JPH0355418B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0355418B2 JPH0355418B2 JP29245386A JP29245386A JPH0355418B2 JP H0355418 B2 JPH0355418 B2 JP H0355418B2 JP 29245386 A JP29245386 A JP 29245386A JP 29245386 A JP29245386 A JP 29245386A JP H0355418 B2 JPH0355418 B2 JP H0355418B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mold
- chamber
- preliminary chamber
- closed container
- inert gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 31
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 21
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 16
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 11
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/12—Cooling, heating, or insulating the plunger, the mould, or the glass-pressing machine; cooling or heating of the glass in the mould
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はプレス成形に要するサイクル時間を大
幅に短縮でき、生産性を向上させるようにしたガ
ラス成形体のプレス成形装置に関するものであ
る。
幅に短縮でき、生産性を向上させるようにしたガ
ラス成形体のプレス成形装置に関するものであ
る。
レンズ、プリズム、フイルターなどの光学素子
を含むガラスの製造方法のうちガラスプリフオー
ム(または被成形ガラス)を成形型内に配設し、
加熱、加圧によつて所定形状に成形するようにし
たプレス成形方法は、従来の研磨加工による製造
方法と比較して短時間で、しかも非球面レンズ等
であつても容易にかつ高精度に製造することがで
きるという大きな特徴を有するものであり、例え
ば本出願人によつて既に提案されている特開昭61
−21927号「プレスレンズの製造方法」が知られ
ている。これは第5図に示すようにスリーブ2内
に滑動可能な上型3および下型4を嵌挿して成形
型Aとし、その内部にガラスプリフオーム8をセ
ツトし、該ガラスプリフオーム8のガラス粘度が
108.5〜1010.5ポアズに相当する温度で前記上型3
を押棒5により数秒ないし数10秒押圧し、次いで
押棒5を上昇移動させて上型3に対する荷重を取
り除き、前記ガラス粘度が1011.5ポアズ以上にな
るまで成形型Aを冷却するようにしたものであ
る。なお、1は成形型Aが載置される支持台、6
はシリカチユーブ(チヤンバー)、7はヒーター
である。
を含むガラスの製造方法のうちガラスプリフオー
ム(または被成形ガラス)を成形型内に配設し、
加熱、加圧によつて所定形状に成形するようにし
たプレス成形方法は、従来の研磨加工による製造
方法と比較して短時間で、しかも非球面レンズ等
であつても容易にかつ高精度に製造することがで
きるという大きな特徴を有するものであり、例え
ば本出願人によつて既に提案されている特開昭61
−21927号「プレスレンズの製造方法」が知られ
ている。これは第5図に示すようにスリーブ2内
に滑動可能な上型3および下型4を嵌挿して成形
型Aとし、その内部にガラスプリフオーム8をセ
ツトし、該ガラスプリフオーム8のガラス粘度が
108.5〜1010.5ポアズに相当する温度で前記上型3
を押棒5により数秒ないし数10秒押圧し、次いで
押棒5を上昇移動させて上型3に対する荷重を取
り除き、前記ガラス粘度が1011.5ポアズ以上にな
るまで成形型Aを冷却するようにしたものであ
る。なお、1は成形型Aが載置される支持台、6
はシリカチユーブ(チヤンバー)、7はヒーター
である。
この場合、加熱、加圧によるプレス成形方法
は、成形型Aの酸化がレンズの精度に直接悪影響
を及ぼすため、シリカチユーブ6内を真空排気
