JPH01167241A - 光学素子の製造装置 - Google Patents

光学素子の製造装置

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JPH01167241A
JPH01167241A JP32654387A JP32654387A JPH01167241A JP H01167241 A JPH01167241 A JP H01167241A JP 32654387 A JP32654387 A JP 32654387A JP 32654387 A JP32654387 A JP 32654387A JP H01167241 A JPH01167241 A JP H01167241A
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JP
Japan
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optical element
heating furnace
mold
molding
mold set
Prior art date
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Pending
Application number
JP32654387A
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English (en)
Inventor
Mitsuo Goto
光夫 後藤
Toshimasa Honda
本多 利正
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH01167241A publication Critical patent/JPH01167241A/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B11/00Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
    • C03B11/16Gearing or controlling mechanisms specially adapted for glass presses
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B11/00Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
    • C03B11/06Construction of plunger or mould
    • C03B11/08Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B11/00Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
    • C03B11/12Cooling, heating, or insulating the plunger, the mould, or the glass-pressing machine; cooling or heating of the glass in the mould

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光学素子の製造装置に関する。
〔従来の技術〕
−iに、レンズ、プリズム、ミラー等の光学素子を得る
にあたり、光学素子素材を加熱軟化するとともに、これ
を真空または不活性ガス雰囲気中で押圧成形する装置が
用いられている。従来、このような装置としては、例え
ば特開昭61−44721号公報に開示される光学レン
ズの製造装置が知られている。
かかる装置は、第5図に示すごとく成形室1内に加熱用
コイル2が備えられ、また成形シリンダ3と型セツト載
置用の載置台4とがそれぞれ所要ストロークだけ上下動
自在に装備されている。この成形室1の前後には予備加
熱用の昇温室5と放冷室6とがそれぞれ連通して配設さ
れており、昇温室5の前段には光学素子素材であるガラ
スゴブ7を一対の成形型間に配置した型セット8を外部
から取入れるだめの取入室9が配設されている。
一方、放冷室6の次段には前記型セット8を取り出すた
めの取出室10が配設されている。前記成形室1.取入
室9及び取出室10には真空ポンプに連通された排気管
1a、9a及び10aがそれぞれ設けられている。また
、昇温室5と取入室8との間および放冷室6と取出室1
0のと間には、気密仕切用の仕切板11aおよびIlb
がそれぞれ開閉自在に配設されている。
上記構成の製造装置においては、押圧成形に際して成形
室1.昇温室5および放冷室6が、排気管1aを介して
排気減圧されるとともに、型セ・ノド8の取入れ、取出
しに際して取入室9および取出室10が、排気管9a、
10aを介して排気減圧される。
〔発明が解決しようとする問題点〕
すなわち、押圧成形に際しては、成形室1等を真空状態
にしかつ完全な密封構造にする必要がある。しかし、上
記従来の製造装置にあっては、加熱炉に相当する加熱用
コイル2を大形の成形室1で囲繞しているうえに、成形
室1と昇温室5および放冷室6とが常に連通されている
ので、成形室1等を真空状態とするために長時間を要す
る。また、型セット8の取入れ、取出しに際して、取入
室9および取出室10内をそれぞれ毎回排気減圧しなけ
ればならず、成形サイクルタイムが極めて長くなってし
まう。
さらに、排気管1a、9aおよび10aが連結された各
真空ポンプや仕切板11a、llbを作動させるには、
その動作を時間制御して順次行う必要があり、その制御
装置を設けるために全体として極めて高価な製造装置と
なってしまい、結局、光学素子も高コストなものになる
