KR910003430A - 대전 방지 처리를 한 할로겐화은 사진 감광재료 - Google Patents

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Abstract

내용 없음.

Description

대전 방지 처리를 한 할로겐화은 사진 감광재료
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (24)

  1. 플라스틱필름 지지체상에 적어도 감광성 유체층 및 (1) 수용성 도전성폴리머, (2) 소수성 폴리머 입자, (3) 경화제를 함유하는 대전 방지층을 갖는 할로겐화은 사진 감광 재료에 있어서, 이 소수성 폴리머 입자가 아크릴아미드기를 함유하거나, 또는 스티렌 및 탄소수 1-12의 알킬아크릴레이트 및/또는 알킬메타크릴레이트를 함유하고, 또한 3개 이상의 알킬렌옥사이드쇄를 갖는 비이온성 계면활성제로 분산 안정화되어 있음을 특징으로 하는대전 방지층을 갖는 할로겐화는 사진 감광재료.
  2. 제1항에 있어서, 상기 수용성 도전성 폴리머가 술폰산기, 황산에스테르기, 4급 암모늄염, 3급 암모늄염, 카르복실기 및 폴리에틸렌옥시드기로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1개의 도전성기를 갖는 것을 특징으로 하는 할로겐화는 사진 감광재료.
  3. 제1항에 있어서, 상기 수용성 도전성 폴리머가 술폰산기, 황산에스테르기 및 4급 암모늄염기로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1개의 도전성기를 갖는 것을 특징으로 하는 할로겐화는 사진 감광재료.
  4. 제3항에 있어서, 상기 도전성 기가 상기 수용성 폴리머 1분자 중 5중량%이상 함유하는 것을 특징으로 하는 할로겐화는 사진 감광재료.
  5. 제3항에 있어서, 상기 수용성 도전성 폴리머가 카르복실기, 히드록실기, 아미노기, 에폭시기, 아지리딘기, 활성 메틸렌기, 술핀산기, 비닐술폰기 및 알데히드기로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1개의 기를 함유하는 것을 특징으로 하는 할로겐화는 사진 감광재료.
  6. 제5항에 있어서, 상기 카르복실기, 히드록실기, 아미노기, 에폭시기, 아지리딘기, 활성메틸렌기, 술핀산기, 비닐술폰기 및 알데히드기로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나의 기가 수용성 도전성 폴리머 1분자중 5중량% 이상 함유하는 것을 특징으로 하는 할로겐화는 사진 감광재료.
  7. 제1항에 있어서, 상기 수용성 도전성 폴리머의 분자량이 3000-100,000인 것을 특징으로 하는 할로겐화는 사진 감광재료.
  8. 제1항에 있어서, 상기 수용성 도전성 폴리머의 첨가량이 0.01g/m2-10g/m2인 것을 특징으로 하는 할로겐화는 사진 감광재료.
  9. 제1항에 있어서, 상기 소수성 폴리머 입자가 아크릴아미드 유도체 및/또는 메타크릴아미드 유도체를 적어도 0.1몰% 함유하는 것을 특징으로 하는 할로겐화는 사진 감광재료.
  10. 제1항에 있어서, 상기 소수성 폴리머 입자가 스티렌 유도체 및 알킬아크릴레이트 및/또는 알킬메타크릴레이트를 적어도 10몰% 함유하는 것을 특징으로 하는 할로겐화는 사진 감광재료.
  11. 제1항에 있어서, 상기 소수성 폴리머 입자의 분자량이 3000 이상인 것을 특징으로 하는 할로겐화는 사진 감광재료.
  12. 제1항에 있어서, 상기 소수성 폴리머 입자의 입자가 0.1-10g/m2의 양으로 사용되는 것을 특징으로 하는 할로겐화는 사진 감광재료.
  13. 제1항에 있어서, 상기 경화제가 다관능 아지리딘인 것을 특징으로 하는 할로겐화는 사진 감광재료.
  14. 제13항에 있어서, 상기 다관능 아지리딘이 2관능 또는 3관능인 것을 특징으로 하는 할로겐화는 사진 감광재료.
  15. 제14항에 있어서, 상기 다관능 아지딘이 분자량 600이하인 것을 특징으로 하는 할로겐화는 사진 감광재료.
  16. 제1항에 있어서, 상기 경화제가 0.01-10g/m2의 양으로 사용되는 것을 특징으로 하는 할로겐화는 사진 감광재료.
  17. 제1항에 있어서, 상기 비이온성 계면활성제가 1분자 중에 폴리알킬렌 옥사이드쇄를 3이상 100이하 함유하는 화합물인 것을 특징으로 하는 할로겐화는 사진 감광재료.
  18. 제1항에 있어서, 상기 비이온성 계면활성제가 0.0001-0.1g/m2의 양으로 사용되는 것을 특징으로 하는 할로겐화는 사진 감광재료.
  19. 제1항에 있어서, 상기 감광성 유체층 중에 테트라졸륨 화합물 또는 히드라진 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 할로겐화는 사진 감광재료.
  20. 제19항에 있어서, 상기 테트라졸륨 화합물이 하기 일반식(T)로 나타내는 화합물임을 것을 특징으로 하는 할로겐화는 사진 감광재료.
    (식중 R1, R2, R3은 각각 독립적으로 페닐기 또는 치환페닐기를 나타내고, Xθ은 음이온을 나타내고, n은 2를 나타냄)
  21. 제20항에 있어서, 상기 테트라졸륨 화합물이 할로겐화은 1몰당 1mg이상 10g이하의 양으로 사용되는 것을 특징으로 하는 할로겐화는 사진 감광재료.
  22. 제19항에 있어서, 상기 히드라진 화합물이 하기 일반식(H)로 나타내는 화합물임을 것을 특징으로 하는 할로겐화는 사진 감광재료.
    식중, R1은 1가의 유기잔기를 나타내고 R2는 수소원자 또는 1가의 유기잔기를 나타내고, Q1및 Q2는 수소원자, 알킬술포닐기(치환기를 갖는 것도 포함함), 아릴술포닐기(치환기를 갖는 것도 포함함)을 나타내고, X1은 산소원자 또는 황원자를 나타낸다.
  23. 제19항에 있어서, 상기 히드라진 화합물이 할로겐화은 1몰당 10-5-10-1몰의 양으로 사용되는 것을 특징으로 하는 할로겐화는 사진 감광재료.
  24. 제1항에 있어서, 상기 플라스틱 필름 지지체가 가시광을 90%이상 투과하는 폴리에틸렌테레프탈레이트 또는 셀룰로스 트리아세테이트인 것을 특징으로 하는 할로겐화는 사진 감광재료.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019900011030A 1989-07-21 1990-07-20 대전 방지 처리를 한 할로겐화은 사진 감광재료 KR910003430A (ko)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2246870A (en) * 1990-07-31 1992-02-12 Ilford Ltd Photographic materials with anti-static coatings
JP2965719B2 (ja) * 1991-01-29 1999-10-18 コニカ株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
JPH05289243A (ja) * 1992-04-15 1993-11-05 Konica Corp ハロゲン化銀写真感光材料及び画像形成方法
US5238706A (en) * 1992-06-26 1993-08-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Antistatic film bases and their process of manufacturing

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4192683A (en) * 1975-12-17 1980-03-11 Konishiroku Photo Industry Co., Ltd. Photographic light-sensitive material
JPS60661B2 (ja) * 1976-08-31 1985-01-09 富士写真フイルム株式会社 写真感光材料
US4225665A (en) * 1978-12-20 1980-09-30 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photographic element in which the antistatic layer is interlinked in the base

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