し、しかる後N2ガス等の不活性ガスを充填して
いる。成形型Aはガラスプリオーム8の成形時に
おいて型温度が350℃〜900℃程度になるまで加熱
され、成形後250℃以下にまで冷却されて外部に
取り出される。
は、成形型Aの酸化がレンズの精度に直接悪影響
を及ぼすため、シリカチユーブ6内を真空排気
し、しかる後N2ガス等の不活性ガスを充填して
いる。成形型Aはガラスプリオーム8の成形時に
おいて型温度が350℃〜900℃程度になるまで加熱
され、成形後250℃以下にまで冷却されて外部に
取り出される。
しかしながら、このような従来のプレス成形装
置においては、成形型Aを冷却する際支持台1も
同時にプレス温度から250℃付近まで冷却する必
要があるため、トータルの熱容量が大きくなり、
冷却に長時間を要するものである。また、成形型
Aをシリカチユーブ6内に配置し加熱する場合も
同様の理由で成形型Aと支持台1を250℃以下か
らプレス温度に加熱する必要があるため、成形型
Aの加熱に長時間を要するものである。このよう
に従来装置においては成形型Aの取り入れから取
り出しに長時間を要するため、成形のサイクル時
間が長くなり、生産性が悪いという問題があつ
た。また、電力の消費量も増大し、製造コストが
高価になるという不都合も有している。
置においては、成形型Aを冷却する際支持台1も
同時にプレス温度から250℃付近まで冷却する必
要があるため、トータルの熱容量が大きくなり、
冷却に長時間を要するものである。また、成形型
Aをシリカチユーブ6内に配置し加熱する場合も
同様の理由で成形型Aと支持台1を250℃以下か
らプレス温度に加熱する必要があるため、成形型
Aの加熱に長時間を要するものである。このよう
に従来装置においては成形型Aの取り入れから取
り出しに長時間を要するため、成形のサイクル時
間が長くなり、生産性が悪いという問題があつ
た。また、電力の消費量も増大し、製造コストが
高価になるという不都合も有している。
本発明に係るガラス成形体のプレス成形装置は
上述したような問題点を解決すべくなされたもの
で、内部に支持台とヒーターおよびベルジヤが配
置されると共に不活性ガスが充填された密閉容器
と、型取り入れ時に真空排気後不活性ガスに置換
され前記密閉容器の内部と一時的に連通される予
備室と、上端に成形型が載置されると共に前記ベ
ルジヤと共に前記予備室を形成する予備室形成部
材が取付けられた昇降自在な型昇降機構と、型昇
降機構上の成形型を前記支持台上に移動させる型
移動機構とを備え、プレス成形時に前記型昇降機
構を下降させてその上端部を予備室内に待機さ
せ、型取り出し時に該型昇降機構を再上昇させて
支持台より成形型を受け取るようにしたものであ
る。
上述したような問題点を解決すべくなされたもの
で、内部に支持台とヒーターおよびベルジヤが配
置されると共に不活性ガスが充填された密閉容器
と、型取り入れ時に真空排気後不活性ガスに置換
され前記密閉容器の内部と一時的に連通される予
備室と、上端に成形型が載置されると共に前記ベ
ルジヤと共に前記予備室を形成する予備室形成部
材が取付けられた昇降自在な型昇降機構と、型昇
降機構上の成形型を前記支持台上に移動させる型
移動機構とを備え、プレス成形時に前記型昇降機
構を下降させてその上端部を予備室内に待機さ
せ、型取り出し時に該型昇降機構を再上昇させて
支持台より成形型を受け取るようにしたものであ
る。
本発明においては支持台を密閉容器内に固定配
置して所定のプレス温度に保つているので、型の
プレス温度までの加熱時および型のガラス転移点
付近から250℃近傍の温度までの冷却時に成形型
のみを加熱、冷却するだけで支持台はその必要が
なく、したがつて成形型の加熱、冷却が短時間
で、プレス成形に要するサイクル時間を大幅に短
縮することができる。
置して所定のプレス温度に保つているので、型の
プレス温度までの加熱時および型のガラス転移点
付近から250℃近傍の温度までの冷却時に成形型
のみを加熱、冷却するだけで支持台はその必要が
なく、したがつて成形型の加熱、冷却が短時間
で、プレス成形に要するサイクル時間を大幅に短
縮することができる。
以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて詳
細に説明する。
細に説明する。
第1図〜第4図は本発明に係るガラス成形体の
プレス成形装置の一実施例を示し、第1図は初期
状態の断面図、第2図は予備室を形成しその中に
成形型を挿入した状態を示す断面図、第3図は密
閉容器内に成形型を挿入した状態を示す断面図、
第4図はプレス成形時の状態を示す断面図であ
る。これらの図において、全体を符号10で示す
