JPH0353240A - 帯電防止処理をしたハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
帯電防止処理をしたハロゲン化銀写真感光材料Info
- Publication number
- JPH0353240A JPH0353240A JP18966389A JP18966389A JPH0353240A JP H0353240 A JPH0353240 A JP H0353240A JP 18966389 A JP18966389 A JP 18966389A JP 18966389 A JP18966389 A JP 18966389A JP H0353240 A JPH0353240 A JP H0353240A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- silver halide
- groups
- halide photographic
- present
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- -1 Silver halide Chemical class 0.000 title claims abstract description 71
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 40
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims abstract description 40
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 25
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 19
- 229920001600 hydrophobic polymer Polymers 0.000 claims abstract description 16
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 claims abstract description 11
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 claims abstract description 7
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical group NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims abstract description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 7
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 claims description 5
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 claims description 5
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 2
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 abstract description 4
- 125000003831 tetrazolyl group Chemical group 0.000 abstract description 4
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 40
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 description 17
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 17
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 13
- 238000011161 development Methods 0.000 description 13
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 13
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 13
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 13
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 13
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 10
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 9
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 8
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 8
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 8
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 6
- LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N gallic acid Chemical class OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 5
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 5
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 4
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- KAMCBFNNGGVPPW-UHFFFAOYSA-N 1-(ethenylsulfonylmethoxymethylsulfonyl)ethene Chemical compound C=CS(=O)(=O)COCS(=O)(=O)C=C KAMCBFNNGGVPPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1H-benzotriazole Chemical compound C1=C(C)C=CC2=NNN=C21 LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZGTMUACCHSMWAC-UHFFFAOYSA-L EDTA disodium salt (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].OC(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC(O)=O)CC([O-])=O ZGTMUACCHSMWAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical compound [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 3
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 3
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000000586 desensitisation Methods 0.000 description 3
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 3
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 3
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 3
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 3
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 2
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 2
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 2
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 2
- 125000004069 aziridinyl group Chemical group 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IYCOKCJDXXJIIM-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;prop-2-enoic acid;styrene Chemical compound OC(=O)C=C.C=CC1=CC=CC=C1.CCCCOC(=O)C=C IYCOKCJDXXJIIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 2
- ZUIVNYGZFPOXFW-UHFFFAOYSA-N chembl1717603 Chemical compound N1=C(C)C=C(O)N2N=CN=C21 ZUIVNYGZFPOXFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 2
- 229960000878 docusate sodium Drugs 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 2
- 229940074391 gallic acid Drugs 0.000 description 2
- 235000004515 gallic acid Nutrition 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 2
- IIPYXGDZVMZOAP-UHFFFAOYSA-N lithium nitrate Chemical compound [Li+].[O-][N+]([O-])=O IIPYXGDZVMZOAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical class CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 2
- 150000003283 rhodium Chemical class 0.000 description 2
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 229920006027 ternary co-polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N toluquinol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoselenazole Chemical group C1=CC=C2[se]C=NC2=C1 AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 1,3-selenazole Chemical group C1=C[se]C=N1 ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNSDLXPSAYFUHK-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(2-ethylhexyl) sulfosuccinate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)CC(S(O)(=O)=O)C(=O)OCC(CC)CCCC HNSDLXPSAYFUHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXLXSOPFNVKUMU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioctoxy-1,4-dioxobutane-2-sulfonic acid Chemical class CCCCCCCCOC(=O)CC(S(O)(=O)=O)C(=O)OCCCCCCCC OXLXSOPFNVKUMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XIWRQEFBSZWJTH-UHFFFAOYSA-N 2,3-dibromobenzene-1,4-diol Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Br)=C1Br XIWRQEFBSZWJTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKUDHBLDJYZZQS-UHFFFAOYSA-N 2,6-dichloro-1h-1,3,5-triazin-4-one Chemical compound OC1=NC(Cl)=NC(Cl)=N1 YKUDHBLDJYZZQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOJUJUVQIVIZAV-UHFFFAOYSA-N 2-amino-4,6-dichloropyrimidine-5-carbaldehyde Chemical group NC1=NC(Cl)=C(C=O)C(Cl)=N1 GOJUJUVQIVIZAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical class NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQMGXSMKUXLLER-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-5-sulfobenzoic acid;sodium Chemical compound [Na].OC(=O)C1=CC(S(O)(=O)=O)=CC=C1O IQMGXSMKUXLLER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGJUJDQANIYVAL-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-morpholin-4-ylaniline Chemical compound C1=C(N)C(C)=CC(N2CCOCC2)=C1 ZGJUJDQANIYVAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- YBMTWYWCLVMFFD-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutyl 3,4,5-trihydroxybenzoate Chemical compound CC(C)CCOC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 YBMTWYWCLVMFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006283 4-chlorobenzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1Cl)C([H])([H])* 0.000 description 1
- WWOBYPKUYODHDG-UHFFFAOYSA-N 4-chlorocatechol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1O WWOBYPKUYODHDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004860 4-ethylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUWBPTDPBVIOOI-UHFFFAOYSA-N Cc1nc2ncnn2c(O)c1Br Chemical compound Cc1nc2ncnn2c(O)c1Br IUWBPTDPBVIOOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPWFJAMTCNSJKK-UHFFFAOYSA-N Dodecyl gallate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 RPWFJAMTCNSJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- JAWMENYCRQKKJY-UHFFFAOYSA-N [3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-ylmethyl)-1-oxa-2,8-diazaspiro[4.5]dec-2-en-8-yl]-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]methanone Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CC1=NOC2(C1)CCN(CC2)C(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F JAWMENYCRQKKJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N [Ag].Cl[IH]Br Chemical compound [Ag].Cl[IH]Br XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000738 acetamido group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)N([H])[*] 0.000 description 1
