JPH0367693A - 光情報記録媒体及び記録方法 - Google Patents
光情報記録媒体及び記録方法Info
- Publication number
- JPH0367693A JPH0367693A JP1205033A JP20503389A JPH0367693A JP H0367693 A JPH0367693 A JP H0367693A JP 1205033 A JP1205033 A JP 1205033A JP 20503389 A JP20503389 A JP 20503389A JP H0367693 A JPH0367693 A JP H0367693A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording
- substrate
- layer
- recording layer
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 20
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 7
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 11
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 abstract description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 28
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N Indole Chemical compound C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010549 co-Evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 206010024229 Leprosy Diseases 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光情報記録媒体及び記録方法に関し、詳しくは
、特定化合物を光記録膜材料として用いた光情報記録媒
体及び光情報記録方法に関する。
、特定化合物を光記録膜材料として用いた光情報記録媒
体及び光情報記録方法に関する。
各種の情報信号を高い記録密度で記録することについて
の要望が高まるにつれて、近1年になって色々な構成原
理や動作原理に基づいて作られた情報記録媒体を用いて
情報信号の高密度記録・再生が行われるようになったこ
とは周知のとおりである。
の要望が高まるにつれて、近1年になって色々な構成原
理や動作原理に基づいて作られた情報記録媒体を用いて
情報信号の高密度記録・再生が行われるようになったこ
とは周知のとおりである。
例えば、(1)情報記録媒体の信号面に情報信号により
強度変調された記録用ビームを照射して。
強度変調された記録用ビームを照射して。
基板上に形成されている記録媒体薄膜に孔または凹部を
形成させて情報信号の記録を行う、(2)情報記録媒体
の信号面に情報信号により強度変調された。記録用ビー
ムを照射して、基板上に形成されている記録媒体薄膜の
光学定数を変化させて情報信号の記録を行う、(3)情
報記録媒体の信号面に情報信号により強度変調された記
録用ビームを照射して、基板上に形成されている光磁気
記録媒体薄膜に情報信号の記録を行う、などの各種の記
録方式であり、並びに、前記のようにして情報信号が記
録された記録媒体に一定の強度のレーザー光ビームを照
射して情報信号の再生を行う情報信号再生方式が提案さ
れている。
形成させて情報信号の記録を行う、(2)情報記録媒体
の信号面に情報信号により強度変調された。記録用ビー
ムを照射して、基板上に形成されている記録媒体薄膜の
光学定数を変化させて情報信号の記録を行う、(3)情
報記録媒体の信号面に情報信号により強度変調された記
録用ビームを照射して、基板上に形成されている光磁気
記録媒体薄膜に情報信号の記録を行う、などの各種の記
録方式であり、並びに、前記のようにして情報信号が記
録された記録媒体に一定の強度のレーザー光ビームを照
射して情報信号の再生を行う情報信号再生方式が提案さ
れている。
だが、前記(1)の方式では、記録時に基板上の記録媒
体薄膜(記録膜)に形成される孔または凹部の輪郭に乱