という問題があった。
本発明は、かかる問題点に鑑ノてなされたもので、押圧
成形工程のサイクルタイムの短縮化を図ることができ、
光学素子を低コストにして得ることができる光学素子の
製造装置を提供することを目的とするものである。
〔問題点を解決するための手段〕
上記従来の問題点を解決するために、本発明は、一対の
成形型間に光学素子素材を配置した型セットを加熱炉内
に移送し、光学素子素材を加熱軟化するとともに、光学
素子素材を真空または不活性ガス雰囲気中で押圧成形す
る光学素子の製造装置において、前記型セットを載置す
る載置台により加熱炉を密閉自在に設け、加熱炉内を真
空または不活性ガス雰囲気をすべく加熱炉にガス給排気
管を接続したものである。
〔作用] 上記構成の光学素子の製造装置において、型セットが移
送される加熱炉は、型セットの載置台により密閉される
。そして、押圧成形の際には、密閉された加熱炉のみが
、給排気管を介して真空または不活性ガス雰囲気とされ
る。すなわち、型セットを囲繞する小容量の加熱炉内の
みを個別的に真空または不活性ガス雰囲気とするので、
成形サイクルタイムが短縮化され、複雑な制御を必要と
しないので、低コストにして光学素子を得ることができ
るようになる。
[実施例] 以下、本発明を図に示す一実施例に基づき詳細に説明す
る。
(第1実施例) 第1図は本発明の第1実施例に係る光学素子の製造装置
を示すもので、成形室12の側壁には、型セット13を
成形室12内に出入れ可能とするドア14が取付けられ
ている。また、成形室12内の上面には、加熱炉15が
固設されている。この加熱炉15は、成形室12の上部
内面に接着された円板状の断熱端板16と、この断熱端
板16の外周にて成形室12の上部内面に一端部が接着
された円筒部材17とから形成されている。円筒部材1
7は、円筒状のヒータ18と、ヒータ18より大径の保
持筒19と、ヒータ18と保持筒19との間に介在され
た断熱材20とから形成されている。
加熱炉15の断熱端板16下面中央には、円柱状の突起
21が固設されている。また、成形室12外からは、成
形室12の上板、加熱炉15の断熱端板16および突起
21を貫通して熱電対22が導入され、熱電対22の先
端は加熱炉15内に臨んでおり、型温度を測定可能に設
けられている。
一方、成形室12の下部には、シリンダ23が固設され
ており、シリンダ23のピストン24は成形室12内に
おいて上下動自在に設けられ、成形室12の底部内面に
固設された円柱状のストッパ25の中央を貫通して設け
られている。また、ピストン24の先端には、略円板状
の断熱材からなる載置台26が固着されている。載置台
26は、成形室12のドア14から搬入される型セット
13を中心位置に載置するもので、外周近傍にはリング
状の凹部26aが形成されている。そして、この凹部2
6aを設けたことにより、載置台26の下面には、円柱
状の空間部26bが形成され、この空間部26bは成形
室12底面のストッパ25が嵌合可能に設けられている
さらに、載置台26の凹部26aには、密閉リング27
が上下動自在に設けられ、密閉リング27は凹部26a
内に設けたばね等の弾性体28により常時上方に付勢さ
れている。そして、密閉リング27の上端は、加熱炉1
5の保持筒19底面に形成したリング溝19aに嵌合自
在であり、密閉リング27がリング溝19aに嵌合され
ると、加熱炉15は密閉状態にされる。
載置台26上に載置される型セット13は、第2図に示
すように、円筒状のスリーブ29内には、所望の光学素
子に対応した面形状を有する上型30および下型31が
嵌合されており、上型30と下型31との間には光学素
子素材32が配置され、光学素子素材32は上型30と
下型31とにより圧縮される。ここで、上型30および
下型31は、それぞれその嵌合精度が、上型30.下型
31のレンズ成形面がレンズ偏芯公差内となるように、
嵌合長、真円度、同軸度および嵌合隙間等を設定されて
おり、スリーブ29に摺動自在に設けられている。また
、スリーブ29の内径は、載置台26の上面中央に固設
した円柱状の突起33より大径に設けられている。さら
に、上型30の上部には、軸方向に熱電対用穴30aが
形成されており、型セット13を上昇させた時に熱電対
22が熱電対用穴30aに挿入され、型温度を測定でき
るようになっている。
一方、加熱炉15内には、成形室12外から成形室12
の上板および加熱炉15の断熱端板16を貫通して排気
管34および給気管35が導入されている。排気管34
は真空ポンプ(図示省略)に接続され、給気管35は不
活性ガスボンベに接続されており、これら排気管34お
よび給気管35を介して、密閉状態となった加熱炉15
内をヘリウム、窒素等の不活性ガス雰囲気とすることが
できるようになっている。36および37は、それぞれ
排気管34および給気管35に介装された管路開閉自在
のバルブである。
なお、ピストン24のストロークは、下限は載置台26
の凹部26aがストツパ25に嵌合して停止するまでで
あり、上限は上型30が突起21に当接して成形時に光
学素子素材32が変形しても十分に光学素子素材32に
対して圧力を加えることができるまでの範囲となってい
る。また、熱電対22とヒータ18とは、それぞれ図示
を省略した温度コントローラに接続されており、加熱炉
15の温度制御が可能となっている。
上記構成の光学素子の製造装置により、光学ガラスSF
8を用いて外径6mm、肉厚1.5mm、第1面がR=
11.5である平凸レンズを押圧成形し、所望の光学性
能を得る場合を例として、作用を説明する。
まず、載置台26の凹部26aがストッパ25に嵌合当
接するまでピストン24を下動させ、ドア14を仮想線
で示すように開状態にする。次に、第2図で示すように
、スリーブ29内に下型31、予め表面欠陥を削除した
光学素子素材32および上型30を順次挿入した型セッ