- NLTSCOZQKALPGZ-UHFFFAOYSA-N acetic acid;dihydrate Chemical compound O.O.CC(O)=O NLTSCOZQKALPGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N ammonium thiosulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])(=O)=S XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- AMTXUWGBSGZXCJ-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzoselenazole Chemical group C1=CC=C2C(N=C[se]3)=C3C=CC2=C1 AMTXUWGBSGZXCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzoxazole Chemical group C1=CC=C2C(N=CO3)=C3C=CC2=C1 WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- YKOQAAJBYBTSBS-UHFFFAOYSA-N biphenyl-2,3-diol Chemical compound OC1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1O YKOQAAJBYBTSBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N biphenyl-2-ol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- MSZJEPVVQWJCIF-UHFFFAOYSA-N butylazanide Chemical compound CCCC[NH-] MSZJEPVVQWJCIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- AJPXTSMULZANCB-UHFFFAOYSA-N chlorohydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Cl)=C1 AJPXTSMULZANCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 239000002872 contrast media Substances 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000011033 desalting Methods 0.000 description 1
- 229960000633 dextran sulfate Drugs 0.000 description 1
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N diethylaniline Chemical compound CCN(CC)C1=CC=CC=C1 GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZEKFCXSFNUWAM-UHFFFAOYSA-N dipyridamole Chemical group C=12N=C(N(CCO)CCO)N=C(N3CCCCC3)C2=NC(N(CCO)CCO)=NC=1N1CCCCC1 IZEKFCXSFNUWAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHAIRHLKBKSNHK-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen sulfite acetate Chemical compound C(C)(=O)O.S(=O)([O-])[O-].[Na+].[Na+] KHAIRHLKBKSNHK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N divinyl sulfone Chemical group C=CS(=O)(=O)C=C AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000555 dodecyl gallate Substances 0.000 description 1
- 235000010386 dodecyl gallate Nutrition 0.000 description 1
- 229940080643 dodecyl gallate Drugs 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N hydroquinone methyl ether Natural products COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000831 ionic polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 125000004115 pentoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000004321 preservation Methods 0.000 description 1
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001422 pyrrolinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000001397 quillaja saponaria molina bark Substances 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 229930182490 saponin Natural products 0.000 description 1
- 150000007949 saponins Chemical class 0.000 description 1
- 125000003748 selenium group Chemical group *[Se]* 0.000 description 1
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 1
- ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N silver bromoiodide Chemical compound [Ag].IBr ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- FZHLWVUAICIIPW-UHFFFAOYSA-M sodium gallate Chemical compound [Na+].OC1=CC(C([O-])=O)=CC(O)=C1O FZHLWVUAICIIPW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 125000000626 sulfinic acid group Chemical group 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical class [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 150000003866 tertiary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- WAGFXJQAIZNSEQ-UHFFFAOYSA-M tetraphenylphosphonium chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WAGFXJQAIZNSEQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000002769 thiazolinyl group Chemical group 0.000 description 1
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea group Chemical group NC(=S)N UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N urea group Chemical group NC(=O)N XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012224 working solution Substances 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、プラスチックフイルム支持体用の帯電防止層
に関し、特に帯電防止能の優れたハロゲン化銀写真感光
材料に関する。
に関し、特に帯電防止能の優れたハロゲン化銀写真感光
材料に関する。
一般にプラスチイツクフィルム支持体は、帯電性が強く
、これが使用上多くの制約を与えている例は多い。例え
ばハロゲン化銀写真感光材料においてはポリエチレンテ
レフタレートのような支持体が一般に使用されるが、、
特に冬季の如き低湿度において帯電し易い。最近のよう
に高感度写真乳剤を高速度で塗布したり、高感度の感光
材料を自動プリンターを通して露光処理をする場合、特
に帯電防止対策が重要である。
、これが使用上多くの制約を与えている例は多い。例え
ばハロゲン化銀写真感光材料においてはポリエチレンテ
レフタレートのような支持体が一般に使用されるが、、
特に冬季の如き低湿度において帯電し易い。最近のよう
に高感度写真乳剤を高速度で塗布したり、高感度の感光
材料を自動プリンターを通して露光処理をする場合、特
に帯電防止対策が重要である。
感光材料が帯電すると、その放電によりスタチックマー
クがでたり、またはゴミ等の異物を付着し、これにより
ビンホールを発生させたりして著しく品質を劣化し、そ
の修正のため非常に作業性をおとしてしまう。このため
、一般に感光材料では帯電防止剤が使用され、最近では
、含フッ素界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面
活性剤、ポリエチレンオキサイド基を含有する界面活性
剤ないし高分子化合物、スルホン酸又はリン酸基を分子
内に有するポリマー等が用いられている。
クがでたり、またはゴミ等の異物を付着し、これにより
ビンホールを発生させたりして著しく品質を劣化し、そ
の修正のため非常に作業性をおとしてしまう。このため
、一般に感光材料では帯電防止剤が使用され、最近では
、含フッ素界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面
活性剤、ポリエチレンオキサイド基を含有する界面活性
剤ないし高分子化合物、スルホン酸又はリン酸基を分子
内に有するポリマー等が用いられている。
特にフッ素系界面活性剤による帯電列調整、あるいは導
電性ポリマーによる導電性向上が多く使用されてきてお
り、例えば特開昭49−91165号および同49−1
21523号にはポリマー主鎖中に解離基を有するイオ
ン型ポリマーを適用する例が開示されている。
電性ポリマーによる導電性向上が多く使用されてきてお
り、例えば特開昭49−91165号および同49−1
21523号にはポリマー主鎖中に解離基を有するイオ
ン型ポリマーを適用する例が開示されている。
しかしながら、これらの従来技術では、現像処理により
、帯電防止能が大幅に劣化してしまう。
、帯電防止能が大幅に劣化してしまう。
これはアルカリを用いる現像工程、酸性の定着工程、水
洗等の工程を経ることにより帯電防止能が失われるもの
と思われる。したがって印刷感光材料等のように、処理
済みフイルムをさらに用いてプリントするような場合に
、ゴミの付着によるビンホール発生等の問題を生ずる。
洗等の工程を経ることにより帯電防止能が失われるもの
と思われる。したがって印刷感光材料等のように、処理
済みフイルムをさらに用いてプリントするような場合に
、ゴミの付着によるビンホール発生等の問題を生ずる。
このため例えば特開昭55−84658号、同61−1
74542号ではカルボキシル基を有する水溶性導電性
ポリマー カルポキシル基を有する疎水性ポリマー及び
多官能アジリジンからなる帯電防止層が提案されている
。この方法によれば処理後にも帯電防止能を残すことが
できるが、尚透明性の面では不充分である。
74542号ではカルボキシル基を有する水溶性導電性
ポリマー カルポキシル基を有する疎水性ポリマー及び
多官能アジリジンからなる帯電防止層が提案されている
。この方法によれば処理後にも帯電防止能を残すことが
できるが、尚透明性の面では不充分である。
さらに、この帯電防止層を有するプラスチックフィルム
支持体に、テトラゾリウム化合物またはヒドラジン化合
物を使った超硬調化乳剤を適用した場合、経時保存で減
感する欠点を有することが分かった。
支持体に、テトラゾリウム化合物またはヒドラジン化合
物を使った超硬調化乳剤を適用した場合、経時保存で減
感する欠点を有することが分かった。
上記のような問題に対し、本発明の目的は透明性に優れ
たヘーズの無い帯電防止層を有するハロゲン化銀写真感
光材料を提供することであり、さらに別の目的はテトラ
ゾリウム化合物またはヒドラジン化合物を使用した場合
でも帯電防止能に優れ、経時で減感せず安定性の高いハ
ロゲン化銀写真感光材料を提供することである。
たヘーズの無い帯電防止層を有するハロゲン化銀写真感
光材料を提供することであり、さらに別の目的はテトラ
ゾリウム化合物またはヒドラジン化合物を使用した場合
でも帯電防止能に優れ、経時で減感せず安定性の高いハ
ロゲン化銀写真感光材料を提供することである。
本発明の上記目的は、■水溶性導電性ポリマー■疎水性
ポリマー粒子、■硬化剤の反応生戊物からなる帯電防止
層を有してなるプラスチックフイルム支持体において、
該疎水性ポリマー粒子がアクリルアミド基含有で、アル
キレンオキサイド鎖3以上のノニオン界面活性剤で分散
安定化されていることを特徴とする帯電防止層を有する
ハロゲン化銀写真感光材料により達成される。
ポリマー粒子、■硬化剤の反応生戊物からなる帯電防止
層を有してなるプラスチックフイルム支持体において、
該疎水性ポリマー粒子がアクリルアミド基含有で、アル
キレンオキサイド鎖3以上のノニオン界面活性剤で分散
安定化されていることを特徴とする帯電防止層を有する
ハロゲン化銀写真感光材料により達成される。
尚、本発明の感光性乳剤層中に、テトラゾリウム化合物
またはヒドラジン化合物を含有することが望ましい。
またはヒドラジン化合物を含有することが望ましい。
以下、本発明の詳細について説明する。
本発明の水溶性導電性ボリマーは、単独で使用すること
によっても透明な層を形戊し得るが、少しの乾燥条件の
ブレによって層のひび割れを引き起こしてしまう。本発
明の構戊ではそのひび割れを防ぐために疎水性ポリマー
粒子を含有しているが、その効果は大きい。
によっても透明な層を形戊し得るが、少しの乾燥条件の
ブレによって層のひび割れを引き起こしてしまう。本発
明の構戊ではそのひび割れを防ぐために疎水性ポリマー
粒子を含有しているが、その効果は大きい。
本発明の請求項l記載の水溶性導電性ボリマーについて
は、スルホン酸基、硫酸エステル基、4級アンモニウム
塩、3級アンモニウム塩、カルポキシル基、ポリエチレ
ンオキシド基から選ばれる少なくとも1つの導電性基を
有するポリマーが挙げられる。これらの基のうちスルホ
ン酸基、硫酸エステル基、4級アンモニウム塩基が好ま
しい。
は、スルホン酸基、硫酸エステル基、4級アンモニウム
塩、3級アンモニウム塩、カルポキシル基、ポリエチレ
ンオキシド基から選ばれる少なくとも1つの導電性基を
有するポリマーが挙げられる。これらの基のうちスルホ
ン酸基、硫酸エステル基、4級アンモニウム塩基が好ま
しい。
導電性基はポリマーl分子当たり5重量%以上を必要と
する。水溶性の導電性ポリマー中に含まれるカルポキシ
基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、アジリジン
基、活性メチレン基、スルフィン酸基、アルデヒド基、
ビニルスルホン基のうち、カルポキシ基、ヒドロキシ基
、アミノ基、エボキシ基、アジリジン基、アルデヒド基
が好ましい。
する。水溶性の導電性ポリマー中に含まれるカルポキシ
基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、アジリジン
基、活性メチレン基、スルフィン酸基、アルデヒド基、
ビニルスルホン基のうち、カルポキシ基、ヒドロキシ基
、アミノ基、エボキシ基、アジリジン基、アルデヒド基
が好ましい。
これらの基はポリマーl分子当たり5重量%以上必要と
する。ポリマーの分子量は、3000〜100000で
あり、好ましくは3500〜sooooである。
する。ポリマーの分子量は、3000〜100000で
あり、好ましくは3500〜sooooである。
以下、本発明に用いられる水溶性導電性ポリマーの化合
物例を挙げるがこれに限定されるものではない。
物例を挙げるがこれに限定されるものではない。
A−1 ホモボリマー
A
2
ホモポリマー
bu3〜a
A
3
A−5
SO,Na
So ,Na
A
7
SO.Na
A ー
8
SO=Na
A−9
SO.Na
So,Na
A−11
CQ
So 3Na
A−12
A
l4
CHtOSOsNa
A
l5
A − 19
A−20
A−21
A−22
CH,
)(:y:z=85:10: 5
M#1万
A−23
デキス
ト
ラ
ンサルフエ
イ
ト
置換度
2.0
M = 10万
A
−24
A−25
A−26
A
27
A−28
SO.Na
A
=29
A−30
A−31
A −32
A−33
A−34
So , Na
A−35
A−36
A
37
A−38
A
39
A−40
A
4l
A−42
SO3Na
x:y:z=80:10:10
M′−f1万
A−43
A
−44
A
45
x:y:z:w=40:30:20:10M#5万
A−46
A−47
A
48
)り3Na
M址3万
A−49
A−50
尚、上記(1)〜(50)において、X+V+ 2はそ
れぞれ単量体戊分のモル%を、又Mは平均分子量(本明
細書中、平均分子量とは数平均分子量を示す。)を表す
。
れぞれ単量体戊分のモル%を、又Mは平均分子量(本明
細書中、平均分子量とは数平均分子量を示す。)を表す
。
これらのポリマーは市販又は常法によって得られる七ノ
マーを重合することにより合戒することが出来る。これ
らの化合物の添加量は0.Olg〜10g/m2が好ま
しく、特に好ましくはO.lg〜5g/m’である。
マーを重合することにより合戒することが出来る。これ
らの化合物の添加量は0.Olg〜10g/m2が好ま
しく、特に好ましくはO.lg〜5g/m’である。
次に本発明の水溶性導電性ポリマー層中に含有させる疎
水性ボリマー粒子は、実質的に水に溶解しない所謂ラテ
ックス状で含有されている。この疎水性ポリマーは、ア
クリルアミド誘導体、メタクリルアミド誘導体の中から
任意の組み合わせで選ばれた七ノマーを重合して得られ
る。特にアクリルアミド誘導体、またはメタクリルアミ
ド誘導体が少なくとも0.1モル%含有されているのが
好ましい。特に1モル%以上が好ましい。
水性ボリマー粒子は、実質的に水に溶解しない所謂ラテ
ックス状で含有されている。この疎水性ポリマーは、ア
クリルアミド誘導体、メタクリルアミド誘導体の中から
任意の組み合わせで選ばれた七ノマーを重合して得られ
る。特にアクリルアミド誘導体、またはメタクリルアミ
ド誘導体が少なくとも0.1モル%含有されているのが
好ましい。特に1モル%以上が好ましい。
疎水性ボリマーをラテックス状にするには乳化重合をす
る、固体状のボリマーを低沸点溶媒に溶かして微分散後
、溶媒を留去するという2つの方法があるが粒径が細か
く、しかもそろったものができるという点で乳化重合す
ることが好ましい。
る、固体状のボリマーを低沸点溶媒に溶かして微分散後
、溶媒を留去するという2つの方法があるが粒径が細か
く、しかもそろったものができるという点で乳化重合す
ることが好ましい。
乳化重合の際に用いる界面活性剤としては、ノニオン性
を用いるのが好ましく、本発明では後記するアルキレン
オキサイド鎖n=3以上のものが用いられる。モノマー
に対し10重量%以下が好ましい。多量の界面活性剤は
導電性層をくもらせる原因となる。
を用いるのが好ましく、本発明では後記するアルキレン
オキサイド鎖n=3以上のものが用いられる。モノマー
に対し10重量%以下が好ましい。多量の界面活性剤は
導電性層をくもらせる原因となる。
疎水性ポリ
マーの分子量は3000以上であれば良本発明の疎水性
ボリマーの具体例を挙げる。
ボリマーの具体例を挙げる。
B
5
B〜6
B−7
B−8
B−9
B
11
B−12
CI,
B−13
CH.
