JPH0368563A - (S)―α―メチルベンジルアミノピリミジン誘導体及び除草剤 - Google Patents

(S)―α―メチルベンジルアミノピリミジン誘導体及び除草剤

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JPH0368563A
JPH0368563A JP20654489A JP20654489A JPH0368563A JP H0368563 A JPH0368563 A JP H0368563A JP 20654489 A JP20654489 A JP 20654489A JP 20654489 A JP20654489 A JP 20654489A JP H0368563 A JPH0368563 A JP H0368563A
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methanesulfonyl
methylbenzylaminopyrimidine
halogen atom
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JP20654489A
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Masahiro Miyazaki
雅弘 宮崎
Kuniaki Shimizu
清水 邦昭
Michiya Hirata
平田 道弥
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Ihara Chemical Industry Co Ltd
Kumiai Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Ihara Chemical Industry Co Ltd
Kumiai Chemical Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、新規な光学活性(S)−α−メチルベンジル
アミノピリミジン誘導体及びこれを含む除草剤に関する
ものである。
(従来の技術) ジャーナル・オブ・アグリカルチュラル・フード・ケミ
ストリー(Journal of Agricultu
ralFood Chemistry)第30巻、第6
号、1075〜1078頁(1982年)には、4−ベ
ンジルアミノ−6−クロロ−2−エチルアミノピリミジ
ンが除草剤として開示されているが、除草効果及び作物
に対する安全性は必ずしも十分なものではない、また、
特開昭59−36666号明細書には。
一般式 〔ここでR3及びR4は低級アルキル基又はハロゲン原
子を示すか、又は’R3とR4は結合してトリメチレン
基またはテトラメチレン基を示す、Raは水素原子又は
低級アルキル基を示す XIはアルキレン基を示す、2
は置換又は非置換のフェニル基(該置換分はハロゲン、
低級アルキル及び低級アルコキシより選ばれたl又は2
個である。)。
フリル基またはチエニル基を示す、〕で表されるアミノ
ピリミジン誘導体又はその酸付加塩が、殺菌、殺虫及び
殺ダニ剤として開示されているが、除草効果については
記載されていない。
(発明が解決しようとする課題) 本発明者らは、従来必ずしも十分な除草効果及び作物安
全性を示さなかったベンジルアミノピリミジン誘導体に
ついて、更に改良された、即ち、作物に安全性が高く、
且つ種々の雑草に対してすぐれた防除効果を発揮しうる
化合物の開発を目的に鋭意研究を重ねた。その結果、特
定のベンジルアミノピリミジン誘導体が上記1的を満足
することを見いだし、既に特許出願を行っている。(特
願昭62−336253号) これらの誘導体は全てラセミ体であったが、それらが不
斉炭素原子を有することからその光学活性体について更
に検討した結果(S)−α−メチルベンジル゛アミノピ
リミジン誘導体が高い除草活性及び有用作物との間の選
択性を有することを見出し本発明を完成した。
(課題を解決するための手段) 本発明の(S)−α−メチルベンジルアミノピリミジン
誘導体は、一般式 (式中、Aはハロゲン原子、アルキル基、フェノキシ基
、置換フェノキシ基、メタンスルホニル基。
相異なり、水素原子、フェニル基、(S)−α−メチル
ベンジル基、アルコキシ基、2−プロピニル基、アルコ
キシアルキル基、アルキルチオアルキル基、ジアルキル
アミノアルキル基、アミノ基。
アルキルアミノ基、エトキシカルボニルアルキル基又は
ヒドロキシカルボニルアルキル基を示す。
但し R1とR1は同時に水素であることはない。
又、R1及びR雪は相隣る窒素原子と共にモルホリノ基
を形成することもできる。)で表される基を示し、Bは
ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、メタンスルホニ
ル基、エトキシカルボニル基を示す、)で表される。
上記一般式(1)で表される化合物中、Aがアルキル基
、2−プロピニルアミノ基、アルコキシアミノ基又はア
ルコキシアルキルアミノ基を示し。
Bがハロゲン原子、トリフルオロメチル基、アルキルチ
オ基又はメタンスルホニル基を示す化合物が特に好まし
い、好ましい置換基としては例えば。
Aがアルキル基の場合は、メチル基、プロピル基又はイ
ソプロピル基、アルコキシアミノ基の場合はメトキシア
ミノ基、アルコキシアルキルアミノ基の場合は3−メト
キシプロピルアミノ基等がそれぞれ挙げられる。また、
Bがハロゲン原子の場合は、フッ174原子、塩素原子
等が挙げられ、アルキルチオ基の場合は、メチルチオ基
等がそれぞれ挙げられる。
一般式(1)で示される化合物を例示すれば第1表に記
載の通りである。尚、化合物番号は以後の記載において
参照される。
第1表つづき 第1表つづき 本発明化合物は1例えば下記の反応式lに示す方法によ
り合成することが出来る。
(a)       (b)           (
1)(但し1式中Zlはハロゲン原子及びメタンスルホ
ニル基を示し、A及びBは前記と同一の意味を示す、) また、一般式(夏)で表される本発明化合物のうち、A
がハロゲン原子又はアルキル基である場合を除く化合物
は1次に示す反応式2の方法でも製造することが出来る
。さらにBがハロゲン原子又はトリフルオロメチル基で
ある場合を除く化合物は、反応式3の方法でも製造する
ことが出来る。
(c)        (d) (但し1式中Alはフェノキシ基、置換フェノキシ基、
アニリノ基、(S)−α−メチルベンジルアミノ基、ア
ルコキシアミノ基、2−プロピニルアミノ基、アルコキ
シアルキルアミノ基、アルキルチオアルキルアミノ基、
ジアルキルアミノアルキルアミノ基、ヒドラジノ基、ア
ルキルヒドラジノ基、エトキシカルボニルアルキルアミ
ノ基又はモルホリノ基を示し、B及びZlは前記と同一
の意味を示す、) (但し1式中BIはアルキルチオ基を示し、A及びZl
は前記と同一の意味を示す、) 即ち、式(a)、式(c)又は式(6)にて示される化
合物と式(b)1式(d)又は式(f)にて示される化
合物とをアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン。
ジオキサン、メタノール、エタノール、アセトニトリル
、ジクロロメタン、クロロホルム、N、N−ジメチルホ
ルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、ジメチル
スルホキシド、ベンゼン、トルエン等の溶媒の存在下又
は非存在下、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸
カリウム、金属ナトリウム、水酸化ナトリウム、トリエ
チルアミン、ジメチルアニリン、ピリジン等の無機又は
有機の塩基の存在下又は非存在下−20〜200”Cの
反応温度で1〜30時間反応を行い本発明化合物を得る
ことができる。
次に実施例を挙げて本発明化合物の製造法を具体的に説
明する。
実施例I S (−)2.4−ジクロロ−6−α−メチルベンジル
アミノピリミジン(化合物番号18)の製造 2.4.6−)−+J7ooピリミジン15.0g(0
,082モル)をアセトニトリル100mffに溶解し
た後、炭酸カリウム13.6g (0,098モル)を
加え、これに5(−)α−メチルベンジルアミン10.
0g (0,083モル)を水冷下滴下した1滴下終了
後、室温で2時間撹拌した1反応液は、水に注ぎ、酢酸
エチル500mnで抽出した後、更に水、飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾過
後、溶媒を留去し、得られた残渣をカラムクロマトグラ
フィーで精製し目的化合物18.6g(収率81.3%
)を得た。融点76〜78℃ 実施例2 S (−) 2−メトキシアミノ−4−クロロ−6−α
−メチルベンジルアミノピリミジン(化合物番号12)
の製造 S (−)2.4−ジクロロ−6−α−メチルベンジル
アミノピリミジン6.0g (0,021モル)をジメ
チルスルホキシド50mAに溶解した後、メトキシアミ
ン塩酸塩10.0g (0,120モル)、炭酸カリウ
ム11.0 g (0,080モル)を加え、90℃−
100℃で5時間反応させて反応を終了とした1反応液
は、水に注ぎ、酢酸エチル300mmで抽出した後、更
に水、飽和食塩水で洗浄し、無水Jl酸ナトリウムで乾
燥した。乾燥剤を濾過後、溶媒を留去し、得られた残渣
をカラムクロマトグラフィーで精製して目的化合物2.