プレス成形装置は、大きさの異なる2つのチヤン
バー12,13によつて2重壁構造をなし、内部
が不活性ガス、例えば窒素ガス(N2)により所
定の気圧に保たれた密閉容器11を備え、この容
器11の下方には後述する型昇降機構14が昇降
自在に配設されている。2つのチヤンバー12,
13は円筒状に形成されて同軸配置され、その下
面にはそれぞれ型取入口15と、型挿入口16が
互いに対応して設けられている。内側のチヤンバ
ー12の内部にはヒーター18と支持台19とが
配設されると共に押棒20および型移動機構21
の内端がそれぞれ挿入されている。ヒーター18
はチヤンバー12の内部全体をプレス温度(350
℃〜900℃程度)に均一に加熱するもので、該チ
ヤンバー12の内周壁に沿つて円筒状に形成され
るが、チヤンバー12自体が立方体もしくは縦長
の直方体である場合は略正方形の4面ヒーターが
使用される。ヒーター18としては抵抗加熱ヒー
ターが好ましいが、高周波誘導加熱ヒーターであ
つてもよい。チヤンバー12は熱の損失を最小限
に留めるため、その内部が反射面を構成してい
る。
プレス成形装置の一実施例を示し、第1図は初期
状態の断面図、第2図は予備室を形成しその中に
成形型を挿入した状態を示す断面図、第3図は密
閉容器内に成形型を挿入した状態を示す断面図、
第4図はプレス成形時の状態を示す断面図であ
る。これらの図において、全体を符号10で示す
プレス成形装置は、大きさの異なる2つのチヤン
バー12,13によつて2重壁構造をなし、内部
が不活性ガス、例えば窒素ガス(N2)により所
定の気圧に保たれた密閉容器11を備え、この容
器11の下方には後述する型昇降機構14が昇降
自在に配設されている。2つのチヤンバー12,
13は円筒状に形成されて同軸配置され、その下
面にはそれぞれ型取入口15と、型挿入口16が
互いに対応して設けられている。内側のチヤンバ
ー12の内部にはヒーター18と支持台19とが
配設されると共に押棒20および型移動機構21
の内端がそれぞれ挿入されている。ヒーター18
はチヤンバー12の内部全体をプレス温度(350
℃〜900℃程度)に均一に加熱するもので、該チ
ヤンバー12の内周壁に沿つて円筒状に形成され
るが、チヤンバー12自体が立方体もしくは縦長
の直方体である場合は略正方形の4面ヒーターが
使用される。ヒーター18としては抵抗加熱ヒー
ターが好ましいが、高周波誘導加熱ヒーターであ
つてもよい。チヤンバー12は熱の損失を最小限
に留めるため、その内部が反射面を構成してい
る。
前記支持台19は前記チヤンバー12の底面を
貫通する支柱19Aの上端に配設されることによ
り該チヤンバー12の内部中央に位置し、前記支
柱19Aの下端は前記外側のチヤンバー13の内
底面に固定されている。前記押棒20は前記チヤ
ンバー12の上面中央に設けられた挿通孔23に
より該チヤンバー12内に上下動自在に挿入され
ることにより前記支持台19の上方に位置し、上
端は前記外側のチヤンバー13の上面を貫通して
外部に突出し図示しないエアシリンダ等の駆動手
段に作動連結されている。前記型移動機構21
は、内端が前記支持台19を挟んで対向する一対
の進退自在なロツド25,26を備え、これらの
ロツド25,26は前記チヤンバー12,13を
径方向に貫通してその外端が図示しないエアシリ
ンダ等の駆動手段に作動連結されている。
貫通する支柱19Aの上端に配設されることによ
り該チヤンバー12の内部中央に位置し、前記支
柱19Aの下端は前記外側のチヤンバー13の内
底面に固定されている。前記押棒20は前記チヤ
ンバー12の上面中央に設けられた挿通孔23に
より該チヤンバー12内に上下動自在に挿入され
ることにより前記支持台19の上方に位置し、上
端は前記外側のチヤンバー13の上面を貫通して
外部に突出し図示しないエアシリンダ等の駆動手
段に作動連結されている。前記型移動機構21
は、内端が前記支持台19を挟んで対向する一対
の進退自在なロツド25,26を備え、これらの
ロツド25,26は前記チヤンバー12,13を
径方向に貫通してその外端が図示しないエアシリ
ンダ等の駆動手段に作動連結されている。
この場合、右側のロツド25は第3図に示すよ
うに型昇降機構14上の成形型Aを前記支持台1
9上に移す時に駆動され、左側のロツド26はプ
レス成形後支持台19上の成形型Aを逆に型昇降
機構14上に移す時に駆動される。但し、型移動
機構21としては2つのロツド25,26に限ら
ず種々の変更が可能で、例えば成形型Aを保持し
て移動させたり、回動によつて移動させるもので
あれば1つのアームで成形型Aを型移動機構21
と支持台19との間を往復移動させることが可能