B−14
B−15
CN
COOC 4 H s
COOH
CONHCH2CH20H
本発明では導電性層が透明支持体上に塗設される。透明
支持体は写真用のものを全て使えるが好ましくは、可視
光を90%以上透過するように作られたポリエチレンテ
レフタレート又はセノレローストリアセテートである。
支持体は写真用のものを全て使えるが好ましくは、可視
光を90%以上透過するように作られたポリエチレンテ
レフタレート又はセノレローストリアセテートである。
これらの透明支持体は、当業者Iこ良く知られた方法で
作戊されるものであるが、場合によっては光透過を実質
的に阻害しないように染料を若干添加して青味付けした
りしても良い。
作戊されるものであるが、場合によっては光透過を実質
的に阻害しないように染料を若干添加して青味付けした
りしても良い。
本発明の支持体は、コロナ放電処理をした後ラテックス
ポリマーを含有する下引層が塗設されていてもよい。コ
ロナ放電処理は、エネルギー値としてl mW− 1
kW/m2minが特に好ましく適用される。
ポリマーを含有する下引層が塗設されていてもよい。コ
ロナ放電処理は、エネルギー値としてl mW− 1
kW/m2minが特に好ましく適用される。
又特に好ましくは、ラテックス下引層塗布後導電性層を
塗設する前にコロナ放電処理を再度行うと良い。
塗設する前にコロナ放電処理を再度行うと良い。
本発明の導電性層を硬化する化合物としては、多官能の
アジリジンが好ましい。特に2官能、3官能で分子量が
600以下のものが好ましい。
アジリジンが好ましい。特に2官能、3官能で分子量が
600以下のものが好ましい。
本発明の導電性層は感光性層より支持体側にあってもよ
いし、感光層に対し支持体の反対側、いわゆる背面にあ
ってもよい。
いし、感光層に対し支持体の反対側、いわゆる背面にあ
ってもよい。
本発明の分散剤としてはノニオン活性剤が用いられ、ポ
リアルキレンオキサイド化合物が好ましく用いられる。
リアルキレンオキサイド化合物が好ましく用いられる。
本発明に8いて用いられるポリアルキレン才キサイド化
合物とは、分子中に少なくとも3以上、多くとも500
以下のポリアルキレンオキサイt’1を含む化合物をい
い、例えばポリアルキレンオキサイドと脂肪族アルコー
ル、フェノール類、脂肪酸、脂肪族メルカブタン、有機
アミンなどの活性水素原子を有する化合物との縮合反応
により、またはポリプロピレングリコール、ポリオキシ
テトラメチレン重合体などのボリオールに脂肪族メルカ
ブタン、有機アミン、エチレンオキサイド、プロピレン
オキサイドなどを縮合させて合或することができる。
合物とは、分子中に少なくとも3以上、多くとも500
以下のポリアルキレンオキサイt’1を含む化合物をい
い、例えばポリアルキレンオキサイドと脂肪族アルコー
ル、フェノール類、脂肪酸、脂肪族メルカブタン、有機
アミンなどの活性水素原子を有する化合物との縮合反応
により、またはポリプロピレングリコール、ポリオキシ
テトラメチレン重合体などのボリオールに脂肪族メルカ
ブタン、有機アミン、エチレンオキサイド、プロピレン
オキサイドなどを縮合させて合或することができる。
上記ポリアルキレンオキサイド化合物は、分子中のポリ
アルキレンオキサイド鎖は1個ではなく2ケ所以上に分
割されたブロック共重合体であってもよい。
アルキレンオキサイド鎖は1個ではなく2ケ所以上に分
割されたブロック共重合体であってもよい。
この際、ポリアルキレンオキサイドの合計重合度は3以
上で100以下が好ましい。
上で100以下が好ましい。
本発明において任意に用いられる上記ポリアルキレンオ
キサイド化合物の具体例を以下に示す。
キサイド化合物の具体例を以下に示す。
(Ao−1)
(Ao−2:1
(Ao−3)
(AO−4)
(AO−5)
〔AO−6)
(Ao−7)
CAO−8)
?O(CH2CH20)nH
HO(CH,CH,0)nH
HO(CH2CH20)nH
HO(CHzCH20)nH
HO(CH.CH.O)nH
n C山0(CHzCHzO)QH
n CgH+rO(CH2CHzO)QHn C+■H
zsO(CHzCHzO),xH(n = 4〕 〔n = 35) (n=135) (n−225) (n = 450) (Q=20) 〔a = 30〕 (I2=30) (Ao−10) (Ao−11) n C+JzsS(CHzCHzO) H
C(2−30)CaHsS(CHzCH20)ncOc
l{zcH2cOOH (n=50)〔Ao 12〕 HO(CH 2CH 20)Q(CHz )m(CH
2 CH20)ncOcH 2c}I2cool{(1
2+n=70, m−5) (Ao−17) HO(CH2CHzO)(2(CHzCHzCHzCH
zO)m(CToCHzO)nH〔α+n=23, m
−21) (AO−18) HO(CHzCH20)Q(CHzCHzCHzCHz
O)m(CHzCH20)nH(Q+n=38, m−
15) Cl2+n=15. m=15) C(2+n=15, m=20) (+2+n 30〕 [:AO−26) 0 11 CI7H33CO−fcH2cH20テ賞H(li+m
+n=20 ( AO− 28) (2+m=12 以下余白 本発明に用いられるヒドラジン化合物は、好ましくは下
記一般式(H)で表される化合物である。
zsO(CHzCHzO),xH(n = 4〕 〔n = 35) (n=135) (n−225) (n = 450) (Q=20) 〔a = 30〕 (I2=30) (Ao−10) (Ao−11) n C+JzsS(CHzCHzO) H
C(2−30)CaHsS(CHzCH20)ncOc
l{zcH2cOOH (n=50)〔Ao 12〕 HO(CH 2CH 20)Q(CHz )m(CH
2 CH20)ncOcH 2c}I2cool{(1
2+n=70, m−5) (Ao−17) HO(CH2CHzO)(2(CHzCHzCHzCH
zO)m(CToCHzO)nH〔α+n=23, m
−21) (AO−18) HO(CHzCH20)Q(CHzCHzCHzCHz
O)m(CHzCH20)nH(Q+n=38, m−
15) Cl2+n=15. m=15) C(2+n=15, m=20) (+2+n 30〕 [:AO−26) 0 11 CI7H33CO−fcH2cH20テ賞H(li+m
+n=20 ( AO− 28) (2+m=12 以下余白 本発明に用いられるヒドラジン化合物は、好ましくは下
記一般式(H)で表される化合物である。
一般式CH)
Ql 02 XI
11
R.−N −N −C−R,
式中、R1は1価の有機残基を表し、R2は水素原子ま
たはl価の有機残基を表し、Q,及びQ2は水素原子、
アルキルスルホニル基(置換基ヲ有スるものも含む)、
アリールスルホニル基(置換基を有するものも含む)を
表し、x1は酸素原子またはイオウ原子を表す。一般式
[H)で表される化合物のうち、X,が酸素原子であり
、かつR2が水素原子である化合物が更に好ましい。
たはl価の有機残基を表し、Q,及びQ2は水素原子、
アルキルスルホニル基(置換基ヲ有スるものも含む)、
アリールスルホニル基(置換基を有するものも含む)を
表し、x1は酸素原子またはイオウ原子を表す。一般式
[H)で表される化合物のうち、X,が酸素原子であり
、かつR2が水素原子である化合物が更に好ましい。
上記R1及びR2のl価の有機残基としては、芳香族残
基、複素環残基及び脂肪族残基が包含される。
基、複素環残基及び脂肪族残基が包含される。
芳香族残基としては、フェニル基、ナ7チル基及びこれ
らに置換基(例えばアルキル基、アルコキシ基、アシル
ヒドラジノ基、ジアルキルアミノ基、アルコキシ力ルボ
ニル基、シアノ基、カルボキシ基、ニトロ基、アルキル
チオ基、ヒドロキシ基、スルホニル基、カルバモイル基
、ハロゲン原子、アシルアミノ基、スルホンアミド基、
ウレア基、チオウレア基など)のついたものを含む。置
換基のついたものの具体例として、例えば、4メチルフ
エニル基、4−エチルフェニル基、4−オキシエチル7
エニル基、4−ドデシル7エニル基、4−カノレポキシ
フェニノレ基、4−ジェチノレアミノフエニル基、4−
才クチルアミノ7エニル基、4−べ冫ジルアミノフエニ
ル基、4−アセトアミドー2−メチル7エニルM、4−
(3−エチルチオウレイト)7エニル基、4 −[2−
(2.4−ジーtert−プチルフェノキシ)プチルア
ミド1 フエニル基、4 −[2−(2.4=ジーte
rt−ブチルフエノキシ)プチルアミド] フェニル基
などを挙げることができる。
らに置換基(例えばアルキル基、アルコキシ基、アシル
ヒドラジノ基、ジアルキルアミノ基、アルコキシ力ルボ
ニル基、シアノ基、カルボキシ基、ニトロ基、アルキル
チオ基、ヒドロキシ基、スルホニル基、カルバモイル基
