JPH0366294B2 - - Google Patents
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- JPH0366294B2 JPH0366294B2 JP3217583A JP3217583A JPH0366294B2 JP H0366294 B2 JPH0366294 B2 JP H0366294B2 JP 3217583 A JP3217583 A JP 3217583A JP 3217583 A JP3217583 A JP 3217583A JP H0366294 B2 JPH0366294 B2 JP H0366294B2
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ヘキサフルオロアセトン水和物の脱
水方法に関する。更に詳しくは、良好な回収率で
ヘキサフルオロアセトンを回収せしめるヘキサフ
ルオロアセトン水和物の脱水方法に関する。
水方法に関する。更に詳しくは、良好な回収率で
ヘキサフルオロアセトンを回収せしめるヘキサフ
ルオロアセトン水和物の脱水方法に関する。
ヘキサフルオロアセトンは、含フツ素重合体製
造用の単量体、医薬や農薬などを合成するための
中間体、フツ素ゴの架橋剤などに用いられるビス
フエノールAFの合成原料などとして重要な原料
化合物である。
造用の単量体、医薬や農薬などを合成するための
中間体、フツ素ゴの架橋剤などに用いられるビス
フエノールAFの合成原料などとして重要な原料
化合物である。
ヘキサフルオロアセトンの合成は、各種の方法
によつて行われており、例えばヘキサフルオロプ
ロピレンオキシドの異性化、ヘキサクロルアセト
ンとフツ化水素との反応、オクタフルオロイソブ
チレンの酸化、ヘキサフルオロプロピレンと酸素
との反応などによつて行われている。
によつて行われており、例えばヘキサフルオロプ
ロピレンオキシドの異性化、ヘキサクロルアセト
ンとフツ化水素との反応、オクタフルオロイソブ
チレンの酸化、ヘキサフルオロプロピレンと酸素
との反応などによつて行われている。
これらの合成法の中、ヘキサフルオロプロピレ
ンオキシドの異性化やヘキサフルオロプロピレン
と酸素との反応によつて得られるヘキサフルオロ
アセトン中には、異性化反応の際に副生する低沸
点化合物や分解して生成する酸性化合物などが混
入しており、前者は蒸留操作で除去できるもの
の、後者が僅かに残るのを避けることができな
い。また、ヘキサクロルアセトンとフツ化水素と
の反応で得られるヘキサフルオロアセトン中に
は、未置換のクロル体および酸性化合物が必然的
に混入されている。更に、オクタフルロオイソブ
チレンの酸化で得られるヘキサフルオロアセトン
の場合には、反応系が水系であるためヘキサフル
オロアセトンが水和物の形で得られ、また酸化剤
として用いられた二酸化マンガンの廃棄処理など
にも問題がみられる。
ンオキシドの異性化やヘキサフルオロプロピレン
と酸素との反応によつて得られるヘキサフルオロ
アセトン中には、異性化反応の際に副生する低沸
点化合物や分解して生成する酸性化合物などが混
入しており、前者は蒸留操作で除去できるもの
の、後者が僅かに残るのを避けることができな
い。また、ヘキサクロルアセトンとフツ化水素と
の反応で得られるヘキサフルオロアセトン中に
は、未置換のクロル体および酸性化合物が必然的
に混入されている。更に、オクタフルロオイソブ
チレンの酸化で得られるヘキサフルオロアセトン
の場合には、反応系が水系であるためヘキサフル
オロアセトンが水和物の形で得られ、また酸化剤
として用いられた二酸化マンガンの廃棄処理など
にも問題がみられる。
このようにして合成されるヘキサフルオロアセ
トンは、使用に先立つて精製されなければならな
い。その精製法の一つして、抽出蒸留法が特開昭
53−71006号公報で提案されているが、合成法に
よつては生成物中にヘキサフルオロプロピレンや
ヘキサフルオロプロピレンオキシドが混入するこ
とがあり、これらの化合物はヘキサフルオロアセ
トンとの沸点が近いので、蒸留によつて完全に分
離することは困難である。また、ヘキサフルオロ
アセトンは、他の化合物との相互作用が強いた
め、低沸点化合物が酸性化合物からの分離が困難
である。
トンは、使用に先立つて精製されなければならな
い。その精製法の一つして、抽出蒸留法が特開昭
53−71006号公報で提案されているが、合成法に
よつては生成物中にヘキサフルオロプロピレンや
ヘキサフルオロプロピレンオキシドが混入するこ
とがあり、これらの化合物はヘキサフルオロアセ
トンとの沸点が近いので、蒸留によつて完全に分
離することは困難である。また、ヘキサフルオロ
アセトンは、他の化合物との相互作用が強いた
め、低沸点化合物が酸性化合物からの分離が困難
である。
これとは別に、ヘキサフルオロアセトンを水和
物とし、これを濃硫酸、無水硫酸、五酸化リンな
どの脱水剤で脱水する方法が特開昭57−81433号
公報で提案されているが、この方法の場合には、
ヘキサフルオロアセトンがこれらの脱水剤と反応
したり、分解したり、溶解したりして、それの回
収率が悪いという問題があり、また取扱上の危険
性も存在する。
