JPH036038A - 半導体ウェーハ搬送装置 - Google Patents
半導体ウェーハ搬送装置Info
- Publication number
- JPH036038A JPH036038A JP1140607A JP14060789A JPH036038A JP H036038 A JPH036038 A JP H036038A JP 1140607 A JP1140607 A JP 1140607A JP 14060789 A JP14060789 A JP 14060789A JP H036038 A JPH036038 A JP H036038A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- exposure
- belt
- sucked
- stage
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 5
- 230000032258 transport Effects 0.000 claims description 8
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体露光装置に関し、特にウェーハ搬送装
置に関する。
置に関する。
従来の露光装置は、第３図（ａ）の縦断面図、（ｂ）の
平面図に示すように、３点の吸着盤１０６を有するオー
トハンドラー１０８で、ウェーハ１０２の表面に吸着９
１０Ｂを接触させてウェーハ１０２を吸着し、露光用チ
ャック１０９へ搬送していた。
平面図に示すように、３点の吸着盤１０６を有するオー
トハンドラー１０８で、ウェーハ１０２の表面に吸着９
１０Ｂを接触させてウェーハ１０２を吸着し、露光用チ
ャック１０９へ搬送していた。
上述のウェーハ搬送装置は、吸着盤をウェーハの表面に
吸着させる。そのため吸着盤を小型化し、３点としてウ
ェーハを平行に保つ工夫をしているが、それでも直接に
吸着盤の接触する部分のレジストがはがれる事故が多い
。
吸着させる。そのため吸着盤を小型化し、３点としてウ
ェーハを平行に保つ工夫をしているが、それでも直接に
吸着盤の接触する部分のレジストがはがれる事故が多い
。
本発明の目的は、上記の欠点を除去し、レジスト事故が
全く発生しないウェーハ搬送装置を提供することにある
。
全く発生しないウェーハ搬送装置を提供することにある
。
本発明のウェーハ搬送装置は、露光前ウェーハを所定の
位置から露光装置の露光ステージへ、また露光法ウェー
ハを露光ステージから所定位置へ搬送する移動ステージ
が、ウェーハ搬送工程中、該移動ステージから垂直方向
に突起し先端に吸着盤を宥する真空ノズルによってウェ
ーハの裏面を吸着し保持するようにしている。
位置から露光装置の露光ステージへ、また露光法ウェー
ハを露光ステージから所定位置へ搬送する移動ステージ
が、ウェーハ搬送工程中、該移動ステージから垂直方向
に突起し先端に吸着盤を宥する真空ノズルによってウェ
ーハの裏面を吸着し保持するようにしている。
ウェーハの裏面を吸着盤で吸着して搬送するので、表面
のレジスト、および露光後のウェーハ表面に全く損傷を
与えない、この吸着盤は。
のレジスト、および露光後のウェーハ表面に全く損傷を
与えない、この吸着盤は。
従来例のように小型化と複数化は必要ないので、ウェー
ハ径より大にならないかぎり、充分の面積をもたせ確実
にウェーハを保持できるようにできる。
ハ径より大にならないかぎり、充分の面積をもたせ確実
にウェーハを保持できるようにできる。
以下、図面を参照して、本発明の実施例につき説明する
。第１図は本発明の第１実施例の縦断面図（ａ）及び平
面図（ｂ）である、先ず。
。第１図は本発明の第１実施例の縦断面図（ａ）及び平
面図（ｂ）である、先ず。
移動ステージ７を、アーム８を縮めることでベルト３の
端部に近づける。ウェーハキャリア１からベルト３によ
り運ばれたウェーノＸ２は、吸引ノズル５と、吸着盤６
によりその裏面を吸着される。さらに、ウェーハ２を吸
着したまま移動ステージ７をアーム８を一方向に伸ばす
ことで、露光用チャック９の空間部１０へ完全に合体す
る所まで移動させる。そこで、露光用チャック９の真空
穴１１によってウェーハ２を露光用チャック９に固定さ
せる。
端部に近づける。ウェーハキャリア１からベルト３によ
り運ばれたウェーノＸ２は、吸引ノズル５と、吸着盤６
によりその裏面を吸着される。さらに、ウェーハ２を吸
着したまま移動ステージ７をアーム８を一方向に伸ばす
ことで、露光用チャック９の空間部１０へ完全に合体す
る所まで移動させる。そこで、露光用チャック９の真空
穴１１によってウェーハ２を露光用チャック９に固定さ
せる。
ウェーハ２が露光用チャック９へ固定され、露光が完了
すると移動ステージ７は、ベルト３の手前へアーム８を
縮めてもどる。さらに、アーム８は図示のように直角方
向にスライドし、ベルト４の手前に移動し、吸引ノズル
５及び吸着盤６を吸着盤移動スペース１２にそってベル
ト４の手前まで移動させることで、ウェーハ２をベルト
４上へくるようにする。
すると移動ステージ７は、ベルト３の手前へアーム８を
縮めてもどる。さらに、アーム８は図示のように直角方
向にスライドし、ベルト４の手前に移動し、吸引ノズル
５及び吸着盤６を吸着盤移動スペース１２にそってベル
ト４の手前まで移動させることで、ウェーハ２をベルト
４上へくるようにする。
第２図は、本発明の第２実施例の縦断面図（ａ）及び平
面［ｆｆ１（ｂ）である、先ず、ウェーハキャリア１よ
りウェーハ２がベルト３により運ばれる。吸引ノズル５
と吸着盤６により、ウェーハ２はその裏面が吸着される
。ざらにウェーハ２を吸着したまま、移動ステージ７と
アーム８を一緒に回転軸１３を中心にして回転させ、露
光用チャック９の空間部ｌＯと完全に合体する所で停止
する。そして露光用チャック９の真空穴１１でウェーハ
２を露光用チャック９に固定し、露光が完了すると、移
動ステージ７は、アーム８と一緒に回転軸１３を中心に
回転し、ベルト４の手前で停止する。そして吸引ノズル
５及び吸着５１１６を吸着盤移動スペース１２にそって
ベルト４の手前まで移動させ、ウェーハ２をベルト４上
へ乗せる。
面［ｆｆ１（ｂ）である、先ず、ウェーハキャリア１よ
りウェーハ２がベルト３により運ばれる。吸引ノズル５
と吸着盤６により、ウェーハ２はその裏面が吸着される
。ざらにウェーハ２を吸着したまま、移動ステージ７と
アーム８を一緒に回転軸１３を中心にして回転させ、露
光用チャック９の空間部ｌＯと完全に合体する所で停止
する。そして露光用チャック９の真空穴１１でウェーハ
２を露光用チャック９に固定し、露光が完了すると、移
動ステージ７は、アーム８と一緒に回転軸１３を中心に
回転し、ベルト４の手前で停止する。そして吸引ノズル
５及び吸着５１１６を吸着盤移動スペース１２にそって
ベルト４の手前まで移動させ、ウェーハ２をベルト４上
へ乗せる。
以上説明したように、本発明は移動ステージより垂直に
突起した真空ノズルの先端に設けた吸着盤でウェーハを
吸着し、移動ステージを移動することで、露光ステージ
ヘウェーハを搬送し、また露光ステージからウェーハを
所定の場所に搬送することができる。
突起した真空ノズルの先端に設けた吸着盤でウェーハを
吸着し、移動ステージを移動することで、露光ステージ
ヘウェーハを搬送し、また露光ステージからウェーハを
所定の場所に搬送することができる。
真空ノズルによるウェーハの保持を、ウェーハの裏面で
行なうので、搬送中レジストをはがすことは全くない、
また吸着盤は充分な面積をもたせることで、安定にウェ
ーノ＼を保持できる利点がある。
行なうので、搬送中レジストをはがすことは全くない、
また吸着盤は充分な面積をもたせることで、安定にウェ
ーノ＼を保持できる利点がある。
第１図は本発明の第１実施例、第２図は第２実施例、第
３図は従来例についてそれぞれ（ａ）縦断面図、（ｂ）
平面図を示しである。 １・・・ウェーハキャリア、 ２・・・ウェーハ、 ３．４・・・ベルト、 ５・・・吸引ノズル、６・
・・吸着盤、 ７・・・移動ステージ。 ８・・・アーム、 ９・・・露光用チャック、
１０・・・露光用チャック空間部、 １１・・・真空穴、 １２・・・吸着盤移動スペース、 １３・・・回転軸・
３図は従来例についてそれぞれ（ａ）縦断面図、（ｂ）
平面図を示しである。 １・・・ウェーハキャリア、 ２・・・ウェーハ、 ３．４・・・ベルト、 ５・・・吸引ノズル、６・
・・吸着盤、 ７・・・移動ステージ。 ８・・・アーム、 ９・・・露光用チャック、
１０・・・露光用チャック空間部、 １１・・・真空穴、 １２・・・吸着盤移動スペース、 １３・・・回転軸・
Claims (1)
- 露光前ウェーハを所定の位置から露光装置の露光ステー
ジへ、また露光済ウェーハを露光ステージから所定位置
へ搬送する移動ステージが、ウェーハ搬送工程中、該移
動ステージから垂直方向に突起し先端に吸着盤を有する
真空ノズルによってウェーハの裏面を吸着し保持してい
ることを特徴とする半導体ウェーハ搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1140607A JPH036038A (ja) | 1989-06-02 | 1989-06-02 | 半導体ウェーハ搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1140607A JPH036038A (ja) | 1989-06-02 | 1989-06-02 | 半導体ウェーハ搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH036038A true JPH036038A (ja) | 1991-01-11 |
Family
ID=15272644
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1140607A Pending JPH036038A (ja) | 1989-06-02 | 1989-06-02 | 半導体ウェーハ搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH036038A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61140148A (ja) * | 1984-12-12 | 1986-06-27 | Nanbu Denki Seisakusho:Kk | 物品の移載装置 |
| JPS63208414A (ja) * | 1987-02-20 | 1988-08-29 | Canon Inc | 基板搬送装置 |
-
1989
- 1989-06-02 JP JP1140607A patent/JPH036038A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61140148A (ja) * | 1984-12-12 | 1986-06-27 | Nanbu Denki Seisakusho:Kk | 物品の移載装置 |
| JPS63208414A (ja) * | 1987-02-20 | 1988-08-29 | Canon Inc | 基板搬送装置 |
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