、ハロゲン原子、アシルアミノ基、スルホンアミド基、
ウレア基、チオウレア基など)のついたものを含む。置
換基のついたものの具体例として、例えば、4メチルフ
エニル基、4−エチルフェニル基、4−オキシエチル7
エニル基、4−ドデシル7エニル基、4−カノレポキシ
フェニノレ基、4−ジェチノレアミノフエニル基、4−
才クチルアミノ7エニル基、4−べ冫ジルアミノフエニ
ル基、4−アセトアミドー2−メチル7エニルM、4−
(3−エチルチオウレイト)7エニル基、4 −[2−
(2.4−ジーtert−プチルフェノキシ)プチルア
ミド1 フエニル基、4 −[2−(2.4=ジーte
rt−ブチルフエノキシ)プチルアミド] フェニル基
などを挙げることができる。
複素環残基としては、酸素、窒素、硫黄、またはセレン
原子のうち少なくとも一つを有する工員もしくは六員の
単環または縮金環で、これらに置換基がついてもよい。
原子のうち少なくとも一つを有する工員もしくは六員の
単環または縮金環で、これらに置換基がついてもよい。
具体的には例えば、ピロリン環、ビリジン環、キノリン
環、インドール環、オキサゾール環、ペンゾオキサゾー
ル環、ナフトオキサゾール環、イミダゾール環、ペンゾ
イミダゾール環、チアゾリン環、チアゾール環、ペンゾ
チアゾール環、ナフトチアゾール環、セレナゾール環、
べ冫ゾセレナゾール環、ナフトセレナゾール環などの残
基を挙げることが出来る。
環、インドール環、オキサゾール環、ペンゾオキサゾー
ル環、ナフトオキサゾール環、イミダゾール環、ペンゾ
イミダゾール環、チアゾリン環、チアゾール環、ペンゾ
チアゾール環、ナフトチアゾール環、セレナゾール環、
べ冫ゾセレナゾール環、ナフトセレナゾール環などの残
基を挙げることが出来る。
これらの複素環は、メチル基、エチル基等炭素数I〜4
のアルキル基、メトキン基、エトキシ基等炭素数1〜4
のアルコキシ基、フェニル基等の炭素数6〜l8のアリ
ール基や、クロル、ブロム等のハロゲン原子、アルコキ
シ力ルポニル基、シアノ基、アミ7基等で置換されてい
てもよい。
のアルキル基、メトキン基、エトキシ基等炭素数1〜4
のアルコキシ基、フェニル基等の炭素数6〜l8のアリ
ール基や、クロル、ブロム等のハロゲン原子、アルコキ
シ力ルポニル基、シアノ基、アミ7基等で置換されてい
てもよい。
脂肪族残基としては、直鎖及び分岐のアルキル基、シク
ロアルキル基及びこれらに置換基のついたもの、並びに
アルケニル基及びアルキニル基を含む。
ロアルキル基及びこれらに置換基のついたもの、並びに
アルケニル基及びアルキニル基を含む。
直鎖及び分岐のアルキル基としては、例えば炭素数1−
18、好ましくは1〜8のアルキル基であって、具体的
には例えばメチル基、エチル基、イソブチル基、l−オ
クチル基等である。
18、好ましくは1〜8のアルキル基であって、具体的
には例えばメチル基、エチル基、イソブチル基、l−オ
クチル基等である。
シクロアルキル基としては、例えば炭素数3〜IOのも
ので、具体的には例えばシクロプロピル基、シクロヘキ
シル基、アダマンチル基等である。アルキル基やシクロ
アルキル基に対する置換基としてはアルコキシ基(例え
ばメトキシ基、エトキシ基、プロボキシ基、プトキシ基
等)、アルコキシカルポニル基、カルバモイル基、ヒド
ロキシ基、アルキルチオ基、アミド基、アシロキシ基、
シアノ基、スルホニル基、ハロゲン原子(例えば塩素、
臭素、弗素、沃素など)、アリール基(例えばフ工二ル
基、ハロゲン置換フエニル基、アルキル置換7エニル基
)等であり、置換されたものの具体例としては例えば3
−メトキシプ口ピル基、エトキシ力ルポニルメチル基、
4−クロロシク口ヘキシル基、ベンジル基、p−メチル
ベンジル基、p−クロロベンジル基などを挙げることが
できる。また、アルケニル基としては例えばアリル(a
llyl)基、アルキニル基としては例えばプロバルギ
ル基を挙げることができる・ 本発明のヒ ドラジン化合物の好ましい具体例を 以下に示すが、 本発明は何等これによって限定さ れるものではない。
ので、具体的には例えばシクロプロピル基、シクロヘキ
シル基、アダマンチル基等である。アルキル基やシクロ
アルキル基に対する置換基としてはアルコキシ基(例え
ばメトキシ基、エトキシ基、プロボキシ基、プトキシ基
等)、アルコキシカルポニル基、カルバモイル基、ヒド
ロキシ基、アルキルチオ基、アミド基、アシロキシ基、
シアノ基、スルホニル基、ハロゲン原子(例えば塩素、
臭素、弗素、沃素など)、アリール基(例えばフ工二ル
基、ハロゲン置換フエニル基、アルキル置換7エニル基
)等であり、置換されたものの具体例としては例えば3
−メトキシプ口ピル基、エトキシ力ルポニルメチル基、
4−クロロシク口ヘキシル基、ベンジル基、p−メチル
ベンジル基、p−クロロベンジル基などを挙げることが
できる。また、アルケニル基としては例えばアリル(a
llyl)基、アルキニル基としては例えばプロバルギ
ル基を挙げることができる・ 本発明のヒ ドラジン化合物の好ましい具体例を 以下に示すが、 本発明は何等これによって限定さ れるものではない。
H −
l
H−2
H ー
3
H −
4
しH3
H 一
5
H
6
H
7
H
10
H
l3
H − 14
H − 16
H − 18
H − 19
H−20
q
I]
2l
H−22
H
23
I]
一24
H
一25
CH.
H−26
H−27
Br
H−28
H−29
H
30
OC14Hzs
H
3l
H−34
H−35
H−38
H−39
S
H−40
H−41
H
一42
H −43
H−44
H
45
H −46
一般式〔H〕で表わされるヒドラジン化合物の添加位置
はハロゲン化銀乳剤層及び/または支持体上のハロゲン
化銀乳剤層側にある非感光層であるが、好ましくは、ハ
ロゲン化銀乳剤層及び/またはその下層である。添加量
は、10−5〜10−1モル/銀1モルが好ましく、更
に好ましくは10−4〜1〇一2モル/銀lモルである
。
はハロゲン化銀乳剤層及び/または支持体上のハロゲン
化銀乳剤層側にある非感光層であるが、好ましくは、ハ
ロゲン化銀乳剤層及び/またはその下層である。添加量
は、10−5〜10−1モル/銀1モルが好ましく、更
に好ましくは10−4〜1〇一2モル/銀lモルである
。
次に本発明に用いられるテトラゾリウム化合物について
説明する。
説明する。
テトラゾリウム化合物は下記一般式で示すことができる
。
。
一般式CT)
本発明において、上記一般式(T)で示されるトリ7エ
ニルテトラゾリウム化合物の7エニル基の置換基R1、
R,、R,は水素原子もしくは電子吸引性度を示すハメ
ットのシグマ値(σP)が負又は正のものが好ましい。
ニルテトラゾリウム化合物の7エニル基の置換基R1、
R,、R,は水素原子もしくは電子吸引性度を示すハメ
ットのシグマ値(σP)が負又は正のものが好ましい。
特に負のものが好ましい。
7エニル置換におけるハメットのシグマ値は多くの文献
、例えばジャーナル・オブ・メディカルケミストリ−(
Journal of Medical Chemis
try)第20巻、304頁、l977午、記載のC,
ノ1ンシュ(C.Hansch)等の報文等に見ること
が出米、とくに好ましい負のシグマ値を有する基として
は、例えばメチル基(σP−−0.17以下いずれもσ
P値)エチル基(−0.15)、シクロプロピル基(−
0.21)、n−ブロピル基(−0.13)、isoプ
ロビル基(−0.15)、シクロブチル基(−0.15
)、n−ブチル基( −0. 16)、1sO−ブチル
基(−0.20)、n−ペンチル基( −0. 15)
、ンクロヘキシル基(−0.22)、アミノ基(−0.
66)、アセチルアミノ基(−0.15)、ヒドロキシ
ルi (−0.37)、メトキシ基(−0.27)、エ
トキシ基C −0.24)、プロポキシ基(−0.25
)、ブトキシ基(−0.32)、ペントキシ基(−0.
34)等が挙げられ、これらはいずれも本発明の一般式
(T)の化合物の置換基として有用である。
、例えばジャーナル・オブ・メディカルケミストリ−(
Journal of Medical Chemis
try)第20巻、304頁、l977午、記載のC,
ノ1ンシュ(C.Hansch)等の報文等に見ること
が出米、とくに好ましい負のシグマ値を有する基として
は、例えばメチル基(σP−−0.17以下いずれもσ
P値)エチル基(−0.15)、シクロプロピル基(−
0.21)、n−ブロピル基(−0.13)、isoプ
ロビル基(−0.15)、シクロブチル基(−0.15
)、n−ブチル基( −0. 16)、1sO−ブチル
基(−0.20)、n−ペンチル基( −0. 15)
、ンクロヘキシル基(−0.22)、アミノ基(−0.
66)、アセチルアミノ基(−0.15)、ヒドロキシ
ルi (−0.37)、メトキシ基(−0.27)、エ
トキシ基C −0.24)、プロポキシ基(−0.25
)、ブトキシ基(−0.32)、ペントキシ基(−0.
34)等が挙げられ、これらはいずれも本発明の一般式
(T)の化合物の置換基として有用である。
以下本発明に用いられる一般式〔T〕の化合物の具体例
を挙げるが、本発明の化合物はこれに限定されるもので
は無い。
を挙げるが、本発明の化合物はこれに限定されるもので
は無い。
(例示化合物)
本発明に用いられるテトラゾリウム化合物は、例えばケ
ミカル・レビュー (Chemical Revie
ws)第55巻、第335頁〜483頁に記載の方法に
従って容易に合或することができる。
ミカル・レビュー (Chemical Revie
ws)第55巻、第335頁〜483頁に記載の方法に
従って容易に合或することができる。
本発明のテトラゾリウム化合物は、本発明のハロゲン化
銀写真感光材料中に含有されるハロゲン化銀1モル当り
約1mg以上10gまで、好ましくは約10mg以上約
2gまでの範囲で用いられるのが好ましい。
銀写真感光材料中に含有されるハロゲン化銀1モル当り
約1mg以上10gまで、好ましくは約10mg以上約
2gまでの範囲で用いられるのが好ましい。
本発明の感光材料に用いるハロゲン化銀乳剤には、ハロ
ゲン化銀として、臭化銀、塩化銀、沃臭化銀、塩臭化銀
、塩沃臭化銀等の通常のハロゲン化銀乳剤に使用される
任意のものを用いる事ができ、ハロゲン化銀粒子は、酸
性法、中性法及びアンモニア法のいずれで得られたもの
でもよい。
ゲン化銀として、臭化銀、塩化銀、沃臭化銀、塩臭化銀
、塩沃臭化銀等の通常のハロゲン化銀乳剤に使用される
任意のものを用いる事ができ、ハロゲン化銀粒子は、酸
性法、中性法及びアンモニア法のいずれで得られたもの
でもよい。
ハロゲン化銀粒子は、粒子内において均一なハロゲン化
am戊分布を有するものでも、粒子の内部と表面層とで
ハロゲン化銀組戒が異なるコア/シェル粒子であっても
よく、潜像が主として表面に形戊されるような粒子であ
っても、又主として粒子内部に形或されるような粒子で
もよい。
am戊分布を有するものでも、粒子の内部と表面層とで
ハロゲン化銀組戒が異なるコア/シェル粒子であっても
よく、潜像が主として表面に形戊されるような粒子であ
っても、又主として粒子内部に形或されるような粒子で
もよい。
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、例えば米国特
許第2.444,607号、同第2,716.062号
、同第3.512.982号、西独国出願公告第1,1
89,380号、同第2,058,626号、同第2.
118,411号、特公昭43−4133号、米国特許
第3.342,596号、特公昭47− 4417号、
西独国出願公告第2,149,789号、特公昭39−
2825号、特公昭49−13566号等の各明細書又
は公報に記載されている化合物、好ましくは、例えば5
.6−トリメチレン−7−ヒドロキシンーS一トリアゾ
口 (1.5−a)ビリミジン、5,6−テトラメチレ
ンー7−ヒドロキシーS−トリアゾロ (1.5−a)
ピリミジン、5−メチル−7−ヒドロキシーS一トリア
ゾ口(1.5−a)ビリミジン、5−メチル−7−ヒド
ロキシーS一トリアゾロ (1.5−a)ピリミジン、
7−ヒドロキシン−S一トリアゾロンC l ,5−a
)ビリミジン、5−メチル−6−ブロモー7−ヒドロキ
シ−S一トリアゾロ(1.5−a)ビリミジン、没食子
酸エステル(例えば没食子酸イソアミル、没食予酸ドデ
シル、没食子酸プロビル、没食子酸ナトリウム)、メル
カブタン類(l−フエニル−5−メルカプトテトラゾー
ル、2−メルカプトベンツチアゾール)、ペンゾトリア
ゾール類(5−プロムベンットリアゾール、5−メチル
ベンットリアゾール)、ペンツイミダゾ−ルWIc6一
二トロペンツイミタソール)等ヲ用イて安定化すること
ができる。
許第2.444,607号、同第2,716.062号
、同第3.512.982号、西独国出願公告第1,1
89,380号、同第2,058,626号、同第2.
118,411号、特公昭43−4133号、米国特許
第3.342,596号、特公昭47− 4417号、
西独国出願公告第2,149,789号、特公昭39−
2825号、特公昭49−13566号等の各明細書又
は公報に記載されている化合物、好ましくは、例えば5
.6−トリメチレン−7−ヒドロキシンーS一トリアゾ
口 (1.5−a)ビリミジン、5,6−テトラメチレ
ンー7−ヒドロキシーS−トリアゾロ (1.5−a)
ピリミジン、5−メチル−7−ヒドロキシーS一トリア
ゾ口(1.5−a)ビリミジン、5−メチル−7−ヒド
ロキシーS一トリアゾロ (1.5−a)ピリミジン、
7−ヒドロキシン−S一トリアゾロンC l ,5−a
)ビリミジン、5−メチル−6−ブロモー7−ヒドロキ
シ−S一トリアゾロ(1.5−a)ビリミジン、没食子
酸エステル(例えば没食子酸イソアミル、没食予酸ドデ
シル、没食子酸プロビル、没食子酸ナトリウム)、メル
カブタン類(l−フエニル−5−メルカプトテトラゾー
ル、2−メルカプトベンツチアゾール)、ペンゾトリア
ゾール類(5−プロムベンットリアゾール、5−メチル
ベンットリアゾール)、ペンツイミダゾ−ルWIc6一
二トロペンツイミタソール)等ヲ用イて安定化すること
ができる。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料及び/又は現像
液中には、アミノ化合物を含有することができる。
液中には、アミノ化合物を含有することができる。
又現像性を高めるために、7エニドンやハイドロキノン
のような現像主薬、ペンゾトリアゾールのような抑制剤
を乳剤側に含有せしめることができる。或いは処理液の
処理能力を上げるために、パッキング層に現像主薬や抑
制剤を含有せしめることができる。
のような現像主薬、ペンゾトリアゾールのような抑制剤
を乳剤側に含有せしめることができる。或いは処理液の
処理能力を上げるために、パッキング層に現像主薬や抑
制剤を含有せしめることができる。
本発明に特に有利に用いられる親水性コロイドはゼラチ
ンである。
ンである。
本発明に用いられるゼラチンは、アルカリ処理、酸処理
いずれも用いることが出来るが、オセインゼラチンを用
いる場合にはカルシウム或いは鉄分を取り除くことが好
ましい。好ましい含有量としてカルシウム分は1〜99
9ppmであるが、更に好ましくはl−500ppmで
あり、鉄分は0 . 0 1−50ppmが好ましく、
更に好ましくは0.1−10ppmである。このように
カルシウム分や鉄分の量を調節する方法は、ゼラチン水
溶液をイオン交換装置に通すことにより達或することが
できる。
いずれも用いることが出来るが、オセインゼラチンを用
いる場合にはカルシウム或いは鉄分を取り除くことが好
ましい。好ましい含有量としてカルシウム分は1〜99
9ppmであるが、更に好ましくはl−500ppmで
あり、鉄分は0 . 0 1−50ppmが好ましく、
更に好ましくは0.1−10ppmである。このように
カルシウム分や鉄分の量を調節する方法は、ゼラチン水
溶液をイオン交換装置に通すことにより達或することが
できる。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料の現像に用いら
れる現像主薬としてはカテコール、ビロガロール及びそ
の誘導体ならびにアスコルビン酸、クロロハイドロキノ
ン、プロモハイトロキノン、メチルハイドロキノン、2
,3−ジブロモハイドロキノン、2.5−ジエチルハイ
ドロキノン、カテコール、4−クロロカテコール、4−
フエニルーカテコール、3−メトキ・゛/一カテコール
、4−アセチルービ口ガロール、アスコルビン酸ソーダ
等がある。
れる現像主薬としてはカテコール、ビロガロール及びそ
の誘導体ならびにアスコルビン酸、クロロハイドロキノ
ン、プロモハイトロキノン、メチルハイドロキノン、2
,3−ジブロモハイドロキノン、2.5−ジエチルハイ
ドロキノン、カテコール、4−クロロカテコール、4−
フエニルーカテコール、3−メトキ・゛/一カテコール
、4−アセチルービ口ガロール、アスコルビン酸ソーダ
等がある。
又、HO− (CH= CH). − NH2型現像剤
としては、オルト及びパラのアミノフェノールが代表的
なもので、4−アミノ7二ノーノレ、2−アミ/−6−
7エニノレフェノール、2−アミノー4−クロロ−6−
フエニルフェノール、N−メチルーp−アミノフエニー
ル等がある。
としては、オルト及びパラのアミノフェノールが代表的
なもので、4−アミノ7二ノーノレ、2−アミ/−6−
7エニノレフェノール、2−アミノー4−クロロ−6−
フエニルフェノール、N−メチルーp−アミノフエニー
ル等がある。
更に、82N− (CH= CH). − NHZ型現
像剤としては例えば4−アミノー2−メチルーN,N−
ジエチルアニリン、2.4−ジアミノーN,N−ジエチ
ノレアニリン、N一(4−アミノー3−メチルフエニル
)一モルホリン、p−7エニレンジアミン等がある。
像剤としては例えば4−アミノー2−メチルーN,N−