れがあるとC/N比が劣化するという問題点があり、ま
た、記録膜上に保護膜を形成し単板とすることや密着張
合せができないという欠点をもっている。
体薄膜(記録膜)に形成される孔または凹部の輪郭に乱
れがあるとC/N比が劣化するという問題点があり、ま
た、記録膜上に保護膜を形成し単板とすることや密着張
合せができないという欠点をもっている。
前記(2)の方式では、レーザー光パルス照射により記
録膜が相変化し、異なった相での屈折率の違いによって
記録が行なえる材料として、一般に、Te−Ga化合物
、In−5s化合物、 5b−5s化合物、 5s−T
’s化合物などが使用されているが、これらの材料を用
いた場合、例えば結晶から非晶質への相変化には10I
lv以上の高いレーザー出力が必要であり、非晶質から
結晶への相変化では結晶化速度が遅いため高速記録・再
生ができないという欠点をもっている。
録膜が相変化し、異なった相での屈折率の違いによって
記録が行なえる材料として、一般に、Te−Ga化合物
、In−5s化合物、 5b−5s化合物、 5s−T
’s化合物などが使用されているが、これらの材料を用
いた場合、例えば結晶から非晶質への相変化には10I
lv以上の高いレーザー出力が必要であり、非晶質から
結晶への相変化では結晶化速度が遅いため高速記録・再
生ができないという欠点をもっている。
また、前記(3)の方式では、再生出力が小さいため充
分に大きなCハ比を得ることが困難であるという欠点を
もっている。
分に大きなCハ比を得ることが困難であるという欠点を
もっている。
〔発明が解決しようとするIi!り
本発明の目的は上記のような欠点を解消し、レーザー光
パルスの照射により記録膜の光学定数を変化させて情報
信号の記録を行うことができ、かつ高速、高感度で記録
が可能であり、大きなC/N比を得ることが出来る光情
報記録媒体及びこれを。
パルスの照射により記録膜の光学定数を変化させて情報
信号の記録を行うことができ、かつ高速、高感度で記録
が可能であり、大きなC/N比を得ることが出来る光情
報記録媒体及びこれを。
用いての記録方法を提供するものである。
本発明の第1は光情報記録媒体であって、下記一般式
%式%
Zn、10.In、Sn、Pb、Bi、S、O及びSs
から選ばれる1つの元素である。) からなる群より選ばれた化合物を記録膜として基からな
る群より選ばれた化合物を特徴とする。
から選ばれる1つの元素である。) からなる群より選ばれた化合物を記録膜として基からな
る群より選ばれた化合物を特徴とする。
本発明の第2は光情報記録方法であって、前記第1の記
録媒体に対して情報信号により強度変調された記録ビー
ムを照射して、該記録媒体における記録層の光学定数を
変化せしめて情報信号の記録を行なうことを特徴として
いる。
録媒体に対して情報信号により強度変調された記録ビー
ムを照射して、該記録媒体における記録層の光学定数を
変化せしめて情報信号の記録を行なうことを特徴として
いる。
以下に本発明を添付の図面に従がいながら更に詳細に説
明する。
明する。
第1図及び第2図は本発明に係る光情報記録媒体の代表
的な二側の概略図であり、図中、1は基板、2は記録層
(記録膜)、3は保護層、4は下引き層を表わしている
。
的な二側の概略図であり、図中、1は基板、2は記録層
(記録膜)、3は保護層、4は下引き層を表わしている
。
本発明に係る光情報記録媒体は、最も簡単な構成のもの
では、第1図に示されるように、基板l上に記録層2が
形成されていればよいが、必要に応じて、基板1と記録
層2との間に下引き層4が、また記録層2上に保護層3
が形成されてもよい(第2図)。
では、第1図に示されるように、基板l上に記録層2が
形成されていればよいが、必要に応じて、基板1と記録
層2との間に下引き層4が、また記録層2上に保護層3
が形成されてもよい(第2図)。
基板1の材料としては、透明プラスチック基板。
ガラス基板等を用いることができ、具体的には、例えば
、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、アクリ
ル樹脂、エポキシ樹脂、石英ガラス等を挙げることがで
きる。なお、基板の表面には、トラッキング用案内溝や
案内ピット、さらには。
、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、アクリ
ル樹脂、エポキシ樹脂、石英ガラス等を挙げることがで
きる。なお、基板の表面には、トラッキング用案内溝や
案内ピット、さらには。
アドレス信号などのプリフォーマットが形成されていて
もよい。
もよい。
記録層2は前記一般式で表わされた5bzV、−x及び
/又はSbzVz−xMy(但し、0.5≦X≦1、好
ましくは0.7≦X≦0.9であり、また、0≦y≦0
.5好ましくはO≦y≦0.3である。)の組成化合物
の薄膜であり。
/又はSbzVz−xMy(但し、0.5≦X≦1、好
ましくは0.7≦X≦0.9であり、また、0≦y≦0
.5好ましくはO≦y≦0.3である。)の組成化合物
の薄膜であり。
特に好まシイ組成はSb、Jv、J並びニSb+、、V
s、、Ma、tである。また、好ましいにはZn、In
、Pb、S、Oであり、中でもZn、Pb、Sが特に好
ましい、X及びyの値が前記数値から外れていると感度
、コントラスト等に低下がみられるようになる。記録層
2の膜厚は100−3000人好ましくは300〜15
00λである。
s、、Ma、tである。また、好ましいにはZn、In
、Pb、S、Oであり、中でもZn、Pb、Sが特に好
ましい、X及びyの値が前記数値から外れていると感度
、コントラスト等に低下がみられるようになる。記録層
2の膜厚は100−3000人好ましくは300〜15
00λである。
この薄膜(記録層2)を基板1又は下引き層4上に形成
するには抵抗加熱方式による真空蒸着法(二。
するには抵抗加熱方式による真空蒸着法(二。
元共蒸着法、並びに、三元共蒸着法)によるのが有利で
あるが、スパッタ蒸着法、EB蒸着法によってもかまわ
ない。
あるが、スパッタ蒸着法、EB蒸着法によってもかまわ
ない。
下引き層4は、■水又はガスなどのバリヤー層、■記録
層の保存安定性の確保、■反射率の向上。
層の保存安定性の確保、■反射率の向上。
■プレグルーブの形成などの機能を光記録媒体に付与す
るために設けられる。そして、下引き層4の材料として
は、前記■■を重視すれば高分子材料(アクリル樹脂、
エポキシ樹脂など)、無機化合物(Sin、 、MgF
、 、Sin、Tie、 、TiN、SiN、ZnSな
ど)及び金属や半金属(Zn、Cu、S、Ni、Cr、
Ge、Ss、Ag、Au、Ajlなど)が使用でき、前
記■を重視すれば金属(Ajl、Ag、Teなど)が使
用でき、前記■を重視すれば各種の紫外線硬化樹脂、熱
硬化性樹脂及び熱可塑性樹脂が使用できる。下引き層4
の厚さは、材料の種類により異なるが、0.1〜3G/
a<らいが適当である。
るために設けられる。そして、下引き層4の材料として
は、前記■■を重視すれば高分子材料(アクリル樹脂、
エポキシ樹脂など)、無機化合物(Sin、 、MgF
、 、Sin、Tie、 、TiN、SiN、ZnSな
ど)及び金属や半金属(Zn、Cu、S、Ni、Cr、
Ge、Ss、Ag、Au、Ajlなど)が使用でき、前
記■を重視すれば金属(Ajl、Ag、Teなど)が使
用でき、前記■を重視すれば各種の紫外線硬化樹脂、熱
硬化性樹脂及び熱可塑性樹脂が使用できる。下引き層4
の厚さは、材料の種類により異なるが、0.1〜3G/
a<らいが適当である。
保護層3は(i)記録層2をキズ、ホコリ、汚れなどか
ら保護し、00記録層2の保存安定性を向上させ、00
反射率の向上せしめる。などのために形成されるもので
ある。保護層3の形成材料としては、下引き層4であげ
た材料をそのまま使用することができる。保護層3の厚
さは、下引き層4の場合と同様、材料の種類により異な
るが、0.1〜1100I1<らいが適当である。なお
、保護層3、下引き層4の形成手段としては、無機材料
を形成させる場合には真空製膜方法(例えば蒸着法、ス
パッタ法など)、有機材料を形成させる場合には溶液塗
工法(スピンナーコーティング、スプレーコーティング
、浸漬コーティングなど)等の従来より知られている方
法が採用し得る。
ら保護し、00記録層2の保存安定性を向上させ、00
反射率の向上せしめる。などのために形成されるもので
ある。保護層3の形成材料としては、下引き層4であげ
た材料をそのまま使用することができる。保護層3の厚
さは、下引き層4の場合と同様、材料の種類により異な
るが、0.1〜1100I1<らいが適当である。なお
、保護層3、下引き層4の形成手段としては、無機材料
を形成させる場合には真空製膜方法(例えば蒸着法、ス
パッタ法など)、有機材料を形成させる場合には溶液塗
工法(スピンナーコーティング、スプレーコーティング
、浸漬コーティングなど)等の従来より知られている方
法が採用し得る。