ト13を、載置台26上の突起33がスリーブ29の内
面に収まるようにして載置台26上に載置する。
その後、ドア14を閉状態とし、ピストン24を上動さ
せて加熱炉15に型セット13を挿入する。この際、上
型30は、加熱炉15上部の突起21には接触しておら
ず、上型30に圧力は加わっていない。また、載置台2
6に設けた密閉リング27は、加熱炉15のリング溝1
9aに嵌合し、加熱炉15を密閉状態とし、さらに、ピ
ストン24が上動した場合には弾性体28の収縮により
密閉リング2′7はより一層強くリング溝19aに当接
され、密閉効果が保持される。
このようにして、加熱炉15が密閉状態となった後、バ
ルブ36を開状態とし、真空ポンプを作動させて加熱炉
15内を排気管34を介して排気するとともに、加熱炉
15内に給気管35を介して不活性ガスを導入する。ガ
スの置換作業後、加熱炉15のヒータ18に通電し、加
熱炉15を型温度が所定温度(光学素子素材32の軟化
点付近である570°C)となるまで加熱する。
かかる温度に保持した状態で、さらにピストン24を上
動させ、型セット13の上型30上面を突起21に当接
させて上型30に圧力を加える。
これにより、光学素子素材32は」二型30と下型31
よによって圧縮され、上下型30.31の型面に沿って
変形される。光学素子素材32が上下型30.31の型
面に沿った時点で加熱炉15の温度を徐々に下降させ、
徐冷を行う。そして、所定温度(歪点付近である400
°C)まで徐冷を行った後、ビス1−ン24を下動させ
、型センl−13を加熱炉15外に位置させて炉外放冷
を行う。その後、型温度が200°C以下になるまで冷
却を行い、ドア14を開状態として型セット13を成形
室12から取出し、型セット13を分解してレンズ形状
に反転した光学素子を得る。
第3図は、」二記製造工程中の時間と温度との関係を示
すグラフで、図中、範囲40は加熱炉15の排気減圧中
を示し、範囲4】は加熱炉15の不活性ガス雰囲気中を
示すものである。
上記製造工程においては、従来20分以上であったガス
の置換作業時間を5分程度に短縮でき、成形サイクルタ
イl、を著しく短縮できた。一方、成形室12で加熱炉
15を囲繞しているので、加熱炉15周辺の雰囲気(外
気)の対流がなく、加熱炉15の温度を一定に安定して
保温加熱し易くなっている。また、次に作業する型セッ
トを待期させることにより、加熱操作(予備加熱)でき
る。
(第2実施例) 第4図は、本発明の第2実施例に係る光学素子の製造装
置を示すもので、左右開放されたオープンタイプの成形
室50には、第1実施例と同様にして加熱炉15が設り
られている。ただ、本実施例においては、複数の型セッ
ト13が搬送装置51により、順次加熱が15の下方位
置に搬送されるように構成されており、型セット13の
載置台52は、型セット13に対応した数が用意され、
ピストン24の先端には固着されていない。その他、載
置台52の構造2排気管34.給気管 35等の構成は
、第1実施例と同様である。
この製造装置においては、加熱炉15の下方位置まで搬
送された載置台52および型セット13は、ビスI・ン
24の上動により上昇され、型セット13は加熱炉15
内に収納されるとともに、載置台52は加熱炉15の底
部を閉塞して加熱炉15を密閉状態とする。そして、第
1実施例と同様の押圧成形工程を経た後、ピストン24
の下動により、型セット13は加熱炉15外に下降され
、搬送装置51によって矢印方向へ搬送される。
本実施例においても、加熱炉15内のりをガス置換すれ
ばよく、その置換作業時間は従来に比して著しく短縮さ
れる。また、光学素子を用意に連続成形でき、ひいては
低コストな光学素子を得ることができる。
〔発明の効果] 以上のように、本発明の光学素子の製造装置によれば、
型セソ1−を載置する載置台により加熱炉を密閉自在に
設け、加熱炉内を真空または不活性ガス雰囲気とずべく
加熱炉にガス給排気を接続したので、加熱炉内のみをガ
ス置換するだけでよく、ガス置換作業時間を著しく短縮
でき、成形サイクルタイムの短縮化を図ることができる
とともに、ひいては光学素子を低コストにして得ること
ができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1実施例に係る光学素子の製造装置
を示す縦断面図、第2図は第1図における型セットの縦
断面図、第3図は第1図に示す製造装置で光学素子を製
造した場合の時間と温度との関係を示すグラフ、第4図
は本発明の第2実施例に係る製造装置を示す概略縦断面
図、第5図は従来の光学素子の製造装置を示す縦断面図
である。 13・・・型セット 15・・・加熱炉 18−・・ に −り 23・・・シリンダ 24・・・ピストン 26・・・載置台 30・・・上型 31・・・下型 32・・・光学素子素材 34・・・排気管 35・・・給気管 特許出願人  オリンパス光学工業株式会社代理人 弁
理士  奈   良       武第2図 第3図 (うjす 第4図 1’:FIE+1

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一対の成形型間に光学素子素材を配置した型セッ
    トを加熱炉内に移送し、光学素子素材を加熱軟化すると
    ともに、光学素子素材を真空または不活性ガス雰囲気中
    で押圧成形する光学素子の製造装置において、前記型セ
    ットを載置する載置台により加熱炉を密閉自在に設け、
    加熱炉内を真空または不活性ガス雰囲気をすべく加熱炉
    にガス給排気管を接続したことを特徴とする光学素子の
    製造装置。
JP32654387A 1987-12-23 1987-12-23 光学素子の製造装置 Pending JPH01167241A (ja)

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