ジエチルアニリン、2.4−ジアミノーN,N−ジエチ
ノレアニリン、N一(4−アミノー3−メチルフエニル
)一モルホリン、p−7エニレンジアミン等がある。
ヘテロ環型現像剤としては、l−フエニルー3−ビラゾ
リドン、1−フエニル−4.4−ジメチル−3−ビラゾ
リドン、1−7エニルー4−メチル−4−ヒドロキシメ
チル−3−ビラゾリドンのような3−ビラゾリドン類、
lー7ェニル−4−アミノー5−ビラゾロン、5−アミ
ノラウシル等を挙げることができる。
リドン、1−フエニル−4.4−ジメチル−3−ビラゾ
リドン、1−7エニルー4−メチル−4−ヒドロキシメ
チル−3−ビラゾリドンのような3−ビラゾリドン類、
lー7ェニル−4−アミノー5−ビラゾロン、5−アミ
ノラウシル等を挙げることができる。
T.H.ジェームス著ザ・セオリイ・オブ・ザ・ホトグ
ラフィック・プロセス第4版 (The Theory of Photograph
ic Process FourthEdition)
第291〜334頁及びジャーナル・オブ・ジ・アメリ
カン・ケミカル・ソサエティ(Journal oft
he American Chemical Soci
ety)第73巻、第3.100頁( 1951)に記
載されているごとき現像剤が本発明に有効に使用し得る
ものである。これらの現像剤は単独で使用しても2種以
上組み合わせてもよいが、2種以上を組み合わせて用い
る方が好ましい。又本発明にかかる感光材料の現像に使
用する現像液には保恒剤として、例えば亜硫酸ソーダ、
亜硫酸カリ、等の亜硫酸塩を用いても、本発明の効果が
損なわれることはない。又保恒剤としてヒドロキシルア
ミン、ヒドラジド化合物を用いることができ、この場合
その使用量は現像液lQ当たり5〜500gが好ましく
、より好ましくは20〜200gである。
ラフィック・プロセス第4版 (The Theory of Photograph
ic Process FourthEdition)
第291〜334頁及びジャーナル・オブ・ジ・アメリ
カン・ケミカル・ソサエティ(Journal oft
he American Chemical Soci
ety)第73巻、第3.100頁( 1951)に記
載されているごとき現像剤が本発明に有効に使用し得る
ものである。これらの現像剤は単独で使用しても2種以
上組み合わせてもよいが、2種以上を組み合わせて用い
る方が好ましい。又本発明にかかる感光材料の現像に使
用する現像液には保恒剤として、例えば亜硫酸ソーダ、
亜硫酸カリ、等の亜硫酸塩を用いても、本発明の効果が
損なわれることはない。又保恒剤としてヒドロキシルア
ミン、ヒドラジド化合物を用いることができ、この場合
その使用量は現像液lQ当たり5〜500gが好ましく
、より好ましくは20〜200gである。
又現像液には有機溶媒としてグリコール類を含有させて
もよく、そのようなグリコール類としてはエチレングリ
コール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール
、トリエチレングリコール、1.4−ブタンジオール、
l,5−ペンタンジオール等があるが、ジエチレングリ
コールが好ましく用いられる。そしてこれらグリコール
類の好ましい使用量は現像液1f2当たり5〜500g
で、より好ましくは20〜200gである。これらの有
機溶媒は単独でも併用しても用いることができる。
もよく、そのようなグリコール類としてはエチレングリ
コール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール
、トリエチレングリコール、1.4−ブタンジオール、
l,5−ペンタンジオール等があるが、ジエチレングリ
コールが好ましく用いられる。そしてこれらグリコール
類の好ましい使用量は現像液1f2当たり5〜500g
で、より好ましくは20〜200gである。これらの有
機溶媒は単独でも併用しても用いることができる。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は、上記のごと
き現像抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理すること
により極めて保存安定性に優れた感光材料を得ることが
できる。
き現像抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理すること
により極めて保存安定性に優れた感光材料を得ることが
できる。
上記の組或になる現像液のpH値は好ましくは9〜l3
であるが、保恒性及び写真特性上からpH値はlO〜l
2の範囲が更に好ましい。現像液中の陽イオンについて
は、ナトリウムよりカリウムイオンの比率が高い程現像
液の活性度を高めることができるので好ましい。
であるが、保恒性及び写真特性上からpH値はlO〜l
2の範囲が更に好ましい。現像液中の陽イオンについて
は、ナトリウムよりカリウムイオンの比率が高い程現像
液の活性度を高めることができるので好ましい。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は、種々の条件
で処理することができる。処理温度は、例えば現像温度
は50’C以下が好ましく、特に25°C〜40℃前後
が好ましく、又現像時間は2分以内に終了することが一
般的であるが、特に好ましくはlO秒〜50秒が好効果
をもたらすことが多い。又現像以外の処理工程、例えば
水洗、停止、安定、定着、更に必要に応じて前硬膜、中
和等の工程を採用することは任意であり、これらは適宜
省略することもできる。更に又、これらの処理は皿現像
、枠現像などいわゆる手現像処理でも、ローラー現像、
ハンガー現像など機械現像であってもよい。
で処理することができる。処理温度は、例えば現像温度
は50’C以下が好ましく、特に25°C〜40℃前後
が好ましく、又現像時間は2分以内に終了することが一
般的であるが、特に好ましくはlO秒〜50秒が好効果
をもたらすことが多い。又現像以外の処理工程、例えば
水洗、停止、安定、定着、更に必要に応じて前硬膜、中
和等の工程を採用することは任意であり、これらは適宜
省略することもできる。更に又、これらの処理は皿現像
、枠現像などいわゆる手現像処理でも、ローラー現像、
ハンガー現像など機械現像であってもよい。
以下実施例によって本発明を具体的に説明する。
尚、当然のことではあるが、本発明は以下述べる実施例
に限定されるものではない。
に限定されるものではない。
実施例一l
下引き処理したポリエチレンテレフタレートに8 w/
m”・minのエネルギーでコロナ放電した後下記構或
の帯電防止液を、下記の付量になる様に30m/min
の速さでロールフィットコーティングバン及びエアーナ
イフを使用して塗布した。
m”・minのエネルギーでコロナ放電した後下記構或
の帯電防止液を、下記の付量になる様に30m/min
の速さでロールフィットコーティングバン及びエアーナ
イフを使用して塗布した。
水溶性導電性ポリマー ( A ) 0.6g
/m”本発明の疎水性ポリマー粒子( B ) 0
.4g/m2ノ二オン界面活性剤( Ao)
0.004g/m”尚疎水性ボリマー粒子(B)は、
ノニオン界面活性剤で分赦し、ラテックスとして使用し
た。
/m”本発明の疎水性ポリマー粒子( B ) 0
.4g/m2ノ二オン界面活性剤( Ao)
0.004g/m”尚疎水性ボリマー粒子(B)は、
ノニオン界面活性剤で分赦し、ラテックスとして使用し
た。
硬膜剤(H)
90゜a,2分間乾燥し140゜C190秒間熱処理し
た。
た。
この帯電防止層の上にゼラチンを2−Og/m”にナル
様に塗布しヘーズ試験を行った。ゼラチンの硬膜剤とし
ては、ホルマリン、2.4−ジクロロ−6−ヒトロキシ
−S一トリアジンナトリウムを用いた。結果を表−1に
示す。
様に塗布しヘーズ試験を行った。ゼラチンの硬膜剤とし
ては、ホルマリン、2.4−ジクロロ−6−ヒトロキシ
−S一トリアジンナトリウムを用いた。結果を表−1に
示す。
(ヘーズ試験)
東京電色株式会社製濁度計Mode1 丁−260OD
Aを用いフイルム支持体を測定してヘーズを百分率で示
した。
Aを用いフイルム支持体を測定してヘーズを百分率で示
した。
以下余白
表
1
特開昭
55−84658号記載
表−1の結果から本発明の試料はヘーズに優れているこ
とがわかる。
とがわかる。
実施例−2
(乳剤の調製)
pH 3.0の酸性雰囲気下でコントロールドダブルジ
ェット法によりロジウム塩を、銀1モル当たり101モ
ル含有する平均粒経0−11pmsハロゲン化銀組或単
分散度l5、臭化銀を5モル%含む塩臭化銀粒子を作或
した。粒子の戒長は、ペンジルアデニンをl%のゼラチ
ン水溶液IC当たり30mg含有する系で行った。銀と
ハライドの混合後、6−メチル−4−ヒドロキシ−1.
3.3a,7テトラザインデンをハロゲン化銀1モル当
たり600mg加え、その後水洗、脱塩した。
ェット法によりロジウム塩を、銀1モル当たり101モ
ル含有する平均粒経0−11pmsハロゲン化銀組或単
分散度l5、臭化銀を5モル%含む塩臭化銀粒子を作或
した。粒子の戒長は、ペンジルアデニンをl%のゼラチ
ン水溶液IC当たり30mg含有する系で行った。銀と
ハライドの混合後、6−メチル−4−ヒドロキシ−1.