3g(収率38.5%)を得た。
屈折率n、6 == 1 、5874 実施例3 S (−)2−(3−メトキシプロピルアミノ)−4−
クロロ−6−α−メチルベンジルアミノピリミジン(化
合物番号5)の製造 2−3−メトキシプロピルアミノ−4,6−ジクロルピ
リミジン4.0 g (0,018モル)をアセトニト
リル50mjlに溶解した後、これに5(−)α−メチ
ルベンジルアミン7.0g (0,058モル)を加え
、2時間加熱還流下に反応させて反応終了とした1反応
液は、水に注ぎ、酢酸エチル200mmで抽出した後、
更に水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。乾燥剤を濾過後、溶媒を留去して、得られた残
渣をカラムクロマトグラフィーで精製して目的化合物5
.4g(収率92.6%)を得た。
屈折率ngO=1−5909 実施例4 S (−) 2−メタンスルホニル−4−トリフルオロ
メチル−6−α−メチルベンジルアミノピリミジン(化
合物番号28)の製造2−メタンスルホニル−4−トリ
フルオロメチル−6−クロロピリミジン15.0 g 
(0,058モル)をテトラヒドロフラン100mGに
溶解した後、炭酸カリウム12.0g (0,087モ
ル)を加え、これに5(−)α−メチルベンジルアミン
7.4g (0,061モル)を水冷下に滴下した。
滴下終了後、室温で1時間撹拌した1反応液は。
水に注ぎ酢酸エチル500mAで油出した後、更に水、
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
乾燥剤を濾過後、溶媒を留去し、得られた残渣をカラム
クロマトグラフィーで精製し目的化合物15.0g(収
率75.4%)を得た。
実施例5 S (−) 2−メチルヒドラジノ−4−トリフルオロ
メチル−6−α−メチルベンジルアミノピリミジン(化
合物番号24)の製造2−メタンスルホニル−4−トリ
フルオロメチル−6−α−メチルベンジルアミノピリミ
ジン3.0 g (0,008モル)をアセトニトリル
50mΩに溶解した後、これにメチルヒドラジン1゜1
g (0,024モル)を加え、室温で1時間撹拌し反
応終了とした6反応液は、水に注ぎ、酢酸エチル200
m1で抽出した後、更に水、飽和食塩水で洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。
乾燥剤を濾過後、溶媒を留去し、#Iられた残渣をカラ
ムクロマトグラフィーで精製して目的化合物2.6g(
収率96.3%)を得た。
屈折率01°=1.5564 実施例6 S (−) 2−メチル−4−トリフルオロメチル−6
−α−メチルベンジルアミノピリミジン(化合物番号2
5)の製造 2−メチル−4−クロロ−6−トリフルオロメチルピリ
ミジン5.0 g (0,025モル)をジメチルスル
ホキシド50mQに溶解した後、これに5(−)α−メ
チルベンジルアミン10.0g(0,083モル)加え
、80〜90℃で2時間反応させた、反応液は水に注ぎ
、酢酸エチル300mjlで抽出した後、更に水、飽和
食塩水で洗浄し。
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾過後。
溶媒を留去し、得られた残渣をカラムクロマトグラフィ
ーで精製し目的化合物6.7g(収率93゜6%)を得
た。融点70〜73℃ 実施例7 S(+)2−(3−メトキシプロピルアミノ)−4−フ
ルオロ−6−α−メチルベンジルアミノピリミジン(化
合物番号29)の製造S (−)2.4−ジフルオロ−
6−ci−メチルベンジルアミノピリミジン4.0 g
 (0,017モル)をアセトニトリル50m息に溶解
した後、これに3−メトキシプロピルアミン5.0 g
 (0,056モル)を加え、室温20分間反応させて
1反応終了とした1反応液は、水に注ぎ、酢酸エチル2
00mmで抽出した後、更に水、飽和食塩水で洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾過後、溶媒
を留去し得られた残渣をカラムクロマトグラフィーにて
精製し目的化合物3.9g(収率75,3%)を得た。
屈折率n”、O= 1.5690 次に1本発明の除草剤は1本発明化合物である(S)−
α−メチルベンジルアミノピリミジン誘導体を含んでな
る。
本発明化合物を除草剤として使用する場合、化合物のみ
