JPH0364737A - 液晶表示装置 - Google Patents

液晶表示装置

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JPH0364737A
JPH0364737A JP1201605A JP20160589A JPH0364737A JP H0364737 A JPH0364737 A JP H0364737A JP 1201605 A JP1201605 A JP 1201605A JP 20160589 A JP20160589 A JP 20160589A JP H0364737 A JPH0364737 A JP H0364737A
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紀世史 稲田
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    • H05K3/40Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/403Edge contacts; Windows or holes in the substrate having plural connections on the walls thereof

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、表示装置の外部信号入力端子の端子構造に関
する。
従来の技術 百素電4flεして透明導@暎を用いる液晶やエレクト
ロルミネッセンスなどの表示装置では、従来この透明導
を膜を用いて駆動信号伝達用配線および外部信号入力端
子を形成していた。しかしながら、現在は表示装置の大
形化や高精細化が目指されており、これに伴い駆動周波
数が増大したり、II!勅信呼信号伝達用配線抗が増大
したりするため、上述したように透明導tWAのみで駆
動信号伝達用の配線を形成すると、信号のM延Je?電
圧降下が発生し、表示装置の表示品位の劣化や表示異常
の発生などの問題が生じている。これに対処するため、
前記透明導電膜の駆動信号伝達用配線部よび外部信号入
力端子の上層または下層に金属層を形成する方法が採用
されている。
発明が解決しようとする課題 このような先行技術では、金属層が透明導電膜の上層に
ある場合には、封止部外で金属層が露出状態であり、空
気中の水蒸気や酸素、長時間にわたる放置など金属層の
種類に応じた原因で金属層に腐食が起こり、やがて消失
へε進行し、駆動信号伝達用配線の配線抵抗が増大する
ヒいう問題がある。また金属層が透明導電膜の下層にあ
る場合においても、通常透過率を維持する必要上、透明
導電膜の膜厚を薄くしており、この透明導電膜にピンホ
ールが存在している場きには、上記と同様に金属層の腐
食を原因として配線抵抗が増大するという問題がある。
一方、外部信号入力端子には、外部信号を伝達する回路
基板が、異方導電性膜などを用いた接続方式によって接
続されるが、この接続部の接続抵抗も、金属層の変質、
腐食に伴い増大する。このような駆動用信号伝達用配線
の配線抵抗および外部信号入力端子の接続部の接続抵抗
の増大のために表示品位の劣化や表示異常の発生などが
起こり、従来の表示装置は著しく信頼性に欠けるもので
あった。
課題を解決するための手段 本発明は、表示用誘電体に電界を印加する透明導電膜を
基板上で前記表示用誘電体から外方に延在し、この透明
導電膜の延在した部分の上または下に金属層を形成し、
この金属層を直接または透明導電膜を介して電気絶縁性
被覆層で被覆し、前記透明導電膜の前記延在している部
分のうち、電気絶縁性被覆層で被覆されていない部分を
外部回路と接続することを特徴とする表示装置の端子構
造である。
作  用 本発明に従えば、金属層を電気絶縁性被覆層で保護する
ので、金属層の腐食を防止できる。このため駆動信号伝
達用配線の低抵抗を維持できる。
また外部信号入力端子の接続部は、耐腐食性に優れた透
明導電膜を用いるため、接続抵抗の安定化が図れる。さ
らに外部信号入力端子の接続部のごく近傍に金属層が存
在するため、導電性に優れた接続部構造を実現すること
ができる。
実施例 本発明の一実施例を第1図から第9図を用いて説明する
。第1図は、本発明の端子構造を有する液晶表示装置1
4の断面図である。第1図中、15は配向膜、16は液
晶、17はシール部材である。第2図は、タブ(TAB
)方式によって実装された本発明の端子構造を有する表
示装置の全体図を示す、第3図は、第2図C部の外部信
号入力端子のパターン形状を示す平面図である。第4図
は第3図の1−1’方向の断面構造を示す断面図、−第
5図は第3図のn−n’力方向断面構造を示す断面図で
ある。第6図〜第9図は外部信号入力端子のパターン形
状を示す平面図である。
本発明の一実施例では、第4図に示すように表示装置の
基板1にスパッタ法などを用いて透明導電膜3が形成さ
れ、その上層にスパッタ法などを用いて金属層4が形成
される。透明導$1!!3の上部の一部には第5図に示
すように金属層4の非形成部9が設けられている0次に
プラズマ−化学気相成長法(p−CVD法と略称される
)などを用いてこの金属層4を被覆して電気絶縁性被覆
層5が形成される。この電気絶縁性被覆層5も第5図に
示すように、透明導電膜露出部10を残して形成される
。このとき電気絶縁性被覆層5を金属層4を被覆するだ
けでなく、隣接する端子間領域も被覆するように形成す
れば、端子間の絶縁性の安定に寄与し効果的である。
この電気絶縁性被覆層5の形成に関して重要なことは、
金属層4を完全に被覆することである。
特にパターンエツジ部の良好な被覆およびピンホールの