である。
うに型昇降機構14上の成形型Aを前記支持台1
9上に移す時に駆動され、左側のロツド26はプ
レス成形後支持台19上の成形型Aを逆に型昇降
機構14上に移す時に駆動される。但し、型移動
機構21としては2つのロツド25,26に限ら
ず種々の変更が可能で、例えば成形型Aを保持し
て移動させたり、回動によつて移動させるもので
あれば1つのアームで成形型Aを型移動機構21
と支持台19との間を往復移動させることが可能
である。
前記外側のチヤンバー13の外周面には冷却パ
イプ30がOリンク保護のため配設される一方、
内部下方には前記内側のチヤンバー12の型挿入
口16を開閉制御する回動自在な熱遮蔽板31
と、該チヤンバー13の型取入口15を開閉制御
するベルジヤ32が配設されている。ベルジヤ3
2は上下動自在でかつ中心軸周りに回動される軸
34に支持アーム35を介して配設され、その下
端面にはOリング36が嵌着されている。
イプ30がOリンク保護のため配設される一方、
内部下方には前記内側のチヤンバー12の型挿入
口16を開閉制御する回動自在な熱遮蔽板31
と、該チヤンバー13の型取入口15を開閉制御
するベルジヤ32が配設されている。ベルジヤ3
2は上下動自在でかつ中心軸周りに回動される軸
34に支持アーム35を介して配設され、その下
端面にはOリング36が嵌着されている。
前記密閉容器10内を不活性ガス雰囲気にする
場合は、前記ベルジヤ32をチヤンバー13の内
底面にOリング36を介して押し付け、型取入口
15を完全に閉鎖する一方、チヤンバー12の型
挿入口16を開いた状態で真空排気を行ない、し
かる後不活性ガスの雰囲気に置換すればよい。
場合は、前記ベルジヤ32をチヤンバー13の内
底面にOリング36を介して押し付け、型取入口
15を完全に閉鎖する一方、チヤンバー12の型
挿入口16を開いた状態で真空排気を行ない、し
かる後不活性ガスの雰囲気に置換すればよい。
前記型昇降機構14は、前記型取入口15に対
応して基台38上に縦設されたシリンダ41およ
びピストン42とからなる駆動手段としてのエア
シリンダ40により構成されており、前記ピスト
ン42の上端には前記成形型Aが載置される鍔4
3が一体に設けられると共に型取り入れ時におい
て前記ベルジヤ32と共に予備室46を形成する
筒状の予備室形成部材47が摺動自在に嵌挿され
ている。また、予備室形成部材47はコイルばね
48によつて常時上方に付勢されることにより前
記鍔43に押付けられている。前記コイルばね4
8は予備室形成部材47の大径部下面と、前記チ
ヤンバー13の下面に取付棒49を介して配設さ
れたばな受部材50との間に弾装されている。前
記鍔43の径は前記型取入口15の穴径よりも小
さく、予備室形成部材47の上端面外周寄りには
Oリング51が嵌着され、ばね受部材50の中央
には前記ピストン42が摺動自在に貫通する孔5
2が形成されている。
応して基台38上に縦設されたシリンダ41およ
びピストン42とからなる駆動手段としてのエア
シリンダ40により構成されており、前記ピスト
ン42の上端には前記成形型Aが載置される鍔4
3が一体に設けられると共に型取り入れ時におい
て前記ベルジヤ32と共に予備室46を形成する
筒状の予備室形成部材47が摺動自在に嵌挿され
ている。また、予備室形成部材47はコイルばね
48によつて常時上方に付勢されることにより前
記鍔43に押付けられている。前記コイルばね4
8は予備室形成部材47の大径部下面と、前記チ
ヤンバー13の下面に取付棒49を介して配設さ
れたばな受部材50との間に弾装されている。前
記鍔43の径は前記型取入口15の穴径よりも小
さく、予備室形成部材47の上端面外周寄りには
Oリング51が嵌着され、ばね受部材50の中央
には前記ピストン42が摺動自在に貫通する孔5
2が形成されている。
なお、前記成形型Aは第5図に示した従来の型
と同一に構成されているためその説明を省略す
る。53は密閉容器11を支持する支柱、54,
55はロツド25,26を進退自在に保持するロ
ツド保持部材、57,58,59は配管60をそ
れぞれ真空ポンプ、不活性ガス、大気に連通され
る切換バルブ、61はチヤンバー13の底面板の
内部に設けられ一端が前記型取入口15に開口
し、他端が前記配管60の一端に接続された排気
孔、62a〜62fはOリングである。
と同一に構成されているためその説明を省略す
る。53は密閉容器11を支持する支柱、54,
55はロツド25,26を進退自在に保持するロ
ツド保持部材、57,58,59は配管60をそ
れぞれ真空ポンプ、不活性ガス、大気に連通され
る切換バルブ、61はチヤンバー13の底面板の