、又はこれに農薬の製剤化に際し一般的に用いられる、
担体、界面活性剤、分散剤、補助剤等を配合して、水和
剤、粒剤、乳剤又は粉剤等の各種形態に製剤して使用す
ることができる。
製剤化に際して用いられる担体としては、ジ−クライト
、タルク、ベントナイト、クレー、カオリン、珪藻土、
ホワイトカーボン、バーミキュライト、消石灰、珪砂、
硫安、尿素等の固体担体及びイソプロピルアルコール、
キシレン、シクロヘキサノン、メチルナフタレン等の液
体担体等が挙げられる。界面活性剤及び分散剤としては
、アルコール硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホ
ン酸塩、リグニンスルホン酸塩、ポリオキシエチレング
リコールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリー
ルエーテル、ポリオキシエチレンソルビタンモノアルキ
レート等が挙げられる。補助剤としては、カルボキシメ
チルセルロース、ポリエチレングリコール、アラビアゴ
ム等が挙げられる。使用に際しては、適当な濃度に希釈
して散布するか又は直接施用する。
又1本発明の除草剤は他の除草剤と混合して使用する事
もできる。
本発明除草剤は、畑地及び非農耕地において、雑草の発
芽前又は発芽後に、土壌処理又は茎葉処理することによ
り、畑地に発生する各種の雑草を防除することができる
。又、水田においても、雑草の発芽前又は発芽後に、湛
水土壌処理又は茎葉処理することにより、水田に発生す
る各種の雑草を防除することができる6 本発明除草剤は、有効成分で10アール当たり0.1 
g〜1kg施用する。又植物茎葉に散布する場合はip
pm−10,OOOppmに希釈して施用する。
次に1本発明除草剤の製剤の実施例を挙げるが、本発明
はこの範囲に限定されるものではない。
尚、実施例中に記載の%は重量百分率を示す。
実施例8(水和剤) 化合物(2)10%、エマルダン810(花王株式会社
登録商標)0.5%、デモールN(花王株式会社登録商
41)0.5%、クニライト(クニミネ工業株式会社登
録商標)201 20%、ジ−クライト(ジ−クライト
株式会社登録商標)CA69%を均一に混合粉砕して水
和剤とした。
実施例9(乳M) 化合物(5)30%、シクロヘキサノン20%、ポリオ
キシエチレンアルキルアリールエーテル11%、アルキ
ルベンゼンスルホン酸カルシウム4%、及びメチルナフ
タリン35%を均一に溶解して乳剤とした。
実施例10(粒剤) 化合物(12)5%、ラウリルアルコール硫酸エステル
のナトリウム塩2%、リグニンスルホン酸ナトリウム5
%、カルボキシメチルセルロース2%、及びクレー86
%を均一に混合粉砕する。
この混合物100重量部に水20重量部を加えて練合し
、押出式造粒機を用いて14〜32メツシユの粒状に加
工したのち、乾燥して粒剤とした。
実施例11(粉剤) 化合物(20)2%、珪藻±5%、及びクレー93%を
均一に混合粉砕して粉剤とした。
(発明の効果) 本発明の化合物及び除草剤は、畑地に発生するオオイヌ
タデ、アオビユ、シロザ、アカザ、イチビ、アメリカキ
ンゴジカ、エビスグサ、ハコベ、アサガオ、オナモミ、
ヒエ、メヒシバ、オヒシバ。
エノコログサ、スズメノカタビラ、スズメノカタビラ、
カラスムギ、イタリアンライグラス、コゴメガヤツリ、
メリケンニクキビ、イソチグラス。
ウマノチャヒキ、ソバカズラ、ノハラガラシ、アメリカ
センダングサ、ハマスゲ等の雑草を有効に防除すること
ができる。又、水田に発生するコナギ、ホタルイ、ヘラ
オモダカ、タイヌビエ、タマガヤツリ等の雑草も有効に
防除することができる。
一方1作物に対する安全性は高く、中でも、稲。
小麦、とうもろこし及び大豆等に対する安全性は、前述
の文献に記載の4−ベンジルアミノ−6−クロロ−2−
エチルアミノピリミジンと比較しても、優れているとい
う特徴を有するものである。
次に1本発明除草剤の奏する効果を試験例を挙げて説明
する。
試験例1 選択性試験 土壌を充填した6 00 cm”のポットに稲、小麦、
とうもろこしの各作物種子及びオオイヌタデ、アオビユ
、シロザ、イチビ、オナモミの各雑草種子を播種して、
0.5〜1cmに覆土した。ポットを20〜25℃のガ
ラス室内におき、2週間育成した後、実施例8に準じて
tII製した水和剤の所定蓋を10アール当り100M
となるように水で希釈し、茎葉表面に散布処理(10ア
ール当り有効成分1’ 50 g或イハ12.5 g)
