドリカル面に湾曲されているた
め、光軸方向と走査方向とに対して垂直な方向の屈折力
が、光軸からレンズ両端（走査方向）に進むにしたがっ
て小さくなり、像面湾曲を補正することができる。

さらに、アナモルフィックレンズは上記のように仕上
げられているので、そのアナモルフィックレンズを前記
被走査面から比較的離れた位置に配置することができ、
アナモルフィックレンズを小型化することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明にかかる光ビーム走査装置の一実施例
を示す構成図であり、第2A図および第2B図はそれぞれ第１図に示す光ビーム走
査装置の光学系の構成を示す構成図であり、第3A図はこの光学系の構成要素たるアナモルフィックレ
ンズを示す斜視図であり、第3B図ないし第3D図はそれぞれ第3A図に示すレンズを説
明するための説明斜視図であり、第４図はこの発明にかかる光ビーム走査装置の他の実施
例を示す構成図であり、第5A図および第5B図はそれぞれ第１実施例における走査
方向y,方向ｘの横収差を示す横収差図であり、第６図は第１実施例における非点収差図であり、第７図は第１実施例におけるｆθ特性を示す図であり、第8A図および第8B図はそれぞれ第２実施例における走査
方向y,走査方向ｙに対して垂直な方向ｘの横収差を示す
横収差図であり、第９図は第２実施例における非点収差図であり、第10図は第２実施例におけるｆθ特性を示す図であり、第11A図および第11B図はそれぞれ第３実施例における走
査方向y,走査方向ｙに対して垂直な方向Ｘの横収差を示
す横収差図であり、第12図は第３実施例における非点収差図であり、第13図は第３実施例におけるｆθ特性を示す図であり、第14A図および第14B図はそれぞれ第４実施例における走
査方向y,走査方向ｙに対して垂直な方向ｘの横収差を示
す横収差図であり、第15図は第４実施例における非点収差図であり、第16図は第４実施例におけるｆθ特性を示す図であり、第17図ないし第20図はそれぞれ従来の光ビーム走査装置
を示す図である。１……回転多面鏡、1a……鏡面、２……走査レンズ、10
……アナモルフィックレンズ、10a,10b……面、LS……
光源

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】光源からの光ビームを回転多面鏡の回転軸
方向にのみ集光させてその反射面上で結像させ、その回
転多面鏡によって反射偏向された光ビームにより走査レ
ンズおよびアナモルフィックレンズを介して被走査面を
走査する光ビーム走査装置であって、前記アナモルフィックレンズの一方面は、次式ただし、X,Y,Zは原点を前記アナモルフィックレンズの
一方面と光軸とが交差する点とした３次元直交座標系を
構成し、Ｚ軸は光軸を示し、Ｙ軸は光軸方向と走査方向
とを含む走査面内における光軸に垂直な軸を示し、Ｘ軸
は前記走査面に垂直な軸を示し、また cy…光軸方向と走査方向とを含む走査面内における前記
一方面の光軸上での曲率半径ryの逆数、 cx…光軸を含み前記走査面に対し垂直な面内における前
記一方面の光軸上での曲率半径rxの逆数、で表され、しかも前記曲率半径rxと前記曲率半径rxとが
相互に異符号である一方、前記アナモルフィックレンズ
の他方面が前記走査面内で曲成されたシリンドリカル面
であることを特徴とする光ビーム走査装置。