3.3a,7テトラザインデンをハロゲン化銀1モル当
たり600mg加え、その後水洗、脱塩した。
次いで、ハロゲン化銀1モル当たり60mgの6−メチ
ル−4−ヒドロキシ−1.3.3a,7−テトラザイン
デンを加えた後、ハロゲン化銀1モル当たり15Bのチ
オ硫酸ナトリウムを加え、60℃でイオウ増感をした。
ル−4−ヒドロキシ−1.3.3a,7−テトラザイン
デンを加えた後、ハロゲン化銀1モル当たり15Bのチ
オ硫酸ナトリウムを加え、60℃でイオウ増感をした。
イオウ増感後安定剤として6−メチル4−ヒドロキシ−
1.3.3a.7−テトラザインデンをハロゲン化銀1
モル当たり600mg加えた。
1.3.3a.7−テトラザインデンをハロゲン化銀1
モル当たり600mg加えた。
得られた乳剤に添加剤を下記の付量になるように調製添
加し、特開昭59−19941号の実施例−1によりラ
テックス下引処理した厚さ100μmのポリエチレンテ
レフタレート支持体上に塗布した。
加し、特開昭59−19941号の実施例−1によりラ
テックス下引処理した厚さ100μmのポリエチレンテ
レフタレート支持体上に塗布した。
ラテックスポリマー:スチレンーブチルアクリレートー
アクリル酸3元共重合 ポリマー 1.0 g/m2テトラフエ
ニルホスホニウムクロライド30 mg/m2 サポニン 200 mg/m”
ポリエチレングリフール 100 mg/m2
ハイドロキノン 200 mg/m
”スチレンーマレインti共重合体20 mg/m”
ヒドラジン化合物(表−2に示す) 50 mg/m
”5−メチルベンゾトリアゾール 30 mg/m
”減感色素(M) 20 mg
/m”アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9)1.5
g/m2 ビス(ビニルスルホニルメチル)エーテル15 mg
/m” 銀量 2.8 g/m”(
乳剤層保護膜) 乳剤層保護膜として、下記の付量になるよう調製し、乳
剤とともに同時重層塗布した。
アクリル酸3元共重合 ポリマー 1.0 g/m2テトラフエ
ニルホスホニウムクロライド30 mg/m2 サポニン 200 mg/m”
ポリエチレングリフール 100 mg/m2
ハイドロキノン 200 mg/m
”スチレンーマレインti共重合体20 mg/m”
ヒドラジン化合物(表−2に示す) 50 mg/m
”5−メチルベンゾトリアゾール 30 mg/m
”減感色素(M) 20 mg
/m”アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9)1.5
g/m2 ビス(ビニルスルホニルメチル)エーテル15 mg
/m” 銀量 2.8 g/m”(
乳剤層保護膜) 乳剤層保護膜として、下記の付量になるよう調製し、乳
剤とともに同時重層塗布した。
弗素化ジオクチルスルホコハク酸エステル200mg/
m” ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム100mg/m
2 マット剤:ポリメタクリル酸メチル(平均粒径3.5/
j m) 100 mg/
m”硝酸リチウム塩 30 mg/
m2没食子酸プロビルエステル 300 mg/
m22−メルカブトベンツイミダゾールー5−スルホン
酸ナトリウム 30 mg/m2
アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9) 1.3 g/
m2コロイダルシリ力 30 mg/
m’スチレンーマレイン酸共重合体 100 mg/
m”ビス(ビニルスルホニルメチル)エーテル15
mg/m” つぎに、乳剤層と反対側の支持体上に、あらかじめ30
W/m”minのパワーでコロナ放電した後、ポリ(ス
チレンープチルアクリレートーグリシジルメタクリレー
ト)ラテックスポリマーをヘキサメチレンアジりジン硬
膜剤の存在下で塗布し、さらに帯電防止層を実施例lと
同様に塗布し、ついで下記組戊のパッキング層を添加剤
が下記付量になるように調製し、塗布した。
m” ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム100mg/m
2 マット剤:ポリメタクリル酸メチル(平均粒径3.5/
j m) 100 mg/
m”硝酸リチウム塩 30 mg/
m2没食子酸プロビルエステル 300 mg/
m22−メルカブトベンツイミダゾールー5−スルホン
酸ナトリウム 30 mg/m2
アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9) 1.3 g/
m2コロイダルシリ力 30 mg/
m’スチレンーマレイン酸共重合体 100 mg/
m”ビス(ビニルスルホニルメチル)エーテル15
mg/m” つぎに、乳剤層と反対側の支持体上に、あらかじめ30
W/m”minのパワーでコロナ放電した後、ポリ(ス
チレンープチルアクリレートーグリシジルメタクリレー
ト)ラテックスポリマーをヘキサメチレンアジりジン硬
膜剤の存在下で塗布し、さらに帯電防止層を実施例lと
同様に塗布し、ついで下記組戊のパッキング層を添加剤
が下記付量になるように調製し、塗布した。
(パッキング層)
ラテックスポリマー:プチルアクリレートースチレン共
重合体 0.5 g/m”スチレンーマレイ
ン酸共重合体 100 mg/m”クエン酸(塗布後
pH5.4に調製) 40 mg/m”サボニン
200 mg/m”硝酸リチウム
塩 30 mg/m”以下余白 パッキング染料 (a) (b) (c) アルカリ処理ゼラチン 2.0g/m” ビス (ビニルスルホニルメチル) 工−テル 15mg/m” (パッキング層保護膜) 添加剤を下記付量になるよう調製し、 グ層上部に同時重層塗布した。
重合体 0.5 g/m”スチレンーマレイ
ン酸共重合体 100 mg/m”クエン酸(塗布後
pH5.4に調製) 40 mg/m”サボニン
200 mg/m”硝酸リチウム
塩 30 mg/m”以下余白 パッキング染料 (a) (b) (c) アルカリ処理ゼラチン 2.0g/m” ビス (ビニルスルホニルメチル) 工−テル 15mg/m” (パッキング層保護膜) 添加剤を下記付量になるよう調製し、 グ層上部に同時重層塗布した。
ジオクチルスルホコハク酸エステル
パッキン
200 mg/m”
マット剤:ボリメタクリル酸メチル
(平均粒径4.0μm) 50 m
g/m”アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9)1.0
g/m” 弗素化トテシルベンゼンスルホン酸 ナトリウム 50 mg/m’
ビス(ビニルスルホニルメチル) エーテル 20 mg/m’
なお、上記塗布液のpHはあらかじめ5.4に調製して
から塗布した。
g/m”アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9)1.0
g/m” 弗素化トテシルベンゼンスルホン酸 ナトリウム 50 mg/m’
ビス(ビニルスルホニルメチル) エーテル 20 mg/m’
なお、上記塗布液のpHはあらかじめ5.4に調製して
から塗布した。
以上のようにして得られた試料をそれぞれ2つに分け、
一方は23゜C相対湿度55%で3日間保存した。残り
の一方は23゜C相対湿度55%で3時間調湿後、重ね
た状態で防湿袋に封入し、55゜Cで3日間保存して強
制劣化させ経時代用試料を作成した。
一方は23゜C相対湿度55%で3日間保存した。残り
の一方は23゜C相対湿度55%で3時間調湿後、重ね
た状態で防湿袋に封入し、55゜Cで3日間保存して強
制劣化させ経時代用試料を作成した。
両方の試料を、ステップウエッジを通して露光後、下記
に示す現像液、定着液を使用して現像処理した後、感度
及び表面比抵抗を求めた。なお感度は光学濃度で1.0
になる露光量とし、相対感度で表した。結果を表2に示
した。
に示す現像液、定着液を使用して現像処理した後、感度
及び表面比抵抗を求めた。なお感度は光学濃度で1.0
になる露光量とし、相対感度で表した。結果を表2に示
した。
現像処理条件
工程 温度 時間
現像 34℃ 15秒
定着 32゜C 10秒水洗
常温 10秒 現像液処方 ハイドロキノン 25 g1−7
エニルー4,4ジメチル−3ー ビラゾリドン 0.4g臭化ナト
リウム 3g5−メチルベンゾトリ
アゾール 0.3 g5一二トロインダゾール
0.05gジエチノレアミノプロパンーl,2
−ジオーノレlo g 亜硫酸カリウム 90 g 5−スルホサリチル酸ナト リウム 75 g エチレンジアミン四酢酸ナトリウム 水で1Qに仕上げた。
常温 10秒 現像液処方 ハイドロキノン 25 g1−7
エニルー4,4ジメチル−3ー ビラゾリドン 0.4g臭化ナト
リウム 3g5−メチルベンゾトリ
アゾール 0.3 g5一二トロインダゾール
0.05gジエチノレアミノプロパンーl,2
−ジオーノレlo g 亜硫酸カリウム 90 g 5−スルホサリチル酸ナト リウム 75 g エチレンジアミン四酢酸ナトリウム 水で1Qに仕上げた。
pHは、苛性ソーダで11.5と
定着液処方
(m戊A)
チオ硫酸アンモニウム(72.5w%
し Iこ 。
水溶液)
240 m0
17 g
6.5g
6g
2g
13.6mQ
亜硫酸ナトリウム
酢酸ナトリウム・3水塩
硼酸
クエン酸ナトリウム・2水塩
酢酸(9(b%水溶液)
(組戊B)
純水(イオン交換水)
硫酸(50w%の水溶液)
硫酸アルミニウム(A(120,換算含量が8.1v%
の水溶液) 2g 17 ml2 4.7g 26.5g 定着液の使用時に水500mα中に上記組成A1組戊B
の順に溶かし、lQに仕上げて用いた。この定着液のp
Hは約4.3であった。
の水溶液) 2g 17 ml2 4.7g 26.5g 定着液の使用時に水500mα中に上記組成A1組戊B
の順に溶かし、lQに仕上げて用いた。この定着液のp
Hは約4.3であった。
以下余白
表2の結果から本発明の試料は、経時保存による感度低
下が少なく、また処理後の帯電防止能の劣化も少ないこ
とが分かる。
下が少なく、また処理後の帯電防止能の劣化も少ないこ
とが分かる。
実施例3
実施例2と同様Iこして、ロジウム塩を銀1モル当たり
10−5モルを含有し、平均粒径0,20μm1単分散
度20の臭化銀を2モル%含む塩臭化銀粒子を作戊した
。これを実施例2と同様に脱塩後イオウ増感を施した。
10−5モルを含有し、平均粒径0,20μm1単分散
度20の臭化銀を2モル%含む塩臭化銀粒子を作戊した
。これを実施例2と同様に脱塩後イオウ増感を施した。
得られた乳剤に添加剤を下記の付量になるように調製添
加し、実施例lで用いた下引加工済ポリエチレンテレ7
タレート支持体上に塗布した。
加し、実施例lで用いた下引加工済ポリエチレンテレ7
タレート支持体上に塗布した。
ラテックスポリマー:
スチレンープチルアクリレートアクリル酸3元共重合ボ
リマー 1 .0g/m”フェノール
l mg/m”サボニン
200mg/m”ドデシルベン
ゼン スノレホン酸ナトリウム 50mg/m”
テトラゾリウム化合物(表−3に示す) 50mg/m
2化合物(N) 化合物(0) スチレンーマレイン酸共重合体 アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9)銀量 ホルマリン 40mg/n+” 50mg/m” 20mg/m” 2.0g/m” 3・5g/m” 10mg/m” 化合物(0) 尚、塗布液はあらかじめ水酸化ナトリウムpH6.5に
調整したのち塗布した。乳剤保護膜として、添加剤を下
記の付量になるように調製し、乳剤塗布液とともに同時
重層塗布した。
リマー 1 .0g/m”フェノール
l mg/m”サボニン
200mg/m”ドデシルベン
ゼン スノレホン酸ナトリウム 50mg/m”
テトラゾリウム化合物(表−3に示す) 50mg/m
2化合物(N) 化合物(0) スチレンーマレイン酸共重合体 アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9)銀量 ホルマリン 40mg/n+” 50mg/m” 20mg/m” 2.0g/m” 3・5g/m” 10mg/m” 化合物(0) 尚、塗布液はあらかじめ水酸化ナトリウムpH6.5に
調整したのち塗布した。乳剤保護膜として、添加剤を下
記の付量になるように調製し、乳剤塗布液とともに同時
重層塗布した。
弗素化ジオクチル
スルホコハク酸エステル 100mg/m”ジ
オクチルスルホコハク酸エステル 100mg/m”マ
ット剤:不定型シリカ 50mg/m”化
合物(0 ) 30mg/m
”5−メチルベンゾトリアゾール 20mg/
m”化合物(P ) 500
o+g/m”没食子酸プロビルエステル 30
0mg/m”スチレンーマレイン酸共重合体1 0 0
m g / m ’アルカリ処理ゼラチン(等電点4
.9) l.og/m”ホルマリン
lOmg/m2ポリアクリルアミド
500mg/m”尚、あらかじめクエン酸
でpH 5.4に調整したのち塗布した。
オクチルスルホコハク酸エステル 100mg/m”マ