 シた。v4査は処理後、14日目に第2表の基準に従
い行った。結果は第3表に示した。
第4表 試験例2 茎葉処理試験 土壌を充填した1 00 cm”ポットにオオイヌタデ
、アオビユ及びシロザの各雑草種子を播種し、0.5〜
1ci+に覆土した。ポットを20〜25℃のガラス室
内におき、2週間育成した後、実施例8に準じて調製し
た水和剤の所定量を10アール当り100flとなるよ
うに水で希釈し、植物体の茎葉表面に散布処理(10ア
ール当り有効成分で100g) した、11査は薬剤処
理後14日目に第2表の基準に従い行った。結果を第4
表に示した。
試験例3 水田雑草防除効果 100 cm’ポットに水田土壌を充填し1代掻した後
、ヒエ、タマガヤツリ、コナギ及びホタルイの各雑草種
子を播種し、5C園に湛水した。播種翌々日に実施例8
に準じて調製した水和剤を水で希釈し有効成分で10ア
ール当り400g相当量を水面に滴下処理した。調査は
処理後21日目に第2表の基準に従い行った。結果は第
5表に示した。
第5表

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Aはハロゲン原子、アルキル基、フェノキシ基
    、置換フェノキシ基、メタンスルホニル基、又は式▲数
    式、化学式、表等があります▼(式中、R^1及びR^
    2は同一又は相異なり、水素原子、フェニル基、(S)
    −α−メチルベンジル基、アルコキシ基、2−プロピニ
    ル基、アルコキシアルキル基、アルキルチオアルキル基
    、ジアルキルアミノアルキル基、アミノ基、アルキルア
    ミノ基、エトキシカルボニルアルキル基又はヒドロキシ
    カルボニルアルキル基を示す。 但し、R^1とR^2が同時に水素であることはない。 又、R^1及びR^2は相隣る窒素原子と共にモルホリ
    ノ基を形成することもできる。)で表される基を示し、
    Bはハロゲン原子、トリフルオロメチル基、アルキルチ
    オ基、メタンスルホニル基、エトキシカルボニル基を示
    す。)で表される光学活性(S)−α−メチルベンジル
    アミノピリミジン誘導体。
  2. (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Aはハロゲン原子、アルキル基、フェノキシ基
    、置換フェノキシ基、メタンスルホニル基又は式▲数式
    、化学式、表等があります▼(式中、R^1及びR^2
    は同一又は相異なり、水素原子、フェニル基、(S)−
    α−メチルベンジル基、アルコキシ基、2−プロピニル
    基、アルコキシアルキル基、アルキルチオアルキル基、
    ジアルキルアミノアルキル基、アミノ基、エトキシカル
    ボニルアルキル基又はヒドロキシカルボニルアルキル基
    を示す。但し、R^1とR^2が同時に水素であること
    はない。又、R^1及びR^2は相隣る窒素原子と共に
    モルホリノ基を形成することもできる。)で表される基
    を示し、Bはハロゲン原子、トリフルオロメチル基、メ
    タンスルホニル基、エトキシカルボニル基を示す。)で
    表される光学活性(S)−α−メチルベンジルアミノピ
    リミジン誘導体を有効成分として含有する除草剤。
JP20654489A 1989-08-09 1989-08-09 (S)―α―メチルベンジルアミノピリミジン誘導体及び除草剤 Pending JPH0368563A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005520821A (ja) * 2002-03-15 2005-07-14 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 4−アミノピリミジン及び表面の抗菌処理のためのその使用

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005520821A (ja) * 2002-03-15 2005-07-14 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 4−アミノピリミジン及び表面の抗菌処理のためのその使用

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