本発明に係る光記録媒体を用いて記録を行なうには、情
報信号により強度変調された記録用ビームを記録層2に
照射して、その記録層の光学定数を変化せしめるように
すればよい。
報信号により強度変調された記録用ビームを記録層2に
照射して、その記録層の光学定数を変化せしめるように
すればよい。
また、この記録された状態の光記録媒体から再生を行う
には、記録時よりも出力パワーを小さくしたレーザー光
を照射すればよい。
には、記録時よりも出力パワーを小さくしたレーザー光
を照射すればよい。
次に実施例及び比較例を示す。
実施例1〜3
トラッキング用案内溝を射出成形時に成形した130m
φのポリカーボネート樹脂基板(厚さ約1.2醜)に抵
抗加熱方式の真空蒸着装置を用いて、5b−V薄膜、5
b−v−pb薄膜又は5b−V−Zn薄膜を2元共蒸着
法又は3元共蒸着法により形成して3つの本発明に係る
光記録媒体をつくった。この時の蒸着条件は、真空度:
8X10−@Torr、蒸着速度5SblO人/sac
、 V2人/see、 Pb及びZn1人/seeとし
た。これらの光記録媒体における記録層の膜組成をオー
ジェにより分析したところ、sb、v、(実施例1)、
sb、v、pbl(実施例2)、Sb@ 層22nz
(実施例3)であり、膜厚さ方向に均一であった。また
、膜厚を触針式の膜厚測定装置で測定したところ、3つ
のサンプルはどれも700〜1000人であった。
φのポリカーボネート樹脂基板(厚さ約1.2醜)に抵
抗加熱方式の真空蒸着装置を用いて、5b−V薄膜、5
b−v−pb薄膜又は5b−V−Zn薄膜を2元共蒸着
法又は3元共蒸着法により形成して3つの本発明に係る
光記録媒体をつくった。この時の蒸着条件は、真空度:
8X10−@Torr、蒸着速度5SblO人/sac
、 V2人/see、 Pb及びZn1人/seeとし
た。これらの光記録媒体における記録層の膜組成をオー
ジェにより分析したところ、sb、v、(実施例1)、
sb、v、pbl(実施例2)、Sb@ 層22nz
(実施例3)であり、膜厚さ方向に均一であった。また
、膜厚を触針式の膜厚測定装置で測定したところ、3つ
のサンプルはどれも700〜1000人であった。
比較例1
実施例1で用いたと同じ基板上に
で表わされるインドールシアニン系色素をスピンコード
法により塗工して約800人厚の記録層を形成し比較の
光記録媒体をつくった。
法により塗工して約800人厚の記録層を形成し比較の
光記録媒体をつくった。
これらの光記録媒体を光デイスクテスターに装着し、レ
ーザー光波長780nm、NA(レンズの開口・数)0
.5、線速度11.3m/see、記録レーザーパワー
6mV、再生レーザーパワー0.5mVの条件で7.5
MHz、3.7MHzの信号により記録再生し、C/N
比(バンド幅30KHz)を測定した。結果は表−1の
とおりであった。
ーザー光波長780nm、NA(レンズの開口・数)0
.5、線速度11.3m/see、記録レーザーパワー
6mV、再生レーザーパワー0.5mVの条件で7.5
MHz、3.7MHzの信号により記録再生し、C/N
比(バンド幅30KHz)を測定した。結果は表−1の
とおりであった。
さらに、これらの光記録媒体の記録ピットを3EMによ
り観察したところ1本発明の光記録媒体はどれも記録膜
の変形が観察されなかったが、比較例の光記録媒体は、
ピット部が凹形に変形しているのが認められた。
り観察したところ1本発明の光記録媒体はどれも記録膜
の変形が観察されなかったが、比較例の光記録媒体は、
ピット部が凹形に変形しているのが認められた。
表−1
〔発明の効果〕
本発明の光記録媒体は、記録用ビームにより記録膜の光
学定数を変化させて情報信号の記録を行うので記録膜上
に保護膜を形成し、保存安定性を向上すること、及び単
板化、密着はり合わせが可能である。また、記録膜の光
学定数が高速・高感度で変化するので、高速記録再生時
(11,3m/sec。
学定数を変化させて情報信号の記録を行うので記録膜上
に保護膜を形成し、保存安定性を向上すること、及び単
板化、密着はり合わせが可能である。また、記録膜の光
学定数が高速・高感度で変化するので、高速記録再生時
(11,3m/sec。
7.5MHz)でも低いレーザーパワーで高いC/N比
を得ることが出来る。
を得ることが出来る。
第1図及び第2図は本発明の係る光記録媒体の代表的な
二側の断面図である。 1・・・基 板 2・・・記録層 3・・・保護層 4・・・下引き層
二側の断面図である。 1・・・基 板 2・・・記録層 3・・・保護層 4・・・下引き層
Claims (2)
- (1)一般式 Sb_xV_1_−_x及びSb_xV_1_−_xM
_y(但し0.5≦x≦1、0≦y≦0.5であり、M
はAg、Au、Zn、Al、In、Sn、Pb、Bi、
S、O及びSeから選ばれる1つの元素である。) からなる群より選ばれた化合物を記録膜として基板上に
形成したことを特徴とする光情報記録媒体。 - (2)一般式 Sb_xV_1_−_x及びSb_xV_1_−_xM
_y(但し0.5≦x≦1、0≦y≦0.5であり、M
はAg、Au、Zn、Al、In、Sn、Pb、Bi、
S、O及びSeから選ばれる1つの元素である。) からなる群より選ばれた化合物を記録膜として基板上に
形成し、情報信号により強度変調された記録用ビームを
照射し該記録層の光学定数を変化せしめて、情報信号の
記録を行なうことを特徴とする光情報記録方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1205033A JPH0367693A (ja) | 1989-08-07 | 1989-08-07 | 光情報記録媒体及び記録方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1205033A JPH0367693A (ja) | 1989-08-07 | 1989-08-07 | 光情報記録媒体及び記録方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0367693A true JPH0367693A (ja) | 1991-03-22 |
Family
ID=16500331
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1205033A Pending JPH0367693A (ja) | 1989-08-07 | 1989-08-07 | 光情報記録媒体及び記録方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0367693A (ja) |
-
1989
- 1989-08-07 JP JP1205033A patent/JPH0367693A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5238722A (en) | Optical recording medium | |
US5169745A (en) | Optical information recording medium | |
US5242730A (en) | Optical recording medium | |
US5252372A (en) | Optical information recording medium | |
JPH0428032A (ja) | 光情報記録媒体 | |
US5328741A (en) | Optical recording medium | |
JP2921571B2 (ja) | 光情報記録媒体 | |
JPH0367693A (ja) | 光情報記録媒体及び記録方法 | |
JPH0367692A (ja) | 光情報記録媒体及び記録方法 | |
JPH0397584A (ja) | 光情報記録媒体 | |
JP2521178B2 (ja) | 光学的記録媒体円盤 | |
JPS61163891A (ja) | 光学記録媒体 | |
JP2512044B2 (ja) | 光記録媒体及び光記録方法 | |
JP2671127B2 (ja) | 光情報記録方法と情報記録媒体 | |
JPH0322224A (ja) | 光情報記録方法および情報記録媒体 | |
JPH06251417A (ja) | 光学記録媒体 | |
JP2512043B2 (ja) | 光記録媒体及び光記録方法 | |
JPH0443330B2 (ja) | ||
JP2832209B2 (ja) | 光情報記録媒体及び記録・再生方法 | |
JPH02166643A (ja) | 情報記録媒体 | |
JP2740799B2 (ja) | 光記録媒体 | |
JPH01243237A (ja) | 情報記録方法 | |
JPH03187785A (ja) | 光情報記録媒体 | |
JPH04214386A (ja) | 光記録媒体 | |
JPS61162385A (ja) | 光情報記録媒体 |