物とし、これを濃硫酸、無水硫酸、五酸化リンな
どの脱水剤で脱水する方法が特開昭57−81433号
公報で提案されているが、この方法の場合には、
ヘキサフルオロアセトンがこれらの脱水剤と反応
したり、分解したり、溶解したりして、それの回
収率が悪いという問題があり、また取扱上の危険
性も存在する。
本発明者らは、水和物を経由するヘキサフルオ
ロアセトンの精製を、回収率良くしかも安全に行
ない得る方法を求めて種々検討の結果、脱水剤と
してモレキユラーシーブを使用することがきわめ
て有効であることを見出した。
ロアセトンの精製を、回収率良くしかも安全に行
ない得る方法を求めて種々検討の結果、脱水剤と
してモレキユラーシーブを使用することがきわめ
て有効であることを見出した。
従つて、本発明はヘキサフルオロアセトン水和
物の脱水方法に係り、ヘキサフルオロアセトン水
和物の脱水は、それをモレキユラーシーブに接触
させることにより行われる。
物の脱水方法に係り、ヘキサフルオロアセトン水
和物の脱水は、それをモレキユラーシーブに接触
させることにより行われる。
ヘキサフルオロアセトンの1水和物は、ヘキサ
フルオロアセトンと水との単なる混合物または水
の吸着物ではなく、次式の平衡式に従つて生成
し、しかも平衡が著しく右に片寄つている融点52
℃の固体である。
フルオロアセトンと水との単なる混合物または水
の吸着物ではなく、次式の平衡式に従つて生成
し、しかも平衡が著しく右に片寄つている融点52
℃の固体である。
(CF3)2CO+H2O(CF3)2C(OH)2
このヘキサフルオロアセトンの1水和物は、非
常に昇華し易く、吸湿性の強い固体であり、取扱
いが難しいので、それをヘキサフルオロアセトン
濃度が低くなくかつ取扱いが容易な濃度、即ち約
70〜75%の水和物として、その水和物の脱水を行
わんとするのが本発明である。
常に昇華し易く、吸湿性の強い固体であり、取扱
いが難しいので、それをヘキサフルオロアセトン
濃度が低くなくかつ取扱いが容易な濃度、即ち約
70〜75%の水和物として、その水和物の脱水を行
わんとするのが本発明である。
脱水は、モレキユラーシーブを仕込んだ反応容
器内に、ヘキサフルオロアセトン水和物を滴下
し、滴下終了後反応容器を約120〜150℃の液温に
ならるように加熱し、無水のヘキサフルオロアセ
トンとして蒸発させ、その蒸気を反応容器に取付
けたモレキユラーシーブ充填塔に導いて、それを
乾燥させることにより行われる。また、液温を約
100゜±10℃程度に設定し、蒸発したヘキサフルオ
ロアセトン水和物の蒸気を、モレキユラーシーブ
充填塔に導いて脱水させることもできる。
器内に、ヘキサフルオロアセトン水和物を滴下
し、滴下終了後反応容器を約120〜150℃の液温に
ならるように加熱し、無水のヘキサフルオロアセ
トンとして蒸発させ、その蒸気を反応容器に取付
けたモレキユラーシーブ充填塔に導いて、それを
乾燥させることにより行われる。また、液温を約
100゜±10℃程度に設定し、蒸発したヘキサフルオ
ロアセトン水和物の蒸気を、モレキユラーシーブ
充填塔に導いて脱水させることもできる。
このようにして行われるモレキユラーシーブを
用いてのヘキサフルオロアセトン水和物の脱水方
法にあつては、脱水剤としてそれ自体安定で安全
な物質であるモレキユラーシーブが用いられてい
るため操作を安全に行なうことができ、1回の処
理での回収率は約60〜70%程度であるが、残りは
水和物としてモレキユラーシーブに吸着されてい
るだけなので、モレキユラーシーブを加熱脱水し
て再生するときにヘキサフルオロアセトン水和物
のまま回収され、また再生されたモレキユラーシ
ーブもくり返して使用することができるなどの、
すぐれた利点が多くみられる。
用いてのヘキサフルオロアセトン水和物の脱水方
法にあつては、脱水剤としてそれ自体安定で安全
な物質であるモレキユラーシーブが用いられてい
るため操作を安全に行なうことができ、1回の処
理での回収率は約60〜70%程度であるが、残りは
水和物としてモレキユラーシーブに吸着されてい
るだけなので、モレキユラーシーブを加熱脱水し
て再生するときにヘキサフルオロアセトン水和物
のまま回収され、また再生されたモレキユラーシ
ーブもくり返して使用することができるなどの、
すぐれた利点が多くみられる。
次に、実施例について本発明を説明する。
実施例
容量10のセパラブルフラスコに、直径50mm、
長さ1mのガラス製塔および滴下ロートを取り付
ける。そして、1/8インチ×10mmのペレツト状モ
レキユラーシーブを、フラスコ内に8.35Kg、また
塔内に1.00Kgそれぞれ充填する。滴下ロートか
ら、ヘキサフルオロアセトンを73.3%含有する水
和物6.68Kgを滴下し、全量の滴下が終つたら、フ
ラスコをマントルヒーターで徐々に加熱する。無
水のヘキサフルオロアセトン(沸点−27℃)が発
生し、それが塔上部にゴム管を介して設置され
た、ドライアイス−メタノールで冷却されたトラ
ツプで冷却され、集められる。その間液温は、約
120〜150℃に維持される。3.11Kgのヘキサフルオ
ロアセトンが無水物として回収れ、その回収率は
63.5%である。
長さ1mのガラス製塔および滴下ロートを取り付
ける。そして、1/8インチ×10mmのペレツト状モ
レキユラーシーブを、フラスコ内に8.35Kg、また
塔内に1.00Kgそれぞれ充填する。滴下ロートか
ら、ヘキサフルオロアセトンを73.3%含有する水
和物6.68Kgを滴下し、全量の滴下が終つたら、フ
ラスコをマントルヒーターで徐々に加熱する。無
水のヘキサフルオロアセトン(沸点−27℃)が発
生し、それが塔上部にゴム管を介して設置され
た、ドライアイス−メタノールで冷却されたトラ
ツプで冷却され、集められる。その間液温は、約
120〜150℃に維持される。3.11Kgのヘキサフルオ
ロアセトンが無水物として回収れ、その回収率は
63.5%である。
用いられたモレキユラーシーブは、200℃、減
圧下で再生され、再び使用される。その際、モレ
キユラーシーブに吸着されていた残りのヘキサフ
ルオロアセトン水和物も回収されるので、結局前
記63.5%の回収率は、実際には91.2%となつた。
圧下で再生され、再び使用される。その際、モレ
キユラーシーブに吸着されていた残りのヘキサフ
ルオロアセトン水和物も回収されるので、結局前
記63.5%の回収率は、実際には91.2%となつた。
比較例
容量1の四ツ口フラスコに、撹拌機、滴下ロ
ート、温度計およびガスの取出口を取り付ける。
このフラスコ内に濃硫酸300mlを仕込み、ヘキサ
フルオロアセトンを70.0%含有する水和物100g
を滴下ロートからゆつくり滴下し、40〜50℃でガ
スが連続的に発生するようにする。発生したガス
は、1/8インチ×10mmのペレツト状モレキユラー
シーブを充填した乾燥管を通つて、ドライアイス
−メタノールで冷却された蛇管トラツプ内に回収
された。37.1gのヘキサフルオロアセトンや無水
物として回収され、その回収率は、53.0%であつ
た。
ート、温度計およびガスの取出口を取り付ける。
このフラスコ内に濃硫酸300mlを仕込み、ヘキサ
フルオロアセトンを70.0%含有する水和物100g
を滴下ロートからゆつくり滴下し、40〜50℃でガ
スが連続的に発生するようにする。発生したガス
は、1/8インチ×10mmのペレツト状モレキユラー
シーブを充填した乾燥管を通つて、ドライアイス
−メタノールで冷却された蛇管トラツプ内に回収
された。37.1gのヘキサフルオロアセトンや無水
物として回収され、その回収率は、53.0%であつ
た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ヘキサフルオロアセトン水和物をモレキユラ
ーシーブと接触させることを特徴とするヘキサフ
ルオロアセトン水和物の脱水方法。 2 ヘキサフルオロアセトンを約70〜75%含有す
る水和物が用いられる特許請求の範囲第1項記載
のヘキサフルオロアセトン水和物の脱水方法。 3 約120〜150℃の温度でモレキユラーシーブと
接触させる特許請求の範囲第1項記載のヘキサフ
ルオロアセトン水和物の脱水方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3217583A JPS59157045A (ja) | 1983-02-28 | 1983-02-28 | ヘキサフルオロアセトン水和物の脱水方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3217583A JPS59157045A (ja) | 1983-02-28 | 1983-02-28 | ヘキサフルオロアセトン水和物の脱水方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59157045A JPS59157045A (ja) | 1984-09-06 |
JPH0366294B2 true JPH0366294B2 (ja) | 1991-10-16 |
Family
ID=12351595
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3217583A Granted JPS59157045A (ja) | 1983-02-28 | 1983-02-28 | ヘキサフルオロアセトン水和物の脱水方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59157045A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5034784B2 (ja) | 2007-08-29 | 2012-09-26 | セントラル硝子株式会社 | ヘキサフルロアセトン水和物の脱水方法 |
CN103619794B (zh) | 2011-06-17 | 2015-06-24 | 优迈特株式会社 | 六氟丙酮或其水合物的制备方法 |
-
1983
- 1983-02-28 JP JP3217583A patent/JPS59157045A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS59157045A (ja) | 1984-09-06 |
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