防止等に留意し、電気絶縁性被覆層5の膜厚、形成方法
を設定する必要がある。たとえばこの電気絶縁性被覆層
5の厚みは金属層4の厚みと透明導電膜3の厚みから決
定される。ピンホールを防止するためには電気絶縁性被
覆層5を厚く形成すればその効果は大きい、また、パタ
ーンエツジ部の良好な被覆を得るためには、薄いとパタ
ーンエツジ部が露出してしまうので、少なくとも金属層
4と同じ程度の厚みの電気絶縁性被覆層5が必要である
。本実施例では透明導電膜500〜600Å、金属層3
000人に対して3500人の電気絶縁性被覆層5を形
成している。@気絶練性被覆層5を本実施例よりも厚く
形成しても特に欠点は生じない、ただし、たとえばTP
Tアクティブマトリックス形液晶表示装置に本発明を適
用する場合、TPT素子の電気絶縁層と本発明の電気絶
縁性被覆層5とを兼ねることが可能であるが、この場合
にはTPT素子構戒構成制約から電気絶緑性彼覆廣5の
厚7.1が規制;’3 f)−る場0−がjf)る。
前述;7た透明導電膜3とL7てはITO膜(インジウ
へ−錫酸化物膜)、金属間4と1.てはM0膜(モリブ
デン膜)、W膜(タングステン膜)、電気絶縁性被覆層
5としては、SiN膜(チッ化硅素膜)、SiO,膜(
酸化硅素膜)が適当である。
こうL2て形lt、さiた端子には第1図に示すように
回路基板8が接続され、外部信号が入力される。
第1図に示したようにこのy二き接続部6のごく近傍に
電気絶縁性被覆層5で保護された金属層4が存在するた
め、外部信号は最小限のロスで入力されることになる0
回路基板8には銅などのリード線7が形成され、このリ
ード線7ヒ透明導電膜3の露出部10とが異方導電性膜
の接続部6を用lI′1て加熱加圧して接続されるい、
二の他に圧接方式や導電性ベースl−硬化方式などを用
いて接続することもできる。
端子のパターン形状は、第3図に示した。第3図におい
てB、は150μm、B2は110um、、B、は10
0μrn、B、は50 /J mである。第3目に示し
t:パターン形状以外に第6目−第9目に示すような種
々の形状がある。どのような形状(5こするかは」−記
1〜t:接続方式などを考慮して決定する。なお第6U
′A−第9図中右上から左下へ延びる斜線で示した領域
9は金属理非形成部であり、架上から右下へ延びる斜線
で示した領域10は透明導電膜露出部である。なお、第
6図においてB。
は1.0071rri、Beは45μm、B、は5 i
t rnであり、第7図においてbは10〜5 Oμr
ri 、 f!zは5μmであり、第9図においてB。
は90μmである。
本発明の他の実施例としては、上述した透明導電膜3、
金属層4、電気絶縁性液′rg、磨5の順に積層した端
子講造ヒ+、を異なり、金属層4、透明導電膜3、電気
絶縁性液′FW廣5の順に積層17たものが挙げられる
。、二のように積層し5た場1には電気1絶縁性被Fl
f層5だげではなく、透明導電膜3もが金m謂4の腐食
を防止する41!l能を有するこたになで)。
端子のパターン形状等について(j、前実施例と同様で
ある。
IJ、」二本発明の実施例をタブ方式(TAB方式)に
よって実装された表示装置について説明しt−、が、第
10図に示すような半導体集積回路によって実現される
駆動回路である駆動用IC12,13を表示装置の基板
1上に直接搭載する実装方式(COG実装方式)におい
ては、駆動用IC12゜13の@源などの入力端子部に
、より低抵抗な配線や低抵抗の接続が要求されるので、
本発明は特に有効ヒなる。
発明の効墨 以上のように本発明によhば、金属層が電気絶縁性被覆
層で被覆されているので、表示装置の外部信号入力端子
の配線部の低抵抗性を確保することができる。ま′l:
:外部信号入力端子の接続部は耐腐食性に優れた透明導
電膜を用いており、さらに接続部のごく近fjI仁金m
層が存在するため接続部においてもその低抵抗性を維持
するこ辷ができる。
このため高性能、高信頼性な表示装置の提供が可能とな
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の端子構造を有する液晶表示装置 14
の断面図、第2図はタブ(TAB)方式によって実装さ
れた本発明の端子構造を有する表示装置の全体図5第3
図は第2図C部の外部信号入力端子のパターン形状を示
す平面図、第4図は第3図の1−1′方向の断面構造を
示す断面図、第5図は第3図n−n′方向の断面構造を
示す断面図、第6同−第9図は外部信号入力端子のパタ
ーン形状を示す平面図、第10図は基板上に駆動用IC
を直接搭載する方式<COa実装方式)で実装さhた表
示装置の全体図である。 1・・・表示装置の基板、2・・・表示部領域、3・・
・透明導電膜、4・・・金[!、5−・・電気絶縁性波
蹟層、6・・・接続部、7・・・回路基板上のリード線
、8.]−8,28,38・・・回路基板、9・・・金
属層11形成部、1.0・・・透明導電膜露出部、12
.13・・・駆動用IC514・・・液晶表示装置、1
5・・・配向膜、16・・・液晶、17・・・シール部

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 表示用誘電体に電界を印加する透明導電膜を基板上で前
    記表示用誘電体から外方に延在し、この透明導電膜の延
    在した部分の上または下に金属層を形成し、この金属層
    を直接または透明導電膜を介して電気絶縁性被覆層で被
    覆し、前記透明導電膜の前記延在している部分のうち、
    電気絶縁性被覆層で被覆されていない部分を外部回路と
    接続することを特徴とする表示装置の端子構造。
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