内部に設けられ一端が前記型取入口15に開口
し、他端が前記配管60の一端に接続された排気
孔、62a〜62fはOリングである。
次に、このような構成からなるプレス成形装置
10の動作について説明する。
10の動作について説明する。
先ず、密閉容器11は内部全体が上述した通り
真空排気(10-2Torr程度)された後不活性ガス
の雰囲気状態に設定保持され、しかる後熱遮蔽板
31によつて型挿入口16を閉じチヤンバー12
内をヒーター18によつてプレス温度にまで昇温
する。一方、チヤンバー13は冷却パイプ30に
よつて100℃程度以下に設定保持される。そして、
このような状態はプレス成形期間中において継続
して維持される。
真空排気(10-2Torr程度)された後不活性ガス
の雰囲気状態に設定保持され、しかる後熱遮蔽板
31によつて型挿入口16を閉じチヤンバー12
内をヒーター18によつてプレス温度にまで昇温
する。一方、チヤンバー13は冷却パイプ30に
よつて100℃程度以下に設定保持される。そして、
このような状態はプレス成形期間中において継続
して維持される。
次に、初期位置に停止しているピストン42の
上端鍔部43上にガラスプリフオームが挿入され
た成形型Aを載置し、この成形型Aを該ピストン
42の上昇移動により型取入口15よりベルジヤ
46の内部に挿入すると、ピストン42はその上
昇位置で一時停止する。この時、予備室形成部材
47はコイルばね48のばね力によりピストン4
2と一体的に上昇してチヤンバー13の下面にO
リング51を介して圧接されることにより、前記
型取入口15を機密に閉鎖し、前記ベルジヤ32
と共に前記チヤンバー13の内部とは隔絶された
予備室46を形成する。第2図はこの状態を示
す。そして、この予備室46が形成されると、バ
ルブ57を開いて予備室46を真空排気し、しか
る後該バルブ57を締めてバルブ58を開き、不
活性ガズを予備室46に導くことにより、該室4
6を密閉容器11の内部と同じ雰囲気状態にす
る。このようにして予備室46が不活性ガスの雰
囲気に置換されると、ベルジヤ32を第3図に示
すように一定高さ(成形型Aと当らない高さ)ま
で上昇させて水平方向に回動させることにより前
記予備室46をチヤンバー13の内部と連通させ
る。また、熱遮蔽板31を水平方向に回動させて
型挿入口16を開き、ピストン42を上昇移動さ
せて成形型Aをチヤンバー12内に挿入する。こ
の時、予備室形成部材47はコイルばね48によ
つてチヤンバー13の下面に圧接されて型取入口
15を閉鎖しているため、密閉容器11の内部は
外部と連通することがなく、良好な不活性ガスの
雰囲気状態を維持する。ピストン42は鍔部43
が支持台19と略同一高さまで上昇すると停止す
る。するとロツド25が前進して鍔部43上の成
形型Aを支持台19上に移し、再び元の初期位置
に後退する。ロツド25が初期位置に復帰する
と、ピストン42は直ちに予備室46の位置まで
下降して停止する。すると、ベルジヤ32が回動
下降してチヤンバー13の内底面に圧接され、前
記予備室形成部材42と再び予備室46を形成す
る。この時、ピストン42の鍔部43は前記予備
室46内に待機し、型挿入口16は熱遮蔽板31
によつて閉止される。第4図はこの状態を示す。
そして、支持台19上に移された成形型Aはプレ
ス温度(例えばガラスの粘度が108.5〜1010.5ポア
ズになるような所定の温度)にまで加熱される
と、押棒20の下降により当該成形型Aの上型が
数秒ないし数10秒間押圧され、成形型A内のガラ
スプリフオームを所定形状にプレスする。押棒2
0による加圧終了後放冷し、成形型Aの温度がガ
ラスの転移温度になつたら、熱遮蔽板31を回動
させて型挿入口16を開くと同時にベルジヤ32
を再び上昇回動させて予備室46を開放させる。
次いで、ピストン42をその鍔部43が支持台1
9とほぼ同一高さになるまで上昇させて停止する
と、今度はロツド26が前進して支持台19上の
成形型Aを鍔部43上に移す。成形型Aを受け取
ると、ピストン42は直ちに予備室の位置まで下
降して停止し、熱遮蔽板31が回動して型挿入口
16を閉止し、ベルジヤ32が回動下降して型取
入口15を閉止し、予備室形成部材47と共に予
備室46を形成する。この状態は第2図に示した
状態と全く同じで、予備室46内に成形型Aが位
置される。そして、バルブ58を開いて不活性ガ
スを予備室46内に送り込み、成形型Aを大気に
さらされても実質的に酸化しない温度(例250℃)
にまで急冷却し、バルブ58を閉じる。その後、
バルブ59を開いて予備室46を大気と連通さ
せ、ピストン42を最下位置まで下降させると、