ット剤:不定型シリカ 50mg/m”化
合物(0 ) 30mg/m
”5−メチルベンゾトリアゾール 20mg/
m”化合物(P ) 500
o+g/m”没食子酸プロビルエステル 30
0mg/m”スチレンーマレイン酸共重合体1 0 0
m g / m ’アルカリ処理ゼラチン(等電点4
.9) l.og/m”ホルマリン
lOmg/m2ポリアクリルアミド
500mg/m”尚、あらかじめクエン酸
でpH 5.4に調整したのち塗布した。
化合物CP’)
次に乳剤層とは、反対側の支持体上に、実施例2と全く
同様にして帯電防止層、バソキング層を設けた。ただし
この時のバンキング層の硬膜剤はホルマリンを使用した
。
同様にして帯電防止層、バソキング層を設けた。ただし
この時のバンキング層の硬膜剤はホルマリンを使用した
。
実施例2と同様に処理し、評価した。
ただし、現像液は下記のものを用いた。得られた結果を
表−3に示す。
表−3に示す。
(組戊A)
純水(イオン交換水) 150ml2
エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 2gジエチレ
ングリコール 50g亜硫酸カリウム
(55%w/v水溶液) 100mf2炭酸カリ
ウム 50gハイドロキノン
15gl−7エニルー3−ピ
ラゾリドン 0.5gl−7エニルー5−
メルカプトテトラゾール 30mg水酸化カリウム 使
用液のpHを10.4にする量臭化カリウム
4.5g(組戊B) 純水(イオン交換水) 3mgジエ
チレングリコール 50gエチレンジ
アミン四酢酸二 ナトリウム塩 25mg酢酸(
90%水溶液) 0.3m(2現像
液の使用時に水500m4中に上記組FRA、組成Bの
順に溶かし、112に仕上げて用いた。
エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 2gジエチレ
ングリコール 50g亜硫酸カリウム
(55%w/v水溶液) 100mf2炭酸カリ
ウム 50gハイドロキノン
15gl−7エニルー3−ピ
ラゾリドン 0.5gl−7エニルー5−
メルカプトテトラゾール 30mg水酸化カリウム 使
用液のpHを10.4にする量臭化カリウム
4.5g(組戊B) 純水(イオン交換水) 3mgジエ
チレングリコール 50gエチレンジ
アミン四酢酸二 ナトリウム塩 25mg酢酸(
90%水溶液) 0.3m(2現像
液の使用時に水500m4中に上記組FRA、組成Bの
順に溶かし、112に仕上げて用いた。
以下余白
表3の結果からも実施例2のヒドラジン化合物の場合と
同様に本発明の試料は経時保存による感度低下が少なく
、処理後の帯電防止能の劣化も少ない。
同様に本発明の試料は経時保存による感度低下が少なく
、処理後の帯電防止能の劣化も少ない。
本発明によりヘーズのない透明性に優れた帯電防止層を
有し、テトラゾリウム化合物またはヒドラジン化合物の
ような超硬調化剤を使用しても経時で表面比抵抗の劣化
が少なく、かつ減感せず、安定性の高いハロゲン化銀写
真感光材料を提供することができた。
有し、テトラゾリウム化合物またはヒドラジン化合物の
ような超硬調化剤を使用しても経時で表面比抵抗の劣化
が少なく、かつ減感せず、安定性の高いハロゲン化銀写
真感光材料を提供することができた。
Claims (2)
- (1)[1]水溶性導電性ポリマー、[2]疎水性ポリ
マー粒子、[3]硬化剤の反応生成物からなる帯電防止
層を有してなるプラスチックフィルム支持体において、
該疎水性ポリマー粒子がアクリルアミド基含有で、アル
キレンオキサイド鎖3以上のノニオン界面活性剤で分散
安定化されていることを特徴とする帯電防止層を有する
ハロゲン化銀写真感光材料。 - (2)請求項1記載の感光性乳剤層中に、テトラゾリウ
ム化合物またはヒドラジン化合物を含有することを特徴
とするハロゲン化銀写真感光材料。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1189663A JP2796845B2 (ja) | 1989-07-21 | 1989-07-21 | 帯電防止処理をしたハロゲン化銀写真感光材料 |
KR1019900011030A KR910003430A (ko) | 1989-07-21 | 1990-07-20 | 대전 방지 처리를 한 할로겐화은 사진 감광재료 |
EP90308018A EP0409665A1 (en) | 1989-07-21 | 1990-07-20 | Silver halide photographic material provided with antistatic coating |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1189663A JP2796845B2 (ja) | 1989-07-21 | 1989-07-21 | 帯電防止処理をしたハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0353240A true JPH0353240A (ja) | 1991-03-07 |
JP2796845B2 JP2796845B2 (ja) | 1998-09-10 |
Family
ID=16245093
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1189663A Expired - Lifetime JP2796845B2 (ja) | 1989-07-21 | 1989-07-21 | 帯電防止処理をしたハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2796845B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0519412A (ja) * | 1991-07-11 | 1993-01-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5584658A (en) * | 1978-12-20 | 1980-06-26 | Du Pont | Permanently antistatic layer |
JPS5863933A (ja) * | 1981-10-14 | 1983-04-16 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 画像形成方法 |
JPS59214849A (ja) * | 1983-05-21 | 1984-12-04 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | ハロゲン化銀写真材料およびその現像処理方法 |
JPS61249047A (ja) * | 1985-04-26 | 1986-11-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JPS62115151A (ja) * | 1985-11-13 | 1987-05-26 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JPS63314541A (ja) * | 1988-01-06 | 1988-12-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成方法 |
-
1989
- 1989-07-21 JP JP1189663A patent/JP2796845B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5584658A (en) * | 1978-12-20 | 1980-06-26 | Du Pont | Permanently antistatic layer |
JPS5863933A (ja) * | 1981-10-14 | 1983-04-16 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 画像形成方法 |
JPS59214849A (ja) * | 1983-05-21 | 1984-12-04 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | ハロゲン化銀写真材料およびその現像処理方法 |
JPS61249047A (ja) * | 1985-04-26 | 1986-11-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JPS62115151A (ja) * | 1985-11-13 | 1987-05-26 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JPS63314541A (ja) * | 1988-01-06 | 1988-12-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0519412A (ja) * | 1991-07-11 | 1993-01-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2796845B2 (ja) | 1998-09-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH02266933A (ja) | 帯電防止層 | |
US5135843A (en) | Silver halide photographic element | |
US5094909A (en) | Antistatic layer | |
JPH0353240A (ja) | 帯電防止処理をしたハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH0359553A (ja) | 帯電防止処理をしたハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH0367248A (ja) | 帯電防止層及び帯電防止層を有するハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH0353241A (ja) | 帯電防止処理をしたハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH0359647A (ja) | 帯電防止処理をしたハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH0359644A (ja) | 帯電防止処理をしたハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH0359642A (ja) | 帯電防止処理をしたハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH0359640A (ja) | 帯電防止処理をしたハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH0359645A (ja) | 帯電防止処理をしたハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH02291551A (ja) | 帯電防止層 | |
EP0409665A1 (en) | Silver halide photographic material provided with antistatic coating | |
JPH0359554A (ja) | 帯電防止処理をしたハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH02291552A (ja) | 帯電防止層 | |
JP2838552B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH02266934A (ja) | 帯電防止層 | |
JPH0391739A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH0310243A (ja) | 帯電防止層 | |
JPH0359651A (ja) | 帯電防止処理をしたハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH0359650A (ja) | 帯電防止処理をしたハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH0359643A (ja) | 帯電防止処理をしたハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH02298940A (ja) | 帯電防止層 | |
JPH03243684A (ja) | 帯電防止層 |