成形型Aをピストン42上から取り外すことがで
き、1回のプレス成形工程を終了する。この操作
を繰返すことにより成形型Aの連続的プレス成形
が行なわれる。
上端鍔部43上にガラスプリフオームが挿入され
た成形型Aを載置し、この成形型Aを該ピストン
42の上昇移動により型取入口15よりベルジヤ
46の内部に挿入すると、ピストン42はその上
昇位置で一時停止する。この時、予備室形成部材
47はコイルばね48のばね力によりピストン4
2と一体的に上昇してチヤンバー13の下面にO
リング51を介して圧接されることにより、前記
型取入口15を機密に閉鎖し、前記ベルジヤ32
と共に前記チヤンバー13の内部とは隔絶された
予備室46を形成する。第2図はこの状態を示
す。そして、この予備室46が形成されると、バ
ルブ57を開いて予備室46を真空排気し、しか
る後該バルブ57を締めてバルブ58を開き、不
活性ガズを予備室46に導くことにより、該室4
6を密閉容器11の内部と同じ雰囲気状態にす
る。このようにして予備室46が不活性ガスの雰
囲気に置換されると、ベルジヤ32を第3図に示
すように一定高さ(成形型Aと当らない高さ)ま
で上昇させて水平方向に回動させることにより前
記予備室46をチヤンバー13の内部と連通させ
る。また、熱遮蔽板31を水平方向に回動させて
型挿入口16を開き、ピストン42を上昇移動さ
せて成形型Aをチヤンバー12内に挿入する。こ
の時、予備室形成部材47はコイルばね48によ
つてチヤンバー13の下面に圧接されて型取入口
15を閉鎖しているため、密閉容器11の内部は
外部と連通することがなく、良好な不活性ガスの
雰囲気状態を維持する。ピストン42は鍔部43
が支持台19と略同一高さまで上昇すると停止す
る。するとロツド25が前進して鍔部43上の成
形型Aを支持台19上に移し、再び元の初期位置
に後退する。ロツド25が初期位置に復帰する
と、ピストン42は直ちに予備室46の位置まで
下降して停止する。すると、ベルジヤ32が回動
下降してチヤンバー13の内底面に圧接され、前
記予備室形成部材42と再び予備室46を形成す
る。この時、ピストン42の鍔部43は前記予備
室46内に待機し、型挿入口16は熱遮蔽板31
によつて閉止される。第4図はこの状態を示す。
そして、支持台19上に移された成形型Aはプレ
ス温度(例えばガラスの粘度が108.5〜1010.5ポア
ズになるような所定の温度)にまで加熱される
と、押棒20の下降により当該成形型Aの上型が
数秒ないし数10秒間押圧され、成形型A内のガラ
スプリフオームを所定形状にプレスする。押棒2
0による加圧終了後放冷し、成形型Aの温度がガ
ラスの転移温度になつたら、熱遮蔽板31を回動
させて型挿入口16を開くと同時にベルジヤ32
を再び上昇回動させて予備室46を開放させる。
次いで、ピストン42をその鍔部43が支持台1
9とほぼ同一高さになるまで上昇させて停止する
と、今度はロツド26が前進して支持台19上の
成形型Aを鍔部43上に移す。成形型Aを受け取
ると、ピストン42は直ちに予備室の位置まで下
降して停止し、熱遮蔽板31が回動して型挿入口
16を閉止し、ベルジヤ32が回動下降して型取
入口15を閉止し、予備室形成部材47と共に予
備室46を形成する。この状態は第2図に示した
状態と全く同じで、予備室46内に成形型Aが位
置される。そして、バルブ58を開いて不活性ガ
スを予備室46内に送り込み、成形型Aを大気に
さらされても実質的に酸化しない温度(例250℃)
にまで急冷却し、バルブ58を閉じる。その後、
バルブ59を開いて予備室46を大気と連通さ
せ、ピストン42を最下位置まで下降させると、
成形型Aをピストン42上から取り外すことがで
き、1回のプレス成形工程を終了する。この操作
を繰返すことにより成形型Aの連続的プレス成形
が行なわれる。
かくして、このような構成からなるプレス成形
装置10においては、成形型Aにのみ大きな温度
サイクルを与え、熱容量の大きい支持台19およ
び密閉容器11に対しては小さな温度サイクルを
与えるだけで済むことから、プレス成形に要する
サイクル時間を大幅に短縮することができ、また
電力消費量も減少するため経済的で安価にガラス
成形体を製作し得る。
装置10においては、成形型Aにのみ大きな温度
サイクルを与え、熱容量の大きい支持台19およ
び密閉容器11に対しては小さな温度サイクルを
与えるだけで済むことから、プレス成形に要する
サイクル時間を大幅に短縮することができ、また
電力消費量も減少するため経済的で安価にガラス
成形体を製作し得る。
さらに、予備室46を設けているので、一回の
プレス成形毎に密閉容器11を開放する必要がな
く、不活性ガスの消費量も少なくて済む。
プレス成形毎に密閉容器11を開放する必要がな
く、不活性ガスの消費量も少なくて済む。
加えて、チヤンバー12内の温度分布が均一に
設定保持されるため、成形型Aおよびガラス成形
体を均一に加熱することができ、結果として面精
度の極めて良好なレンズが得られる。
設定保持されるため、成形型Aおよびガラス成形
体を均一に加熱することができ、結果として面精
度の極めて良好なレンズが得られる。
なお、上記実施例は2つのチヤンバー12,1
3による2重壁構造の密閉容器11を使用した
が、内側のチヤンバーを省略し、外側のチヤンバ
ーだけであつても実現可能である。その場合、熱
遮蔽板31が不要で、ベルジヤ32のOリング3
6を耐熱性に優れたシール部材とすることが望ま
しい。
3による2重壁構造の密閉容器11を使用した
が、内側のチヤンバーを省略し、外側のチヤンバ
ーだけであつても実現可能である。その場合、熱
遮蔽板31が不要で、ベルジヤ32のOリング3
6を耐熱性に優れたシール部材とすることが望ま
しい。
以上述べたように本発明に係るレンズ成形体の
プレス成形装置によれば、プレス成形するたび毎
に支持台を加熱、冷却する必要がなく、成形型の
みを加熱、冷却すればよいので、プレス成形に要
するサイクル時間を大幅に短縮でき、生産性を向
上させることができる。また、熱効率も向上し製
造コストの低減を可能にする。また、予備室も設
けているので、密閉容器内を常に所定圧の不活性
ガス雰囲気状態に維持することができ、該ガスの
消費量を節約することができるなど、その効果は
非常に大である。
プレス成形装置によれば、プレス成形するたび毎
に支持台を加熱、冷却する必要がなく、成形型の
みを加熱、冷却すればよいので、プレス成形に要
するサイクル時間を大幅に短縮でき、生産性を向
上させることができる。また、熱効率も向上し製
造コストの低減を可能にする。また、予備室も設
けているので、密閉容器内を常に所定圧の不活性
ガス雰囲気状態に維持することができ、該ガスの
消費量を節約することができるなど、その効果は
非常に大である。
第1図〜第4図は本発明に係るプレス成形装置
の一実施例を示し、第1図は初期状態の断面図、
第2図は予備室を形成しその中に成形型を挿入し
た状態の断面図、第3図は密閉容器内に成形型を
挿入した状態の断面図、第4図はプレス成形時の
状態を示す断面図、第5図は従来のプレス成形装
置の一例を示す要部断面図である。 1……支持台、3……上型、4……下型、8…
…ガラスプリフオーム、11……密閉容器、1
2,13……チヤンバー、14……型昇降機構、
15……型取入口、16……型挿入口、18……
ヒーター、19……支持台、20……押棒、21
……型移動機構、25,26……ロツド、31…
…熱遮蔽板、32……ベルジヤ、41……シリン
ダ、42……ピストン、43……鍔部、46……
予備室、47……予備室形成部材、48……ば
ね、A……成形型。
の一実施例を示し、第1図は初期状態の断面図、
第2図は予備室を形成しその中に成形型を挿入し
た状態の断面図、第3図は密閉容器内に成形型を
挿入した状態の断面図、第4図はプレス成形時の
状態を示す断面図、第5図は従来のプレス成形装
置の一例を示す要部断面図である。 1……支持台、3……上型、4……下型、8…
…ガラスプリフオーム、11……密閉容器、1
2,13……チヤンバー、14……型昇降機構、
15……型取入口、16……型挿入口、18……
ヒーター、19……支持台、20……押棒、21
……型移動機構、25,26……ロツド、31…
…熱遮蔽板、32……ベルジヤ、41……シリン
ダ、42……ピストン、43……鍔部、46……
予備室、47……予備室形成部材、48……ば
ね、A……成形型。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 内部に支持台、ヒーターおよびベルジヤが配
設されて一定温度に設定保持されかつ不活性ガス
が充填された密閉容器と、この容器の下方に昇降
自在に配設されて上面に成形型が載置され、また
上端部には前記密閉容器の型取入口を閉鎖して前
記ベルジヤと共に予備室を形成する予備室形成部
材が摺動自在に設けられた型昇降機構と、前記密
閉容器内に挿入された成形型を前記型支持台上に
移動させる型移動機構と、成形時に前記支持台上
の成形型を押圧する押棒とを備え、前記予備室は
型取り入れ時に前記型昇降機構上に載置された成
形型が挿入されると内部の空気が不活性ガスに置
換されて前記密閉容器の内部と連通され、前記型
昇降機構は型受け渡し位置まで上昇して成形型を
前記支持台上に受け渡した後下降してその上端部
が前記予備室内に待機することを特徴とするガラ
ス成形体のプレス成形装置。 2 密閉容器は大きさの異なる2つのチヤンバー
によつて二重壁構造をなし、その内側のチヤンバ
ー内に支持台とヒーターが配設され、外側のチヤ
ンバー内にベルジヤが配設されていることを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載のガラス成形体
のプレス成形装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29245386A JPS63147833A (ja) | 1986-12-10 | 1986-12-10 | ガラス成形体のプレス成形装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29245386A JPS63147833A (ja) | 1986-12-10 | 1986-12-10 | ガラス成形体のプレス成形装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63147833A JPS63147833A (ja) | 1988-06-20 |
JPH0355418B2 true JPH0355418B2 (ja) | 1991-08-23 |
Family
ID=17781996
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29245386A Granted JPS63147833A (ja) | 1986-12-10 | 1986-12-10 | ガラス成形体のプレス成形装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63147833A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4718230B2 (ja) * | 2005-04-15 | 2011-07-06 | 東芝機械株式会社 | 成形装置 |
-
1986
- 1986-12-10 JP JP29245386A patent/JPS63147833A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS63147833A (ja) | 1988-06-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4681444B2 (ja) | 成形装置 | |
JPH0355418B2 (ja) | ||
JPH09246351A (ja) | クリーン搬送方法、クリーン搬送装置及びクリーン装置 | |
JP3717102B2 (ja) | 光学素子のプレス成形装置及びその成形方法 | |
JP2531810B2 (ja) | 光学素子製造装置 | |
US20040000170A1 (en) | Optical element molding apparatus | |
JP2533959B2 (ja) | 光学素子成形装置及び光学素子成形方法 | |
JPH01167241A (ja) | 光学素子の製造装置 | |
JP2618523B2 (ja) | 光学素子の製造方法 | |
JPS61222933A (ja) | ガラス製品の成形方法及び装置 | |
JP2669479B2 (ja) | 光学素子成形用型及びその調整方法 | |
KR100293069B1 (ko) | 형광 표시관의 배기 장치 | |
JP4624916B2 (ja) | 成形装置 | |
JP2579007B2 (ja) | 光学素子製造装置 | |
JP2531813B2 (ja) | 光学素子製造装置 | |
JP2617018B2 (ja) | 光学素子製造のための方法及び装置 | |
JPH0538036Y2 (ja) | ||
JPH03228834A (ja) | 光学素子の成形装置 | |
JP2531811B2 (ja) | 光学素子製造装置 | |
JPH0255236A (ja) | 光学素子の成形装置 | |
JP2771648B2 (ja) | 光学素子の製造方法 | |
JPH0421527A (ja) | 光学素子の製造装置 | |
JP2747103B2 (ja) | 光学素子の製造方法 | |
JP2593244B2 (ja) | 光学素子の製造装置 | |
JPH0323244A (ja) | 光学素子のプレス成形装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |